JP6649463B2 - リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置を用いてデバイスを製造する方法 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2014年7月4日に出願された欧州特許出願第14175743.5号の優先権を主張する。この出願は引用によりその全体が本願に含まれるものとする。
基板にパターン付放射ビームを投影するための投影システムと、
投影システムの最終要素と基板の表面との間の局所領域に液浸流体を閉じ込めるように構成された流体閉じ込め構造と、
一方側で投影システム及び投影システムの最終要素を少なくとも部分的に取り囲むリソグラフィ装置のコンポーネントのうち少なくとも一方の表面によって、他方側で流体閉じ込め構造の表面によって、画定された空間と、
空間に加湿ガスを供給するための加湿ガス源及び空間からガスを抜き取るための過小圧力源のうち一方に接続可能に構成された、投影システム及びリソグラフィ装置のコンポーネントのうち少なくとも一方の表面上の1つ以上の開口と、
を備える。
基板にパターン付放射ビームを投影するための投影システムと、
投影システムの最終要素と基板の表面との間の局所領域に液浸流体を閉じ込めるように構成された流体閉じ込め構造と、
一方側で投影システム及び投影システムの最終要素を少なくとも部分的に取り囲むリソグラフィ装置のコンポーネントのうち少なくとも一方の表面によって、他方側で流体閉じ込め構造の表面によって、画定された空間と、
流体閉じ込め構造と、投影システム及びリソグラフィ装置のコンポーネントのうち少なくとも一方の表面の1つと、の間に延出する可撓性シールであって、空間が更に可撓性シールによって画定されるように構成された、可撓性シールと、
を備える。
投影システムを用いて、液浸流体を介して基板にパターン付放射ビームを投影することと、
流体閉じ込め構造を用いて、投影システムの最終要素と基板との間の局所領域に液浸流体を供給し閉じ込めることと、
一方側で投影システム及び投影システムの最終要素を少なくとも部分的に取り囲むリソグラフィ装置のコンポーネントのうち少なくとも一方の表面によって、他方側で流体閉じ込め構造の表面によって、画定された空間を提供することと、
空間を画定する投影システム及びリソグラフィ装置のコンポーネントのうち少なくとも一方の表面上の1つ以上の開口に加湿ガスを供給することと、空間を画定する投影システム及びリソグラフィ装置のコンポーネントのうち少なくとも一方の表面上の1つ以上の開口からガスを抜き取ることと、のうち一方と、
を備える。
投影システムを用いて、液浸流体を介して基板にパターン付放射ビームを投影することと、
流体閉じ込め構造を用いて、投影システムの最終要素と基板との間の局所領域に液浸流体を供給し閉じ込めることと、
一方側で投影システム及び投影システムの最終要素を少なくとも部分的に取り囲むリソグラフィ装置のコンポーネントのうち少なくとも一方の表面によって、他方側で流体閉じ込め構造の表面によって、画定された空間を提供することと、
を備え、
空間が更に、流体閉じ込め構造と、投影システム及びリソグラフィ装置のコンポーネントのうち少なくとも一方の表面の1つと、の間に延出する可撓性シールによって画定される。
[0023]−放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0024]−パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
[0025]−基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
[0026]−パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSと、を備える。
[0040] 1.ステップモードでは、支持構造MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに付与されたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
[0041] 2.スキャンモードでは、支持構造MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに付与されるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分Cの(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分Cの(スキャン方向における)高さが決まる。
[0042] 3.別のモードでは、支持構造MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
Claims (7)
- リソグラフィ装置であって、
基板にパターン付放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板の表面との間の局所領域に液浸流体を閉じ込めるように構成された流体閉じ込め構造と、
一方側で前記投影システムの表面及び/又は前記投影システムの前記最終要素を少なくとも部分的に取り囲む前記リソグラフィ装置のコンポーネントであって前記流体閉じ込め構造から分離したコンポーネントの表面によって、他方側で前記流体閉じ込め構造の表面によって、画定された空間と、
前記空間に加湿ガスを供給するための加湿ガス源又は前記空間からガスを抜き取るための過小圧力源のいずれか一方に接続可能に構成された、前記投影システムの表面及び/又は前記リソグラフィ装置の前記コンポーネントの前記表面における1つ以上の開口と、
前記空間に加湿ガスを供給するための前記加湿ガス源及び前記空間からガスを抜き取るための前記過小圧力源のうち他方に接続可能に構成された1つ以上の開口と、
を備え、
前記空間に加湿ガスを供給するための前記加湿ガス源に接続可能に構成された前記1つ以上の開口が、前記空間からガスを抜き取るための前記過小圧力源に接続可能に構成された前記1つ以上の開口よりも前記局所領域内の前記液浸流体に近い、
リソグラフィ装置。 - 前記表面における前記1つ以上の開口が、前記投影システムの前記表面に設けられている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記表面における前記1つ以上の開口が、振動絶縁システムによって前記投影システムに搭載されたガス供給導管に形成されている、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コンポーネントを備え、前記コンポーネントが、前記投影システムの少なくとも前記最終要素の温度の変動を軽減するように構成された熱調節システムを備え、
前記表面における前記1つ以上の開口が、前記熱調節システムの表面に形成されている、請求項1から3の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記コンポーネントを備え、前記コンポーネントが、前記投影システムの少なくとも前記最終要素の温度の変動を軽減するように構成された熱調節システムを備え、
相互に対向する前記熱調節システムの表面と前記流体閉じ込め構造の表面との間にギャップが設けられるように、前記熱調節システムの一部が前記流体閉じ込め構造の一部を取り囲み、
ガスを抜き取るように構成された前記1つ以上の開口が、前記熱調節システム及び前記流体閉じ込め構造の前記対向する表面の1つに設けられている、請求項1から4の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記1つ以上の開口が、少なくとも部分的に前記空間を取り囲む線に沿って設けられた複数の開口を含み、
前記開口の断面及び/又は隣接した開口間の分離が、前記開口の第1のグループでは前記開口の第2のグループとは異なっている、請求項1から5の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。 - 少なくとも1つの開口にガス流制約部が関連付けられている、請求項1から6の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。
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