JP2017502162A - 電荷散逸性の表面層の作製方法 - Google Patents
電荷散逸性の表面層の作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017502162A JP2017502162A JP2016554803A JP2016554803A JP2017502162A JP 2017502162 A JP2017502162 A JP 2017502162A JP 2016554803 A JP2016554803 A JP 2016554803A JP 2016554803 A JP2016554803 A JP 2016554803A JP 2017502162 A JP2017502162 A JP 2017502162A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fcc
- ion beam
- charge
- polymer
- geo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/04—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of carbon-silicon compounds, carbon or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
- C08J7/123—Treatment by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
- C08J7/16—Chemical modification with polymerisable compounds
- C08J7/18—Chemical modification with polymerisable compounds using wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0605—Carbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/48—Ion implantation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/12—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
- H01B1/124—Intrinsically conductive polymers
- H01B1/127—Intrinsically conductive polymers comprising five-membered aromatic rings in the main chain, e.g. polypyrroles, polythiophenes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/12—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
- H01B1/124—Intrinsically conductive polymers
- H01B1/128—Intrinsically conductive polymers comprising six-membered aromatic rings in the main chain, e.g. polyanilines, polyphenylenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2379/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
- C08J2379/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08J2379/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
Abstract
Description
回転する幅が0.5mあるステンレス鋼製のドラム、低から中イオンエネルギー大電流技術による直線ガスイオンビーム源、及び独立した加熱器を備えたKVARC−700高真空設備が、本発明によるプロセスにおいて使用され得る。
本発明を使用して処理することによって実現された、前面の約〜10MΩ/□の表面抵抗率の値は、FCCをひっくり返し、再びドラムに取り付け、処理された前面の表面を既にクリーニングされたドラムに対向させ、背面を同様に処理した後でも変わらずに維持された。そのような方法で、宇宙空間の太陽電池の応用に使用されるFCCの必要とされる両側の処理が、本発明によって首尾よく実現されることができる。
設備:KVARC−700;
Ar(92体積%)+アセチレンガス(8体積%)のイオンビームガス混合物;
イオンビームエネルギー 2.5〜3(keV);
イオンビーム電流 195(mA); ドラムのバイアス 150(V)
温度:<65℃; イオンビーム処理持続期間 約16(分)
例えば対地静止の電気通信衛星の太陽電池に使用される標準的なフラットケーブルコンダクター(FCC)を入手した。
コンダクター: SE−Cu、未加工、巻かれたまま
(ドイツ工業規格 1787/1791/17670)、厚さ127μm±4μm
カバーホイル: DuPont Pryalux Coverlay LF 0110
25/25、アクリルの接着剤付のポリイミドフィルム、25μmのKapton
HN+25μmの接着剤、50μm±3μm
異なるサイズ(105mm、205mm)のCEと同じ50個の標準的なFCCが、以下のイオンビームプロセスで処理された。
設備: 回転ドラム(0.5m幅、ステンレス鋼)を備えた高真空KVARC−700
プロセス条件:
・開始真空度 約3×10−3Pa、処理前に35℃で2時間の真空ベーク
・アルゴン(92体積%)とアセチレン(C2H2、8体積%)の混合物を有する直線型イオンビーム源
・イオンビームエネルギー 2.5−3keV、イオンビーム電流 195mA、ドラ
ムへのバイアス 150V
・温度<65℃、処理の持続時間 16分
・同じプロセス条件での別のプロセスの実施により処理された第2の表面
・シリコーン接着剤を有するポリイミド圧力感応テープ(CGSTAPE−8358、1インチ)での、FCCのドラムへの固定と、銅の端部及びKapton表面の隣接する縁の被覆
イオンビーム処理されたFCCの抵抗トルクが、異なる温度(−90℃、23℃、及び150℃、図10)で測定され、標準的なFCCの結果と比較された。(異なる長さを有する)異なった構成についての結果として生じる小さな値は、標準的なFCCの値に近いものであり、概して、展開することについて影響がない。
・−175℃から150℃の間の熱サイクル
・曲げ耐久性(40回の折りたたみ動作の5サイクル)
・湿度検査 60℃、90−95%の相対湿度、96時間
・折りたたまれた太陽電池の翼部を代表する折りたたまれた条件で、180日間、気候の制御を行ったクリーンルーム環境における保管
表面抵抗率は、2つの先が尖った探針と100Vのバイアス電圧によって決定された。平坦でなく、顕微鏡で見て粗い表面(FCCの背面側)に対して良好な接触を得るために、電極は柔らかい導電性のシリコーンフォーム(方法A)の中から選択された。金属電極と電荷散逸性のFCCの下の柔らかい非導電性のクッションとを用いた第2の方法(方法B)は、図10Aの表中に示されたように、第1の方法と比べて、数値の良好な一致を示した。
・湿度(加速された保管)
・代表的な地上における環境での長期保管
・熱サイクル
・対地静止軌道を代表する粒子(陽子、電子)及びUVの照射
・電気通信衛星プロジェクトにおける外部表面についての適格性諸要求にわたる、最悪ケースの条件を含む対地静止軌道における帯電環境が選択された。
図11Aにおける表は、熱サイクルの前後での方法Aで測定された表面の抵抗率を列挙するものである。測定値は不変である(測定の幅による小さな差のみ。注:その値は、異なる測定方法A及びBにより、図10bの表に対してある程度はずれているが、表面抵抗率の範囲について非常に良い一致を示している)。
宇宙空間のシステム部品の地上における検査について、宇宙空間環境を正確に再現することは、その環境の多様性と複雑性、及び、材料に与える影響により、不可能である。これらの検査の信頼性は、特定の任務についての宇宙空間環境の重要な影響を模擬実験することに依存する。模擬実験の主要な目的は、存在する放射源と検査実験室内で利用可能な方法を用いて、宇宙空間環境における材料の挙動に対して適切な検査結果を得ることである。
太陽電池におけるFCCの実際的な稼働の間に、FCCはGEO宇宙空間環境に暴露される、すなわち、それらは外部の機能的な構造の一部を代表しているので、本研究の別の非常に重要な部分は、GEOを模擬した条件で暴露された試料のみならず、未処理の及びイオンビーム処理されたFCC試料の前面又は背面の側の熱的光学的特性の特徴付けを行うことである。図15は、熱的光学的特性測定について、この評価に用いられた全ての試料を示している。
表面が十分に電荷散逸性であることが、対地静止軌道における外部表面に関連した帯電環境を模擬実験した、最悪の場合の温度である−145℃で、専用のESD検査で確認された。そのESD検査において、以前、対地静止環境を代表する粒子と紫外線放射に同時にさらされた(図15の試料#51及び#52)、第2のセットの試料が検査された。
・20cmの直径の試料上で、宇宙空間と同様なエネルギー分布とフラックス均一性のためにエネルギーと角度を分散させた20と400keVの電子ビーム。
・フラックス: 20keV 250pA*cm−2(≒1.56*109s−1*cm−2)、 0−400keV 50pA*cm−2(≒3.12*108s−1*cm−2)、 及び、4×(20keVと0−400keVのフラックス)(電気通信衛星の外部表面についての顧客要求の最悪の環境)
・検査温度: 室温、−145℃
・真空度: 10−6hPa
i)処理されたままを意味する寿命の最初
ii)GEO検査後
一方は滑らかでもう一方は粗いFCCの側を備える両方のセットの試料が、帯電環境にさらされた。電位がその減衰と共に測定された。アーク放電の検出が設備の構成により確実にされた。
101…前面の表面、
102…FCC100の前面の表面101の溝を刻まれた表面、
201…背面の表面、
202…FCC100の背面の表面201の溝を刻まれた表面、
300…最新式のFCC100の前面の表面の拡大されたSEM画像、
400…最新式のFCC100の背面の表面の拡大されたSEM画像、
1301…FCC、
1302…FCC、
1303…FCC、
1401…FCC、
1402…FCC、
1403…FCC、
1404…FCC、
1510…GEO模擬実験されたFCCの第1のセット、
1520…GEO模擬実験されたFCCの第2のセット、
1530…未検査の参照用試料。
1. D.Fink、イオン照射されたポリマーの基礎(Fundamentals of ion−irradiated polymers)、エルゼビア(Elsevier)社、2004
2. A.V.Kondyurin、M.Bilek、ポリマーのイオンビーム処理:薬から宇宙空間までの応用の側面(Ion beam treatment of polymers: application aspects from medicine to space)、エルゼビア(Elsevier)社、2010
3. H.Dong、T.Bell、最新の概説:摩擦学的諸特性を改善するためのポリマーのイオンビーム表面改質(State−of−the−art overview: ion beam surface modification of polymers towards improving tribological properties)、表面及びコーティング技術(Surface and Coatings Technology)、111巻、1号、1999年1月10日、ページ29−40
4. V.Zaporojtchenko、J.Zekonyte、J.Erichsen、F.Faupel、「低エネルギーイオン照射の間のポリマーフィルムのエッチング速度と構造的な改変(Etching Rate and Structural Modification of Polymer Films During Low Energy Ion Irradiation)」、Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B (NIMB) 208、155(2003)
5. Z.Iskanderova、J.Kleiman、V.Issoupov、F.Bussieres、「電荷散逸性及び放射線透過性のGEO耐久性のある宇宙空間用ポリマーのためのCarbosurf TM表面改質技術(Carbosurf TM Surface Modification Technology for Charge Dissipative and Radio−Transparent GEO Durable Space Polymers)」、Proceedings of the 9−th International Conference「宇宙空間環境からの材料と構造の保護(Protection of Materials and Structures from Space Environment)(ICPMSE−9)」、Ed. J.Kleiman、AIP Conference Proceedings、2009、p.588−599
6. J.I.Kleiman、Z.Iskanderova、F.Bussieres、A.Grigorevskiy、R.Sodhi、「宇宙空間用ポリマーの耐久性と表面導電性の向上のためのイオンビーム処理:宇宙空間環境からの材料と構造の保護、結果、分析、メカニズム(Ion−beam Treatment for Enhancement of Durability and Surface Conductivity of Space Polymers: Results, Analysis, Mechanisms, Protection of Materials and Structures from the Space Environment)」、Eds. J.Kleiman、M.Tagawa and Y.Kimoto、Springer、2013、pp.317−326
7. DuPont社技術情報(DuPont Technical Information)、PyraluxR LF Coverlay Flexible Composites
8. <http://www.livestrong.com/article/174049−what−is−pumice−composed−of/>
9. M.Baillie、J.Ming−Chung、「方形電極を用いた表面抵抗率の測定及び修正ファクターにより表面抵抗測定を複合的にする方法(Method of Measuring Surface Resistivity Using Square Electrodes and Multiplying Surface Resistance Measurements by a Correction Factor)」、米国特許第5,391,994号明細書、1995年2月21日
10. J.F.Ziegler、TRIM−90、「物質中のイオンの輸送(Transport of Ions in Matter)」、International Business Machine Corp.、1990
11. V.Zaporojtchenko、J.Zekonyte、J.Erichsen、F.Faupel、「低エネルギーイオン照射の間のポリマーフィルムのエッチング速度と構造的な改変(Etching Rate and Structural Modification of Polymer Films During Low Energy Ion Irradiation)」、Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B (NIMB)、208、155(2003)
12. 国際標準(International Standard)ISO 15856:2010(E):宇宙空間システム−宇宙空間環境−非金属材料の照射暴露のためのシミュレーションガイドライン(Space systems − space environment − simulation guidelines for radiation exposure of non−metallic materials)
13. Smirnov I.A.、長期の照射暴露による照射誘起導電率(Radiation−induced conductivity of polymers at long−time radiation exposure)、PhD論文、ロシア、2006
14. ASTM E903 −積算用の球面を用いた、材料の太陽光吸収率、反射率、及び、透過率の標準的検査方法(Standard Test Method for Solar Absorptance, Reflectance, and Transmittance of Materials Using Integrating Spheres)
15. ASTM E408−13 検査−計量器技術を用いた、表面の全正規発散度(emittance)の標準的検査方法(Standard Test Methods for Total Normal Emittance of Surfaces Using Inspection−Meter Techniques)
16. Mott, N.F.、伝導帯及び価電子帯の擬似ギャップと端近傍の局在化状態(Localized states in a pseudo−gap and near extremities of conduction and valence bands)、Phil.Mag.19:835、(1969)
17. V.K.S.Shante、薄いフィルム中の可変範囲のホッピング伝導(Variable−range hopping conduction in thin films)、Physics Letters A、43巻、3号、1973年3月12日、pp.249−250
18. Shounak De、S.Niranajana、ナノクラスター炭素の薄いフィルムにおけるMott導電率(Mott conductivity in nanocluster carbon thin films)、Optoelectronics and Advanced Materials−Rapid Communications、v.3、312、2009年12月、pp.1365−1367
Claims (13)
- 宇宙空間又は他の極端な環境において使用されるように意図された誘電性のポリマーを主体にした材料、若しくは複合材料から製造され、又は、構成された部材上に電荷散逸性の表面層を作製する方法であって、
前記部材は少なくとも1つの表面、特には、2つの向かい合う表面を有し、該表面の各々は平坦又は3次元の形状を有しており、
電荷散逸性の範囲内の均一な表面抵抗率を備える、処理され炭化された表面層を実現するために、希ガスのガス直線大電流技術によるイオンビーム源内に形成されたイオンビームのガス混合物内に、所定量の炭素を含むガスを常に添加し、該イオンビームで前記少なくとも1つの表面に衝撃を与えることによって、同時に起こる表面の再生を伴うイオン衝撃を通して、真空環境で、前記部材の少なくとも1つの表面を炭化する工程を有することを特徴とする方法。 - 前記イオンビームは2.5〜3keVのエネルギーを有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記表面層は、室温で数十MΩ/□の電荷散逸性の範囲を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の方法。
- 炭素を含むガスとして、アセチレンガスを用いることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記部材のポリマーを主体にした材料の脱ガスが、処理時間を減少させ、炭化の品質を向上させるように、前記少なくとも1つの表面への前記衝撃の間に、真空環境において、50℃から75℃の間の範囲の、特には、65℃の温度までの追加の加熱で引き起こされることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の方法。
- ポリマー又は複合材料を主体とした材料からなる前記少なくとも1つの表面を制御可能に炭化すること、及び、同時に再生することが、不活性ガスと前記ポリマーを主体とする表面に既に存在する元素のみを用いて電荷散逸特性を実現できることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の方法。
- 電気的及び電子的応用に使用されることを意図された、ポリイミドを主体とする自己接着ホイルの間でラミネートされた銅の細片からなる部材に適用され、これらの標準製品の機械的及び電気的なバルク特性を維持する一方で電荷散逸性の表面を作製することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の方法。
- 宇宙空間又は他の極端な環境において使用されるように意図された誘電性のポリマーを主体にした材料から製造され、又は、構成された部材であって、
少なくとも1つの表面、特には、2つの向かい合う表面を有しており、
前記表面の各々は平坦又は3次元の形状を備え、かつ、均一な表面抵抗率を有する前記少なくとも1つの表面に電荷散逸性の炭化された表面層を備えたものであることを特徴とする部材。 - 前記処理され炭化された表面層を備える誘電性のポリマーを主体にした材料が、熱的なサイクルに耐久性があり、少なくとも−150℃から+150℃の温度範囲において、電荷散逸性についての表面特性を維持することを特徴とする請求項8に記載の部材。
- 前記炭化されたポリマーを主体とする表面、又は、複合材料の表面は、未処理の最新式の部材と比較して、わずかに黒ずんだ視覚上の外観を備えた電荷散逸性の材料の表面であり、かつ、表面形態のどのような変化もないことを特徴とする請求項8又は請求項9に記載の部材。
- 前記炭化されたポリマーを主体とする表面、又は、複合材料の表面は、GEO宇宙空間で暴露された少なくとも15等価年の間の、地上に置かれたGEO模擬実験設備内で試験の後に、未処理のものの熱的光学的特性と比較して、最終的な熱的光学的特性に重大な相違を生じないような方法において、熱放射率にはどのような変化もなく、かつ、太陽光の吸収率にはいくらかの変化がある電荷散逸性の材料の表面であることを特徴とする請求項8から請求項10のいずれか一項に記載の部材。
- 前記炭化されたポリマーを主体とする表面、又は、複合材料の表面は、GEO環境において、少なくとも15年間、電荷散逸特性を維持できることを特徴とする請求項8から請求項11のいずれか一項に記載の部材。
- 前記少なくとも1つの表面は、前記複合材料内に埋め込まれた無機の粒子、又は、微粒子/繊維のフィラーを有する粗い表面であることを特徴とする請求項8から請求項12のいずれか一項に記載の部材。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP13005467.9 | 2013-11-21 | ||
EP13005467.9A EP2876649B1 (en) | 2013-11-21 | 2013-11-21 | Method for manufacturing a charge dissipative surface layer |
PCT/EP2014/003104 WO2015074758A1 (en) | 2013-11-21 | 2014-11-20 | Method for manufacturing a charge dissipative surface layer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017502162A true JP2017502162A (ja) | 2017-01-19 |
JP6393770B2 JP6393770B2 (ja) | 2018-09-19 |
Family
ID=49666919
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016554803A Active JP6393770B2 (ja) | 2013-11-21 | 2014-11-20 | 電荷散逸性の表面層の作製方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10763003B2 (ja) |
EP (1) | EP2876649B1 (ja) |
JP (1) | JP6393770B2 (ja) |
CN (1) | CN105940456B (ja) |
RU (1) | RU2655942C2 (ja) |
WO (1) | WO2015074758A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2876649B1 (en) | 2013-11-21 | 2017-10-11 | Airbus DS GmbH | Method for manufacturing a charge dissipative surface layer |
CN104237172A (zh) * | 2014-09-04 | 2014-12-24 | 兰州空间技术物理研究所 | 长寿命光学薄膜空间环境作用下失效机理获取方法 |
CN107870295B (zh) * | 2017-11-10 | 2021-03-23 | 青岛科技大学 | 高压直流电缆用半导电层电荷发射测试方法及装置 |
US10907030B2 (en) | 2019-01-31 | 2021-02-02 | Bae Systems Controls Inc. | Process for mitigation of whisker growth on a metallic substrate |
CN111500984B (zh) * | 2020-04-22 | 2022-04-19 | 广东生波尔光电技术有限公司 | 一种特种工件镀膜方法 |
CN112895408B (zh) * | 2020-12-28 | 2022-05-20 | 杭州电子科技大学 | 基于相场模型的聚合物表面微结构可控成形机理研究方法 |
CN113688549B (zh) * | 2021-08-30 | 2024-02-23 | 上海无线电设备研究所 | 一种静电探测体制目标及箔条干扰特性联合建模方法 |
CN114379262B (zh) * | 2021-12-29 | 2023-04-21 | 华南理工大学 | 一种基于电流体印刷的高透射光电器件及其制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005342834A (ja) * | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Mitsubishi Materials Corp | プラズマcvd成膜のダイヤモンド状炭素被膜がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具 |
JP2013511429A (ja) * | 2009-11-23 | 2013-04-04 | アプライド ナノストラクチャード ソリューションズ リミテッド ライアビリティー カンパニー | Cntを適合された宇宙ベース複合材料構造体 |
US20130295413A1 (en) * | 2008-07-14 | 2013-11-07 | Macdonald, Dettwiler And Associates Corporation | Method of making charge dissipative surfaces of polymeric materials with low temperature dependence of surface resistivity and low rf loss |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4199650A (en) * | 1978-11-07 | 1980-04-22 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Modification of the electrical and optical properties of polymers |
US5391994A (en) | 1992-12-31 | 1995-02-21 | At&T Corp. | Method for measuring surface resistivity using square electrodes and multiplying surface resistance measurements by a correction factor |
US6139943A (en) * | 1995-12-22 | 2000-10-31 | Hughes Electronics Corporation | Black thermal control film and thermally controlled microwave device containing porous carbon pigments |
FR2776540B1 (fr) * | 1998-03-27 | 2000-06-02 | Sidel Sa | Recipient en matiere a effet barriere et procede et appareil pour sa fabrication |
RU2141006C1 (ru) * | 1998-09-08 | 1999-11-10 | Пыпкин Борис Николаевич | Способ получения легированных углеродосодержащих покрытий |
US6392244B1 (en) * | 1998-09-25 | 2002-05-21 | Seagate Technology Llc | Ion beam deposition of diamond-like carbon overcoats by hydrocarbon source gas pulsing |
RU2244983C1 (ru) * | 2003-07-14 | 2005-01-20 | Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук | Способ получения алмазоподобных пленок для инкапсуляции солнечных фотоэлектрических элементов |
RU2297471C1 (ru) * | 2006-05-30 | 2007-04-20 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный институт стали и сплавов" (технологический университет) | Способ получения проводящих нанокомпозитных покрытий, содержащих металл в кремний-углеродной матрице |
US20100009194A1 (en) * | 2008-07-14 | 2010-01-14 | Zelina Iskanderova | Method of making charge dissipative surfaces of polymeric materials with low temperature dependence of surface resistivity and low RF loss |
FR2941878B1 (fr) * | 2009-02-10 | 2011-05-06 | Quertech Ingenierie | Procede de traitement par un faisceau d'ions d'une couche metallique deposee sur un substrat |
EP2459372A4 (en) * | 2009-07-27 | 2012-12-19 | Univ North Carolina State | THERMOSENSITIVE COMPOSITE MATERIALS |
CN103079805B (zh) * | 2009-12-14 | 2015-02-11 | 应用纳米结构方案公司 | 含有碳纳米管并入的纤维材料的防火复合材料和制品 |
KR101019065B1 (ko) * | 2010-06-23 | 2011-03-07 | (주)제이 앤 엘 테크 | 나노 박막을 코팅한 대전방지 기능을 갖는, 전자부품 포장용 포장재 및 그 제조방법 |
EP2876649B1 (en) | 2013-11-21 | 2017-10-11 | Airbus DS GmbH | Method for manufacturing a charge dissipative surface layer |
-
2013
- 2013-11-21 EP EP13005467.9A patent/EP2876649B1/en active Active
-
2014
- 2014-11-20 WO PCT/EP2014/003104 patent/WO2015074758A1/en active Application Filing
- 2014-11-20 RU RU2016122573A patent/RU2655942C2/ru active
- 2014-11-20 JP JP2016554803A patent/JP6393770B2/ja active Active
- 2014-11-20 CN CN201480073783.4A patent/CN105940456B/zh active Active
-
2016
- 2016-05-20 US US15/160,684 patent/US10763003B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005342834A (ja) * | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Mitsubishi Materials Corp | プラズマcvd成膜のダイヤモンド状炭素被膜がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具 |
US20130295413A1 (en) * | 2008-07-14 | 2013-11-07 | Macdonald, Dettwiler And Associates Corporation | Method of making charge dissipative surfaces of polymeric materials with low temperature dependence of surface resistivity and low rf loss |
JP2013511429A (ja) * | 2009-11-23 | 2013-04-04 | アプライド ナノストラクチャード ソリューションズ リミテッド ライアビリティー カンパニー | Cntを適合された宇宙ベース複合材料構造体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2016122573A (ru) | 2017-12-26 |
WO2015074758A9 (en) | 2016-10-20 |
US10763003B2 (en) | 2020-09-01 |
JP6393770B2 (ja) | 2018-09-19 |
RU2655942C2 (ru) | 2018-05-30 |
CN105940456A (zh) | 2016-09-14 |
CN105940456B (zh) | 2018-01-02 |
WO2015074758A1 (en) | 2015-05-28 |
EP2876649A1 (en) | 2015-05-27 |
EP2876649B1 (en) | 2017-10-11 |
US20160343464A1 (en) | 2016-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6393770B2 (ja) | 電荷散逸性の表面層の作製方法 | |
EP3300084B1 (en) | Transparent conductor | |
CN105492653B (zh) | 透明导电性膜及其制造方法 | |
US20230127104A1 (en) | Transparent electroconductive film | |
CN111210944B (zh) | 导电性薄膜的制造方法 | |
US9174396B2 (en) | Method of making charge dissipative surfaces of polymeric materials with low temperature dependence of surface resistivity and low RF loss | |
US20100009194A1 (en) | Method of making charge dissipative surfaces of polymeric materials with low temperature dependence of surface resistivity and low RF loss | |
WO2021215154A1 (ja) | 光透過性導電層および光透過性導電フィルム | |
KR20220155285A (ko) | 광투과성 도전막 및 투명 도전성 필름 | |
Kormunda et al. | Preparation of pulsed DC magnetron deposited Fe‐doped SnO2 coatings | |
Tan et al. | Magnesium implantation by plasma immersion in polymers for oxidation protection in low earth orbit environment | |
Kleiman et al. | Simulated space environment exposure of surface-modified thermal control coatings | |
Kleiman et al. | Ion beam-treated space polymers: long-term stability in GEO-simulated environments | |
Iskanderova et al. | CARBOSURF™ Surface Modification Technology for Charge Dissipative and Radio‐Transparent GEO Durable Space Polymers | |
US20230129748A1 (en) | Transparent electroconductive film | |
US20230128838A1 (en) | Light-transmitting electroconductive film and transparent electroconductive film | |
KR20240068536A (ko) | 투명 도전성 필름 | |
WO2023042843A1 (ja) | 透明導電性フィルム | |
WO2021187576A1 (ja) | 透明導電性フィルム | |
WO2022092190A2 (ja) | 透明導電性フィルム、および透明導電性フィルムの製造方法 | |
McTernan et al. | Indium–Tin Oxide–Coated Glass for Passive Ion Collection on Small-Scale Spacecraft | |
Motta et al. | Pathways for alkali ion transport in mold compounds | |
Iskanderova et al. | Surface modification of space-related flat cable conductors by a novel technological process | |
KR20240019750A (ko) | 투명 도전성 필름 | |
KR20230167027A (ko) | 투명 도전층, 투명 도전성 필름 및 물품 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170613 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170824 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20180104 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20180417 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180501 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20180420 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20180528 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20180528 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180705 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20180705 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20180725 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180821 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180827 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6393770 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |