JP2017509878A - ガルバニック絶縁した分割動作構造を有する微小機械コンポーネント、およびその駆動方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Q=C1・U0―C2・U=(C1―C2)・U0 (1).
第5の電極41は、チャージアンプ60に連結されている。チャージアンプ60は、オペアンプ61と、フィードバック静電容量62とを備えている。チャージアンプ60は、第5の電極41に誘導された電荷Qを電圧に変換し、当該電圧は、第1の出口70にて出力することができる。したがって、第5の電極41は、読み出し電極として機能し、読み出された電荷Qは、差C1−C2に比例し、これが動作構造20の偏向の基準となる。その結果、偏向が測定可能となる。
F=(U1−U0)2―(U1+U0)2=4・U1・U0 (2).
第1の電圧U0は、式(1)による読み出し処理、および式(2)によるリセット処理中に発生するため、第1の電圧U0によって、駆動側での変調、および読み出し側での復調を行うことができる。
K=(U1−U0)2+(U1+U0)2=2U1 2+2U0 2 (3).
この作用は、動作構造20の共振周波数の調整に用いることができる。しかしながら、この負のバネ定数Kは常に第2の電圧U1に依存し、それゆえ、単独ではなく、リセット力と連帯する場合のみ設定可能であるため、この作用が望ましくないこともある。
F=4・(U1−U2)・U0 (4).
K=4・U0 2+2U1 2+2U2 2 (5).
したがって、パラメータαおよびβを導くことが可能であり、これについて下記が当てはまる。
α=U1−U2 (6).
β=U1+U2 (7).
式(4)および式(5)に、式(6)および式(7)をそれぞれ挿入すると下記が得られる。
F=4・α・U0 (8).
K=4・U0 2+α2+β2 (9).
したがって、動作構造20の動きを検出し、または、第2の電圧U1および第3の電圧U2を制御するために、印加される駆動力およびリセット力をそれぞれ制御し、そしてバネ定数を制御する信号処理により、以下の方程式を解くことができる。
Q=C1・U0―C2・U=(C1―C2)・U0 (1).
第5の電極41は、チャージアンプ60に連結されている。チャージアンプ60は、オペアンプ61と、フィードバック静電容量62とを備えている。チャージアンプ60は、第5の電極41に誘導された電荷Qを電圧に変換し、当該電圧は、第1の出口70にて出力することができる。したがって、第5の電極41は、読み出し電極として機能し、読み出された電荷Qは、差C1−C2に比例し、これが動作構造20の偏向の基準となる。その結果、偏向が測定可能となる。
F=(U1−U0)2―(U1+U0)2=4・U1・U0 (2).
第1の電圧U0は、式(1)による読み出し処理、および式(2)によるリセット処理中に発生するため、第1の電圧U0によって、駆動側での変調、および読み出し側での復調を行うことができる。
K=(U1−U0)2+(U1+U0)2=2U12+2U02 (3).
この作用は、動作構造20の共振周波数の調整に用いることができる。しかしながら、この負のバネ定数Kは常に第2の電圧U1に依存し、それゆえ、単独ではなく、リセット力と連帯する場合のみ設定可能であるため、この作用が望ましくないこともある。
F=4・(U1−U2)・U0 (4).
K=4・U02+2U12+2U22 (5).
したがって、パラメータαおよびβを導くことが可能であり、これについて下記が当てはまる。
α=U1−U2 (6).
β=U1+U2 (7).
式(4)および式(5)に、式(6)および式(7)をそれぞれ挿入すると下記が得られる。
F=4・α・U0 (8).
K=4・U02+α2+β2 (9).
したがって、動作構造20の動きを検出し、または、第2の電圧U1および第3の電圧U2を制御するために、印加される駆動力およびリセット力をそれぞれ制御し、そしてバネ定数を制御する信号処理により、以下の方程式を解くことができる。
Claims (27)
- 基板(11、15)と、
動作構造(20)とを備える微小機械コンポーネント(1)であって、上記動作構造(20)は、上記基板(11、15)に対して少なくとも1つの方向に偏向可能であり、少なくとも第1の領域(22)と第2の領域(23)とを有し、上記第1の領域(22)および上記第2の領域(23)は導電性であり、第1の軸(x)に沿って互いに物理的に強固に結合され、絶縁領域(24)によって互いに電気的に絶縁されていることを特徴とする、コンポーネント。 - 上記第1の領域(22)から外方に、第2の軸(y)に沿って第1の方向に延伸する第1の電極(221)と、上記第1の領域(22)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って第2の方向に延伸する第2の電極(222)とをさらに備えるコンポーネントであって、上記第2の軸(y)は、上記第1の軸(x)に対して垂直であり、上記第2の方向は、上記第1の方向の反対であり、
上記コンポーネントは、さらに、
上記第2の領域(23)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸する第3の電極(231)と、上記第2の領域(23)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸する第4の電極(232)とを備えることを特徴とする、請求項1に記載のコンポーネント。 - 上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸し、上記第1の電極(221)と上記第3の電極(231)との間に配置される第5の電極(41)をさらに備えることを特徴とする、請求項2に記載のコンポーネント。
- 上記第5の電極(41)は、チャージアンプ(60)に連結されていることを特徴とする、請求項3に記載のコンポーネント。
- 上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸し、上記第2の電極(222)と上記第4の電極(232)との間に配置される第6の電極(51)をさらに備えることを特徴とする、請求項2〜4のいずれか1項に記載のコンポーネント。
- 第7の電極(52)と、
第8の電極(53)とをさらに備え、
上記第7の電極(52)および上記第8の電極(53)は、上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸し、
上記第7の電極(52)および上記第8の電極(53)は、上記第2の電極(222)が、上記第6の電極(51)と上記第7の電極(52)との間に配置され、上記第4の電極(232)が、上記第6の電極(51)と上記第8の電極(53)との間に配置されるように配置されていることを特徴とする、請求項5に記載のコンポーネント。 - 上記コンポーネントは制御ユニット(80)を備え、上記制御ユニット(80)は、上記第6の電極(51)、上記第7の電極(52)、上記第8の電極(53)に連結され、上記制御ユニット(80)は、上記第1の領域(22)に印加される第1の電圧(U0)、プリセットリセット力(F)、およびプリセットバネ定数(K)に基づいて、上記第6の電極(51)に印加される第2の電圧(U1)、および上記第7の電極(52)および上記第8の電極(53)に印加される第3の電圧(U2)を制御するための信号を算出するのに適していることを特徴とする、請求項6に記載のコンポーネント。
- 第1の第6の電極(511)および第2の第6の電極(512)は、上記第2の電極(222)と上記第4の電極(232)との間に配置され、
上記第2の電極(222)は、上記第1の第6の電極(511)と上記第7の電極(52)との間に配置され、上記第4の電極(232)は、上記第2の第6の電極(512)と上記第8の電極(53)との間に配置されることを特徴とする、請求項6に記載のコンポーネント。 - 第1の第5の電極(411)および第2の第5の電極(412)は、上記第1の電極(221)と上記第3の電極(231)との間に配置され、
上記コンポーネントは、第9の電極(42)と第10の電極(43)とをさらに備え、上記第9の電極(42)および上記第10の電極(43)は、上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸し、上記第1の電極(221)が、上記第1の第5の電極(411)と上記第9の電極(42)との間に配置され、上記第3の電極(231)が、上記第2の第5の電極(412)と上記第10の電極(43)との間に配置されるように配置されていることを特徴とする、請求項3〜8のいずれか1項に記載のコンポーネント。 - 上記第1の第5の電極(411)および上記第9の電極(42)は、第1の信号処理ユニット(71)に連結され、上記第2の第5の電極(412)および上記第10の電極(43)は、第2の信号処理ユニット(72)に連結されていることを特徴とする、請求項9に記載のコンポーネント。
- 上記動作構造(20)は、第3の領域(250)および第4の領域(260)をさらに有し、上記第3の領域(250)および上記第4の領域(260)は導電性であり、上記第1の軸(x)に沿って、上記第1の領域(22)および上記第2の領域(23)に物理的に強固に結合され、上記第1の領域(22)は、第1の絶縁領域(24a)によって、上記第2の領域(23)から電気的に絶縁されており、上記第3の領域(250)は、第2の絶縁領域(24b)によって上記第2の領域(23)から、第3の絶縁領域(24c)によって上記第4の領域(260)から電気的に絶縁されていることを特徴とする、請求項1に記載のコンポーネント。
- 第1の電極(221)は、上記第1の領域(22)から外方に、第2の軸(y)に沿って第1の方向に延伸し、第2の電極(222)は、上記第1の領域(22)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って第2の方向に延伸し、上記第2の軸(y)は、上記第1の軸(x)に対して垂直であり、上記第2の方向は、上記第1の方向の反対であり、
第3の電極(231)は、上記第2の領域(23)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸し、第4の電極(232)は、上記第2の領域(23)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸し、
第5の電極(251)は、上記第3の領域(250)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸し、第6の電極(252)は、上記第3の領域(250)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸し、
第7の電極(261)は、上記第4の領域(260)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸し、第8の電極(262)は、上記第4の領域(260)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸していることを特徴とする、請求項11に記載のコンポーネント。 - 上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸し、上記第1の電極(221)と上記第3の電極(231)との間に配置される第9の電極(44)と、
上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸し、上記第5の電極(251)と上記第7の電極(261)との間に配置される第10の電極(45)と、
上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸し、上記第2の電極(222)と上記第4の電極(232)との間に配置される第11の電極(54)と、
上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸し、上記第6の電極(252)と上記第8の電極(262)との間に配置される第12の電極(55)とをさらに備えることを特徴とする、請求項12に記載のコンポーネント。 - 上記第9の電極(44)および上記第10の電極(45)は、関連するチャージアンプ(60a、60b)にそれぞれ連結していることを特徴とする、請求項13に記載のコンポーネント。
- 基板(11、15)と、
動作構造(20)とを備える微小機械コンポーネント(1)の駆動方法であって、上記動作構造(20)は、上記基板(11、15)に対して少なくとも1つの方向に偏向可能であり、少なくとも第1の領域(22)と第2の領域(23)とを有し、上記第1の領域(22)および上記第2の領域(23)は導電性であり、第1の軸(x)に沿って互いに物理的に強固に結合され、絶縁領域(24)によって互いに電気的に絶縁されており、
上記方法は、
直流電圧である第1の電圧(U0)を上記第1の領域(22)に印加する工程と、
負の第1の電圧(−U0)を上記第2の領域(23)に印加する工程とを含むことを特徴とする方法。 - 上記コンポーネントは、
上記第1の領域(22)から外方に、第2の軸(y)に沿って第1の方向に延伸する第1の電極(221)と、上記第1の領域(22)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って第2の方向に延伸する第2の電極(222)とをさらに備え、上記第2の軸(y)は、上記第1の軸(x)に対して垂直であり、上記第2の方向は、上記第1の方向の反対であり、
上記コンポーネントは、さらに、
上記第2の領域(23)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸する第3の電極(231)と、上記第2の領域(23)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸する第4の電極(232)と、
上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸し、上記第1の電極(221)と上記第3の電極(231)との間に配置される第5の電極(41)とを備え、
上記方法は、上記第5の電極(41)に生成される電荷(q)を測定する工程を含むことを特徴とする、請求項15に記載の方法。 - 上記電荷を測定するために、上記第5の電極に連結されるチャージアンプ(60)が使用されることを特徴とする、請求項16に記載の方法。
- 上記コンポーネントは、上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸し、上記第2の電極(222)と上記第4の電極(232)との間に配置される第6の電極(51)をさらに備え、
上記第1の電圧(U0)および第2の電圧(U1)に比例する力を上記動作構造(20)に対して働かせる第2の電圧(U1)が上記第6の電極(51)に印加されることを特徴とする、請求項16または17に記載の方法。 - 上記コンポーネントは、第7の電極(52)と、第8の電極(53)とをさらに備え、
上記第7の電極(52)および上記第8の電極(53)は、上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸し、
上記第7の電極(52)および上記第8の電極(53)は、上記第2の電極(222)が、上記第6の電極(51)と上記第7の電極(52)との間に配置され、上記第4の電極(232)が、上記第6の電極(51)と上記第8の電極(53)との間に配置されるように配置され、
第3の電圧(U2)が、上記第7の電極(52)および上記第8の電極(53)に印加されて、バネ(25、26)のバネ定数を相殺し、これによって、上記動作構造(20)が上記基板(11、15)に動作可能に結合されることを特徴とする、請求項18に記載の方法。 - 上記第2の電圧(U1)および上記第3の電圧(U2)は、制御回路によって制御され、上記制御回路は制御ユニット(80)を備え、上記制御ユニット(80)は、上記第1の電圧(U0)、プリセットリセット力(F)、およびプリセットバネ定数(K)に基づいて、上記第2の電圧(U1)および上記第3の電圧(U2)を制御する信号を算出することを特徴とする、請求項19に記載の方法。
- 基板(11、15)と、
動作構造(20)とを備える微小機械コンポーネント(1)の駆動方法であって、上記動作構造(20)は、上記基板(11、15)に対して少なくとも1つの方向に偏向可能であり、少なくとも第1の領域(22)と第2の領域(23)とを有し、上記第1の領域(22)および上記第2の領域(23)は導電性であり、第1の軸(x)に沿って互いに物理的に強固に結合され、絶縁領域(24)によって互いに電気的に絶縁されており、
上記方法は、
交流電圧である第1の電圧(U0・cos(ω0t))を上記第1の領域(22)に印加する工程と、
上記第1の電圧(U0・cos(ω0t))と等しいが、時間遅延された第2の電圧(U0・sin(ω0t))を上記第2の領域(23)に印加する工程とを含むことを特徴とする方法。 - 上記コンポーネントは、
上記第1の領域(22)から外方に、第2の軸(y)に沿って第1の方向に延伸する第1の電極(221)と、上記第1の領域(22)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って第2の方向に延伸する第2の電極(222)とをさらに備え、上記第2の軸(y)は、上記第1の軸(x)に対して垂直であり、上記第2の方向は、上記第1の方向の反対であり、
上記コンポーネントは、さらに、
上記第2の領域(23)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸する第3の電極(231)と、上記第2の領域(23)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸する第4の電極(232)と、
上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸し、上記第1の電極(221)と上記第3の電極(231)との間に配置される第1の第5の電極(411)および第2の第5の電極(412)と、
上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸し、上記第2の電極(222)と上記第4の電極(232)との間に配置される第1の第6の電極(511)および第2の第6の電極(512)と、
上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸する第7の電極(52)および第8の電極(53)と、
上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸する第9の電極(42)および第10の電極(43)とをさらに備え、
上記第7の電極(52)および上記第8の電極(53)は、上記第2の電極(222)が、上記第1の第6の電極(511)と上記第7の電極(52)との間に配置され、上記第4の電極(232)が、上記第2の第6の電極(512)と上記第8の電極(53)との間に配置されるように配置され、
上記第9の電極(42)および上記第10の電極(43)は、上記第1の電極(221)が、上記第1の第5の電極(411)と上記第9の電極(42)との間に配置され、上記第3の電極(231)が、上記第2の第5の電極(412)と上記第10の電極(43)との間に配置されるように配置されており、
直流電圧である第3の電圧(UR)が上記第7の電極(52)に印加され、
負の第3の電圧(−UR)が上記第1の第6の電極(511)に印加され、
直流電圧である第4の電圧(UI)が上記第2の第6の電極(512)に印加され、
負の第4の電圧(−UI)が上記第8の電極(53)に印加されることを特徴とする、請求項21に記載の方法。 - 上記第1の第5の電極(411)および上記第9の電極(42)は、第1の信号処理ユニット(71)に連結され、
上記第2の第5の電極(412)および上記第10の電極(43)は、第2の信号処理ユニット(72)に連結され、
上記第1の信号処理ユニット(71)および上記第2の信号処理ユニット(72)において、電荷差(ΔQ)がそれぞれ測定され、当該電荷差(ΔQ)が上記動作構造(20)の偏向の基準となることを特徴とする、請求項22に記載の方法。 - 基板(11、15)と、
動作構造(20)とを備える微小機械コンポーネント(1)の駆動方法であって、上記動作構造(20)は、上記基板(11、15)に対して少なくとも1つの方向に偏向可能であり、第1の領域(22)と、第2の領域(23)と、第3の領域(250)と、第4の領域(260)とを有し、上記第1の領域(22)、上記第2の領域(23)、上記第3の領域(250)、および上記第4の領域(260)は導電性であり、第1の軸(x)に沿って互いに物理的に強固に結合され、絶縁領域(24a、24b、24c)によって互いに電気的に絶縁されており、
上記方法は、
交流電圧である第1の電圧(U0・cos(ω0t))を上記第1の領域(22)に印加する工程と、
負の第1の電圧(−U0・cos(ω0t))を上記第2の領域(23)に印加する工程と、
上記第1の電圧(U0・cos(ω0t))に等しいが、時間遅延された第2の電圧(U0・sin(ω0t))を上記第3の領域(250)に印加する工程と、
負の第2の電圧(−U0・sin(ω0t))を上記第4の領域(260)に印加する工程とを含むことを特徴とする方法。 - 上記コンポーネントは、
上記第1の領域(22)から外方に、第2の軸(y)に沿って第1の方向に延伸する第1の電極(221)と、上記第1の領域(22)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って第2の方向に延伸する第2の電極(222)とをさらに備えるコンポーネントであって、上記第2の軸(y)は、上記第1の軸(x)に対して垂直であり、上記第2の方向は、上記第1の方向の反対であり、
上記コンポーネントは、さらに、
上記第2の領域(23)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸する第3の電極(231)と、上記第2の領域(23)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸する第4の電極(232)と、
上記第3の領域(250)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸する第5の電極(251)と、上記第3の領域(250)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸する第6の電極(252)と、
上記第4の領域(260)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸する第7の電極(261)と、上記第4の領域(260)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸する第8の電極(262)と、
上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸し、上記第1の電極(221)と上記第3の電極(231)との間に配置される第9の電極(44)と、
上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第2の方向に延伸し、上記第5の電極(251)と上記第7の電極(261)との間に配置される第10の電極(45)とをさらに備え、
上記方法は、上記第9の電極(44)に生成される第1の電荷(QR)と、上記第10の電極(45)に生成される第2の電荷(QI)を測定する工程を含んでいることを特徴とする、請求項24に記載の方法。 - 上記第1の電荷(QR)は、第1のチャージアンプ(60a)によって測定され、上記第2の電荷(QI)は、第2のチャージアンプ(60b)によって測定されることを特徴とする、請求項25に記載の方法。
- 上記コンポーネントは、上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸し、上記第2の電極(222)と上記第4の電極(232)との間に配置される第11の電極(54)と、
上記基板(11、15)に強固に結合され、上記基板(11、15)から外方に、上記第2の軸(y)に沿って上記第1の方向に延伸し、上記第6の電極(252)と上記第8の電極(262)との間に配置される第12の電極(55)とをさらに備え、
直流電圧である第3の電圧(UR)が上記第11の電極(54)に印加され、
直流電圧である第4の電圧(UI)が上記第12の電極(55)に印加されることを特徴とする、請求項25または26に記載の方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7463470B2 (ja) | 2021-11-08 | 2024-04-08 | ノースロップ グラマン システムズ コーポレーション | 振動マスセンサシステム |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014002824A1 (de) * | 2014-02-25 | 2015-08-27 | Northrop Grumman Litef Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Bauteils |
DE102014215038A1 (de) * | 2014-07-31 | 2016-02-04 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanischer Sensor und Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Sensors |
RU192953U1 (ru) * | 2018-12-20 | 2019-10-08 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) | Мэмс-акселерометр |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000018952A (ja) * | 1998-07-01 | 2000-01-21 | Aisin Seiki Co Ltd | 角速度センサ |
JP2003240557A (ja) * | 2002-02-15 | 2003-08-27 | Denso Corp | 角速度センサ |
JP2005274458A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Denso Corp | 振動型角速度センサ |
WO2008114330A1 (ja) * | 2007-02-19 | 2008-09-25 | Fujitsu Limited | Memsデバイスおよび光スイッチ |
JP2013520156A (ja) * | 2010-02-18 | 2013-05-30 | ハリス コーポレイション | Mems系超低電力装置 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6705151B2 (en) * | 1995-05-30 | 2004-03-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Angular velocity sensor |
US5992233A (en) * | 1996-05-31 | 1999-11-30 | The Regents Of The University Of California | Micromachined Z-axis vibratory rate gyroscope |
GB2320571B (en) * | 1996-12-20 | 2000-09-27 | Aisin Seiki | Semiconductor micromachine and manufacturing method thereof |
US5959516A (en) * | 1998-01-08 | 1999-09-28 | Rockwell Science Center, Llc | Tunable-trimmable micro electro mechanical system (MEMS) capacitor |
DE19719779A1 (de) * | 1997-05-10 | 1998-11-12 | Bosch Gmbh Robert | Beschleunigungssensor |
DE19827056A1 (de) * | 1998-06-18 | 1999-12-23 | Bosch Gmbh Robert | Mikromechanischer Magnetfeldsensor |
US6291875B1 (en) * | 1998-06-24 | 2001-09-18 | Analog Devices Imi, Inc. | Microfabricated structures with electrical isolation and interconnections |
JP2000065855A (ja) * | 1998-08-17 | 2000-03-03 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体加速度スイッチ、半導体加速度スイッチの製造方法 |
US6611168B1 (en) * | 2001-12-19 | 2003-08-26 | Analog Devices, Inc. | Differential parametric amplifier with physically-coupled electrically-isolated micromachined structures |
CN1288068C (zh) * | 2002-01-16 | 2006-12-06 | 松下电器产业株式会社 | 微型器件 |
DE10350037A1 (de) * | 2003-10-27 | 2005-05-25 | Robert Bosch Gmbh | Drehratensensor |
KR100513346B1 (ko) * | 2003-12-20 | 2005-09-07 | 삼성전기주식회사 | 보정전극을 갖는 정전용량형 가속도계 |
JP4161950B2 (ja) * | 2004-02-27 | 2008-10-08 | セイコーエプソン株式会社 | マイクロメカニカル静電アクチュエータ |
US7444868B2 (en) * | 2006-06-29 | 2008-11-04 | Honeywell International Inc. | Force rebalancing for MEMS inertial sensors using time-varying voltages |
JP2008193638A (ja) * | 2007-02-08 | 2008-08-21 | Seiko Epson Corp | Mems振動子 |
JP5105949B2 (ja) * | 2007-04-27 | 2012-12-26 | キヤノン株式会社 | センサ |
DE102007030121A1 (de) * | 2007-06-29 | 2009-01-02 | Litef Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Bauteils und Bauteil |
JP5432440B2 (ja) * | 2007-07-04 | 2014-03-05 | キヤノン株式会社 | 揺動体装置 |
JP5191939B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2013-05-08 | スタンレー電気株式会社 | 光偏向器用アクチュエータ装置 |
DE102009029095B4 (de) * | 2009-09-02 | 2017-05-18 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanisches Bauelement |
US8373522B2 (en) * | 2010-02-03 | 2013-02-12 | Harris Corporation | High accuracy MEMS-based varactors |
US8726717B2 (en) * | 2011-04-27 | 2014-05-20 | Honeywell International Inc. | Adjusting a MEMS gyroscope to reduce thermally varying bias |
US9496886B2 (en) * | 2011-06-16 | 2016-11-15 | Spatial Digital Systems, Inc. | System for processing data streams |
DE102012200740B4 (de) * | 2011-10-27 | 2024-03-21 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Bauelements |
JP2014011531A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-20 | Seiko Epson Corp | 振動デバイス、電子機器 |
US9046547B2 (en) * | 2012-08-13 | 2015-06-02 | Pgs Geophysical As | Accelerometer having multiple feedback systems operating on a given proof mass |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000018952A (ja) * | 1998-07-01 | 2000-01-21 | Aisin Seiki Co Ltd | 角速度センサ |
JP2003240557A (ja) * | 2002-02-15 | 2003-08-27 | Denso Corp | 角速度センサ |
JP2005274458A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Denso Corp | 振動型角速度センサ |
WO2008114330A1 (ja) * | 2007-02-19 | 2008-09-25 | Fujitsu Limited | Memsデバイスおよび光スイッチ |
JP2013520156A (ja) * | 2010-02-18 | 2013-05-30 | ハリス コーポレイション | Mems系超低電力装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7463470B2 (ja) | 2021-11-08 | 2024-04-08 | ノースロップ グラマン システムズ コーポレーション | 振動マスセンサシステム |
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