JP2016110899A - Transparent conductive body and touch panel - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、透明導電体及びこれを用いたタッチパネルに関する。 The present disclosure relates to a transparent conductor and a touch panel using the same.
透明導電体は、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、及びエレクトロルミネッセンスパネル(有機EL、無機EL)などのディスプレイ、並びに、太陽電池などの透明電極として使用されている。また、これらの他に、電磁波遮断膜及び赤外線防止膜等にも使用されている。透明導電体における金属酸化物層の材料としては、酸化インジウム(In2O3)に錫(Sn)を添加したITOが広く用いられている。 The transparent conductor is used as a transparent electrode for a display such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), and an electroluminescence panel (organic EL, inorganic EL), and a solar cell. In addition to these, they are also used for electromagnetic wave shielding films and infrared ray prevention films. As a material for the metal oxide layer in the transparent conductor, ITO in which tin (Sn) is added to indium oxide (In 2 O 3 ) is widely used.
近年、スマートフォン及びタブレット端末等、タッチパネルを備えた端末が急速に普及している。これらは、液晶パネルの上にタッチセンサー部を設け、最表面にカバーガラスを備えた構成を有している。タッチセンサー部は、ガラス又はフィルム基材の片面、或いは両面にスパッタリングでITO膜を成膜したものを、1枚又は2枚貼り合わせて構成される。 In recent years, terminals equipped with a touch panel such as smartphones and tablet terminals are rapidly spreading. These have the structure which provided the touch sensor part on the liquid crystal panel, and provided the cover glass on the outermost surface. The touch sensor unit is configured by bonding one or two glass films or a film base material on which one or both surfaces of an ITO film are formed by sputtering.
タッチパネルの大型化とタッチセンサー機能の高精度化に伴い、高透過率を有するとともに低抵抗である透明導電体が求められている。ITO膜を用いた透明導電体の抵抗を低くするためには、ITO膜の膜厚を厚くする、又は、熱アニールによりITO膜の結晶化を行う必要がある。しかし、ITO膜を厚膜化すると透過率が低下してしまう。また、フィルム基材を高温で熱アニールすることは通常困難である。このため、フィルム基材上に設けたITO膜の場合、高い透過率を維持しつつ抵抗を低くすることは難しい状況にあった。 With the increase in the size of touch panels and the high accuracy of touch sensor functions, there is a demand for transparent conductors having high transmittance and low resistance. In order to reduce the resistance of the transparent conductor using the ITO film, it is necessary to increase the thickness of the ITO film or to crystallize the ITO film by thermal annealing. However, when the ITO film is thickened, the transmittance is lowered. Also, it is usually difficult to thermally anneal the film substrate at a high temperature. For this reason, in the case of the ITO film | membrane provided on the film base material, it was in the difficult situation to make resistance low, maintaining a high transmittance | permeability.
このような事情の下、酸化亜鉛を主成分とする金属酸化物層と金属層との積層構造を有する透明導電膜が提案されている(例えば、特許文献1)。 Under such circumstances, a transparent conductive film having a laminated structure of a metal oxide layer mainly composed of zinc oxide and a metal layer has been proposed (for example, Patent Document 1).
タッチパネル等の用途では、透明導電膜を導電部分と絶縁部分とにパターニングを行いタッチした位置の検出を行う。このため、金属酸化物層と金属層との積層構造を有する透明導電体においては、金属酸化物層と金属層とは、エッチングで一括して除去可能であることが求められる。 In applications such as a touch panel, a transparent conductive film is patterned into a conductive portion and an insulating portion to detect a touched position. For this reason, in the transparent conductor which has a laminated structure of a metal oxide layer and a metal layer, it is calculated | required that a metal oxide layer and a metal layer can be removed collectively by an etching.
また、パターニングプロセスにおいては、レジストを用いてパターン形成し、最後にレジスト剥離を行うが、このレジスト剥離ではアルカリ溶液を用いる。よって、パターニングを行うには、金属酸化物層は、酸に溶解してエッチング可能なことと、アルカリには溶解しないアルカリ耐性の両立が求められる。 In the patterning process, a resist is used to form a pattern, and finally the resist is stripped. In this resist stripping, an alkaline solution is used. Therefore, in order to perform patterning, the metal oxide layer is required to be compatible with being capable of being etched by being dissolved in an acid and being resistant to alkali not being dissolved in an alkali.
しかしながら、酸化亜鉛は酸にもアルカリにも反応・溶解してしまう材料であり、また、従来の酸化亜鉛を主成分とする金属酸化物においても、酸への溶解性とアルカリ耐性の両立は困難であった。更に、金属酸化物は酸への溶解性と十分なアルカリ耐性を有し、かつ、十分な導電性を有する必要がある。 However, zinc oxide is a material that reacts and dissolves in both acids and alkalis, and it is difficult to achieve both acid solubility and alkali resistance in conventional metal oxides based on zinc oxide. Met. Furthermore, the metal oxide needs to have acid solubility, sufficient alkali resistance, and sufficient conductivity.
よって、酸化亜鉛を主成分とする金属酸化物層と金属層との積層構造において、金属酸化物層と金属層とを一括してエッチング除去することと、十分なアルカリ耐性、及び優れた導電性を両立することが困難である、という課題を有していた。 Therefore, in a laminated structure of a metal oxide layer mainly composed of zinc oxide and a metal layer, the metal oxide layer and the metal layer are removed by etching together, sufficient alkali resistance, and excellent conductivity. It was a problem that it was difficult to achieve both.
そこで、本開示では、主成分として酸化亜鉛を含有する金属酸化物層と金属層との積層構造を有する透明導電体において、金属酸化物層と金属層とをエッチングによって容易に除去することが可能であり、また優れたアルカリ耐性を有し、かつ高透過率で低抵抗な透明導電体を提供する。また、本開示では、そのような透明導電体を用いることによって、容易に製造することが可能なタッチパネルを提供する。 Therefore, in the present disclosure, in a transparent conductor having a laminated structure of a metal oxide layer containing zinc oxide as a main component and a metal layer, the metal oxide layer and the metal layer can be easily removed by etching. In addition, a transparent conductor having excellent alkali resistance and high transmittance and low resistance is provided. In addition, the present disclosure provides a touch panel that can be easily manufactured by using such a transparent conductor.
本発明は、一つの側面において、透明樹脂基材、第1の金属酸化物層、銀合金を含む金属層、及び第2の金属酸化物層がこの順で積層されており、第2の金属酸化物層は、主成分としてZnOを含有し、副成分としてIn2O3及びTiO2を含有し、ZnO、In2O3及びTiO2の3成分の合計に対するTiO2の含有量が6〜15mol%である透明導電体を提供する。 In one aspect of the present invention, a transparent resin base material, a first metal oxide layer, a metal layer containing a silver alloy, and a second metal oxide layer are laminated in this order, and the second metal The oxide layer contains ZnO as a main component, In 2 O 3 and TiO 2 as subcomponents, and the content of TiO 2 with respect to the total of the three components of ZnO, In 2 O 3 and TiO 2 is 6 to A transparent conductor that is 15 mol% is provided.
このような透明導電体は、最表面を構成する、主成分としてZnOを含有し、副成分としてIn2O3及びTiO2を含有し、ZnO、In2O3及びTiO2の3成分の合計に対するTiO2の含有量が6〜15mol%である第2の金属酸化物層と、銀合金を含む金属層と、を備える積層構造を有する。この第2の金属酸化物層と金属層とは、エッチングによって一括して容易に除去される。また、高い透明性、高い導電性、優れた耐腐食性、及び優れたアルカリ耐性を有する透明導電体とすることができる。したがって、タッチパネル等のエッチングが必要な用途に好適に用いることができる。 Such transparent conductor constitutes the outermost surface, containing ZnO as the main component, contains In 2 O 3 and TiO 2 as an auxiliary component, ZnO, total three components of In 2 O 3 and TiO 2 a second metal oxide layer TiO 2 content is 6~15Mol%, a metal layer containing silver alloy, a laminated structure comprising a relative. The second metal oxide layer and the metal layer are easily removed at once by etching. Moreover, it can be set as the transparent conductor which has high transparency, high electroconductivity, the outstanding corrosion resistance, and the outstanding alkali tolerance. Therefore, it can be suitably used for applications that require etching, such as touch panels.
幾つかの実施形態では、第2の金属酸化物層において、ZnO、In2O3及びTiO2の3成分の合計に対するZnOの含有量は73〜84mol%であってもよい。上記3成分の合計に対するIn2O3の含有量が9〜18mol%であってもよい。上述の割合でZnO、In2O3及びTiO2を含有することによって、第2の金属酸化物層の透明性、導電性、耐腐食性、エッチング性、及びアルカリ耐性を十分に高くすることができる。 In some embodiments, the content of ZnO in the second metal oxide layer may be 73 to 84 mol% with respect to the total of the three components of ZnO, In 2 O 3 and TiO 2 . The content of In 2 O 3 with respect to the total of the three components may be 9 to 18 mol%. By containing ZnO, In 2 O 3 and TiO 2 in the above-mentioned proportion, the transparency, conductivity, corrosion resistance, etching property, and alkali resistance of the second metal oxide layer can be made sufficiently high. it can.
幾つかの実施形態では、第1の金属酸化物層は、主成分としてZnOを含有し、副成分としてIn2O3及びTiO2を含有し、ZnO、In2O3及びTiO2の3成分の合計に対するTiO2の含有量を6〜15mol%としてもよい。これによって、第1の金属酸化物層、第2の金属酸化物層及び金属層を、エッチングによって一括して容易に除去することができる。また、高い透明性、高い導電性、優れた耐腐食性、及びアルカリ耐性を有する透明導電体とすることができる。 In some embodiments, the first metal oxide layer contains ZnO as a principal component, containing In 2 O 3 and TiO 2 as an auxiliary component, ZnO, 3 components of the In 2 O 3 and TiO 2 the content of TiO 2 to the total may be used as 6~15mol%. As a result, the first metal oxide layer, the second metal oxide layer, and the metal layer can be easily removed collectively by etching. Moreover, it can be set as the transparent conductor which has high transparency, high electroconductivity, outstanding corrosion resistance, and alkali tolerance.
幾つかの実施形態では、金属層の厚みが4〜11nmであってもよい。透明導電体の透明性を十分に高くしつつ、表面抵抗を低くすることができる。幾つかの実施形態では、銀合金が、Agと、Pd,Cu,Nd,In,Sn及びSbからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属との合金であってもよい。 In some embodiments, the thickness of the metal layer may be 4-11 nm. The surface resistance can be lowered while sufficiently increasing the transparency of the transparent conductor. In some embodiments, the silver alloy may be an alloy of Ag and at least one metal selected from the group consisting of Pd, Cu, Nd, In, Sn, and Sb.
本発明は、別の側面において、パネル板の上にセンサフィルムを有するタッチパネルであって、センサフィルムが上述の透明導電体で構成されるタッチパネルを提供する。このようなタッチパネルは、上述の透明導電体で構成されるセンサフィルムを有することから、容易に製造することができる。 In another aspect, the present invention provides a touch panel having a sensor film on a panel plate, wherein the sensor film is composed of the above-described transparent conductor. Such a touch panel can be easily manufactured because it has a sensor film composed of the above-described transparent conductor.
本開示によれば、主成分として酸化亜鉛を含有する金属酸化物層と金属層との積層構造を有する透明導電体において、金属酸化物層と金属層とをエッチングによって容易に除去することが可能で、アルカリ耐性と導電性に優れた透明導電体を提供することができる。また、本開示では、そのような透明導電体を用いることによって、容易に製造することが可能なタッチパネルを提供することができる。 According to the present disclosure, in a transparent conductor having a laminated structure of a metal oxide layer containing zinc oxide as a main component and a metal layer, the metal oxide layer and the metal layer can be easily removed by etching. Thus, a transparent conductor excellent in alkali resistance and conductivity can be provided. Moreover, in this indication, the touch panel which can be manufactured easily can be provided by using such a transparent conductor.
本発明の好適な実施形態を、図面を参照しながら以下に詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではない。なお、図面において同一又は同等の要素には同一の符号を付し、場合により重複する説明は省略する。 Preferred embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments. In the drawings, the same or equivalent elements are denoted by the same reference numerals, and redundant descriptions are omitted in some cases.
図1は、透明導電体の一実施形態を示す模式断面図である。透明導電体100は、フィルム状の透明樹脂基材10と、第1の金属酸化物層12と、金属層16と、第2の金属酸化物層14とがこの順に配置された積層構造を有する。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a transparent conductor. The
本明細書における「透明」とは、可視光が透過することを意味しており、光をある程度散乱してもよい。光の散乱度合いについては、透明導電体100の用途によって要求されるレベルが異なる。一般に半透明といわれるような光の散乱があるものも、本明細書における「透明」の概念に含まれる。光の散乱度合いは小さい方が好ましく、透明性は高い方が好ましい。透明導電体100全体の全光線透過率は、例えば80%以上であり、好ましくは83%以上であり、より好ましくは85%以上である。この全光線透過率は、積分球を用いて求められる、拡散透過光を含む透過率であり、市販のヘイズメーターを用いて測定される。
“Transparent” in the present specification means that visible light is transmitted, and the light may be scattered to some extent. Regarding the degree of light scattering, the required level varies depending on the use of the
透明樹脂基材10としては、特に限定されず、可撓性を有する有機樹脂フィルムであってもよい。有機樹脂フィルムは有機樹脂シートであってもよい。有機樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステルフィルム、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリルフィルム、ノルボルネンフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、並びにトリアセチルセルロースフィルム等が挙げられる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート(PET)及びポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステルフィルムが好ましい。
It does not specifically limit as the transparent
透明樹脂基材10は、剛性の観点からは厚い方が好ましい。一方、透明樹脂基材10は、透明導電体100を薄膜化する観点からは薄い方が好ましい。このような観点から、透明樹脂基材10の厚みは、例えば10〜200μmである。透明樹脂基材の屈折率は、光学特性に優れる透明導電体とする観点から、例えば1.50〜1.70である。なお、本明細書における屈折率は、λ=633nm、温度20℃の条件下で測定される値である。
The transparent
透明樹脂基材10は、加熱時の寸法安定性が高いことが好ましい。一般に、可撓性の有機樹脂フィルムはフィルム作製過程において、加熱によって膨張又は収縮による寸法変化を生じる。1軸延伸又は2軸延伸では、低コストで厚みが薄い透明樹脂基材10を作製することができる。引出し電極を形成する際に、透明導電体100を加熱すると、熱収縮することによって寸法変化が生じる。このような寸法変化は、ASTM D1204−02又はJIS−C−2151に準拠して測定することができる。加熱処理前後の寸法変化率は、加熱前の寸法をLo、加熱後の寸法をLとしたとき、以下の式で求められる。
寸法変化率(%)=100×(L−Lo)/Lo
The
Dimensional change rate (%) = 100 × (L-Lo) / Lo
寸法変化率(%)がプラスの場合は、加熱処理によって膨張したことを表し、マイナスの場合は、加熱処理によって収縮したことを表す。2軸延伸された透明樹脂基材10の寸法変化率は、延伸時の進行方向(MD方向)と横方向(TD方向)の両方において測定することができる。透明樹脂基材10の寸法変化率は、例えばMD方向にて−1.0〜−0.3%、TD方向にて−0.1〜+0.1%である。
When the rate of dimensional change (%) is positive, it indicates that it has expanded by heat treatment, and when it is negative, it indicates that it has shrunk by heat treatment. The dimensional change rate of the biaxially stretched
透明樹脂基材10は、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、及びオゾン処理からなる群より選ばれる少なくとも一つの表面処理が施されたものであってもよい。透明樹脂基材10は、樹脂フィルムであってもよい。樹脂フィルムを用いることによって、透明導電体100を柔軟性に優れたものとすることができる。これによって、タッチパネル用途の透明導電体に限らず、フレキシブルな有機EL照明等の透明電極用、又は電磁波シールドとしても用いることできる。
The
例えば、透明導電体100を、タッチパネルを構成するセンサフィルムとして用いる場合、指及びペン等の外部入力に対して適度に変形できるように、透明樹脂基材10は可撓性を有する有機樹脂フィルムを用いてもよい。
For example, when the
第2の金属酸化物層14は、酸化物を含む透明の層であり、主成分としてZnOを含有し、副成分としてIn2O3及びTiO2を含み、ZnO、In2O3及びTiO2の3成分の合計に対するTiO2の含有量は6〜15mol%である。ここでいう主成分とは、ZnO、In2O3及びTiO2の3成分において、モル基準の含有量が最も多い成分である。副成分とは、上記3成分のうち、主成分ではない成分である。第2の金属酸化物層14は、主成分としてZnOを含有することから経済性に優れる。また、ITOを用いずに、高い導電性と高い透明性を兼ね備えた第2の金属酸化物層14を形成することができる。このため、熱アニールを行わずとも、低い表面抵抗を有する第2の金属酸化物層14とすることができる。
The second
ここで、第2の金属酸化物層14において、上記3成分の合計に対するTiO2の含有量は、エッチング性を十分に高くする観点から、15mol%以下であり、好ましくは12mol%以下である。また、第2の金属酸化物層14において、上記3成分の合計に対するTiO2の含有量は、アルカリ耐性を十分に高くする観点から、6mol%以上であり、好ましくは8mol%以上である。TiO2の含有量が多すぎると、第2の金属酸化物層14と金属層16との積層構造のエッチングが不可能となり、また金属酸化物層の導電性が消失してしまう。一方、TiO2の含有量が少なすぎると、上記の積層構造のアルカリ耐性が低下する。
Here, in the second
第2の金属酸化物層14において、上記3成分の合計に対するZnOの含有量は、透過率と導電性とを十分に高くする観点から、例えば73mol%以上であり、好ましくは75mol%以上である。第2の金属酸化物層14において、上記3成分の合計に対するZnOの含有量は、保存安定性を十分に高くする観点から、例えば84mol%以下であり、好ましくは82mol%以下である。ZnOの含有量が多すぎると、高温高湿環境下で保存した場合に、白濁が発生しやすくなる傾向にある。一方、ZnOの含有量が少なすぎると、透過率及び導電性が低下する傾向にある。
In the second
第2の金属酸化物層14において、上記3成分の合計に対するIn2O3の含有量は、透過率を十分に高くする観点から、例えば18mol%以下であり、好ましくは16mol%以下である。第2の金属酸化物層14において、上記3成分の合計に対するIn2O3の含有量は、保存安定性を十分に高くする観点から、例えば9mol%以上であり、好ましくは11mol%以上である。In2O3の含有量が多すぎると、透過率が低下する傾向にある。一方、In2O3の含有量が少なすぎると、高温高湿環境下で保存した場合に、白濁が発生しやすくなるとともに表面抵抗が高くなる傾向にある。
In the second
第2の金属酸化物層14は、光学特性の調整、金属層16の保護、及び導電性の確保といった機能を兼ね備える。第2の金属酸化物層14は、その機能を大きく損なわない範囲で、上記3成分の他に、微量成分又は不可避的成分を含んでいてもよい。ただし、十分に高い特性を有する透明導電体100とする観点から、第2の金属酸化物層14における該3成分の合計の割合は高い方が好ましい。その割合は、例えば95mol%以上であり、好ましくは97mol%以上である。また、第2の金属酸化物層14は、ITOを含まないことが好ましい。
The second
第1の金属酸化物層12と、第2の金属酸化物層14とは、厚み、構造及び組成の点で、同一であってもよく、異なっていてもよい。第2の金属酸化物層14の組成に関する記載は、第1の金属酸化物層12にも、そのまま適用することができる。第1の金属酸化物層12が、第2の金属酸化物層14と同一の組成を有することによって、第1の金属酸化物層12、金属層16、及び第2の金属酸化物層14を、エッチングによって一括して除去することができる。また、透明性、耐腐食性、及びアルカリ耐性をさらに高くすることができる。
The first
第1の金属酸化物層12は、第2の金属酸化物層14とは異なる組成を有していてもよい。この場合、第2の金属酸化物層14及び金属層16のみをエッチングして除去し、第1の金属酸化物層12をそのまま残存させることができる。
The first
第1の金属酸化物層12及び第2の金属酸化物層14の厚さは、種々のタッチパネルに適した厚さとする観点から、例えば10〜70nmである。
The thicknesses of the first
第1の金属酸化物層12及び第2の金属酸化物層14は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、又はCVD法などの真空成膜法によって作製することができる。これらのうち、成膜室を小型化できる点、及び、成膜速度が速い点で、スパッタリング法が好ましい。スパッタリング法としては、DCマグネトロンスパッタリングが挙げられる。ターゲットとしては、酸化物ターゲット、金属又は半金属ターゲットを用いることができる。
The first
第2の金属酸化物層14の上には配線電極等が設けられてもよい。後述する金属層16を導通する電流は、第2の金属酸化物層14の上に設けられる配線電極等から、第2の金属酸化物層14を経由して、導かれる。このため、第2の金属酸化物層14は、高い導電性を有することが好ましい。このような観点から、第2の金属酸化物層14単膜での表面抵抗値は、例えば1.0×10+7Ω/□(=1.0E+7Ω/sq.)以下であることが好ましく、5.0×10+6Ω/□以下であることがより好ましい。
A wiring electrode or the like may be provided on the second
金属層16は、主成分として銀合金を含む層である。金属層16が高い導電性を有することによって、透明導電体100の表面抵抗を十分に低くすることができる。銀合金を構成する金属元素としては、Agと、Pd、Cu、Nd、In、Sn、及びSbから選ばれる少なくとも1種と、が挙げられる。銀合金の例としては、Ag−Pd、Ag−Cu、Ag−Pd−Cu、Ag−Nd−Cu、Ag−In−Sn、及びAg−Sn−Sbが挙げられる。
The
金属層16は、銀合金の他に、添加物を含有していてもよい。添加物は、エッチング液によって容易に除去されるものであることが好ましい。金属層16における銀合金の含有量は、例えば90質量%以上であってもよく、95質量%以上であってもよい。金属層16の厚さは、例えば1〜30nmである。透明導電体100の表面抵抗を十分に低くしつつ全光線透過率を十分に高くする観点から、金属層16の厚さは好ましくは4〜11nmである。金属層16の厚さが大きすぎると全光線透過率が低下する傾向にある。一方、金属層16の厚さが小さすぎると表面抵抗が高くなる傾向がある。
The
金属層16は、透明導電体100の全光線透過率及び表面抵抗を調整する機能を有している。金属層16は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、又はCVD法などの真空成膜法によって作製することができる。これらのうち、成膜室を小型化できる点、及び成膜速度が速い点で、スパッタリング法が好ましい。スパッタリング法としては、DCマグネトロンスパッタリングが挙げられる。ターゲットとしては、金属ターゲットを用いることができる。
The
透明導電体100における第1の金属酸化物層12及び第2の金属酸化物層14の少なくとも一部、及び、金属層16の少なくとも一部は、エッチング等によって除去されていてもよい。
At least a part of the first
図2は、透明導電体の別の実施形態を示す模式断面図である。透明導電体101は、透明樹脂基材10を挟むようにして一対のハードコート層20を備える点で、透明導電体100と異なっている。その他の構成は、透明導電体100と同様である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the transparent conductor. The
透明導電体101は、一対のハードコート層20として、透明樹脂基材10の第1の金属酸化物層12側の主面上に第1のハードコート層22と、透明樹脂基材10の第1の金属酸化物層12側とは反対側の主面上に第2のハードコート層24とを備える。すなわち、透明導電体101は、第2のハードコート層24、透明樹脂基材10、第1のハードコート層22、第1の金属酸化物層12、金属層16及び第2の金属酸化物層14がこの順に積層された積層構造を有している。第1のハードコート層22と第2のハードコート層24の厚み、構造及び組成は、同一であってもよく異なっていてもよい。また、必ずしも第1のハードコート層22と第2のハードコート層24の両方を備える必要はなく、どちらか一方のみを備えていてもよい。
As the pair of hard coat layers 20, the
ハードコート層20を設けることによって、透明樹脂基材10に発生する傷を十分に抑制することができる。ハードコート層20は、樹脂組成物を硬化させて得られる樹脂硬化物を含有する。樹脂組成物は、熱硬化性樹脂組成物、紫外線硬化性樹脂組成物、及び電子線硬化性樹脂組成物から選ばれる少なくとも一種を含むことが好ましい。熱硬化性樹脂組成物は、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、及びメラミン系樹脂から選ばれる少なくとも一種を含んでもよい。
By providing the
樹脂組成物は、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等のエネルギー線反応性基を有する硬化性化合物を含む組成物である。なお、(メタ)アクリロイル基なる表記は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の少なくとも一方を含む意味である。硬化性化合物は、1つの分子内に2つ以上、好ましくは3つ以上のエネルギー線反応性基を含む多官能モノマー又はオリゴマーを含んでいることが好ましい。 A resin composition is a composition containing the sclerosing | hardenable compound which has energy-beam reactive groups, such as a (meth) acryloyl group and a vinyl group, for example. Note that the notation of (meth) acryloyl group includes at least one of acryloyl group and methacryloyl group. The curable compound preferably contains a polyfunctional monomer or oligomer containing 2 or more, preferably 3 or more energy ray reactive groups in one molecule.
硬化性化合物は、好ましくはアクリル系モノマーを含有する。アクリル系モノマーとしては、具体的には、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、及び3−(メタ)アクリロイルオキシグリセリンモノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。ただし、必ずしもこれらに限定されるものではない。例えば、ウレタン変性アクリレート、及びエポキシ変性アクリレート等も挙げられる。 The curable compound preferably contains an acrylic monomer. Specific examples of acrylic monomers include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, and trimethylolpropane tri (meth). Acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and 3- (meth) acryloyloxy Riserinmono (meth) acrylate. However, it is not necessarily limited to these. For example, urethane-modified acrylate and epoxy-modified acrylate are also included.
硬化性化合物として、ビニル基を有する化合物を用いてもよい。ビニル基を有する化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ヒドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、及び、ジトリメチロールプロパンポリビニルエーテル等が挙げられる。ただし、必ずしもこれらに限定されるものではない。 As the curable compound, a compound having a vinyl group may be used. Examples of the compound having a vinyl group include ethylene glycol divinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, ethylene oxide-modified hydroquinone divinyl ether, ethylene oxide-modified bisphenol A divinyl ether, Examples include pentaerythritol trivinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether, and ditrimethylolpropane polyvinyl ether. However, it is not necessarily limited to these.
樹脂組成物は、硬化性化合物を紫外線によって硬化させる場合、光重合開始剤を含む。光重合開始剤としては、種々のものを用いることができる。例えば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、及びチオキサントン系等の公知の化合物から適宜選択すればよい。より具体的には、ダロキュア1173、イルガキュア651、イルガキュア184、イルガキュア907(以上商品名、チバスペシャルティケミカルズ社製)、及び、KAYACURE DETX−S(商品名、日本化薬(株)製)が挙げられる。 The resin composition contains a photopolymerization initiator when the curable compound is cured by ultraviolet rays. Various photopolymerization initiators can be used. For example, it may be appropriately selected from known compounds such as acetophenone, benzoin, benzophenone, and thioxanthone. More specifically, Darocur 1173, Irgacure 651, Irgacure 184, Irgacure 907 (above trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and KAYACURE DETX-S (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) can be mentioned. .
光重合開始剤は、硬化性化合物の質量に対して、0.01〜20質量%、又は0.5〜5質量%程度とすればよい。樹脂組成物は、アクリル系モノマーに光重合開始剤を加えた公知のものであってもよい。アクリル系モノマーに光重合開始剤を加えたものとしては、例えば、紫外線硬化型樹脂であるSD−318(商品名、大日本インキ化学工業(株)製)、及び、XNR5535(商品名、長瀬産業(株)製)等が挙げられる。 A photoinitiator should just be about 0.01-20 mass% or about 0.5-5 mass% with respect to the mass of a curable compound. The resin composition may be a known composition obtained by adding a photopolymerization initiator to an acrylic monomer. Examples of the acrylic monomer added with a photopolymerization initiator include SD-318 (trade name, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) and XNR5535 (trade name, Nagase Sangyo), which are ultraviolet curable resins. Etc.).
樹脂組成物は、塗膜の強度を高めること、及び/又は、屈折率を調整すること等のために、有機微粒子及び/又は無機微粒子を含んでいてもよい。有機微粒子としては、例えば、有機珪素微粒子、架橋アクリル微粒子、及び架橋ポリスチレンン微粒子等が挙げられる。無機微粒子としては、例えば、酸化珪素微粒子、酸化アルミニウム微粒子、酸化ジルコニウム微粒子、酸化チタン微粒子、及び酸化鉄微粒子等が挙げられる。これらのうち、酸化珪素微粒子が好ましい。 The resin composition may contain organic fine particles and / or inorganic fine particles for increasing the strength of the coating film and / or adjusting the refractive index. Examples of the organic fine particles include organic silicon fine particles, crosslinked acrylic fine particles, and crosslinked polystyrene fine particles. Examples of the inorganic fine particles include silicon oxide fine particles, aluminum oxide fine particles, zirconium oxide fine particles, titanium oxide fine particles, and iron oxide fine particles. Of these, silicon oxide fine particles are preferred.
微粒子は、その表面がシランカップリング剤で処理され、(メタ)アクリロイル基、及び/又はビニル基等のエネルギー線反応性基が表面に膜状に存在しているものも好ましい。このような反応性を有する微粒子を用いると、エネルギー線照射の際に、微粒子同士が反応したり、微粒子と多官能モノマー又はオリゴマーとが反応したりして、膜の強度を強くすることができる。(メタ)アクリロイル基を含有するシランカップリング剤で処理された酸化珪素微粒子が好ましく用いられる。 The fine particles preferably have a surface treated with a silane coupling agent, and energy ray reactive groups such as (meth) acryloyl groups and / or vinyl groups are present in the form of a film on the surface. When fine particles having such reactivity are used, the fine particles react with each other upon irradiation with energy rays, or the fine particles and polyfunctional monomers or oligomers react to increase the strength of the film. . Silicon oxide fine particles treated with a silane coupling agent containing a (meth) acryloyl group are preferably used.
微粒子の平均粒径は、ハードコート層20の厚みよりも小さく、十分な透明性を確保する観点から、100nm以下であってもよく、20nm以下であってもよい。一方、コロイド溶液の製造上の観点から、5nm以上であってもよく、10nm以上であってもよい。有機微粒子及び/又は無機微粒子を用いる場合、有機微粒子及び無機微粒子の合計量は、硬化性化合物100質量部に対して、例えば5〜500質量部であってもよく、20〜200質量部であってもよい。
The average particle diameter of the fine particles is smaller than the thickness of the
エネルギー線で硬化する樹脂組成物を用いると、紫外線等のエネルギー線を照射することによって、樹脂組成物を硬化させることができる。したがって、このような樹脂組成物を用いることが製造工程上の観点からも好ましい。 When a resin composition that cures with energy rays is used, the resin composition can be cured by irradiation with energy rays such as ultraviolet rays. Accordingly, it is preferable to use such a resin composition from the viewpoint of the manufacturing process.
第1のハードコート層22は、樹脂組成物の溶液又は分散液を、透明樹脂基材10の一方面上に塗布して乾燥し、樹脂組成物を硬化させて作製することができる。この際の塗布は、公知の方法により行うことができる。塗布方法としては、例えば、エクストルージョンノズル法、ブレード法、ナイフ法、バーコート法、キスコート法、キスリバース法、グラビアロール法、ディップ法、リバースロール法、ダイレクトロール法、カーテン法、及びスクイズ法などが挙げられる。第2のハードコート層24も、第1のハードコート層22と同様にして、透明樹脂基材10の他方面上に作製することができる。
The first
第1のハードコート層22及び第2のハードコート層24の厚みは、例えば0.5〜10μmである。厚みが10μmを超えると、厚みムラやシワなどが生じ易くなる傾向にある。一方、厚みが0.5μmを下回ると、透明樹脂基材10中に可塑剤又はオリゴマー等の低分子量成分が相当量含まれている場合に、これらの成分のブリードアウトを十分に抑制することが困難になる場合がある。なお、反りを抑制する観点から、第1のハードコート層22及び第2のハードコート層24の厚みは、同程度にすることが好ましい。
The thickness of the first
第1のハードコート層22及び第2のハードコート層24の屈折率は、例えば1.40〜1.60である。透明樹脂基材10と第1のハードコート層22の屈折率の差の絶対値が0.1以下であること好ましい。透明樹脂基材10と第2のハードコート層24の屈折率の差の絶対値も0.1以下であること好ましい。第1のハードコート層22及び第2のハードコート層24と透明樹脂基材10との屈折率の差の絶対値を小さくすることで、第1のハードコート層22及び第2のハードコート層24の厚みのムラによって発生する干渉ムラの強度を抑制することができる。
The refractive indexes of the first
透明導電体100,101を構成する各層の厚みは、以下の手順で測定することができる。集束イオンビーム装置(FIB,Focused Ion Beam)によって透明導電体100,101を切断して断面を得る。透過電子顕微鏡(TEM)を用いて当該断面を観察し、各層の厚みを測定する。測定は、任意に選択された10箇所以上の位置で測定を行い、その平均値を求めることが好ましい。断面を得る方法として、集束イオンビーム装置以外の装置としてミクロトームを用いてもよい。厚みを測定する方法としては、走査電子顕微鏡(SEM)を用いてもよい。また蛍光X線装置を用いても膜厚を測定することが可能である。
The thickness of each layer constituting the
透明導電体100,101の厚みは、200μm以下であってもよく、150μm以下であってもよい。このような厚みであれば、薄化の要求レベルを十分に満足することができる。透明導電体100,101の全光線透過率は、例えば85%以上もの高い値とすることができる。また、透明導電体100,101の表面抵抗値(4端子法)は、第1の金属酸化物層12及び第2の金属酸化物層14の熱アニールをしなくても、例えば30Ω/□以下にすることが可能であり、25Ω/□以下にすることもできる。
The thickness of the
上述の構成を備える透明導電体100,101は、第1の金属酸化物層12、金属層16及び第2の金属酸化物層14が積層された積層構造を有する。この積層構造は、通常のエッチング液を用いて、容易に一括して除去することができる。また、高い透過率を有するとともに、熱アニールを行わなくても高い導電性を有する。このため、タッチパネルのセンサフィルム用として好適に用いることができる。
The
図3は、一対のセンサフィルムを備えるタッチパネル200の断面の一部を拡大して示す模式断面図である。図4(A)及び図4(B)は、上述の透明導電体100を用いたセンサフィルム100a及び100bの平面図である。タッチパネル200は、光学のり18を介して対向配置される一対のセンサフィルム100a,100bを備える。タッチパネル200は、接触体のタッチ位置を、画面となるパネル板70に平行な二次元座標(X−Y座標)平面における座標位置(横方向位置と縦方向位置)として算出することが可能なように構成されている。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged part of a cross section of a
具体的には、タッチパネル200は、光学のり18を介して貼り合わせられた、縦方向位置検出用のセンサフィルム100a(以下、「Y用センサフィルム」と言う)と、横方向位置検出用のセンサフィルム100b(以下、「X用センサフィルム」と言う)とを備える。X用センサフィルム100bの下面側には、X用センサフィルム100bと、表示装置のパネル板70との間に、スペーサ92が設けられている。
Specifically, the
Y用センサフィルム100aの上面側(パネル板70側とは反対側)には、光学のり17を介して、カバーグラス19が設けられている。すなわち、タッチパネル200は、パネル板70の上に、パネル板70側から、X用センサフィルム100b、Y用センサフィルム100a、及びカバーグラス19がこの順に配置された積層構造を有する。
A
縦方向位置を検出するY用センサフィルム100aと、横方向位置を検出するX用センサフィルム100bは、上述の透明導電体100で構成される。Y用センサフィルム100a及びX用センサフィルム100bは、カバーグラス19と対向するように、導電部であるセンサ電極15a及びセンサ電極15bを有する。
The
このセンサ電極15aは、第1の金属酸化物層12、第2の金属酸化物層14及び金属層16で構成される。図4(A)に示すように、センサ電極15aは、縦方向(y方向)のタッチ位置を検出できるように、縦方向(y方向)に複数本延在している。複数本のセンサ電極15aは、縦方向(y方向)に沿って、互いに平行に並べて配置されている。センサ電極15aの一端は、銀ペーストで形成される導体線路50を介して、駆動用IC側の電極80と接続されている。
The
横方向位置を検出するX用センサフィルム100bは、Y用センサフィルム100aとの対向面に、センサ電極15bを有する。このセンサ電極15bは、第1の金属酸化物層12、第2の金属酸化物層14及び金属層16で構成される。図4(B)に示すように、センサ電極15bは、横方向(x方向)のタッチ位置を検出できるように、横方向(x方向)に複数本延在している。複数本のセンサ電極15bは、横方向(x方向)に沿って、互いに平行に並べて配置されている。センサ電極15bの一端は、銀ペーストで形成される導体線路50を介して、駆動用IC側の電極80と接続されている。
The X sensor film 100b that detects the lateral position has a sensor electrode 15b on the surface facing the
Y用センサフィルム100aとX用センサフィルム100bとは、Y用センサフィルム100aとX用センサフィルム100bとの積層方向からみたときに、それぞれのセンサ電極15a,15bが互いに直交するように、光学のり18を介して重ね合わせられている。Y用センサフィルム100aのX用センサフィルム100b側とは反対側には、光学のり17を介してカバーグラス19が設けられている。光学のり17,18、カバーグラス19、及びパネル板70は、通常のものを用いることができる。
The
図4(A),(B)における導体線路50及び電極80は、金属(例えばAg)等の導電性材料によって構成される。導体線路50及び電極80は、例えば、スクリーン印刷によってパターン形成される。
The
各センサフィルム100a,100bにおけるセンサ電極15a,15bの形状及び数は、図3、図4(A)及び図4(B)に示す形態に限定されるものではない。例えば、センサ電極15a,15bの数を増やしてタッチ位置の検出精度を高めてもよい。
The shape and number of
X用センサフィルム100bのY用センサフィルム100a側とは反対側には、スペーサ92を介してパネル板70が設けられる。スペーサ92は、センサ電極15a,15bの形状に対応する位置と、センサ電極15a,15bの全体を取り囲む位置とに設けることができる。スペーサ92は、透光性を有する材料、例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)樹脂で形成されていてもよい。スペーサ92の一端は、光学のり或いはアクリル系又はエポキシ系等の透光性を有する接着剤90によって、X用センサフィルム100bの下面に接着される。スペーサ92の他端は、接着剤90によって表示装置のパネル板70に接着される。このように、スペーサ92を介してX用センサフィルム100bとパネル板70とを対向配置することによって、X用センサフィルム100bと表示装置のパネル板70との間に隙間Sを設けることができる。
On the opposite side of the X sensor film 100b to the
電極80には、制御部(IC)が電気的に接続される。指先とタッチパネル200のY用センサフィルム100aとの間における静電容量の変化によって生じる各センサ電極15a,15bの容量変化がそれぞれ測定される。制御部は、測定結果に基づいて接触体のタッチ位置を座標位置(X軸方向の位置とY軸方向の位置の交点)として算出することができる。なお、センサ電極の駆動方法、及び、座標位置の算出方法は、上述の他に、公知の各種の方法を採用することが可能である。
A control unit (IC) is electrically connected to the electrode 80. The capacitance changes of the
タッチパネル200は以下の手順で製造することができる。透明導電体100を準備した後、第1の金属酸化物層12、金属層16及び第2の金属酸化物層14のエッチングを行って、パターニングを行う。具体的には、フォトリソグラフィーの技術を用いて第2の金属酸化物層14の表面にスピンコーティングによりレジスト材料を塗布する。その後、密着性を向上させるためにプリベークを行ってもよい。続いて、マスクパターンを配置して露光し、現像液で現像することによって、レジストパターンを形成する。レジストパターンの形成は、フォトリソグラフィーに限定されず、スクリーン印刷等によって形成することも可能である。
The
次に、酸性のエッチング液に、レジストパターンを形成した透明導電体100を浸漬し、レジストパターンが形成されていない部分における第1の金属酸化物層12、第2の金属酸化物層14及び金属層16を溶解除去する。その後、レジストを除去して、センサ電極15aが形成されたY用センサフィルム100aと、センサ電極15bが形成されたX用センサフィルム100bが得られる。
Next, the
第1の金属酸化物層12と第2の金属酸化物層14とを異なる組成とし、第1の金属酸化物層12はエッチングで除去されない組成にすれば、金属層16と第2の金属酸化物層14とを一括エッチングし、第1の金属酸化物層12をエッチング後もそのまま残存させることも可能である。エッチング液としては、無機酸系のエッチング液を用いることができる。例えば、リン酸系のエッチング液が好適である。
If the first
続いて、例えば銀合金ペーストなどの金属ペーストを塗布して、導体線路50及び電極80を形成する。このようにして、制御部(図示せず)とセンサ電極15a,15bとが電気的に接続される。次に、Y用センサフィルム100aとX用センサフィルム100bを、光学のり18を用いて、それぞれのセンサ電極15a,15bが同一方向に向くようにして貼り合わせる。この場合、Y用センサフィルム100aとX用センサフィルム100bの積層方向からみたときに、センサ電極15a,15bが互いに直行するように貼り合わせる。そして、光学のり17を用いてカバーグラス19とY用センサフィルム100aとを貼り合わせる。このようにして、タッチパネル200を製造することができる。
Subsequently, for example, a metal paste such as a silver alloy paste is applied to form the
タッチパネル200は、Y用センサフィルム100a及びX用センサフィルム100bとして、透明導電体100を用いている。透明導電体100は、エッチングによって第1の金属酸化物層12、第2の金属酸化物層14及び金属層16を一括して除去することができる。このため、タッチパネル200の製造プロセスを簡略化して、タッチパネル200を容易に製造することができる。
The
なお、Y用センサフィルム100a及びX用センサフィルム100bの双方に、透明導電体100を用いる必要はなく、どちらか一方は、別の透明導電体を用いてもよい。このようなタッチパネルであっても、表示を十分に鮮明にすることができる。また、センサフィルムとして、透明導電体100ではなく、透明導電体101を用いてもよい。
In addition, it is not necessary to use the
このように、透明導電体100,101は、タッチパネル用に好適に用いることができる。ただし、その用途はタッチパネルに限定されるものではなく、例えば、第1の金属酸化物層12、第2の金属酸化物層14及び金属層16をエッチングによって所定形状に加工して、第1の金属酸化物層12、第2の金属酸化物層14及び金属層16を有する部分(導電部)と、第1の金属酸化物層12、第2の金属酸化物層14及び金属層16を有しない部分(非導電部)とを形成し、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスパネル(有機EL、無機EL)、エレクトロクロミック素子、及び電子ペーパーなどの各種表示装置において、透明電極用、帯電防止用、電磁波シールド用として用いることができる。また、アンテナとして用いることもできる。
Thus, the
以上、本発明の好適な実施形態を説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではない。例えば、上述の透明導電体101は一対のハードコート層20を有しているが、第1のハードコート層22及び第2のハードコート層24のどちらか一方のみを備えていてもよい。また、透明樹脂基材10の一方面上にハードコート層を設け、他方面上に塗布により複数の光学調整層を設けてもよい。この場合、第1の金属酸化物層12、金属層16及び第2の金属酸化物層14は、この光学調整層の上に設けてもよい。さらに、透明導電体100,101には、その機能が大きく損なわれない範囲で、上述の層以外に任意の位置に任意の層を設けてもよい。
The preferred embodiments of the present invention have been described above, but the present invention is not limited to the above-described embodiments. For example, the above-described
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.
[実施例1〜13]
(透明導電体101の作製)
図2に示すような透明導電体を作製した。透明導電体は、一対のハードコート層に挟まれた透明樹脂基材、第1の金属酸化物層、金属層及び第2の金属酸化物層がこの順で積層された積層構造を有している。各実施例の透明導電体を以下の要領で作製した。
[Examples 1 to 13]
(Preparation of transparent conductor 101)
A transparent conductor as shown in FIG. 2 was produced. The transparent conductor has a laminated structure in which a transparent resin base material sandwiched between a pair of hard coat layers, a first metal oxide layer, a metal layer, and a second metal oxide layer are laminated in this order. Yes. The transparent conductor of each Example was produced as follows.
厚さが100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製、品番:U48)を準備した。このPETフィルムを透明樹脂基材として用いた。第1のハードコート層、及び第2のハードコート層作製用の塗料を以下の手順で調製した。 A polyethylene terephthalate film (manufactured by Toray Industries, Inc., product number: U48) having a thickness of 100 μm was prepared. This PET film was used as a transparent resin substrate. A paint for preparing the first hard coat layer and the second hard coat layer was prepared by the following procedure.
まず、以下の原材料を準備した。
・反応性基装飾コロイダルシリカ(分散媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、不揮発分:40重量%):100重量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート:48重量部
・1,6−ヘキサンジオールジアクリレート:12重量部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン):2.5重量部
First, the following raw materials were prepared.
Reactive group-decorated colloidal silica (dispersion medium: propylene glycol monomethyl ether acetate, nonvolatile content: 40% by weight): 100 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate: 48 parts by weight 1,6-hexanediol diacrylate: 12 parts by weight Parts / photopolymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone): 2.5 parts by weight
上述の原材料を、溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGMA))で希釈して混合し、各成分を溶剤中に分散させた。これによって、不揮発分(NV)が25.5重量%の塗料を調整した。このようにして得られた塗料を、第1のハードコート層及び第2のハードコート層作製用の塗料として用いた。 The above-mentioned raw materials were diluted with a solvent (propylene glycol monomethyl ether (PGMA)) and mixed, and each component was dispersed in the solvent. As a result, a paint having a nonvolatile content (NV) of 25.5% by weight was prepared. The paint thus obtained was used as a paint for preparing the first hard coat layer and the second hard coat layer.
透明樹脂基材の一方面上に、第1のハードコート層作製用の塗料を塗布して、塗布膜を作製した。80℃に設定した熱風乾燥炉において塗布膜中の溶剤を除去した後、UV処理装置を用いて積算光量400mJ/cm2の紫外線を照射して塗布膜を硬化させた。このようにして、透明樹脂基材の一方面に、厚さ5μmの第1のハードコート層を作製した。同様にして、透明樹脂基材の他方面上に、厚さ5μmの第2のハードコート層を作製した。 On one surface of the transparent resin base material, a coating material for preparing the first hard coat layer was applied to prepare a coating film. After removing the solvent in the coating film in a hot air drying oven set at 80 ° C., the coating film was cured by irradiating with an ultraviolet ray with an integrated light amount of 400 mJ / cm 2 using a UV processing apparatus. In this way, a first hard coat layer having a thickness of 5 μm was produced on one surface of the transparent resin substrate. In the same manner, a second hard coat layer having a thickness of 5 μm was produced on the other surface of the transparent resin substrate.
第1のハードコート層上に、DCマグネトロンスパッタリングによって、第1の金属酸化物層、金属層及び第2の金属酸化物層を順次形成した。第1の金属酸化物層及び第2の金属酸化物層は、表1に示す組成を有するZnO−In2O3−TiO2ターゲットを用いて形成した。それぞれの実施例における第1の金属酸化物層及び第2の金属酸化物層は、同一組成を有するターゲットを用いて形成した。各実施例における第1の金属酸化物層及び第2の金属酸化物層の組成は、表1に示すとおりであった。各実施例における第1の金属酸化物層及び第2の金属酸化物層の厚さは50nmとした。 A first metal oxide layer, a metal layer, and a second metal oxide layer were sequentially formed on the first hard coat layer by DC magnetron sputtering. The first metal oxide layer and the second metal oxide layer were formed using a ZnO—In 2 O 3 —TiO 2 target having the composition shown in Table 1. The first metal oxide layer and the second metal oxide layer in each example were formed using targets having the same composition. The compositions of the first metal oxide layer and the second metal oxide layer in each example were as shown in Table 1. The thickness of the first metal oxide layer and the second metal oxide layer in each example was 50 nm.
表1に示す全ての実施例において、金属層は、AgPdCu(Ag:Pd:Cu=99.0:0.5:0.5(質量%))ターゲットを用いて形成した。金属層16の厚さは5nmとした。
In all the examples shown in Table 1, the metal layer was formed using an AgPdCu (Ag: Pd: Cu = 99.0: 0.5: 0.5 (mass%)) target. The thickness of the
(透明導電体101の評価)
以下の手順でエッチング特性を評価した。まず、リン酸、酢酸、硝酸を含有するPAN系エッチング液を準備した。このエッチング液に各実施例の透明導電体を室温で1分間浸漬してエッチングを行った。その後、全光線透過率測定を行って、第1の金属酸化物層、金属層及び第2の金属酸化物層が溶解されているか否かを判定した。具体的には、エッチング後のサンプルの全光線透過率が、透明樹脂基材のみの全光線透過率と一致した場合は「A」、一致しなかった場合は「B」と判定した。全光線透過率(透過率)は、ヘイズメーター(商品名:NDH−7000、日本電色工業社製)を用いて測定した。評価結果は表1に示すとおりであった。
(Evaluation of transparent conductor 101)
The etching characteristics were evaluated by the following procedure. First, a PAN-based etching solution containing phosphoric acid, acetic acid, and nitric acid was prepared. Etching was performed by immersing the transparent conductor of each example in this etching solution at room temperature for 1 minute. Then, the total light transmittance measurement was performed and it was determined whether the 1st metal oxide layer, the metal layer, and the 2nd metal oxide layer were melt | dissolved. Specifically, when the total light transmittance of the sample after etching coincided with the total light transmittance of only the transparent resin substrate, it was determined as “A”, and when it did not coincide, “B” was determined. The total light transmittance (transmittance) was measured using a haze meter (trade name: NDH-7000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). The evaluation results are as shown in Table 1.
また、以下の手順でアルカリ耐性を評価した。濃度3wt%のKOH溶液を準備した。このアルカリ溶液に各実施例の透明導電体を室温で2分間浸漬した。その後、全光線透過率測定を行って、第1の金属酸化物層、金属層及び第2の金属酸化物層が溶解されているか否かを判定した。具体的には、アルカリ溶液浸漬後のサンプルの全光線透過率が、浸漬前の全光線透過率と一致した場合は「A」、一致しなかった場合は「B」と判定した。全光線透過率(透過率)は、ヘイズメーター(商品名:NDH−7000、日本電色工業社製)を用いて測定した。評価結果は表1に示すとおりであった。 Moreover, alkali resistance was evaluated by the following procedures. A KOH solution having a concentration of 3 wt% was prepared. The transparent conductor of each example was immersed in this alkaline solution for 2 minutes at room temperature. Then, the total light transmittance measurement was performed and it was determined whether the 1st metal oxide layer, the metal layer, and the 2nd metal oxide layer were melt | dissolved. Specifically, it was determined as “A” when the total light transmittance of the sample after immersion in the alkaline solution was the same as the total light transmittance before immersion, and “B” when it was not. The total light transmittance (transmittance) was measured using a haze meter (trade name: NDH-7000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). The evaluation results are as shown in Table 1.
各実施例の表面抵抗を、4端子抵抗率計(商品名:ロレスタGP、三菱化学株式会社製)を用いて測定した。結果を表1に示す。表1中、「表面抵抗(1)」は、透明導電体を85℃,85%RH(相対湿度85%)の環境下に50時間保存する前の表面抵抗値であり、「表面抵抗(2)」は、上記環境下に保存した後の表面抵抗値である。 The surface resistance of each example was measured using a 4-terminal resistivity meter (trade name: Loresta GP, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). The results are shown in Table 1. In Table 1, “surface resistance (1)” is a surface resistance value before storing the transparent conductor in an environment of 85 ° C. and 85% RH (relative humidity 85%) for 50 hours. ")" Is the surface resistance value after storage in the above environment.
各実施例の透明導電体を85℃,85%RHの環境下に保存した後、目視にて、保存安定性の評価を行った。透明導電体に白濁が見られた場合は「B」、見られなかった場合は「A」と判定した。結果は表1に示すとおりであった。 After storing the transparent conductor of each Example in an environment of 85 ° C. and 85% RH, the storage stability was evaluated visually. When white turbidity was observed in the transparent conductor, it was determined as “B”, and when it was not observed as “A”. The results were as shown in Table 1.
表1に示すとおり、全ての実施例において、エッチング特性及びアルカリ耐性の評価は「A」であった。このことから、実施例1〜13の透明導電体における金属酸化物層及び金属層は、容易に除去でき、しかも優れたアルカリ耐性を有することが確認された。実施例12,13の透明導電体は、全光線透過率がやや低かったが、これは、In2O3の含有率が高めであったために、吸収率が増加したためである。しかし、この全光線透過率であれば、それほど高いレベルの透明性が求められない、例えばノイズシート等の用途(例えば、ノイズシールド等)であれば、十分に使用可能な水準である。 As shown in Table 1, in all Examples, the evaluation of etching characteristics and alkali resistance was “A”. From this, it was confirmed that the metal oxide layer and the metal layer in the transparent conductors of Examples 1 to 13 can be easily removed and have excellent alkali resistance. In the transparent conductors of Examples 12 and 13, the total light transmittance was slightly low, but this was because the absorptance increased because the content of In 2 O 3 was high. However, with this total light transmittance, a very high level of transparency is not required. For example, if it is used for a noise sheet or the like (for example, a noise shield), it is a sufficiently usable level.
金属酸化物層の特性を評価するため、上述の手順と同様にして、金属酸化物層のみ(単層)のサンプルを作製した。このサンプルの評価を、上述の手順と同様にして行った。評価結果を表2に示す。なお、表2の吸収率は、分光器を用いて測定した透過率及び反射率の測定結果を用いて、100−透過率―反射率=吸収率の式で求めた値である。この吸収率は、波長380nmにおける値である。 In order to evaluate the characteristics of the metal oxide layer, a sample of only the metal oxide layer (single layer) was prepared in the same manner as described above. This sample was evaluated in the same manner as described above. The evaluation results are shown in Table 2. In addition, the absorptance of Table 2 is a value obtained by the equation of 100−transmittance−reflectance = absorbance using the measurement results of transmittance and reflectance measured using a spectroscope. This absorptance is a value at a wavelength of 380 nm.
表2に示すとおり、各実施例の金属酸化物層は、ZnOを主成分として含有しても、副成分としてIn2O3及びTiO2を含有し、所定のTiO2含有率であることによって、耐食性及びアルカリ耐性の向上と高い導電性を両立できることが確認された。また、ZnOとIn2O3の含有量を好適な範囲とすれば吸収率が十分に低いことが確認された。 As shown in Table 2, the metal oxide layer of each example contains ZnO as a main component, but contains In 2 O 3 and TiO 2 as subcomponents, and has a predetermined TiO 2 content. It was confirmed that the improvement of corrosion resistance and alkali resistance and high conductivity can be achieved at the same time. Further, it was confirmed that the absorptance was sufficiently low when the contents of ZnO and In 2 O 3 were set within a suitable range.
[実施例14〜24]
金属層を作製する際のターゲットの組成を変えて、表3に示すとおり、金属層の組成を変更したこと、及び/又は、金属層の厚みを変更したこと以外は、実施例1と同様にして、透明導電体を作製した。すなわち、実施例14〜20では、金属層の厚みを変更した。実施例21では、AgNdCu(Ag:Nd:Cu=99.0:0.5:0.5(質量%))ターゲットを用いて金属層を形成した。実施例22では、AgInSn(Ag:In:Sn=99.0:0.5:0.5(質量%))ターゲットを用いて金属層を形成した。実施例23では、AgSnSb(Ag:Sn:Sb=99.0:0.5:0.5(質量%))ターゲットを用いて金属層を形成した。実施例24では、AgCu(Ag:Cu=99.5:0.5(質量%))ターゲットを用いて金属層を形成した。
[Examples 14 to 24]
The composition of the target when producing the metal layer was changed, and as shown in Table 3, the composition of the metal layer was changed and / or the thickness of the metal layer was changed as in Example 1. Thus, a transparent conductor was produced. That is, in Examples 14-20, the thickness of the metal layer was changed. In Example 21, the metal layer was formed using an AgNdCu (Ag: Nd: Cu = 99.0: 0.5: 0.5 (mass%)) target. In Example 22, the metal layer was formed using an AgInSn (Ag: In: Sn = 99.0: 0.5: 0.5 (mass%)) target. In Example 23, a metal layer was formed using an AgSnSb (Ag: Sn: Sb = 99.0: 0.5: 0.5 (mass%)) target. In Example 24, the metal layer was formed using an AgCu (Ag: Cu = 99.5: 0.5 (mass%)) target.
作製した実施例14〜24の透明導電体の評価を、実施例1と同様にして行った。評価結果は表3に示すとおりであった。なお、実施例14〜24の金属酸化物層の組成及び厚みは、実施例1と同一である。 The produced transparent conductors of Examples 14 to 24 were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are as shown in Table 3. In addition, the composition and thickness of the metal oxide layers of Examples 14 to 24 are the same as those of Example 1.
表3に示す結果から、いずれの実施例においても、エッチング特性及びアルカリ耐性の評価は「A」であった。このことから、実施例14〜24の透明導電体における金属酸化物層及び金属層は、容易に除去でき、しかも優れたアルカリ耐性を有することが確認された。また、金属層の厚みが大きくなると、表面抵抗が小さくなる傾向、及び、全光線透過率が低下する傾向が確認された。また、銀合金がPdを含有する場合、保存安定性に特に優れることが確認された。 From the results shown in Table 3, the evaluation of etching characteristics and alkali resistance was “A” in any of the examples. From this, it was confirmed that the metal oxide layer and the metal layer in the transparent conductors of Examples 14 to 24 can be easily removed and have excellent alkali resistance. Moreover, the tendency for surface resistance to become small and the tendency for total light transmittance to fall was confirmed when the thickness of the metal layer became large. In addition, when the silver alloy contains Pd, it was confirmed that the storage stability is particularly excellent.
[比較例1〜7]
第1の金属酸化物層及び第2の金属酸化物層を形成する際のターゲットとして、表4に示す組成を有するターゲットを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、比較例1〜4の透明導電体を作製した。それぞれの比較例において、第1の金属酸化物層及び第2の金属酸化物層は、同一組成を有するターゲットを用いて形成した。各比較例における第1の金属酸化物層及び第2の金属酸化物層の組成は、表4に示すとおりであった。各比較例の透明導電体の諸特性を、実施例1と同様にして評価した。結果は、表4に示すとおりであった。
[Comparative Examples 1 to 7]
Comparative Example 1 to Comparative Example 1 except that a target having the composition shown in Table 4 was used as a target when forming the first metal oxide layer and the second metal oxide layer. 4 transparent conductors were produced. In each comparative example, the first metal oxide layer and the second metal oxide layer were formed using targets having the same composition. The compositions of the first metal oxide layer and the second metal oxide layer in each comparative example were as shown in Table 4. Various characteristics of the transparent conductor of each comparative example were evaluated in the same manner as in Example 1. The results were as shown in Table 4.
表4に示すとおり、ZnO−In2O3−TiO2の三成分を含有するが、TiO2の含有率が本願発明の範囲を外れる金属酸化物層を有する透明導電体は、エッチング特性及びアルカリ耐性の両立ができないことが確認された。 As shown in Table 4, the transparent conductor having a metal oxide layer containing the three components of ZnO—In 2 O 3 —TiO 2 , but the content of TiO 2 deviates from the scope of the present invention, has etching characteristics and alkali It was confirmed that the resistance cannot be compatible.
本開示によれば、金属酸化物層と金属層をエッチングによって容易に除去することが可能で、アルカリ耐性に優れた高透過率で低抵抗な透明導電体が提供される。また、本開示によれば、そのような透明導電体を用いることによって、容易に製造することが可能なタッチパネルが提供される。 According to the present disclosure, it is possible to easily remove a metal oxide layer and a metal layer by etching, and provide a transparent conductor having high transmittance and low resistance excellent in alkali resistance. Moreover, according to this indication, the touch panel which can be manufactured easily is provided by using such a transparent conductor.
10…透明樹脂基材、12…第1の金属酸化物層、14…第2の金属酸化物層、16…金属層、15a,15b…センサ電極、20…ハードコート層、22…第1のハードコート層、24…第2のハードコート層、50…導体線路、70…パネル板、80…電極、90…接着剤、92…スペーサ、100,101…透明導電体、100a…Y用センサフィルム、100b…X用センサフィルム、200…タッチパネル。
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記第2の金属酸化物層は、主成分としてZnOを含有し、副成分としてIn2O3及びTiO2を含有し、
ZnO、In2O3及びTiO2の3成分の合計に対するTiO2の含有量が6〜15mol%である透明導電体。 A transparent resin substrate, a first metal oxide layer, a metal layer containing a silver alloy, and a second metal oxide layer are laminated in this order,
The second metal oxide layer contains ZnO as a main component, In 2 O 3 and TiO 2 as subcomponents,
ZnO, In 2 O 3 and the transparent conductive material content of TiO 2 is 6~15Mol% to the sum of the three components of TiO 2.
ZnO、In2O3及びTiO2の3成分の合計に対するZnOの含有量が73〜84mol%であり、前記3成分の合計に対するIn2O3の含有量が9〜18mol%である、請求項1に記載の透明導電体。 In the second metal oxide layer,
The content of ZnO with respect to the total of the three components of ZnO, In 2 O 3 and TiO 2 is 73 to 84 mol%, and the content of In 2 O 3 with respect to the total of the three components is 9 to 18 mol%. The transparent conductor according to 1.
It is a touch panel which has a sensor film on a panel board, Comprising: The said sensor film is a touch panel comprised with the transparent conductor as described in any one of Claims 1-5.
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08264021A (en) * | 1995-03-26 | 1996-10-11 | Gunze Ltd | Transparent conductive film |
JPH09291355A (en) * | 1996-04-26 | 1997-11-11 | Asahi Glass Co Ltd | Transparent conductive film-provided substrate and its production |
JPH09291356A (en) * | 1996-04-26 | 1997-11-11 | Asahi Glass Co Ltd | Transparent conductive film-provided substrate and its production |
US20090104455A1 (en) * | 2007-10-23 | 2009-04-23 | Miin-Jang Chen | Transparent conductive component utilized in touch panel |
JP2010157497A (en) * | 2008-12-02 | 2010-07-15 | Geomatec Co Ltd | Substrate with transparent conductive film and method of manufacturing the same |
JP2012132089A (en) * | 2010-02-22 | 2012-07-12 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Method for forming electrically conductive transparent zinc oxide-based film, electrically conductive transparent zinc oxide-based film and electrically conductive transparent substrate |
Family Cites Families (6)
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---|---|---|---|---|
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US6787240B2 (en) * | 2000-06-23 | 2004-09-07 | Donnelly Corporation | Enhanced light transmission conductive coated transparent substrate |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08264021A (en) * | 1995-03-26 | 1996-10-11 | Gunze Ltd | Transparent conductive film |
JPH09291355A (en) * | 1996-04-26 | 1997-11-11 | Asahi Glass Co Ltd | Transparent conductive film-provided substrate and its production |
JPH09291356A (en) * | 1996-04-26 | 1997-11-11 | Asahi Glass Co Ltd | Transparent conductive film-provided substrate and its production |
US20090104455A1 (en) * | 2007-10-23 | 2009-04-23 | Miin-Jang Chen | Transparent conductive component utilized in touch panel |
JP2010157497A (en) * | 2008-12-02 | 2010-07-15 | Geomatec Co Ltd | Substrate with transparent conductive film and method of manufacturing the same |
JP2012132089A (en) * | 2010-02-22 | 2012-07-12 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Method for forming electrically conductive transparent zinc oxide-based film, electrically conductive transparent zinc oxide-based film and electrically conductive transparent substrate |
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