JP2017222885A - フルオロオレフィン組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】フルオロオレフィン中のＲfＣ≡ＣＸ不純物の濃度を減少させるための組成物の提供。【解決手段】少なくとも１種のフルオロオレフィンと、アミンと、少なくとも一種のＲfＣ≡ＣＸ化合物（式中Ｒfはペルフルオロ化されたアルキル基であり、ＸはＨ、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）とを含むことを特徴とする組成物。【選択図】なし

Description

本開示内容は、アミンとの接触により、フルオロオレフィン類中のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物の濃度を減少させる方法に関する。

過去数十年間にわたって、多くの産業が、オゾン減少性のクロロフルオロカーボン類（ＣＦＣ類）およびヒドロクロロフルオロカーボン類（ＨＣＦＣ類）の代替物を見いだすことに取り組んできている。ＣＦＣ類およびＨＣＦＣ類は、エアゾール噴射剤、冷媒、洗浄剤、熱可塑性フォームおよび熱硬化性フォーム用の膨張剤、熱交換媒体、気体状誘電体、消火剤および炎抑制剤、パワーサイクル作動流体、重合媒体、微粒子除去流体、キャリア流体、バフ磨き研磨剤、および置換乾燥剤を含む広範な用途において用いられてきた。これらの多機能の化合物の代替物の探索において、多くの産業が、ヒドロフルオロカーボン類（ＨＦＣ類）の使用に転向してきている。

米国特許第７８３３４３４号明細書 米国特許出願公開第２０１０−０１０５９６７号明細書 米国特許第７９４３０１５号明細書 米国特許第７８９７８２３号明細書 米国特許第７９８５８８４号明細書 国際公開第２０１０／１２９８４４号公報 米国特許第７４７６７７１号明細書 米国特許第７４２３１８８号明細書 米国特許出願公開第２０１０−０２００７９８号明細書 米国特許出願公開第２０１０−００７２４１５号明細書 米国特許第６０１３８４６号明細書 米国特許出願公開第２００７−０１９７８４２号明細書 米国特許第５１５５０８２号明細書

ＨＦＣ類は、成層圏のオゾンの破壊を引き起こさないが、それらの「温室効果」への寄与、すなわち地球の温暖化を引き起こすことのために懸念されている。地球温暖化を起こすことの結果として、ＨＦＣ類は監視下におかれてきており、将来的には、それらの広範な使用もまた制限される恐れがある。よって、低いオゾン破壊能（ＯＤＰ）および低い地球温暖化能（ＧＷＰ）の両方を有する化学化合物に対する要求が存在する。

本開示内容は、少なくとも１種のフルオロオレフィンおよび少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物を含む混合物を、少なくとも１種のアミンと接触させて、前記混合物中の前記少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物の濃度を減少させることを含み、式中、Ｒ_fは、ペルフルオロ化されたアルキル基であり、ＸはＨ、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである。

また、本開示内容は、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦおよびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物を製造するための方法に関する。この方法は、（ａ）ＣＦ₃ＣＦＣｌＣＨ₃、ＣＦ₃ＣＨＦＣＨ₂Ｃｌ、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｆ、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨＦＣｌ、ＣＦ₃ＣＨＦＣＨ₂Ｆ、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＦ₂Ｈ、ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＨ₃およびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種の出発物質を脱ハロゲン化水素価し、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物および前記少なくとも１種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物を含む生成物混合物を製造する工程と、（ｂ）前記生成物混合物を少なくとも１種のアミンと反応させて、前記生成物混合物中の前記ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度を減少させる工程と、（ｃ）前記ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度が減少した前記少なくとも１種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物を回収する工程とを含む。

また、本開示内容は、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌからなる群から選択される少なくとも１種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物を製造するための方法に関する。この方法は、（ａ）ＣＦ₃ＣＣｌ₂ＣＨ₃、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｃｌ、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｆ、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨＣｌ₂、ＣＦ₃ＣＨＦＣＨ₂Ｃｌ、ＣＦ₃ＣＦＣｌＣＨ₃、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨＦＣｌおよびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種の出発物質を脱ハロゲン化水素価し、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物および前記少なくとも１種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物を含む生成物混合物を製造する工程と、（ｂ）前記生成物混合物を少なくとも１種のアミンと反応させて、前記生成物混合物中の前記ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度を減少させる工程と、（ｃ）前記ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度が減少した前記少なくとも１種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物を回収する工程とを含む。

フルオロオレフィン類は、低いＯＤＰおよび低いＧＷＰを有することが見いだされ、多くの用途におけるＨＦＣ類の将来性のある代替物であるとみなされてきている。たとえば、ゼロのＯＤＰおよび低いＧＷＰを有する、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）およびＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ（ＨＦＯ−１２３４ｚｅ）は、将来性のある冷媒であると認識されてきた。別の例として、低いＯＤＰおよび低いＧＷＰを有するＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ（ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄ）およびＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂（ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆ）は、フォーム膨張剤として用いることができる。また、ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄは、ＨＦＯ−１２３４ｚｅの製造における中間体でもあり、ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆは、ＨＦＯ−１２３４ｙｆの製造における中間体でもある。

多くの場合に、フロロオレフィン生成物中に、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨのようなＲ_fＣ≡ＣＸ不純物が存在することが見いだされてきた。Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物は高毒性である恐れがあるため、フルオロオレフィン生成物からそれらを除去する必要がある。

以上の一般的な記載および以下の詳細な記載は、例示および説明のみを目的とし、添付の特許請求の範囲にて定義される発明を限定するものではない。それぞれの１つまたは複数の実施形態の別の特徴おより利点は、以下の詳細な説明および特許請求の範囲から明らかになるであろう。

本明細書で用いられる際に、「含む（comprises)」、「含む（comprising)」、「含む（includes)」、「含む（including)」、「有する（has)」、「有する（having)」またはそれらの他の変形の任意のものは、非排他的包含を含むことを意図する。たとえば、一連の要素を含むプロセス、方法、物品または装置は、必ずしもそれら要素に限定されるものではなく、明示的に列挙されていない他の要素、または当該プロセス、方法、物品または装置に固有の他の要素を含んでもよい。さらに、違背することが明示的に言及されていない限り、「または」は、包含的論理和を意味し、排他的論理和を意味するものではない。たとえば、ＡまたはＢという条件は、以下のいずれか１つによって満たされる：Ａが真（または存在）およびＢが偽（または存在しない）、Ａが偽（または存在しない）およびＢが真（または存在）、ならびに、ＡおよびＢの両方が真（または存在）。

同様に、「a」および「an」の使用は、本明細書に記載の要素および成分を記載するのに用いられる。これは、利便性の目的、および発明の範囲に一般的意義を与える目的のみのために実施される。これらの記載は、１つまたは少なくとも１つを含むものと解釈すべきであり、異なる意味を有することが明白でない限り、単数形は、複数形も含む。

別の定義がなされない限り、本明細書で用いられる全ての技術用語および科学用語は、本発明が属する技術分野の通常の知識を有するものに一般的に理解されているものと同じ意味を有する。矛盾がある場合には、定義を含む本明細書が優先する。本明細書に記載されるものと類似または等価の方法および材料を、本発明の実施形態の実施または試験をするのに用いることができる。しかしながら、適切な方法および材料を、以下に記載する。加えて、材料、方法、および実施例は、例示のみを目的とし、限定を目的とするものではない。

量、濃度、または他の値もしくはパラメータが、範囲、好ましい範囲、あるいは、好ましい上限値および／または好ましい下限値の列挙で与えられている場合、範囲が別個に記載されているか否かに無関係に、これは、任意の範囲の上限値または好ましい値と、任意の範囲の下限値または好ましい値との任意の対により形成される全ての範囲が具体的に記載されていると理解すべきである。特段の記載がない限りにおいて、本明細書中に数値範囲が記載されている場合、範囲が、その両方の終点、および、当該範囲内の全ての整数および分数を含むことを意図している。

以下に記載する実施形態の詳細に言及する前に、いくつかの用語の定義または明瞭化する。

ＨＦＯ−１２３４ｚｅは、ＥまたはＺの２つの幾何異性体の一方として存在する。本明細書で用いられる際に、ＨＦＯ−１２３４ｚｅは、それら異性体、Ｅ−ＨＦＯ−１２３４ｚｅまたはＺ−ＨＦＯ−１２３４ｚｅを含み、加えてそれら異性体の任意の組み合わせまたは混合物を含む。

ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄもまた、ＥまたはＺの２つの幾何異性体の一方として存在する。本明細書で用いられる際に、ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄは、それら異性体、Ｅ−ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄまたはＺ−ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄを含み、加えてそれら異性体の任意の組み合わせまたは混合物を含む。

ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨＣｌ（ＨＣＦＯ−１２２４ｙｄ）もまた、ＥまたはＺの２つの幾何異性体の一方として存在する。本明細書で用いられる際に、ＨＣＦＯ−１２２４ｙｄは、それら異性体、Ｅ−ＨＣＦＯ−１２２４ｙｄまたはＺ−ＨＣＦＯ−１２２４ｙｄを含み、加えてそれら異性体の任意の組み合わせまたは混合物を含む。

ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨＣｌ（ＨＣＦＯ−１２２３ｘｄ）もまた、ＥまたはＺの２つの幾何異性体の一方として存在する。本明細書で用いられる際に、ＨＣＦＯ−１２２３ｘｄは、それら異性体、Ｅ−ＨＣＦＯ−１２２３ｘｄまたはＺ−ＨＣＦＯ−１２２３ｘｄを含み、加えてそれら異性体の任意の組み合わせまたは混合物を含む。

本明細書で用いられる際に、「Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物」という用語は、フルオロオレフィン生成物中に存在し、式Ｒ_fＣ≡ＣＸを有する不純物を意味する。

本明細書で用いられる際に、「フルオロオレフィン」という用語は、水素、炭素、任意選択的な塩素、フッ素、および炭素−炭素二重結合を含む分子を意味する。

本明細書で用いられる際に、「ヒドロフルオロオレフィン」という用語は、水素、炭素、フッ素、および炭素−炭素二重結合を含む分子を意味する。

本明細書で用いられる際に、「ヒドロクロロフルオロオレフィン」という用語は、水素、炭素、塩素、フッ素、および炭素−炭素二重結合を含む分子を意味する。

異なることが明示されていない限り、本明細書で単独または複合語（「ペルフルオロ化されたアルキル基」のようなもの）のいずれかとして用いられる際に、「アルキル」という用語は、１〜２０炭素原子を含む、環状または鎖状、および直鎖状または分枝状のアルキル基を意味する。低級アルキルという用語は、１〜６炭素原子を有するアルキル基を表す。アルキルの例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、３−メチルブタン、２，３−ジメチル−プロパン、ｎ−ヘキシル、およびｎ−ヘキシルの種々の他の異性体のような基を含む。加えて、当該用語は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、およびシクロヘキシルのような、３〜１４個の環炭素原子を含む飽和シクロアルキル基を含む。それは、単環式であっても、二環式であってもよい。

本明細書で用いられる際に、「ペルフルオロ化されたアルキル基」という用語は、炭素原子上の全ての水素がフッ素で置換されたアルキル基を意味する。１つの実施形態において、ペルフルオロ化されたアルキル基は、１〜３炭素原子を含む。ペルフルオロ化されたアルキル基の例は、−ＣＦ₃および−ＣＦ₂ＣＦ₃を含む。

「アルコキシ」という用語は、Ｏ−アルキルの式を有する基を意味し、式中、アルキルは前述で定義されている。例は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブトキシ、ペントキシなどを含む。

本明細書で用いられる際に、「アミン」という用語は、孤立電子対を有する塩基性窒素原子を含む化学化合物または官能基を意味する。アミンは、第１級アミン、第２級アミン、第３級アミン、またはそれらの混合物であってもよい。例を後述する。しかしながら、当該用語は、式Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｎの式を有する化合物を含み、式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のそれぞれは、独立的に、水素、アルキル、アラルキルまたはヘテロアルキル基であり、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３の少なくとも１つは水素ではなく、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のそれぞれは、独立的に、非置換であってもよく、ヒドロキシル、ハロゲン、アルコキシまたはアミノ基のような基で置換されていてもよい。本明細書で用いられる際に、アミンという用語は、ＲＮＨ₂、Ｒ₂ＮＨおよびＲ₃Ｎを含む。さらに、本明細書で用いられる際に、当該用語は、Ｒ１ＮＨＮＨ₂のようなヒドラジン類を含み、Ｒ１は本明細書で定義されたとおりである。加えて、本明細書で用いられる際に、アミンという用語は、ヘテロ環式アミンを含む。アミンという用語は、ＮＨ₄ ⁺、第１級アンモニウム塩、第２級アンモニウム塩または第３級アンモニウム塩のいずれであるかにかかわらず、アンモニウム塩を排除する。

本明細書で用いられる際に、「アラルキル」という用語は、炭素原子上の１つまたは複数の水素がアリール基で置換されたアルキル基を意味する。「アリール」とは、６、１０、１４、１８または２２個の環炭素原子を有し、最大３０個の炭素原子を含む芳香族環を意味する。アラルキル基の例は、Ｃ₆Ｈ₅ＣＨ₂−、フェネチルなどを含む。

本明細書で用いられる際に、「ヘテロアルキル」という用語は、アルキル主鎖の１つまたは複数の炭素原子が、Ｏ、Ｎ、Ｓのようなヘテロ原子で置換されたアルキル基を意味する。ヘテロアルキル基の例は、ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂−、ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂−などを含む。

本明細書で用いられる際に、「ハロゲン」という用語は、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩを表す。

異なることが明示されていない限り、「芳香族」という用語は、「アリール」という用語と同義であり、交換可能に用いられる。

本明細書で用いられる際に、「脂肪族」という用語は、非芳香族の炭化水素基を表す。それは、完全に飽和であっても、部分的に不飽和であってもよい。炭化水素基は、二重結合（アルケン）または三重結合（アルキン）を含んでもよい。脂肪族基は、環原子が炭素原子である１つまたは複数の環を含む環式であってもよい。例は、上記で定義されたアルキル基を含む。

「炭化水素基」は、炭素および水素原子を含む有機化合物を含む。本明細書で用いられる際に、それは少なくとも１つの炭素原子を含む。アルキル基は、炭化水素基の１つの例である。

本明細書で用いられる際に、「ポリアミン」という用語は、２つ以上の第１級アミノ基（−ＮＨ₂）を含む有機化合物を意味する。たとえば、２つ以上の第１級アミノ基は、アルキル基、アリール基、アラルキル、ヘテロアルキルまたはヘテロ環式基で置換されていてもよい。

本明細書で用いられる際に、「ヘテロ環化合物」という用語は、環内の少なくとも１つの炭素原子がＯ、ＮおよびＳからなる群から選択されるヘテロ原子で置換され、環が２〜７個の環炭素原子および１〜３個のヘテロ原子を含む、任意の３〜８員の単環式、飽和、部分的に不飽和、部分的に芳香族の環、または完全に芳香族の環；あるいは、Ｏ、ＮおよびＳからなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子および合計で４個までのヘテロ原子を含み、残余の環原子が炭素原子（８〜９個の環炭素原子）である、９〜１０員の飽和、部分的に不飽和、または部分的または完全に芳香族の二環式環系を表す。ヘテロ環式環が少なくとも２つの環ヘテロ原子を含む場合、環ヘテロ原子は、同一であっても、異なっていてもよい。適当なヘテロ環化合物の例は、ピロリジン、ジオキソラン、イミダゾリジン、ピラゾリン、ピラゾリジン、ピペリジン、ジオキサン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン、テトラヒドロフラン、ピロリン（１−ピロリン、２−ピロリン、および３−ピロリンを含む）、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、プリン、ピリダジン、ビピリジン（２，２’−ビピリジン、４，４’−ビピリジン、２，３’−ビピリジンおよび３，４’−ビピリジンを含む）、インドリン、イソインドリン、ピラゾリン、イミダゾリン、ピロリンなどを含むが、それらに限定されるものではない。

本明細書で用いられる際に、「ヘテロ環式アミン」という用語は、その環の少なくとも１つの構成原子がアミン窒素であり、環の少なくとも２つの構成原子が炭素であるヘテロ環式基を意味する。本明細書で用いられる際に、ヘテロ環式アミンは、６〜１０個の環原子、および１、２または３個の窒素環原子を含み、およびその余の環原子は炭素原子であるヘテロ芳香族を含み、当該ヘテロ芳香族は、ピロール、ピリジン、プリン、ピリミジン、イミダゾール、ピラゾール、ピラジン、インドール、キノリン、イソキノリン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリンなどのようなものである。加えて、この用語は、６〜１０個の環原子を含み、１、２または３個の窒素原子および１または２個の追加の環ヘテロ原子（ＳまたはＯからなる）を有し、その余の環炭素原子が炭素原子であるヘテロ環式アミンを含む。

本明細書で用いられる際に、「脂肪族アミン」という用語は、窒素が結合している基が脂肪族であるアミンを意味する。

本明細書で用いられる際に、「ｐｐｍ」という用語は、重量百万分率を意味する。

本明細書で用いられる際に、「ｐｐｍ−モル」という用語は、モル百万分率を意味する。

本明細書で用いられる際に、「実質的に存在しない」という用語は、フルオロオレフィンが２ｐｐｍ−モル以下のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物を含有することを意味する。

本明細書で用いられる際に、「脱ハロゲン化水素反応」という用語は、脱フッ化水素反応、または脱塩化水素反応を意味する。本明細書で用いられる際に、「脱ハロゲン化水素化」という用語は、脱フッ化水素化、または脱塩化水素化を意味する。本明細書で用いられる際に、「脱ハロゲン化水素化された」という用語は、脱フッ化水素化されたこと、または脱塩化水素化されたことを意味する。

本明細書で用いられる際に、「脱フッ化水素反応」、「脱フッ化水素化」、「脱フッ化水素化された」という用語は、分子中の隣接する炭素原子上の水素およびフッ素が除去されるプロセスを意味する。

本明細書で用いられる際に、「脱塩化水素反応」、「脱塩化水素化」、「脱塩化水素化された」という用語は、分子中の隣接する炭素原子上の水素および塩素が除去されるプロセスを意味する。

本明細書で用いられる際に、「相間移動触媒」という用語は、一方の相から他方の相への化学化合物の移動を促進する物質を意味する。本発明のいくつかの実施形態において、相間移動触媒は、クラウンエーテル、オニウム塩、クリプタンド、ポリアルキレングリコール、およびそれらの混合物および誘導体からなる群から選択される。相間移動触媒は、イオン性であっても、中性であってもよい。本発明のいくつかの実施形態において、オニウム塩は、第４級ホスホニウム塩および第４級アンモニウム塩を含む。第４級アンモニウム塩の例は、水酸化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化メチルトリ−ｎ−オクチルアンモニウム（Ａｌｉｑｕａｔ（商標）３３６としても知られている）、臭化ドデシルトリメチルアンモニウム、塩化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、臭化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、塩化テトラ−ｎ−ブチルホスホニウム、臭化テトラフェニルホスホニウム、塩化テトラフェニルホスホニウム、臭化トリフェニルメチルホスホニウム、塩化トリフェニルメチルホスホニウム、およびそれらの混合物を含む。本開示内容において、接触工程において相間移動触媒を用いて、フルオロオレフィンからＲ_fＣ≡ＣＸ不純物を除去することを補助してもよい。相間移動触媒は、塩基性水溶液を用いる脱ハロゲン化水素反応のプロセスにおいて用いてもよい。

本開示内容は、Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物を含有するフルオロオレフィンをアミンと接触させることにより、フルオロアミンからＲ_fＣ≡ＣＸ不純物の量を減少させるための方法を提供する。本方法は、少なくとも１種のフルオロオレフィンおよび少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物を含む混合物を、少なくとも１種のアミンと接触させて、前記混合物中の前記Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物の濃度を減少させる工程を含み、式中、Ｒ_fはペルフルオロ化されたアルキル基であり、Ｘは、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである。本発明のいくつかの実施形態において、本方法は、減少した濃度の前記Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物を有する前記少なくとも１種のフルオロオレフィンを回収する工程をさらに含む。

本発明のいくつかの実施形態において、混合物中の少なくとも１種のフルオロオレフィンの量は、混合物の総重量を基準として少なくとも５０重量％である。本発明のいくつかの実施形態において、混合物中の少なくとも１種のフルオロオレフィンの量は、混合物の総重量を基準として少なくとも７０重量％である。本発明のいくつかの実施形態において、混合物中の少なくとも１種のフルオロオレフィンの量は、混合物の総重量を基準として少なくとも９０重量％である。本発明のいくつかの実施形態において、混合物は、少なくとも１種のフルオロオレフィンおよび少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物から実質的に構成される。

本開示内容におけるフルオロオレフィンは、ヒドロフルオロオレフィンまたはヒドロクロロフルオロオレフィンであることができる。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ヒドロフルオロオレフィンである。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ヒドロクロロフルオロオレフィンである。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のヒドロフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ（ＨＦＯ−１２３４ｚｅ）、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨ₂（ＨＦＯ−１２４３ｙｆ）、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＦ₂（ＨＦＯ−１２２５ｚｃ）、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨＦ（ＨＦＯ−１２２５ｙｅ）、およびそれらの混合物からなる群から選択される。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のヒドロクロロフルオロオレフィンは、ＣＦ₂ＣＣｌ＝ＣＨ₂（ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆ）、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ（ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄ）、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨＣｌ（ＨＣＦＯ−１２２４ｙｄ）、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＣｌ₂（ＨＣＦＯ−１２２３ｚａ）、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨＣｌ（ＨＣＦＯ−１２２３ｘｄ）、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＦＣｌ、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨＦ、およびそれらの混合物からなる群から選択される。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＦＣｌ、ＣＦ₃＝ＣＨ＝ＣＦ₂、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨＣｌ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＣｌ₂、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨＣｌ、およびそれらの混合物からなる群から選択される。本発明のいくつかの実施形態において、ヒドロフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦおよびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物である。本発明のいくつかの実施形態において、ヒドロクロロフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ、およびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物である。

Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物は、フルオロオレフィンおよびその前駆体を製造するプロセス中に副生成物として生成する。たとえば、ＨＦＯ−１２３４ｙｆを製造するＣＦ₃ＣＦＣｌＣＨ₃（ＨＣＦＣ−２４４ｂｂ）の脱塩化水素プロセス中に、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物が、ＨＦＯ−１２３４ｙｆを有する生成物混合物中に見いだされ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物および／またはＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌ不純物は、ＨＣＦＣ−２４４ｂｂ出発材料中にも存在する可能性がある。

本開示内容のプロセスによりフルオロオレフィンから除去されるＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、フッ素化された末端アルキンである。本発明のいくつかの実施形態において、Ｒ_fは−ＣＦ₃である。本発明のいくつかの実施形態において、Ｒ_fは−ＣＦ₂ＣＦ₃である。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＦおよびそれらの混合物からなる群から選択される。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌおよびそれらの混合物からなる群から選択される。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨである。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌである。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＦＣｌ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＦ₂、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨＣｌ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＣｌ₂、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨＣｌおよびそれらの混合物からなる群から選択され、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＦおよびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨＣｌおよびそれらの混合物からなる群から選択され、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＦおよびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂であり、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＦおよびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ、およびそれらの混合物からなる群から選択され、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌおよびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ、およびそれらの混合物からなる群から選択され、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨである。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂であり、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌおよびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂であり、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨである。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦであり、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌおよびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦであり、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨである。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂およびＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦの混合物であり、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌおよびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂およびＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦの混合物であり、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨである。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂およびＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌおよびそれらの混合物からなる群から選択され、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌおよびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂およびＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌおよびそれらの混合物からなる群から選択され、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨである。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌであり、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌおよびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌであり、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨである。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂であり、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌおよびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂であり、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨである。

アミンと接触させることによりフルオロオレフィンからＲ_fＣ≡ＣＸ不純物を除去できることが、実験的に見いだされた。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、式Ｒ₃Ｎ（式中、それぞれのＲは、独立的に、水素、アルキル基、ヘテロアルキル基、アリール基、またはアラルキル基である）で表すことができる。アルキル基、ヘテロアルキル基、アリール基およびアラルキル基は、置換されていてもよく、無置換であってもよい。本明細書において、置換アルキル基、置換ヘテロアルキル基、置換アリール基、置換アラルキル基は、炭素原子上の１つまたは複数の水素が、ヒドロキシル基、アルコキシ基、ハロゲン、アミノ基などのような官能基で置換されていることを意味する。本開示内容のための少なくとも１種のアミンは、脂肪族アミン、芳香族アミン、またはそれらの混合物であることができる。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、脂肪族アミンである。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、第１級アミン、第２級アミン、第３級アミンまたはそれらの混合物であることができる。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、式ＲＮＨ₂（式中、ＲはＣ_1-16の無置換アルキル基である）を有する第１級無置換アルキルアミンである。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、式ＲＮＨ₂（式中、ＲはＣ_4-12の無置換アルキル基である）を有する第１級無置換アルキルアミンである。第１級無置換アルキルアミンの例は、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、アミルアミン、イソアミルアミン、ｔｅｒｔ−アミルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ｔｅｒｔ−オクチルアミン（１，１，３，３−テトラメチルブチルアミン）、およびそれらの混合物を含む。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、式Ｒ₂ＮＨ（式中、それぞれのＲは、独立的に、Ｃ_1-14の無置換アルキル基である）を有する第２級無置換アルキルアミンである。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、式Ｒ₂ＮＨ（式中、それぞれのＲは、独立的に、Ｃ_3-10の無置換アルキル基である）を有する第２級無置換アルキルアミンである。第２級無置換アルキルアミンの例は、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、ジアミルアミン、ジヘキシルアミンおよびそれらの混合物を含む。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、式Ｒ₃Ｎ（式中、それぞれのＲは、独立的に、Ｃ_1-12の無置換アルキル基である）を有する第３級無置換アルキルアミンである。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、式Ｒ₃Ｎ（式中、それぞれのＲは、独立的に、Ｃ_2-8の無置換アルキル基である）を有する第３級無置換アルキルアミンである。第３級無置換アルキルアミンの例は、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルブチルアミンおよびそれらの混合物を含む。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリプロピルアミン、ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、アミルアミン、イソアミルアミン、ｔｅｒｔ−アミルアミン、ジアミルアミン、トリアミルアミン、ヘキシルアミン、ジヘキシルアミン、トリヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ｔｅｒｔ−オクチルアミン（１，１，３，３−テトラメチルブチルアミン）、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルブチルアミンおよびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、式Ｒ₃Ｎを有するアミンの少なくとも１つのＲ基は、炭素原子上の１つまたは複数の水素がヒドロキシル基で置換された置換アルキル基であり、存在する場合、その余のＲ基は、独立的に、水素、およびＣ₁〜Ｃ₁₆の無置換アルキル基からなる群から選択される。そのようなアミンの例は、エタノールアミン（Ｈ₂ＮＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン（（ＨＯＣＨ₂）₃ＣＮＨ₂）、２−（メチルアミノ）エタノール（ＣＨ₃ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、２−（エチルアミノ）エタノール（ＣＨ₃ＣＨ₂ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、２−（プロピルアミノ）エタノール（ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、２−（イソプロピルアミノ）エタノール（（ＣＨ₃）₂ＣＨＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、２−（ブチルアミノ）エタノール（ＣＨ₃（ＣＨ₂）₃ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、２−（ｔｅｒｔ−ブチルアミノ）エタノール（（ＣＨ₃）₃ＣＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、トリイソプロパノールアミン（［ＣＨ₃ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂］₃Ｎ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン（ＨＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｎ（ＣＨ₃）₂）、１−ジメチルアミノ−２−プロパノール（（ＣＨ₃）₂ＮＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₃）、３−ジメチルアミノ−１−プロパノール（（ＣＨ₃）₂Ｎ（ＣＨ₂）₃ＯＨ）、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール（（ＣＨ₃）₂Ｃ（ＮＨ₂）ＣＨ₂ＯＨ）およびそれらの混合物を含む。

本発明のいくつかの実施形態において、式Ｒ₃Ｎを有するアミンの１つのＲ基は、炭素原子上の１つまたは複数の水素がヒドロキシル基で置換された置換アルキル基であり、他の２つのＲ基は、独立的に、水素、およびＣ₁〜Ｃ₁₆の無置換アルキル基からなる群から選択される。そのようなアミンの例は、エタノールアミン（Ｈ₂ＮＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン（（ＨＯＣＨ₂）₃ＣＮＨ₂）、２−（メチルアミノ）エタノール（ＣＨ₃ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、２−（エチルアミノ）エタノール（ＣＨ₃ＣＨ₂ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、２−（プロピルアミノ）エタノール（ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、２−（イソプロピルアミノ）エタノール（（ＣＨ₃）₂ＣＨＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、２−（ブチルアミノ）エタノール（ＣＨ₃（ＣＨ₂）₃ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、２−（ｔｅｒｔ−ブチルアミノ）エタノール（（ＣＨ₃）₃ＣＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン（ＨＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｎ（ＣＨ₃）₂）、１−ジメチルアミノ−２−プロパノール（（ＣＨ₃）₂ＮＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₃）、３−ジメチルアミノ−１−プロパノール（（ＣＨ₃）₂Ｎ（ＣＨ₂）₃ＯＨ）、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール（（ＣＨ₃）₂Ｃ（ＮＨ₂）ＣＨ₂ＯＨ）およびそれらの混合物を含む。

本発明のいくつかの実施形態において、式Ｒ₃Ｎを有するアミンの少なくとも１つのＲ基は、炭素原子上の１つまたは複数の水素がアミノ基で置換された置換アルキル基であり、存在する場合、その余のＲ基は、独立的に、水素、およびＣ₁〜Ｃ₁₆の無置換アルキル基からなる群から選択される。そのようなアミンの例は、３−（ジメチルアミノ）プロピルアミン（（ＣＨ₃）₂Ｎ（ＣＨ₂）₃ＮＨ₂）、３−（ジエチルアミノ）プロピルアミン（（Ｃ₂Ｈ₅）₂Ｎ（ＣＨ₂）₃ＮＨ₂）およびそれらの混合物を含む。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、ポリアミンである。ポリアミンの例は、エチレンジアミン、１，２−プロピレンジアミン、１，３−プロピレンジアミン、１，４−ジアミノブタン、１，３−ジアミノペンタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６−ジアミノヘキサン、２−メチル−１，５−ペンタンジアミン、スペルミジン（Ｎ−（３−アミノプロピル）ブタン−１，４−ジアミン）、スペルミン（Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）ブタン−１，４−ジアミン）、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミンおよびそれらの混合物を含む。

本発明のいくつかの実施形態において、式Ｒ₃Ｎを有するアミンの少なくとも１つのＲ基は、炭素原子上の１つまたは複数の水素がヒドロキシル基で置換されたＣ₂〜Ｃ₁₆の置換ヘテロアルキル基であり、存在する場合、その余のＲ基は、独立的に、水素、およびＣ₁〜Ｃ₁₆の無置換アルキル基からなる群から選択される。本発明のいくつかの実施形態において、式Ｒ₃Ｎを有するアミンの少なくとも１つのＲ基は、ヘテロアルキル基中のヘテロ原子が酸素であり、かつ炭素原子上の１つまたは複数の水素がヒドロキシル基で置換されたＣ₂〜Ｃ₁₆の置換ヘテロアルキル基であり、存在する場合、その余のＲ基は、独立的に、水素、およびＣ₁〜Ｃ₁₆の無置換アルキル基からなる群から選択される。そのようなアミンの例は、２−［２−（ジメチルアミノ）エトキシ］エタノール（（ＣＨ₃）₂ＮＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）、２−（２−アミノエトキシ）エタノール（Ｈ₂ＮＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）およびそれらの混合物を含む。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンはヘテロ環式アミンである。ヘテロ環式アミンの例は、ピロリジン、ピロリン（１−ピロリン、２−ピロリンおよび３−ピロリンを含む）、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、ビピリジン（２，２’−ビピリジン、４，４’−ビピリジン、２，３’−ビピリジンおよび３，４’−ビピリジンなどを含む）およびそれらの混合物を含む。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンはアンモニア（ＮＨ₃）である。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンはヒドラジン（ＮＨ₂ＮＨ₂）、アルキルヒドラジンまたはアリールヒドラジンまたはアラルキルヒドラジンなどのようなヒドラジン誘導体、およびそれらの混合物である。ヒドラジン誘導体の例は、メチルヒドラジン（ＣＨ₃ＮＨＮＨ₂）、１，１−ジメチルヒドラジン（（ＣＨ₃）₂ＮＮＨ₂）、１，２−ジメチルヒドラジン（ＣＨ₃ＮＨＮＨＣＨ₃）、フェニルヒドラジン、２，４−ジニトロフェニルヒドラジン、およびそれらの混合物を含む。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、芳香族アミンである。芳香族アミンの例は、アニリン、ｏ−トルイジン、ｍ−トルイジン、ｐ−トルイジン、キシリジン、２，４，６−トリメチルアニリン、ｏ−アニシジン、ｍ−アニシジン、ｐ−アニシジン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、およびそれらの混合物を含む。

本開示内容において、前述のアミンの任意のものの混合物を用いてもよい。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、式Ｒ₃Ｎ（式中、それぞれのＲは、独立的に、水素、アルキル基、ヘテロアルキル基、アリール基またはアラルキル基である）を有するアミン、ヘテロ環式アミン、ヒドラジンおよびその誘導体、およびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、式Ｒ₃Ｎ（式中、それぞれのＲは、独立的に、水素、アルキル基、ヘテロアルキル基、アリール基またはアラルキル基である）を有するアミン、ヘテロ環式アミンおよびそれらの混合物からなる群から選択される。

フルオロオレフィンからＲ_fＣ≡ＣＸ不純物を除去するプロセスにおいて、トリフェニルアミン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＴＭＰ）、および２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールのような立体障害を有するアミンは、他のアミンほど有効でない恐れがある。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、立体障害を有するアミンを含まない。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、トリフェニルアミン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＴＭＰ）、および２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールを含まない。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のアミンは、接触工程中、適当な溶媒の溶液中にある。本開示内容における適当な溶媒は、少なくとも１種のアミンが少なくとも部分的に可溶性である、不活性溶媒である。本明細書において、「不活性」という用語は、接触工程中に溶媒がアミンともフルオロオレフィンとも反応するべきではないということを意味する。

本発明のいくつかの実施形態において、適当な溶媒は、水、炭化水素、エーテル、アルコール（グリコールを含む）、ベンゼンおよびその誘導体、アルキルハライド、アルキルニトリル、アミド、スルホキシド、スルホン、ホスフェートエステル、およびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、適当な溶媒は、水、エーテル、アルコール（グリコールを含む）、ベンゼンおよびその誘導体、アルキルハライド、アルキルニトリル、アミド、スルホキシド、スルホン、およびそれらの混合物からなる群から選択される。

エーテルの例は、非環式アルキルエーテル、環式エーテル、ペルフルオロ化されたエーテル、グリム、ジグリム、トリグリム、テトラグリム、およびそれらの混合物を含む。非環式アルキルエーテルの例は、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、およびそれらの混合物を含む。環式エーテルの例は、２−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサン、およびそれらの混合物を含む。ペルフルオロ化されたエーテルの例は、ペルフルオロ−Ｎ−メチルモルホリン、ペルフルオロテトラヒドロフラン、およびそれらの混合物を含む。

アルコールの例は、アルキルアルコール、グリコール類、グリセロール、およびそれらの混合物を含む。アルキルアルコールの例は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、２−メチル−２−プロパノール（ｔｅｒｔ−ブタノール）、シクロヘキサノール、およびそれらの混合物を含む。グリコール類の例は、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、およびそれらの混合物を含む。

ベンゼンおよびその誘導体の例は、ベンゼン、アルキルベンゼン、ハロベンゼン、ベンゾニトリル、フェノール、アニソール、ビフェニル、ニトロベンゼン、およびそれらの混合物を含む。アルキルベンゼンの例は、トルエン、エチルベンゼン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、メシチレン、ズレン、２−フェニルヘキサン、およびそれらの混合物を含む。ハロベンゼンの例は、フルオロベンゼン、クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，４−ジクロロベンゼン、およびそれらの混合物を含む。

アルキルハライドの例は、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロエタン、１，２−ジクロロエタン、およびそれらの混合物を含む。

アルキルニトリルの例は、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、メチルグルタロニトリル、アジポニトリル、およびそれらの混合物を含む。

アミドの例は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、およびそれらの混合物を含む。

スルホキシドの例は、ジメチルスルホキシドを含む。

スルホンの例は、スルホランを含む。

本開示内容の接触工程は、有機化合物をスクラブ洗浄するためのよく知られている化学工学手法を用いて実施することができ、当該手法は、連続操作、半連続操作、またはバッチ操作を含む。本発明のいくつかの実施形態において、Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物を含有するフルオロオレフィンは、攪拌機を取り付けた容器中で、任意選択的に適当な溶媒の存在下で、アミンと混合される。たとえば、Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物を含有するフルオロオレフィンは、容器中で、任意選択的に適当な溶媒の存在下で、フルオロオレフィンおよびアミンの液相を維持するのに適当な圧力の下で、アミンと混合される。接触容器内の内容物を攪拌して、フルオロオレフィンとアミンとの間の接触を提供してもよい。次いで、フルオロオレフィンを、相分離または蒸留により回収する。

本発明のいくつかの実施形態において、接触工程を、フルオロオレフィンおよびＲ_fＣ≡ＣＸ不純物の気相混合物を、液体のアミン（任意選択的に、適当な溶媒中の溶液）と接触させることにより実施することができる。たとえば、フルオロオレフィンおよびＲ_fＣ≡ＣＸ不純物を含む混合物を、攪拌される容器内のガスとして、液体のアミン（任意選択的に、適当な溶媒中の溶液）中にバブリングしてもよい。次いで、任意選択的に凝縮器を通して、フルオロオレフィンを接触容器から放出するままにする。当該凝縮器において、引き続く精製のためにフルオロオレフィンが収集される。

本発明のいくつかの実施形態において、接触工程は、ガラス、プラスチックまたはセラミック製の、ヘリックス、リング、サドルおよび他の形状に成形された材料を充填したカラム中で実施される。フルオロオレフィンおよびＲ_fＣ≡ＣＸ不純物を含む混合物は、蒸気としてカラムの底部から導入される。液体のアミン（任意選択的に、適当な溶媒中の溶液）は、カラムの頂部から導入される。アミンの導入は、たとえば、前記液体のアミン（任意選択的に、適当な溶媒中の溶液）の容器に連結されたポンプを用いて実施される。フルオロオレフィン中のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物は、カラム内のアミンによりスクラブ洗浄除去され、Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物の減少したフルオロオレフィン蒸気がカラム頂部を通って出て行き、そして収集される。アミンは、カラム底部を通って出て行き、容器へと戻る。

任意選択的に、接触工程プロセス中に相間移動触媒を用いて、フルオロオレフィンからのＲ_fＣ≡ＣＸ不純物を除去する効率を向上させることができる。

本発明のいくつかの実施形態において、接触工程中の温度は約０℃から約６０℃までである。本発明のいくつかの実施形態において、接触工程中の温度は約１０℃から約３０℃までである。典型的には、より反応性の低いアミンが、比較的高い温度を要求する。接触工程中の圧力は、決定的に重要ではなく、減圧（subatmospheric）、大気圧、または過圧（superatmospheric）であることができる。本発明のいくつかの実施形態において、接触工程は、過圧下で実施される。本発明のいくつかの実施形態において、接触工程は、大気圧下で実施される。フルオロオレフィンおよびＲ_fＣ≡ＣＸ不純物を含む混合物とアミンとの接触時間は、決定的に重要ではなく、典型的には約０．１秒から約１時間のオーダーであってもよい。本発明のいくつかの実施形態において、接触時間は、約０．１秒から約１０分までである。

接触工程中に、フルオロオレフィンおよびＲ_fＣ≡ＣＸ不純物の混合物は、接触容器内でアミンでスクラブ洗浄され、Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物が除去される。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物の濃度は、２００ｐｐｍ以下まで減少する。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物の濃度は、１００ｐｐｍ以下まで減少する。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物の濃度は、５０ｐｐｍ以下まで減少する。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物の濃度は、１０ｐｐｍ以下まで減少する。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物の濃度は、２ｐｐｍ以下まで減少する。

接触工程により得られる、減少した濃度のＲ_fＣ≡ＣＸ不純物を有するフルオロオレフィンは、凝縮、蒸留または相分離のような当該技術においてよく知られている技術を用いて回収することができる。本発明のいくつかの実施形態において、接触工程により得られるフルオロオレフィンは、アミンにより汚染されている可能性があり、水または弱酸溶液でスクラブ洗浄することにより精製することができる。得られるフルオロオレフィンを、モレキュラーシーブを用いて乾燥してもよく、蒸留によりさらに精製してもよい。本発明のいくつかの実施形態において、接触工程により得られるフルオロオレフィンを、分別蒸留により回収して、アミンおよび／または他の汚染物質から分離する。アミン蒸留物は、接触ステップでの使用のためにリサイクルされてもよい。

本発明のいくつかの実施形態において、回収されるフルオロオレフィンは、Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物を実質的に含まない。本発明のいくつかの実施形態において、回収されるＨＦＯ−１２３４ｙｆは、Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物を実質的に含まない。本発明のいくつかの実施形態において、回収されるＨＦＯ−１２３４ｚｅは、Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物を実質的に含まない。本発明のいくつかの実施形態において、回収されるＨＦＯ−１２４３ｚｆは、Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物を実質的に含まない。本発明のいくつかの実施形態において、回収されるＨＣＦＯ−１２３３ｘｆは、Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物を実質的に含まない。本発明のいくつかの実施形態において、回収されるＨＣＦＯ−１２３３ｚｄは、Ｒ_fＣ≡ＣＸ不純物を実質的に含まない。

また、本開示内容は、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦおよびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物を製造する方法を提供する。当該方法は：（ａ）ＣＦ₃ＣＦＣｌＣＨ₃、ＣＦ₃ＣＨＦＣＨ₂Ｃｌ、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｆ、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨＦＣｌ、ＣＦ₃ＣＨＣＨ₂Ｆ、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＦ₂Ｈ、ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＨ₃、およびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種の出発物質を脱ハロゲン化水素化して、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物および前記少なくとも１種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物を含む生成物混合物を製造する工程と；（ｂ）前記生成物混合物を少なくとも１種のアミンと接触させて、前記生成物混合物中の前記ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度を減少させる工程と；（ｃ）減少した濃度の前記ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を有する前記少なくとも１種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物を回収する工程とを含む。

また、本開示内容は、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ、およびそれらの混合物を含む少なくとも１種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物を製造する方法を提供する。当該方法は：（ａ）ＣＦ₃ＣＣｌ₂ＣＨ₃、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｃｌ、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｆ、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨＣｌ₂、ＣＦ₃ＣＨＦＣＨ₂Ｃｌ、ＣＦ₃ＣＦＣｌＣＨ₃、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨＦＣｌ、およびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種の出発物質を脱ハロゲン化水素化して、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物および前記少なくとも１種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物を含む生成物混合物を製造する工程と；（ｂ）前記生成物混合物を少なくとも１種のアミンと接触させて、前記生成物混合物中の前記ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度を減少させる工程と；（ｃ）減少した濃度の前記ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を有する前記少なくとも１種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物を回収する工程とを含む。

本発明のいくつかの実施形態において、脱ハロゲン化水素プロセスは、出発物を熱分解（熱的な脱ハロゲン化水素化）して、ヒドロテトラフルオロプロペン生成物またはヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物を生成することによって実施される。本明細書で用いられる際に、「熱分解する」または「熱分解」は、触媒の不存在下で加熱することによって得られる化学変化を意味する。触媒の不存在とは、熱分解反応器に対して、熱分解プロセスの活性化エネルギーを減少させて反応速度を増大させる、何らの材料も添加せず何らの処理も行わないことを意味する。

熱分解のために適当な反応器は、プロセスと調和する任意の形状を有してもよい。本発明のいくつかの実施形態において、反応器は、直線状または螺旋状のいずれであってもよい、円筒形の管である。管の外側から熱を印加して、管の内部で化学反応を起こす。熱分解反応器において注意すべき点は、反応器を通るガスの流れを部分的に妨害して、逆混合（すなわち、渦）を起こし、それによってガスの混合および良好な熱移動を促進することである。好都合なことには、この部分的妨害は、反応器の内部に充填物を配置すること、その断面をふさぐこと、または穴あき邪魔板を使用することによって達成することができる。反応器充填物は、微粒子状または繊維状であることができ、ラシッヒリングまたは大きな自由体積を有する他の充填物のような開放構造を有して、コークスの蓄積を回避し、圧力降下を最小限とし、および、概して自由なガス流動を可能にする。本発明のいくつかの実施形態において、反応器充填物は、挿入および取り出しの容易さのために、カートリッジ配置されてもよい。本発明のいくつかの実施形態において、熱分解反応器は実質的に空である。実質的に空であるとは、反応領域の自由体積が少なくとも約８０％、好ましくは少なくとも約９０％、および、より好ましくは少なくとも約９５％であることを意味する。自由体積は、反応領域の体積から、反応器充填物を構成する材料の堆積を減算したものである。本発明のいくつかの実施形態において、熱分解反応器は、腐食に対して抵抗性である材料で構成され、当該材料は、ステンレス鋼、ハステロイ（商標）、インコネル（商標）、モネル（商標）、金、または金で内張されたもの、あるいは石英を含む。

本開示内容の脱ハロゲン化水素プロセスは、出発材料および対応するフルオロオレフィン生成物に依存して、脱フッ化水素プロセスまたは脱塩化水素プロセスのいずれであってもよい。典型的には、脱フッ化水素反応の熱分解温度は、脱塩化水素反応の熱分解温度よりも高い。本発明のいくつかの実施形態において、脱フッ化水素熱分解は、約６００℃から約９００℃までの温度で実施される。本発明のいくつかの実施形態において、脱塩化水素熱分解は、約４００℃から約７００℃までの温度で実施される。熱分解プロセスは、米国特許第７８３３４３４号明細書、米国特許出願公開第２０１０−０１０５９６７号明細書、および米国特許出願公開第２０１０−０１０５９６７号にも開示されている（特許文献１および２参照）。

本発明のいくつかの実施形態において、脱ハロゲン化水素プロセスを、触媒の存在下で実施する。脱ハロゲン化水素化の適当な触媒は、アルミナ、フッ素化されたアルミナ、フッ化アルミニウム、塩化フッ化アルミニウム；アルミナ、フッ素化されたアルミナ、フッ化アルミニウム、または塩化フッ化アルミニウムに担持された金属化合物；酸化クロム（Ｃｒ₂Ｏ₃）、フッ素化された酸化クロム、および立方晶三フッ化クロムマグネシウム、亜鉛、およびマグネシウムと亜鉛との混合物および／またはアルミニウムの、酸化物、フッ化物、および酸フッ化物（oxyfluorides）；酸化ランタンおよびフッ素化された酸化ランタン；カーボン、およびカーボンに担持された金属化合物を含む。金属化合物は、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、クロム、鉄、コバルト、ロジウム、ニッケル、銅、亜鉛およびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種の金属の酸化物、フッ化物および酸フッ化物である。本発明のいくつかの実施形態において、脱ハロゲン化水素化触媒は、カーボン、アルミナ、フッ素化されたアルミナ、およびそれらの混合物からなる群から選択される。本発明のいくつかの実施形態において、カーボンは、酸洗浄カーボン、活性炭、および三次元マトリクス状炭素質材料を含む。本発明のいくつかの実施形態において、脱ハロゲン化水素化触媒は、酸化クロムに担持されたアルカリ金属塩を含む。触媒的脱ハロゲン化水素プロセスは、米国特許第７９４３０１５号明細書、米国特許第７８９７８２３号明細書、および米国特許第７９８５８８４号明細書にも開示されている（特許文献３〜５参照）。

本発明のいくつかの実施形態において、脱ハロゲン化水素プロセスは、出発物質を塩基性水溶液と反応させて、ヒドロテトラフルオロプロペン生成物またはヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物を生成させることにより実施される。本明細書で用いられる際に、塩基性水溶液は、７以上のｐＨを有し、主として水性液体からなる液体であり、液体は、溶液、分散液、乳化液、懸濁液などであってもよい。本発明のいくつかの実施形態において、塩基性水溶液は、８以上のｐＨを有する。本発明のいくつかの実施形態において、塩基性水溶液は、１０以上のｐＨを有する。典型的には、脱フッ化水素プロセスは、脱塩化水素プロセスよりも高いｐＨの溶液を必要とする。

本発明のいくつかの実施形態において、無機塩基を用いて、塩基性水溶液を形成してもよい。そのような無機塩基は、アルカリ金属、アルカリ土類金属およびそれらの混合物の、水酸化物、酸化物、炭酸塩、およびリン酸塩からなる群から選択することができる。いくつかの実施形態において、そのような無機塩基は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、またはそれらの混合物である。本発明のいくつかの実施形態において、塩基性水溶液は、式ＮＲ’₄ＯＨ（式中、Ｒ’は、独立的に、水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₆アルキル基、アラルキル基または置換アルキル基であり、ただし、全てのＲ’が水素ではない）を有する水酸化第４級アンモニウムの水溶液である。ＮＲ’₄ＯＨ化合物の例は、水酸化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、水酸化テトラ−ｎ−プロピルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、水酸化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、コリンヒドロキシド、およびそれらの混合物を含む。

任意選択的に、出発物質を、有機溶媒の存在下、塩基性水溶液と反応させる。本発明のいくつかの実施形態において、有機溶媒は、ベンゼンおよびその誘導体、アルコール、アルキルハライド、アルキルニトリル、エーテル、アミド、ケトン、スルホキシド、ホスフェートエステル、およびそれらの混合物からなる群から選択される。

任意選択的に、出発物質を、相間移動触媒の存在下、塩基性水溶液と反応させる。本発明で用いられる相間移動触媒は、水相から有機相へのイオン性化合物の移動を容易にし、水溶性反応成分と水不溶性反応成分との反応を容易にすることができる。

塩基性水溶液を用いる脱ハロゲン化水素化は、国際公開第２０１０／１２９８４４号公報にも開示されている（特許文献６参照）。

本発明のいくつかの実施形態において、脱ハロゲン化水素化工程において、ＣＦ₃ＣＦＣｌＣＨ₃（ＨＣＦＣ−２４４ｂｂ）、ＣＦ₃ＣＨＦＣＨ₂Ｃｌ（ＨＣＦＣ−２４４ｅｂ）、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｆ（ＨＣＦＣ−２４４ｄｂ）、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨＦＣｌ（ＨＣＦＣ−２４４ｆａ）、ＣＦ₃ＣＨＦＣＨ₂Ｆ（ＨＦＣ−２４５ｅｂ）、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＦ₂Ｈ（ＨＦＣ−２４５ｆａ）、およびＣＦ₃ＣＦ₂ＣＨ₃（ＨＦＣ−２４５ｃｂ）からなる群から選択される出発物質を脱ハロゲン化水素化して、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂生成物またはＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ生成物のいずれかを形成する。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種の出発物質は、ＣＦ₃ＣＦＣｌＣＨ₃、ＣＦ₃ＣＨＦＣＨ₂Ｃｌ、ＣＦ₃ＣＨＦＣＨ₂Ｆ、ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＨ₃、およびそれらの混合物からなる群から選択され、少なくとも１つのヒドロテトラフルオロプロペン生成物はＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂である。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種の出発物質は、ＣＦ₃ＣＦＣｌＣＨ₃であり、少なくとも１種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物はＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂である（すなわち、出発物質ＣＦ₃ＣＦＣｌＣＨ₃は、脱塩化水素化され、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂生成物およびＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を含む生成物混合物を生成する）。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種の出発物質は、ＣＦ₃ＣＨＦＣＨ₂Ｆであり、少なくとも１種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物はＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂である（すなわち、出発物質ＣＦ₃ＣＨＦＣＨ₂Ｆは、脱フッ化水素化され、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂生成物およびＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を含む生成物混合物を生成する）。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種の出発物質は、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨＦＣｌ、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｆ、およびそれらの混合物から選択され、少なくとも１種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物はＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦである。

本発明のいくつかの実施形態において、脱ハロゲン化水素工程において、ＣＦ₃ＣＣｌ₂ＣＨ₃（ＨＣＦＣ−２４３ａｂ）、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｃｌ（ＨＣＦＣ−２４３ｄｂ）、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｆ（ＨＣＦＣ−２４４ｄｂ）、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨＣｌ₂（ＨＣＦＣ−２４３ｆａ）、ＣＦ₃ＣＨＦＣＨ₂Ｃｌ（ＨＣＦＣ−２４４ｅｂ）、ＣＦ₃ＣＦＣｌＣＨ₃（ＨＣＦＣ−２４４ｂｂ）およびＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨＦＣｌ（ＨＣＦＣ−２４４ｆａ）からなる群から選択される出発物質を脱ハロゲン化水素化して、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂生成物またはＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ生成物のいずれかを形成する。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種の出発物質は、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｃｌ、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨＣｌ₂、およびそれらの混合物からなる群から選択され、少なくとも１種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物はＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌである（すなわち、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｃｌ、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨＣｌ₂、およびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種の出発物質は、脱塩化水素化され、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ生成物およびＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を含む生成物混合物を生成する）。本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも１種の出発物質は、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｃｌ、ＣＦ₃ＣＣｌ₂ＣＨ₃、およびそれらの混合物からなる群から選択され、少なくとも１種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物はＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂である（すなわち、ＣＦ₃ＣＨＣｌＣＨ₂Ｃｌ、ＣＦ₃ＣＣｌ₂ＣＨ₃、およびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種の出発物質は、脱塩化水素化され、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂生成物およびＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を含む生成物混合物を生成する）。

脱ハロゲン化水素化工程において、副生成物ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨも同時に発生する。接触工程において、本開示内容中に記載される接触工程プロセスを用いて、ヒドロテトラフルオロプロペン生成物またはヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物とＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物との生成物混合物を、アミンでスクラブ洗浄する。本発明のいくつかの実施形態において、ヒドロテトラフルオロプロペン生成物またはヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物からＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を除去するために接触工程（ｂ）において用いられる少なくとも１種のアミンは、式Ｒ₃Ｎ（式中、それぞれのＲは、独立的に、水素、アルキル基、ヘテロアルキル基、アリール基、またはアラルキル基である）を有するアミン、ヘテロ環式アミン、ヒドラジンおよびその誘導体、およびそれらの混合物からなる群から選択される。本発明のいくつかの実施形態において、接触工程（ｂ）において用いられる少なくとも１種のアミンは、式Ｒ₃Ｎ（式中、それぞれのＲは、独立的に、水素、アルキル基、ヘテロアルキル基、またはアラルキル基である）を有するアミン、ヘテロ環式アミン、およびそれらの混合物からなる群から選択される。

本発明のいくつかの実施形態において、ヒドロテトラフルオロプロペン生成物またはヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度は、接触工程（ｂ）において２００ｐｐｍ以下に減少する。本発明のいくつかの実施形態において、ヒドロテトラフルオロプロペン生成物またはヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度は、接触工程（ｂ）において１００ｐｐｍ以下に減少する。本発明のいくつかの実施形態において、ヒドロテトラフルオロプロペン生成物またはヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度は、接触工程（ｂ）において５０ｐｐｍ以下に減少する。本発明のいくつかの実施形態において、ヒドロテトラフルオロプロペン生成物またはヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度は、接触工程（ｂ）において１０ｐｐｍ以下に減少する。本発明のいくつかの実施形態において、ヒドロテトラフルオロプロペン生成物またはヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度は、接触工程（ｂ）において２ｐｐｍ以下に減少する。

本発明のいくつかの実施形態において、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物およびＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂生成物を含む生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物は、接触工程（ｂ）中に２００ｐｐｍ以下に減少する。本発明のいくつかの実施形態において、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物およびＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂生成物を含む生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物は、接触工程（ｂ）中に１００ｐｐｍ以下に減少する。本発明のいくつかの実施形態において、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物およびＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂生成物を含む生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物は、接触工程（ｂ）中に５０ｐｐｍ以下に減少する。本発明のいくつかの実施形態において、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物およびＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂生成物を含む生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物は、接触工程（ｂ）中に１０ｐｐｍ以下に減少する。本発明のいくつかの実施形態において、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物およびＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂生成物を含む生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物は、接触工程（ｂ）中に２ｐｐｍ以下に減少する。

本発明のいくつかの実施形態において、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物およびＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ生成物を含む生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物は、接触工程（ｂ）中に２００ｐｐｍ以下に減少する。本発明のいくつかの実施形態において、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物およびＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ生成物を含む生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物は、接触工程（ｂ）中に１００ｐｐｍ以下に減少する。本発明のいくつかの実施形態において、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物およびＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ生成物を含む生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物は、接触工程（ｂ）中に５０ｐｐｍ以下に減少する。本発明のいくつかの実施形態において、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物およびＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ生成物を含む生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物は、接触工程（ｂ）中に１０ｐｐｍ以下に減少する。本発明のいくつかの実施形態において、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物およびＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ生成物を含む生成物混合物中のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物は、接触工程（ｂ）中に２ｐｐｍ以下に減少する。

接触工程（ｂ）により得られるヒドロテトラフルオロプロペン生成物またはヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物は、本開示内容中に記載される回収工程を用いて回収することができる。本発明のいくつかの実施形態において、ヒドロテトラフルオロプロペン生成物またはヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物の種々の共沸組成物または共沸様組成物（すなわち、ほぼ共沸性）を、これら生成物を回収するための方法において用いてもよい。たとえば、接触工程（ｂ）により得られるＨＦＯ−１２３４ｙｆ生成物混合物に対してＨＦを添加することができ、ＨＦＯ−１２３４ｙｆの分離は、ＨＦＯ−１２３４ｙｆおよびＨＦの共沸混合物またはほぼ共沸性の混合物の単離と、米国特許第７８９７８２３号明細書に開示されているものと同様の手順を用いる、ＨＦを含まないＨＦＯ−１２３４ｙｆを生成するためのさらなる処理とを含む（特許文献４参照）。ＨＦＯ−１２３４ｙｆおよびＨＦの共沸組成物またはほぼ共沸性の組成物は、米国特許第７４７６７７１号明細書に開示されている（特許文献７参照）。別の例では、接触工程（ｂ）により得られるＨＦＯ−１２３４ｚｅ生成物混合物に対してＨＦを添加することができ、ＨＦＯ−１２３４ｚｅの分離は、ＨＦＯ−１２３４ｚｅおよびＨＦの共沸混合物またはほぼ共沸性の混合物の単離と、米国特許第７８９７８２３号明細書に開示されているものと同様の手順を用いる、ＨＦを含まないＨＦＯ−１２３４ｚｅを生成するためのさらなる処理とを含む（特許文献７参照）。米国特許第７４２３１８８号明細書は、ＨＦＯ−１２３４ｚｅのＥ−異性体とＨＦとの共沸組成物またはほぼ共沸性の組成物を開示している（特許文献８参照）。米国特許出願公開第２０１０−０２００７９８号明細書は、ＨＦＯ−１２３４ｚｅのＺ−異性体とＨＦとの共沸組成物またはほぼ共沸性の組成物を開示している（特許文献９参照）。別の例では、接触工程（ｂ）により得られるＨＣＦＯ−１２３３ｘｆ生成物混合物に対してＨＦを添加することができ、ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆの分離は、ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆおよびＨＦの共沸混合物またはほぼ共沸性の混合物の単離と、米国特許第７８９７８２３号明細書に開示されているものと同様の手順を用いる、ＨＦを含まないＨＣＦＯ−１２３３ｘｆを生成するためのさらなる処理とを含む（特許文献７参照）。ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆとＨＦとの共沸組成物は、米国特許出願公開第２０１０−００７２４１５号明細書に開示されている（特許文献１０参照）。別の例では、接触工程（ｂ）により得られるＨＣＦＯ−１２３３ｚｄ生成物混合物に対してＨＦを添加することができ、ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄの分離は、ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄおよびＨＦの共沸混合物またはほぼ共沸性の混合物の単離と、米国特許第７８９７８２３号明細書に開示されているものと同様の手順を用いる、ＨＦを含まないＨＣＦＯ−１２３３ｚｄを生成するためのさらなる処理とを含む（特許文献７参照）。ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄとＨＦとのいくつかの共沸組成物は、米国特許第６０１３８４６号明細書に開示されている（特許文献１１参照）。

本発明のいくつかの実施形態において、回収されたヒドロテトラフルオロプロペン生成物またはヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を実質的に含まない。本発明のいくつかの実施形態において、回収されたＨＦＯ−１２３４ｙｆ生成物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を実質的に含まない。本発明のいくつかの実施形態において、回収されたＨＦＯ−１２３４ｚｅ生成物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を実質的に含まない。

接触容器、反応器、蒸留カラム、およびそれらに付随する供給ライン、廃液ライン、ならびに、本発明のプロセスに適用することにおいて用いられる付随ユニットは、腐食に抵抗性である材料で構成されるべきである。典型的な構成材料は、ステンレス鋼（特にオーステナイト型）、モネル（商標）、ニッケル−銅合金、ハステロイ（商標）ニッケル基合金、インコネル（商標）ニッケル−クロム合金のようなよく知られている高ニッケル合金、および銅で被覆された鋼を含む。

ＮｂＣｌ₅を有するもの、ＭｏＣｌ₆のフッ素化された種、ＦｅＣｌ₃のフッ素化された種、またはそれらの組み合わせ。アンチモンペンタクロリドが最も好ましい。

これらの触媒が失活した際には、これらの触媒は、当該技術において知られている任意の手段によって容易に再生することができる。触媒を再生する１つの適当な方法は、触媒を通して塩素流を流すことを含む。たとえば、液相フッ素化触媒１ポンド（約０．４５ｋｇ）当たり、約０．００２ポンド毎時（約０．９１ｇ／ｈ）から約０．２ポンド毎時（約９１ｇ／ｈ）の塩素を液相反応に添加することができる。たとえば、この操作を、約６５℃から約１００℃までの温度において、約１時間から約２時間にわたって、あるいは連続的に実施してもよい。

反応の第２の工程は、必ずしも液相反応に限定されるものではなく、気相反応、または米国特許出願公開第２００７−０１９７８４２号明細書（参照により本明細書の一部をなすものとする）に開示されているもののように液相および気相の組み合わせを用いて実施してもよい（特許文献１２参照）。この目的に対して、ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆを含有する供給流を、約５０℃から約４００℃の温度に予備加熱し、そして触媒およびフッ素化剤と接触させてもよい。触媒は、そのような反応に用いられる標準的気相剤を含み、フッ素化剤は、フッ化水素のような当該技術において知られているものを含んでもよいが、それらに限定されるものではない。

ＨＦＯ−１２３４ｙｆ製造の第３工程において、ＨＣＦＣ−２４４ｂｂを第２気相反応器（脱塩化水素化反応器）に供給して、脱塩化水素化して、所望される生成物である２，３，３，３−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）を製造する。この反応器は、非触媒的であることができ、あるいは、ＨＣＦＣ−２４４ｂｂを触媒的に脱塩化水素化してＨＦＯ−１２３４ｙｆを製造する触媒を含有することもできる。

存在する場合、触媒は、金属ハロゲン化物、ハロゲン化金属酸化物、中性（すなわち、酸化状態０）の金属または金属合金、あるいは、バルク形態または担持された形態の活性炭であってもよい。金属ハロゲン化物または金属酸化物触媒は、１価、２価および３価の金属のハロゲン化物、酸化物、およびそれらの混合物／組み合わせを含んでもよいが、それらに限定されるものではない。より好ましくは、金属ハロゲン化物または金属酸化物触媒は、１価、および２価の金属のハロゲン化物、酸化物、およびそれらの混合物／組み合わせを含んでもよい。成分の金属は、Ｃｒ³⁺、Ｆｅ³⁺、Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｎｉ²⁺、Ｚｎ²⁺、Ｐｄ²⁺、Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺、Ｋ⁺およびＣｓ⁺を含むが、それらに限定されるものではない。成分のハロゲン化物は、Ｆ^-、Ｃｌ^-、Ｂｒ^-およびＩ^-を含むが、それらに限定されるものではない。有用な１価または２価の金属のハロゲン化物は、ＬｉＦ、ＮａＦ、ＫＦ、ＣｓＦ、ＭｇＦ₂、ＣａＦ₂、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＫＣｌおよびＣｓＣｌを含むが、それらに限定されるものではない。ハロゲン化処理は、当該技術において知られている処理の任意のもの、特に、ハロゲン化源としてＨＦ、Ｆ₂、ＨＣｌ、Ｃｌ₂、ＨＢｒ、Ｂｒ₂、ＨＩおよびＩ₂を用いる処理を含むことができる。

中性（すなわち０価）の金属、金属合金およびそれらの混合物が用いられるとき。有用な金属は、Ｐｄ、Ｐｒ、Ｒｈ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｍｎ、ならびに合金または混合物としての前述の元素の組み合わせを含むが、それらに限定されるものではない。触媒は、担持されていても、担持されていなくてもよい。金属合金の有用な例は、ＳＳ３１６、モネル４００、インコロイ８２５、アロイ２０、ハステロイ、インコネル６００およびインコネル６２５を含むが、それらに限定されるものではない。

本発明の１つの態様において、本工程において、触媒は、活性炭、ステンレス鋼（たとえば、ＳＳ３１６）、オーステナイト型ニッケル基合金（たとえば、インコネル６２５）ニッケル、および特定の実施形態においてはフッ素化された１０％ＣｓＣｌ／ＭｇＯを含む。適当な反応温度は、約３００〜５００℃であり、適当な反応圧力は約０〜１５０ｐｓｉｇの間であってもよい。反応器廃液を、苛性スクラバーまたは蒸留カラムに供給して、副生成物のＨＣｌを除去し、酸を含有しないものを製造してもよい。

（本発明の使用の例）
従来の技術において知られている技術を用いる最終生成物（すなわち、ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）からのＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物のようなアルキン不純物の除去は、余分の費用ならびに同様に起こりえる収率低下をもたらすであろう。たとえば、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度を５０〜１００ｐｐｍから５〜１２ｐｐｍに低下させるために蒸留を用いると、ほぼ１０％のＨＦＯ−１２３４ｙｆの損失をもたらした。しかしながら、本発明は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨのようなＨＣＦＯ−アルキン不純物を反応器供給物から除去し、ＨＦＯ−１２３４ｙｆ転化プロセスの全収率を向上させる方法を提供する。

本発明の１つの態様は、３，３，３−トリフルオロプロピンを実質的に含まないＨＦＯ−１２３４ｙｆの調製であり、以下の工程：
（ｉ） 式Ｉ、IIまたはIII
ＣＸ₂＝ＣＣｌ−ＣＨ₂Ｘ （Ｉ）；
ＣＸ₃−ＣＣｌ＝ＣＨ₂ （II）；
ＣＸ₃−ＣＨＣｌ−ＣＨ₂Ｘ （III）；
（式中、Ｘは、少なくとも１つのＸがフッ素ではないことを条件として、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩから独立的に選択される）
の化合物を含む出発組成物を提供する工程と；
（ii）出発組成物を第１のフッ素化剤と接触させて、２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンを含む第１の中間体組成物および第１の塩素含有副生成物を製造する工程と；
（iii）第１の中間体組成物を第２のフッ素化剤と接触させて、２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロペンおよび２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンを含む第２の中間体生成物を製造する工程と；
（iv）２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロペンおよび２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンを含む第２の中間体組成物の少なくとも一部を脱塩化水素化して、２，３，３，３−テトラフルオロプロペンおよびＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を含む反応生成物を製造する工程と；
（ｖ）工程ivの反応生成物を、少なくとも１種のアミンと接触させる工程と；
（vi）工程（ｖ）で製造され、減少した濃度のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を有する２，３，３，３−テトラフルオロプロペンを回収する工程と
を含む。

特定の態様において、ＨＦＯ−１２３４ｙｆの調製は、一般的に、以下の少なくとも３つの反応工程を含む。
（１） 固体触媒を充填された気相反応器中での（ＣＸ₂＝ＣＣｌ−ＣＨ₂ＸまたはＣＸ₃−ＣＣｌ＝ＣＨ₂またはＣＸ₃−ＣＨＣｌ−ＣＨ₂Ｘ）＋ＨＦ→２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆ）＋ＨＣｌ；
（２） 液体ヒドロフッ素化触媒を充填された液相反応器中での２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆ）＋ＨＦ→２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロペン（ＨＣＦＣ−２４４ｂｂ）；
（３） 気相反応器中での２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロペン（ＨＣＦＣ−２４４ｂｂ）→２，３，３，３−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）。
式中、少なくとも１つのＸがフッ素でないことを条件として、Ｘは、独立的に、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩから選択される。

一般的に、第１反応工程の出発物質は、式Ｉ、式IIおよび／または式IIIに従う、１つまたは複数の塩素化された化合物で表われてもよい。
ＣＸ₂＝ＣＣｌ−ＣＨ₂Ｘ （式Ｉ）
ＣＸ₃−ＣＣｌ＝ＣＨ₂ （式II）
ＣＸ₃−ＣＨＣｌ−ＣＨ₂Ｘ （式III）
式中、少なくとも１つのＸがフッ素でないことを条件として、Ｘは、独立的に、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩから選択される。特定の実施形態において、これらの化合物は少なくとも１つの塩素を含み、Ｘの過半数が塩素であり、あるいは、全てのＸが塩素である。

第１の工程において、第１気相反応器（フッ素化反応器）中で、前述の出発物質（特定の実施形態において、１，１，２，３−テトラクロロプロペン（１２３０ｘａ）および／または１，１，１，２，３−ペンタクロロプロパン（ＨＣＣ−２４０ｄｂ）を含む）を、無水ＨＦと反応させ、少なくともＨＣＦＯ−１２３３ｘｆ（２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン）とＨＣｌとの混合物を生成させる。この反応は、約２００〜４００℃の温度、および約０〜２００ｐｓｉｇ（約０．１０〜１．４８ＭＰａ）の圧力で実施することができる。気相反応器を出る排出流は、任意選択的に、未反応のＨＦ、重い中間体、ＨＣＦＣ−２４４ｂｂ、ＨＦＣ−２４５ｃｂ（１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロペン）のような追加の成分を含んでもよい。

この反応は、気相フッ素化反応に適当な任意の反応器中で実施してもよい。反応器は、ハステロイ、インコネル、モネルのようなフッ化水素および触媒の腐食効果に抵抗性である材料で構築されてもよい。気相プロセスの場合、気相フッ素化触媒を反応器に充填する。当該技術において知られている任意のフッ素化触媒をこのプロセスに用いることができる。適当な触媒は、クロム、アルミニウム、コバルト、マンガン、ニッケルおよび鉄の、酸化物、水酸化物、オキシハロゲン化物、それらの無機塩、およびそれらの混合物を含むが、それらに限定されるものではない。また、前述のいずれの材料も、任意選択的にハロゲン化されていてもよい。本発明に適当な触媒は、非排他的に、Ｃｒ₂Ｏ₃、ＦｅＣｌ₃／Ｃ、Ｃｒ₂Ｏ₃／Ａｌ₂Ｏ₃、Ｃｒ₂Ｏ₃／ＡｌＦ₃、Ｃｒ₂Ｏ₃／カーボン、ＣｏＣｌ₂／Ｃｒ₂Ｏ₃／Ａｌ₂Ｏ₃、ＮｉＣｌ₂／Ｃｒ₂Ｏ₃／Ａｌ₂Ｏ₃、ＣｏＣｌ₂／ＡｌＦ₃、ＮｉＣｌ₂／ＡｌＦ₃、およびそれらの混合物を含む。酸化クロム／酸化アルミニウム触媒は、米国特許第５１５５０８２号明細書に記載され、その内容は参照により本明細書の一部をなすものとする（特許文献１３参照）。結晶性酸化クロムまたは非晶質酸化クロムのようなクロム（III）酸化物は、適当な触媒であり、１つの実施形態において、この工程に用いられる触媒は、非晶質酸化クロムである。酸化クロム（Ｃｒ₂Ｏ₃）は、種々の粒子寸法で購入することができる、商業的に入手可能な材料である。少なくとも９８％の純度を有するフッ素化触媒が好ましい。フッ素化触媒は、過剰であるが、少なくとも反応を進行させるのに充分な量で存在する。

本発明の第１工程は、前述のような気相反応に必ずしも限定されず、液相反応、または、参照により本明細書の一部をなすものとする米国特許出願公開第２００７−０１９７８４２号明細書に開示されているものののような気相および液相の組み合わせを用いて実施してもよい（特許文献１２参照）。また、反応をバッチ式、連続的またはこれらの組み合わせで実施できることも考慮される。反応が液相反応を含む実施形態に関して、反応は、触媒的であっても、非触媒的であってもよい。アンチモンハロゲン化物、スズハロゲン化物、タリウムハロゲン化物、鉄ハロゲン化物、およびこれらの２種以上の組み合わせを含む金属ハロゲン化物触媒のような、ルイス酸触媒を用いてもよい。特定の実施形態において、金属塩化物および金属フッ化物が用いられる。金属塩化物および金属フッ化物は、ＳｂＣｌ₅、ＳｂＣｌ₃、ＳｂＦ₅、ＳｎＣｌ₄、ＴｉＣｌ₄、ＦｅＣｌ₃およびこれらの２種以上の組み合わせを含むが、それらに限定されるものではない、

任意選択的に、反応器からの流出物を処理して、所望される程度の分離、および／または他の処理を実施してもよい。非限定的な例として、生成物流出物は、ＨＣｌのような１種または複数種の不純物、非転化の反応剤、および／または他の副生成物を含有する可能性がある。これらの生成物を、既知または本明細書中で別途議論されている標準的方法を用いて除去してもよい。たとえば、ＨＣｌは、以下でより詳細に議論されるように、慣用の蒸留により、または水もしくは苛性スクラバーを用いて回収することができ、未反応の出発剤を単離およびリサイクルしてもよい。

２，３，３，３−テトラフルオロプロペンを形成する方法の第２の工程において、ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆをＨＣＦＣ−２４４ｂｂに転化する。１つの実施形態において、この工程は、ＰＴＦＥまたはＰＦＡで内張りされていてもよい液相反応器中で、液相中で実施してもよい。そのようなプロセスを、約７０〜１２０℃の温度範囲および約５０〜１２０ｐｓｉｇ（約０．４４〜０．９３ＭＰａ）で実施してもよい。

本発明において、任意の液相フッ素化触媒を用いてもよい。非網羅的なリストは、ルイス酸、遷移金属ハロゲン化物、遷移金属酸化物、第ＩＶｂ族金属ハロゲン化物、第Ｖｂ族金属ハロゲン化物、またはそれらの組み合わせを含む。液相フッ素化触媒の非排他的な例は、アンチモンハロゲン化物、スズハロゲン化物、タンタルハロゲン化物、チタンハロゲン化物、ニオブハロゲン化物、モリブデンハロゲン化物、鉄ハロゲン化物、フッ素化されたクロムハロゲン化物、フッ素化されたクロム酸化物、またはそれらの組み合わせを含む。液相フッ素化触媒の具体的な非排他的な例はＳｂＣｌ₅、ＳｂＣｌ₃、ＳｂＦ₅、ＳｎＣｌ₄、ＴａＣｌ₅、ＴｉＣｌ₄、ＮｂＣｌ₅、ＭｏＣｌ₆、ＦｅＣｌ₃、ＳｂＣｌ₅のフッ素化された種、ＳｂＣｌ₃のフッ素化された種、ＳｎＣｌ₄のフッ素化された種、ＴａＣｌ₅のフッ素化された種、ＴｉＣｌ₄のフッ素化された種、ＮｂＣｌ₅のフッ素化された種、ＭｏＣｌ₆のフッ素化された種、ＦｅＣｌ₃のフッ素化された種、またはそれらの組み合わせを含む。アンチモンペンタクロリドが最も好ましい。

これらの触媒が失活した場合、当該技術において知られている任意の方法により、これらの触媒を容易に再生することができる。触媒を再生する１つの適当な方法は、触媒を通して塩素流を流すことである。たとえば、液相フッ素化触媒１ポンド（約０．４５ｋｇ）当たりで、約０．００２〜約０．２ポンド毎時（約０．９１〜９１ｇ毎時）の塩素を液相反応に添加してもよい。たとえば、これを約１〜約２時間にわたって実施してもよいし、約６５℃〜約１００℃の温度で連続的に実施してもよい。

この反応の第２工程は、液相反応に必ずしも限定されず、気相反応、または、参照により本明細書の一部をなすものとする米国特許出願公開第２００７−０１９７８４２号明細書に開示されているものののような液相および気相の組み合わせで実施してもよい（特許文献１２参照）。この目的に対して、ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆを含有する供給流を、約５０℃〜約４００℃の温度に予備加熱し、触媒およびフッ素化剤と接触させる。触媒は、そのような反応に用いられる標準的気相剤を含んでもよい。フッ素化剤は、フッ化水素のような、当該技術において知られているものを含んでもよいが、それらに限定されるものではない。

ＨＦＯ−１２３４ｙｆ調製の第３工程において、ＨＣＦＣ−２４４ｂｂを第２の気相反応器（脱塩化水素化反応器）に供給して、脱塩化水素化し、所望される生成物である２，３，３，３−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）を製造する。このプロセスは、本明細書に記載のように実施される。たとえば、１つの実施形態において、この反応は、非触媒的であっても、ＨＣＦＣ−２４４ｂｂを触媒的に脱塩化水素化してＨＦＯ−１２３４ｙｆを製造できる触媒を含有してもよい。

存在する場合、触媒は、金属ハロゲン化物、ハロゲン化された金属酸化物、中性（すなわち、０価酸化状態）の金属または金属合金、あるいは、バルク形態または担持された形態の活性炭であってもよい。金属ハロゲン化物および金属酸化物触媒は、１価、２価、および３価の金属のハロゲン化物、酸化物およびそれらの混合物／組み合わせ、より好ましくは、１価または２価の金属のハロゲン化物、およびそれらの混合物／組み合わせを含むが、それらに限定されるものではない。構成元素となる金属は、Ｃｒ³⁺、Ｆｅ³⁺、Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｎｉ²⁺、Ｚｎ²⁺、Ｐｄ²⁺、Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃｓ⁺を含むが、それらに限定されるものではない。構成元素となるハロゲンは、Ｆ^-、Ｃｌ^-、Ｂｒ^-、よびＩ^-を含むが、それらに限定されるものではない。有用な１価金属または２価金属のハロゲン化物は、ＬｉＦ、ＮａＦ、ＫＦ、ＣｓＦ、ＭｇＦ₂、ＣａＦ₂、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＫＣｌおよびＣｓＣｌを含むが、それらに限定されるものではない。ハロゲン化処理は、当該技術において知られている任意のもの、特に、ハロゲン化源としてＨＦ、Ｆ₂、ＨＣｌ、Ｃｌ₂、ＨＢｒ、Ｂｒ₂、ＨＩおよびＩ₂を用いるものを含むことができる。

中性、すなわち０価の金属、金属合金、およびそれらの混合物を用いるとき。有用な金属は、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｍｎ、ならびに、合金または混合物である前述の元素の組み合わせを含むが、それらに限定されるものではない。触媒は、担持されていても、担持されていなくてもよい。金属合金の有効な例は、ＳＳ３１６、モネル４００、インコネル８２５、アロイ２０、ハステロイ、インコネル６００、およびインコネル６２５を含むが、それらに限定されるものではない。

本発明の１つの態様において、触媒は、活性炭、ステンレス鋼（たとえば、ＳＳ３１６）オーステナイト系ニッケル基合金（たとえば、インコネル６２５）、ニッケルを含む。特定の実施系において、触媒は、フッ素化された１０％ ＣｓＣｌ／ＭｇＯを含む。適当な反応温度は約３００〜５５０℃であり、適当な反応圧力は約０〜１２０ｐｓｉｇ（約０．１０〜０．９３ＭＰａ）であってもよい。反応器流出物を苛性スクラバーまたは蒸留カラムに供給して、副生成物であるＨＣｌを除去して、酸不含有の有機生成物を生成する。ここで、任意選択的に、酸不含有の有機生成物を、当該技術において知られている精製技術の１つまたは任意の組み合わせを用いるさらなる精製にかけてもよい。

反応は、約２００℃〜約８００℃、約３００℃〜約６００℃、または約４００℃〜５００℃の温度範囲で実施してもよい。適当な反応器圧力は、約０〜約２００ｐｓｉｇ（約０．１０〜１．４９ＭＰａ）、約１０〜約１００ｐｓｉｇ（約０．１７〜０．７９ＭＰａ）、または約２０〜約７０ｐｓｉｇ（約０．２４〜０．５８ＭＰａ）の範囲で変動する。

一般的に、脱塩化水素化反応器からの流出物を処理して、所望される程度の分離、および／または他の処理を実施してもよい。流出物は、生成されるＨＦＯ−１２３４ｙｆに加えて、ＨＣｌ、非転化のＨＣＦＣ−２４４ｂｂ、およびＨＣＦＯ−１２３３ｘｆ（主として、ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆのフッ化水素化より前の工程から引き継がれる）を一般的に含有する。任意選択的に、次いで、脱塩化水素化反応の生成物からＨＣｌを回収する。ＨＣｌの回収は慣用的な蒸留により実施され、ＨＣｌが流出物として除去される。あるいはまた、水スクラバーまたは苛性スクラバーを用いて、ＨＣｌを回収または除去することができる。水抽出機を用いる場合、ＨＣｌは水溶液として除去される。苛性溶液を用いる場合、ＨＣｌは、水溶液中の塩化物塩として系から除去される。ＨＣｌの回収または除去後に、有機流を、分離のための蒸留カラムへと送る。カラムのオーバーヘッドから収集されるＨＦＯ−１２３４ｙｆを、さらなる生成のための別のカラムに送ってもよく、同時に、ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆおよびＨＣＦＣ−２４４ｂｂの混合物の画分を、ＨＣＦＣ−２４４ｂｂのリサイクルのために、脱塩化水素化反応器へ送り戻してもよく、当該混合物のその余を、ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆのリサイクルのために、ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆフッ化水素化に送り戻してもよい。

本発明によれば、このように生成されたＨＦＯ−１２３４を、少なくとも１種のアミンと接触させ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物のようなアルキン不純物を除去する。１つの実施形態において、ＨＦＯ−１２３４からのＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物のようなアルキン不純物の除去の前に、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物のような存在するアルキン不純物の濃度を、ガスクロマトグラフィーのような当該技術において知られている技術を用いて、測定してもよい。さらに、アミンの添加後に存在する不純物の量を、同様に、ガスクロマトグラフィーのような一般的技術を用いて測定することもできる。

以上、多数の態様および実施形態を説明してきた。それらは例示的なものに過ぎず、制限的なものではない。本明細書を読んだ後に、当業者が、本発明の範囲から逸脱することなしに、他の態様および実施形態が可能であることを理解する。

［実施例］
本明細書に記載される概念を、以下の実施例においてさらに説明する。以下の実施例は、特許請求の範囲に記載の発明の範囲を限定するものではない。

本明細書で用いられる際に、「％（ＧＣ−ＭＳ）」という用語は、ＧＣ−ＭＳスペクトル上で測定されるピーク面積のパーセンテージを意味する。

本明細書で用いられる際に、「％（ＧＣ−ＦＩＤ）」という用語は、ＧＣ−ＦＩＤスペクトル上で測定されるピーク面積のパーセンテージを意味する。

（実施例１）
実施例１は、エチレンジアミンとの接触の後に、ＨＦＯ−１２３４ｙｆがＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を実質的に含まないようにできることを例示する。

ＧＣおよびＧＣ−ＭＳにより分析され、０．２２２％（ＧＣ−ＦＩＤ）のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を含むＨＦＯ−１２３４ｙｆ気相サンプルを、約１００ｍｌのエチレンジアミンを収容するスクラバーを通し、室温において１６ｓｃｃｍの流速でバブリングした。スクラバーからの留出ガスを、再びＧＣおよびＧＣ−ＭＳにより分析し、ＨＦＯ−１２３４ｙｆサンプル中に含有されるＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度が検出不能レベルまで低下したことを示した。分析結果を第１表に列挙する。

（実施例２）
実施例２は、モルホリンとの接触の後に、ＨＦＯ−１２３４ｙｆがＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を実質的に含まないようにできることを例示する。

ＧＣおよびＧＣ−ＭＳにより分析され、０．１８１％（ＧＣ−ＦＩＤ）のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を含むＨＦＯ−１２３４ｙｆ気相サンプルを、約１００ｍｌのモルホリンを収容するスクラバーを通し、室温において２０ｓｃｃｍの流速でバブリングした。スクラバーからの留出ガスを、再びＧＣおよびＧＣ−ＭＳにより分析し、ＨＦＯ−１２３４ｙｆサンプル中に含有されるＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度が検出不能レベルまで低下したことを示した。分析結果を第１表に列挙する。

（実施例３）
実施例３は、エタノールアミンとの接触により、ＨＦＯ−１２３４ｙｆに含有されるＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度を大きく低下させることができることを例示する。

ＧＣおよびＧＣ−ＭＳにより分析され、０．２０２％（ＧＣ−ＦＩＤ）のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を含むＨＦＯ−１２３４ｙｆ気相サンプルを、約１００ｍｌのエタノールアミンを収容するスクラバーを通し、室温において１６ｓｃｃｍの流速でバブリングした。スクラバーからの留出ガスを、再びＧＣおよびＧＣ−ＭＳにより分析し、ＨＦＯ−１２３４ｙｆサンプル中に含有されるＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度が０．０４９％（ＧＣ−ＦＩＤ）まで低下したことを示した。分析結果を第１表に列挙する。

（実施例４）
実施例４は、トリエチルアミンとの接触により、ＨＦＯ−１２３４ｙｆに含有されるＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度を大きく低下させることができることを例示する。

ＧＣおよびＧＣ−ＭＳにより分析され、０．２００％（ＧＣ−ＦＩＤ）のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を含むＨＦＯ−１２３４ｙｆ気相サンプルを、約１００ｍｌのトリエチルアミンを収容するスクラバーを通し、室温において１６ｓｃｃｍの流速でバブリングした。スクラバーからの留出ガスを、再びＧＣおよびＧＣ−ＭＳにより分析し、ＨＦＯ−１２３４ｙｆサンプル中に含有されるＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度が０．０９５％（ＧＣ−ＦＩＤ）まで低下したことを示した。分析結果を第１表に列挙する。

（実施例５）
実施例５は、ピリジンとの接触により、ＨＦＯ−１２３４ｙｆに含有されるＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度を大きく低下させることができることを例示する。

ＧＣおよびＧＣ−ＭＳにより分析され、０．１８７％（ＧＣ−ＦＩＤ）のＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を含むＨＦＯ−１２３４ｙｆ気相サンプルを、約１００ｍｌのピリジンを収容するスクラバーを通し、室温において１６ｓｃｃｍの流速でバブリングした。スクラバーからの留出ガスを、再びＧＣおよびＧＣ−ＭＳにより分析し、ＨＦＯ−１２３４ｙｆサンプル中に含有されるＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物の濃度が０．０８１％（ＧＣ−ＦＩＤ）まで低下したことを示した。分析結果を第１表に列挙する。

（実施例６）
実施例６は、ピリジンとの接触の後に、ＨＣＦＯ−１２２４ｙｄがＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ不純物を実質的に含まないようにできることを例示する。

１．０２６％（ＧＣ−ＭＳ）のＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌ不純物を伴う１４８．７ｇのＨＣＦＯ−１２２４ｙｄサンプルを収容する密封された２４０ｍｌのシリンダを約０℃に冷却し、シリンジを介して０．５ｍｌのピリジンを投入した。次いで、シリンダを室温まで暖め、１０分間にわたって振盪した。その２時間後に、ＨＣＦＯ−１２２４ｙｄサンプルをＧＣ−ＭＳで分析して、ＨＣＦＯ−１２２４ｙｄサンプル中に含有されるＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌ不純物の濃度が、検出不能レベルまで低下したことを示した。

一般的な説明または実施例において前述した行動の必ずしも全てが必要ではなく、特定の行動の一部が必要でない可能性があり、記載されたものに加えて１つまたは複数のさらなる行動を実施してもよいことに注意されたい。さらに、行動が列挙された順序は、必ずしもそれらを実施する順序ではない。

前述の明細書において、特定の実施形態に関して、その概念を記載してきた。しかしながら、以下の特許請求の範囲に記載される発明の範囲を逸脱することなしに、種々の変形および変更を行うことができることを、当業者は理解する。したがって、明細書は、限定的な意味ではなく、例示的であるとみなすべきであり、そのような変形の全ては、発明の範囲内に含まれることを意図する。

特定の実施形態に関して、利益、他の利点および課題の解決手段を前述した。しかしながら、利益、利点、課題の解決手段、および利益、利点、解決手段を提供またはより顕著にする任意の特徴は、特許請求の範囲のいずれかまたは全てにおける決定的に重要、必要、または本質的な特徴であると解釈すべきではない。

明確性のために、別個の実施形態に関連して本明細書において記載した特定の特徴を、単一の実施形態に組み合わせて提供することもできることを理解すべきである。逆に、簡潔性のために、単一の実施形態に関連して記載した種々の特徴を、別個に、または任意のサブコンビネーションで提供してもよい。

Claims (18)

1. 少なくとも１種のフルオロオレフィンと、アミンと、少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸを有する化合物を含む組成物であって、Ｒ_fはペルフルオロ化されたアルキル基であり、ＸはＨ、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであることを特徴とする組成物。
2. 前記組成物中の前記少なくとも１種のフルオロオレフィンの量は、前記組成物の総重量を基準として少なくとも９０重量％であることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
3. 前記少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＦ₂、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂、、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨＣｌ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＣｌ₂、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨＣｌ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＦＣｌ、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＦＣｌ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＦ₂、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨＣｌ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＣｌ₂、またはＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨＣｌであることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
4. 前記アミンは、式Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｎ、Ｒ１ＮＨＮＨ₂、アンモニア、ポリアミンおよびヘテロ環式アミンからなる群から選択され、式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のそれぞれは、独立的に、水素、アルキル基、ヘテロアルキル基、アリール基またはアラルキル基であり、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の少なくとも１つは水素ではなく、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のそれぞれは、独立的に、無置換であるか、あるいはヒドロキシル基、ハロゲン基、アルコキシ基またはアミノ基のような基で置換されていることを特徴とする請求項１、２、または３に記載の組成物。
5. 前記少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨＣｌ、およびそれらの混合物からなる群から選択され、
   前記少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸを有する化合物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＦ、およびそれらの混合物からなる群から選択される
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の組成物。
6. 前記少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦ、ＣＦ₃ＣＣｌ＝ＣＨ₂、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌ、およびそれらの混合物からなる群から選択され、
   前記少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸを有する化合物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌ、およびそれらの混合物からなる群から選択される
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の組成物。
7. 前記少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂であり、
   前記少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸを有する化合物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＣｌ、およびそれらの混合物からなる群から選択される
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の組成物。
8. 前記少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂であり、
   前記少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸを有する化合物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨである
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の組成物。
9. 前記少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦであり、
   前記少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸを有する化合物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨである
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の組成物。
10. 前記少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＦ＝ＣＨ₂およびＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＦの混合物であり、
    前記少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸを有する化合物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨである
    ことを特徴とする請求項１または２に記載の組成物。
11. 前記少なくとも１種のフルオロオレフィンは、ＣＦ₃ＣＨ＝ＣＨＣｌであり、
    前記少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸを有する化合物は、ＣＦ₃Ｃ≡ＣＨである
    ことを特徴とする請求項１または２に記載の組成物。
12. 前記アミンは、式Ｒ₃Ｎを有するアミン、ヘテロ環式アミン、ヒドラジンおよびその誘導体、ならびにそれらの混合物からなる群から選択され、式中、それぞれのＲは、独立的に、水素、アルキル基、ヘテロアルキル基、アリール基またはアラルキル基であることを特徴とする請求項１または２に記載の組成物。
13. 前記アミンは、式Ｒ₃Ｎを有するアミン、ヘテロ環式アミン、およびそれらの混合物からなる群から選択され、式中、それぞれのＲは、独立的に、水素、アルキル基、ヘテロアルキル基、またはアラルキル基であることを特徴とする請求項１または２に記載の組成物。
14. 前記アミンは、ポリアミンであることを特徴とする請求項１または２に記載の組成物。
15. 前記アミンは、ヘテロ環式アミンであることを特徴とする請求項１２に記載の組成物。
16. 前記組成物中の前記少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸを有する化合物の濃度は、２００ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の組成物。
17. 前記組成物中の前記少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸを有する化合物の濃度は、５０ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の組成物。
18. 前記組成物中の前記少なくとも１種のＲ_fＣ≡ＣＸを有する化合物の濃度は、２ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の組成物。