JP2018136560A - オブジェクトホルダ及びリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】支持体100を有する、オブジェクトWを支持するオブジェクトテーブルWTと、オブジェクトを保持するオブジェクトホルダ30と、オブジェクトホルダの縁部に隣接する開口5と、通路14を経て開口と流体通路するチャネル16とを備え、チャネルは通路を画定する第2の材料とは異なる第1の材料によって画定される。
【選択図】図6
Description
[0001] 本出願は2012年5月29日出願の米国仮出願第61/652,602号の利益を主張し、及び本出願は2012年10月3日出願の米国仮出願第61/744,740号の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
ンドリングシステムは、少なくとも部分的に液浸流体を閉じ込めることができ、それにより、流体閉じ込めシステムである。ある実施形態では、流体ハンドリングシステムは、流体への障壁を形成することができ、それにより、流体閉じ込め構造などの障壁部材である。ある実施形態では、流体ハンドリングシステムは、ガスのフローを生成又は使用して、例えば、液浸流体のフロー及び/又は位置を制御するのを支援することができる。ガスのフローは、液浸流体を閉じ込める封止を形成することができ、したがって、流体ハンドリング構造を封止部材と呼ぶこともできる。このような封止部材は、流体閉じ込め構造であってもよい。ある実施形態では、液浸液は、液浸流体として使用される。この場合、流体ハンドリングシステムは、液体ハンドリングシステムであってもよい。上記説明に関して、本節で流体に関して定義されたフィーチャへの言及は、液体に関して定義されたフィーチャを含むと考えてもよい。
− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコート基板)Wを保持するように構築され、特定のパラメータに従って例えば基板Wなどのテーブルの表面を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された1つ以上のセンサ又は基板テーブルWTを支持する例えばセンサテーブルなどの支持テーブルと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
スクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。
[0038] 1.ステップモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームBに付与されたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
[0039] 2.スキャンモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームBに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分Cの(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作(及び露光フィールドのサイズ)の長さによってターゲット部分Cの(スキャン方向における)高さが決まる。[0040] 3.別のモードでは、支持構造MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させるごとに、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
。
熱伝導率は10W/mK以下であり、又は5W/mK以下である。ある実施形態では、第1の材料の熱伝導率は2W/mK以下である。ある実施形態では、第1の材料の熱伝導率は1W/mK以下である。第1の材料はガラス又はポリマーでよい。ある実施形態では、第1の材料はポリテトラフルオロエチレン(PTFE)である。ある実施形態では、第1の材料は高密度ポリウレタン(HDPE)である。ある実施形態では、第1の材料はポリプロピレン(PP)である。ある実施形態では、第1の材料は塩化ポリビニル(PVC)である。ある実施形態では、第1の材料はゴムである。ある実施形態では、第1の材料はコルクである。ガラスの熱伝導率は25℃で1.05W/mKである。PTFEの熱伝導率は25℃で0.25W/mKである。HDPEの熱伝導率は25℃で0.45W/mKである。PPの熱伝導率は25℃で0.15W/mKである。PVCの熱伝導率は25℃で0.19W/mKである。ゴムの熱伝導率は25℃で0.13W/mKである。コルクの熱伝導率は25℃で0.07W/mKである。これは、支持体100を製造するタイプの材料の100W/mKの熱伝導率に匹敵する。したがって、チャネル16は熱伝導率が低い材料で支持体100から局所的に隔離される。図15の結果が示すように、PTFE要素160の厚さが0.5mmの場合、全体で約50%の熱負荷の改善を達成できる。
の液体の自由表面積が小さいため、チャネル16内の液体のスロッシングが低減され、又は最小限になることである。すなわち、液体保持部410の材料のポケット内の液体/ガスメニスカスの毛管圧が液体のスロッシングを防止するのを支援する。オブジェクトテーブルWTと液体との間に大きな粘性カップリングもあってもよい。ある実施形態では、液体保持部410は実質的に、チャネルの延伸方向のチャネル16の長さ全体に沿って延在している。ある実施形態では、液体保持部410はチャネル16の延伸方向にチャネルの一部だけに沿って延在している。
Claims (82)
- オブジェクトを支持するオブジェクトテーブルであって、該オブジェクトテーブルが、
オブジェクトを保持するオブジェクトホルダを備える支持体と、
前記オブジェクトホルダの縁部に隣接する開口と、
通路を経て前記開口と流体連通するチャネルであって、該チャネルが前記通路を画定する第2の材料とは異なる第1の材料によって画定されるチャネルと、
を備えるオブジェクトテーブル。 - 前記第1の材料が、前記第2の材料とは異なる熱伝導率を有する、請求項1に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料の熱伝導率が、前記第2の材料の熱伝導率より少なくとも一桁高い、請求項2に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料の熱伝導率が、少なくとも500W/mK、少なくとも800/mK、又は少なくとも1000W/mKである、請求項1〜3のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、熱分解グラファイト又は産業用ダイアモンドである、請求項1〜4のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、前記第2の材料とは異なる熱膨張率を有する、請求項1又は2に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料の熱膨張率が、前記第2の材料の熱膨張率よりも少なくとも一桁低い、請求項6に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、ガラスセラミックである、請求項1、請求項6又は請求項7に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、アルミノケイ酸ガラスセラミック又はコーディエライトである、請求項8に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料の熱膨張率が、1×10−6/K以下、0.5×10−6/K以下、又は0.25×10−6/K以下、100×109/K以下である、請求項1〜9のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料の前記熱伝導率が、前記第2の材料の熱伝導率よりも少なくとも一桁低いか、又は前記第2の材料の熱伝導率よりも少なくとも二桁低い、請求項1に記載の、又は請求項6〜10のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、ガラス又はポリマーである、請求項1、請求項2又は請求項6〜11のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、PTFE、HDPE、PP、PVC、ゴム及び/又はコルクから選択される少なくとも1つである、請求項1、請求項2又は請求項6〜12のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料の熱伝導率が、10W/mK以下、5W/mK以下、2W/mK以下、又は1W/mK以下である、請求項1、請求項2又は請求項6〜13のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料のヤング率が、100×109Pa以下、又は50×109Pa以下である、請求項1〜14のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料と前記第2の材料との間に熱障壁をさらに備える、請求項1〜15のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料を前記支持体から実質的に機械的に離脱させる機械的障壁をさらに備える、請求項1〜16のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記熱障壁及び/又は機械的障壁がギャップを含む、請求項16又は請求項17に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記ギャップにガス又は真空が満たされる、請求項18に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記熱障壁及び/又は機械的障壁が接着剤である、請求項16又は請求項17に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記熱障壁及び/又は機械的障壁が前記チャネルの半径方向内側にある、請求項16〜20のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記熱障壁及び/又は機械的障壁が、前記チャネルの上方にある、請求項16〜21のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料がコーティングである、請求項1〜22のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、前記オブジェクトテーブルの自己支持構造要素を形成する、請求項1〜22のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、前記オブジェクトテーブルの構造要素によって支持される、請求項1〜23のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料を支持する前記構造要素が、第2の材料から製造される、請求項25に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、前記チャネルの上面の少なくとも一部を画定する請求項1〜26のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、前記チャネルの半径方向内側の部分の少なくとも一部を画定する、請求項1〜27のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、前記チャネルの半径方向外側の部分の少なくとも一部を画定する、請求項1〜28のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、前記チャネルの底部の少なくとも一部を画定する、請求項1〜29のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記支持体及び/又はオブジェクトホルダが第2の材料から成る、請求項1〜30のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第2の材料が、シリコナイズ処理した炭化ケイ素、炭化ケイ素、石英及び/又は窒化アルミニウムから選択される少なくとも1つの材料を含む、請求項1〜31のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記基板ホルダの縁部に隣接する別の開口と、別の通路を経て前記別の開口と流体連通する別のチャネルとをさらに備える、請求項1〜32のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記開口が、前記基板ホルダ上の基板の縁部位置の半径方向内側にある、請求項1〜33のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記開口が、前記基板ホルダ上の基板の縁部位置の半径方向外側にある、請求項1〜33のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記チャネルが、負圧源に接続される、請求項1〜35のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記チャネルに隣接するヒータ及び/又はセンサをさらに備える、請求項1〜36のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記ヒータ及び/又はセンサが前記第1の材料に結合される、請求項37に記載のオブジェクトテーブル。
- 使用中、前記第2の材料と比較して前記第1の材料の特性が異なることで、前記第1の材料と前記第2の材料が同一である場合よりも低い熱負荷及び/又は低い熱変形負荷がかかる、請求項1〜38のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第2の材料が、前記通路の表面を画定する、請求項1〜39のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、前記チャネルの表面を画定する、請求項1〜40のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記チャネルの表面を画定するコーティングが前記第1の材料上に施されることをさらに備える、請求項1〜40のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記第1の材料が、接着剤によって前記第2の材料に接合される、請求項1〜42のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 液体を前記チャネルに供給するため、前記チャネルと別個に流体連通する液体チャネルをさらに備える、請求項1〜43のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記支持体内に熱調整流体通路をさらに備える、請求項44に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記熱調整流体通路から前記液体チャネルに流体を供給するため、前記液体チャネルが前記熱調整流体通路と流体連通する、請求項45に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記チャネルからの液体の抽出を制御して液体を前記チャネル内に保持するコントローラをさらに備える、請求項1〜46のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 液体を前記チャネルに保持するための液体保持部を前記チャネル内にさらに備える、請求項1〜47のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記液体保持部が、前記チャネルの底面上に画定されたくぼみ部、又は前記チャネルの底面に存在する突起部又は要素を備える、請求項48に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記液体保持部が、前記チャネルの側面上に画定されたくぼみ部、又は前記チャネルの側面に存在する突起部又は要素を備える、請求項48又は請求項49に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記液体保持部が、前記チャネルが延伸する方向に前記チャネルに沿った液体の通過を少なくとも部分的に遮断する突起部又は要素を備える、請求項48〜50のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- オブジェクトを支持するオブジェクトテーブルであって、該オブジェクトテーブルが、
オブジェクトを保持するオブジェクトホルダを備える支持体と、
前記オブジェクトホルダの縁部に隣接する開口と流体連通し、前記オブジェクトホルダの外縁部の少なくとも一部に沿って延在するチャネルと、
前記チャネル内に液体を保持する前記チャネル内の液体保持部であって、該液体保持部が前記チャネルの底面上に画定されるくぼみ部、又は前記チャネルの底面に存在する突起部又は要素を備える液体保持部と、
を備えるオブジェクトテーブル。 - 前記液体保持部が、前記チャネル内に液リザーバを形成する、請求項48、請求項49又は請求項52に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記液体保持部が、前記チャネルの底面内に溝を備える、請求項48、49、52又は53に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記溝が、毛管溝である、請求項54に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記毛管溝の幅が、20〜600μmの間、又は50〜200μmの間である、請求項55に記載のオブジェクトテーブル。
- 使用時に、前記溝の前記底面が、前記チャネル内の液体がそれを通って抽出される前記チャネルの開口よりも低い、請求項54、請求項55又は請求項56に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記液体保持部が、前記チャネル内の液体がそれを通って抽出される前記チャネルの開口を少なくとも部分的に囲む上方に延在する部材を備える、請求項48、49、又は54〜56のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記液体保持部が、前記チャネルの実質的に平坦な底面を備え、前記オブジェクトテーブルが、前記チャネル内の液体がそれを通って抽出される前記チャネルの前記平坦な底面内に開口をさらに備える、請求項49又は請求項52に記載のオブジェクトテーブル。
- オブジェクトを支持するオブジェクトテーブルであって、該オブジェクトテーブルが、
オブジェクトを保持するオブジェクトホルダを備える支持体と、
前記オブジェクトホルダの縁部に隣接する開口と流体連通し、前記オブジェクトホルダの外縁部の少なくとも一部に沿って延在するチャネルと、
前記チャネル内に液体を保持するチャネル内の液体保持部であって、該液体保持部が、チャネルが延伸する方向に前記チャネルに沿った液体の通過を少なくとも部分的に遮断する突起部又は要素を備える液体保持部と、
を備えるオブジェクトテーブル。 - 前記液体保持部が、前記チャネルが延伸する方向に前記チャネルに沿った液体の通過を遮断する障壁を前記チャネル内に備える、請求項51又は60に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記障壁の一部だけが前記チャネルの上方に延在することで、液体が前記障壁のレベルに達すると液体が前記障壁を越えて流れることを可能にすることによって、前記チャネルに沿った液体の流れを可能にする、請求項61に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記障壁が、前記チャネルの断面全体を遮断する、請求項61に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記障壁が、液体がそれを通って流れることを阻止する、請求項62に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記障壁が、前記チャネル内の液体に対して半液浸性である、請求項61〜63のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- オブジェクトを支持するオブジェクトテーブルであって、該オブジェクトテーブルが、
オブジェクトを保持するオブジェクトホルダを備える支持体と、
前記オブジェクトホルダの縁部に隣接する開口と流体連通し、前記オブジェクトホルダの外縁部の少なくとも一部に沿って延在するチャネルと、
前記チャネル内に液体を保持する前記チャネル内の液体保持部であって、該液体保持部が、前記チャネルの側壁上に画定されるくぼみ部、又は前記チャネルの側壁に存在する突起部又は要素を備える液体保持部と、
を備えるオブジェクトテーブル。 - 前記液体保持部が、液体吸収材料を含む、請求項50又は請求項66に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記液体保持部が、複数の毛管通路を備える、請求項50、請求項66又は請求項67に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記液体保持部が、前記チャネルの前記側壁の少なくとも一部に取り付けられる、請求項50又は66〜68のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記液体保持部が、前記側壁のコーティング又は粗面である、請求項50又は請求項66に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記コーティングが親液性コーティングであるか、又は前記側壁の粗度Raが10μm以上、又は0.5〜1mmの間である、請求項70に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記液体と前記コーティングとの接触角が30°未満である、請求項71に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記液体保持部が、付加的に前記チャネルの上面及び/又は底面上に画定され、又はそこに存在する、請求項50、又は66〜72のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記オブジェクトテーブルが、基板テーブルである、請求項1〜73のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 前記オブジェクトホルダが、基板を保持する基板ホルダである、請求項74に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記チャネルに別個に能動的に流体を供給する液体供給デバイスをさらに備える、請求項1〜75のいずれかに記載のオブジェクトテーブル。
- 請求項1〜76のいずれかに記載のオブジェクトテーブルを備えるリソグラフィ装置。
- 液浸リソグラフィ装置の動作方法であって、
テーブルによって支持されるオブジェクト上に液体を供給するステップと、
通路を経てチャネルと流体連通する開口を通して前記オブジェクトの縁部から液体を除去するステップであって、前記チャネルが前記通路を画定する第2の材料とは異なる第1の材料によって画定されるステップと、
を含む動作方法。 - 液浸リソグラフィ装置の動作方法であって、
テーブルによって支持されるオブジェクト上に液体を供給するステップと、
前記オブジェクトの縁部から前記オブジェクトの縁部の少なくとも一部に沿って延在するチャネルを通して液体を除去するステップであって、液体が、前記テーブル内の熱調整流体通路から前記チャネルに供給されるステップと、
を含む動作方法。 - 液浸リソグラフィ装置の動作方法であって、
テーブルによって支持されるオブジェクト上に液体を供給するステップと、
前記オブジェクトの縁部から前記オブジェクトの縁部の少なくとも一部に沿って延在するチャネルを通して液体を除去するステップであって、液体が前記チャネルの底面上に画定されたくぼみ部、又はそこに存在する突起部又は要素によって保持されるステップと、を含む動作方法。 - 液浸リソグラフィ装置の動作方法であって、
テーブルによって支持されるオブジェクト上に液体を供給するステップと、
前記オブジェクトの縁部から前記オブジェクトの縁部の少なくとも一部に沿って延在するチャネルを通して液体を除去するステップであって、液体が、前記チャネルが延伸する方向に前記チャネルに沿った液体の通過を少なくとも部分的に遮断する突起部又は要素によって前記チャネル内に保持されるステップと、
を含む動作方法。 - 液浸リソグラフィ装置の動作方法であって、
テーブルによって支持されるオブジェクト上に液体を供給するステップと、
前記オブジェクトの縁部から前記オブジェクトの縁部の少なくとも一部に沿って延在するチャネルを通して液体を除去するステップであって、液体が、前記チャネルの側壁上に画定されたくぼみ部、又は側面に存在する突起部又は要素によって前記チャネル内に保持されるステップと、
を含む動作方法。
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