JP2018056575A - 基板処理システム - Google Patents
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Abstract
Description
30 現像処理装置
31 下部反射防止膜形成装置
32 レジスト塗布装置
33 上部反射防止膜形成装置
40 熱処理装置
41 アドヒージョン装置
42 周辺露光検査装置
70 ウェハ搬送装置
110 処理容器
150 撮像部
200 制御装置
210 特徴量抽出部
211 記憶部
212 レシピ選択部
213 欠陥判定部
214 画像保管部
215 画像分類部
216 基準画像生成部
217 検査レシピ生成部
218 差分画像生成部
230.231、232 検査レシピ
W ウェハ
Claims (3)
- 基板に所定の処理を施す複数の処理装置を備えた基板処理システムであって、
前記処理装置で処理される前の基板の表面を撮像して第1の基板画像を取得する第1の撮像装置と、
前記処理装置で処理された後の基板の表面を撮像して第2の基板画像を取得する第2の撮像装置と、
前記第1の基板画像を保管する画像保管部を備え、前記画像保管部に保管された第1の基板画像の画素値を抽出し、当該第1の基板画像の全面の画素値の平均値を当該基板の特徴量とし、当該特徴量に基づいて第1の基板画像を複数のグループに分類し、
前記各グループに分類された第1の基板画像と、当該第1の基板画像と対応する第2の基板画像とを合成して基準画像を生成し、生成された基準画像に基づいて検査レシピを生成する制御部と、
を有することを特徴とする、基板処理システム。 - 前記制御部は、前記検査レシピを記憶する記憶部を備えていることを特徴とする、請求項1に記載の基板処理システム。
- 前記制御部は、前記第1の基板画像と、当該第1の基板画像に対応する前記第2の基板画像との差分画像を生成する差分画像生成部と、
前記各グループに分類された複数の前記第1の基板画像に対応する複数の前記差分画像を合成して、欠陥検査の基準となる基準画像を生成する基準画像生成部と、を備え、
前記基準画像生成部で生成された基準画像に基づいて検査レシピを生成することを特徴とする、請求項1または2のいずれか1項に記載の基板処理システム。
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