JP2017215219A - 計測装置、パターン形成装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板側面の形状が多様化しても検出精度を落とすことなく基板側面の位置を計測することができる計測装置を提供すること。【解決手段】被検物5の位置を計測する計測装置100であって、被検物5に対して第1の入射方位で入射した光の第1の反射光を検出する第1検出光学系110と、被検物5に対して第1の入射方位とは異なる第2の入射方位で入射した光の第2の反射光を検出する第2検出光学系と、第1検出光学系110が検出した第1の反射光に対応する第1の信号、又は、第2検出光学系が検出した第2の反射光に対応する第2の信号に基づいて、被検物5の位置を計測する演算部と、を有する【選択図】図2
Description
本発明は、計測装置、パターン形成装置及び物品の製造方法に関する。
半導体素子等の製造工程の1つであるフォトリソグラフィ工程においては、マスクに形成されたパターンの像をフォレジスト等の感光剤が塗布されたウエハやガラスプレート等の基板上に投影露光する露光装置が用いられる。露光装置内での基板のアライメントは、プレートを搭載しているステージ上に複数配置されたセンサを用いて実行される。このセンサは基板の側面位置を、接触もしくは非接触で計測する。接触式の場合は、直接側面の位置を計測することができる一方、接触時の応力によりプレートを歪ませる恐れがある。近年、プレートの薄厚化やオーバーレイの高精度化により非接触式のセンサが注目されている。特許文献1は、基板側面部の2箇所を光で照明し、2箇所の位置の距離を計測する計測方法を開示している。特許文献2は、基板の端部をホルダ上に設定された少なくとも3か所の基準位置において撮像して、画像情報に基づいて感光基板の投影光学系に対する位置情報を計測するプリアライメント装置を開示している。
しかしながら、光を使った非接触式のセンサで基板の側面位置を計測する場合、側面部は面取りが施されている影響により、計測精度にばらつきが生じてしまう。例えば、市場で量産されている基板は厚さ0.3〜1.0mm、面取り量は50〜数百μmであるため基板側面位置の検出結果のばらつきも大きくなる可能性が高い。今後、基板の薄厚化が進むとさらに面取り量が小さくなり、非接触式のセンサの精度が低下する懸念がある。
本発明は、例えば、基板側面の形状が多様化しても検出精度を落とすことなく基板側面の位置を計測することができる計測装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の一側面である計測装置は、被検物の位置を計測する計測装置であって、被検物に対して第1の入射方位で入射した光の第1の反射光を検出する第1検出光学系と、被検物に対して第1の入射方位とは異なる第2の入射方位で入射した光の第2の反射光を検出する第2検出光学系と、第1検出光学系が検出した第1の反射光に対応する第1の信号、又は、第2検出光学系が検出した第2の反射光に対応する第2の信号に基づいて、被検物の位置を計測する演算部と、を有する。
本発明によれば、例えば、基板側面の形状が多様化しても検出精度を落とすことなく基板側面の位置を計測することができる計測装置を提供することができる。
(第1実施形態)
図1は、基板側面位置を計測する計測装置を有する露光装置の構成を示す図である。露光装置は、パターンを基板上に形成するリソグラフィ装置(パターン形成装置)の一例である。原版1は、パターン投影されるいわゆるマスクであり、本体2に対して不図示の位置合わせ機構でアライメントされ、保持されている。露光照明系3は、原版1を照明している。投影光学系4は、原版1のパターンを基板5上に投影結像している。基板5は、投影光学系4の光軸に垂直なXY平面上を移動するステージ7の基板保持部材6上に保持されている。基板保持部材6は、基板を真空で吸着するチャックを有する。ステージ7は、XY方向だけでなく、投影光学系4の光軸方向(Z方向)にも可動で、基板5と原版1の合焦のための駆動系ともなる。ステージ7は、レーザ干渉計9とステージ7の一部に載置したミラー8によりY方向の駆動を制御されている。X方向についても不図示であるが同様の構成がとられており、XY平面内での精密な駆動制御がなされている。このような基本構成を含む露光装置に、基板側面位置を計測する計測装置(以下、位置計測装置という)10が付加される。位置計測装置100は、基板保持部材6に固定されており、X、Y、θ方向の基板位置を計測するため、複数配置されている。ステージ7は、レーザ干渉計9の計測結果のみならず、位置計測装置100の計測結果にも基づいて駆動する。
図1は、基板側面位置を計測する計測装置を有する露光装置の構成を示す図である。露光装置は、パターンを基板上に形成するリソグラフィ装置(パターン形成装置)の一例である。原版1は、パターン投影されるいわゆるマスクであり、本体2に対して不図示の位置合わせ機構でアライメントされ、保持されている。露光照明系3は、原版1を照明している。投影光学系4は、原版1のパターンを基板5上に投影結像している。基板5は、投影光学系4の光軸に垂直なXY平面上を移動するステージ7の基板保持部材6上に保持されている。基板保持部材6は、基板を真空で吸着するチャックを有する。ステージ7は、XY方向だけでなく、投影光学系4の光軸方向(Z方向)にも可動で、基板5と原版1の合焦のための駆動系ともなる。ステージ7は、レーザ干渉計9とステージ7の一部に載置したミラー8によりY方向の駆動を制御されている。X方向についても不図示であるが同様の構成がとられており、XY平面内での精密な駆動制御がなされている。このような基本構成を含む露光装置に、基板側面位置を計測する計測装置(以下、位置計測装置という)10が付加される。位置計測装置100は、基板保持部材6に固定されており、X、Y、θ方向の基板位置を計測するため、複数配置されている。ステージ7は、レーザ干渉計9の計測結果のみならず、位置計測装置100の計測結果にも基づいて駆動する。
図2〜図4を用いて、位置計測装置100の計測原理を説明する。位置計測装置100は、異なる方向から光を照射し、被検物である基板5の側面位置を計測する第1検出光学系110及び第2検出光学系120を有している。したがって、第1検出光学系110と第2検出光学系120とでは、基板5の側面(端部)には異なる入射方位で光が入射する。図2を用いて、位置計測装置100の第1検出光学系110の計測原理を説明する。第1検出光学系110は、光源111、コリメーションレンズ112、ミラー113、レンズ114、レンズ115、光検出器116、演算部117を含む。光源111は、500〜1200nm程度の波長の光を発光している第1の照明部である。光源111から出射された検出用の検出光線24は、第1の導光部であるコリメーションレンズ112、ミラー113を介して基板5の側面部に導光される。このとき検出光線24は、図4に示すように、基板側面に対して直交方向(+Y方向)の方位で導光される。したがって、入射角は基板5の側面に対して90度近傍となる。そして、基板5の側面部で散乱された反射光(第1の反射光)が、第1のレンズ群であるレンズ114、レンズ115を介して、検出部である光検出器116へ導光される。光検出器116で検出された光は演算部117で位置情報をもつ信号波形として認識、記録される。第1検出光学系は暗視野照明・検出方式である。
図3を用いて、位置計測装置100の第2検出光学系120の計測原理を説明する。第2検出光学系120は、光源121、コリメーションレンズ122、レンズ123、レンズ124、光検出器125、演算部126を含む。光源121は光源111とは異なる光源で、500〜1200nm程度の波長の光を発光している第2の照明部である。光源121から出射された検出用の検出光線25は、第2の導光部であるコリメーションレンズ122を介して、図2と同じ基板5の側面部に導光される。このとき検出光線25は、図4に示されるように、基板側面に対して平行方向(+X方向)の方位で導光される。したがって、入射角は基板5の側面に対して0度近傍となる。そして、基板5の側面部で正反射された反射光(第2の反射光)が、第2のレンズ群であるレンズ123、レンズ124を介して光検出器125へ導光される。光検出器125で検出された光は演算部126で位置情報をもつ信号波形として認識、記録される。そして、これらの認識、記録された信号波形から基板側面の位置を決定する。第2検出光学系は明視野照明・検出方式である。
通常、基板の側面には、丸く面取りする50〜1000μm程度のR面取り処理などの面取り処理が施されている。基板の端面(側面)の面取りとは、基板の破損を防ぐために端面部(側面部)を曲面に加工することである。そして、第1検出光学系110及び第2検出光学系120での基板側面の検出精度は、基板側面部の面取り量に対して異なるかたちで依存している。図5を用いて基板5の側面部の面取り量について説明する。図5(A)は、面取り量が小さい場合を示した図である。図5(B)は、面取り量が大きい場合を示した図である。L1、L2がそれぞれのR面取り処理における面取り量を表している。
次に基板側面部を検出するときの第1検出光学系110及び第2検出光学系120と面取り量との関係を説明する。図6は、基板側面の面取り量が小さい場合、すなわち図5(A)の場合に、各光学系で検出される信号波形を示した図である。第1検出光学系110で検出される第1の反射光に対応する第1の信号の信号波形は信号波形Aとなり、第2検出光学系120で検出される第2の反射光に対応する第2の信号の信号波形は信号波形Bとなる。信号波形Aは、面取り量が小さくなると比例して強度Iが小さくなる傾向があり、ノイズなどの他信号に埋もれて検出できなくなる可能性がある。信号波形Bは、面取り量が小さくなると面取り量の影響を受けなくなる傾向があり、側面位置を決定する精度が高くなる。
図7は、基板側面の面取り量が大きい場合、すなわち図5(B)の場合に、各光学系で検出される信号波形を示した図である。第1検出光学系110で検出される信号波形は信号波形A、第2検出光学系120で検出される信号波形は信号波形Bとなる。信号波形Aは、面取り量が大きくなると比例して強度Iが大きくなる傾向があり、ノイズなどの他信号に影響を受けることが少なくなる。一方、信号波形Bは、面取り部で光の屈折などの影響を受けやすくなるため、真の基板側面位置に対して波形シフト(Y)発生し、基板側面位置を決定する精度が低くなる。
以上の第1検出光学系110及び第2検出光学系120の特性に鑑み、基板側面位置を決定する場合、信号波形Aの強度や、信号波形Aと信号波形Bの検出位置差から基板側面位置を決定するのに用いる信号波形(信号波形Aもしくは信号波形B)を選択する。このとき、信号波形Aの検出位置は、例えば、波形のピーク位置とする。信号波形Bの検出位置は、例えば、信号波形の最大強度の25%〜50%の領域のうちの所定の位置とする。なお、検出位置の決定方法はこれに限られず、例えば信号波形の重心位置など波形から信号位置を決定できるものであればよい。
図6に示されるように、信号波形Aの強度Iが閾値Isよりも小さい場合、基板側面部の面取り量が小さく、第1検出光学系110の検出精度が低いと認識し、第2検出光学系120の光検出器125で検出された信号波形Bから基板側面位置を算出する。このときの閾値Isは、要求される基板側面位置の決定精度が満たされる所定の値となる。信号波形強度Iが閾値Isよりも小さいときは、信号波形Aと信号波形Bの検出位置差Yは、基板側面位置の決定精度に関係する閾値Ysよりも小さくなることを前提とする。
図7に示されるように、各信号波形間の比較結果である検出位置差Yが閾値Ysを超えて大きい場合、基板側面部の面取り量が大きく、第2検出光学系120の検出精度が低いと認識される。したがって、第1検出光学系110の光検出器116で検出された信号波形Aから基板側面位置を算出する。このときの閾値Ysは、要求される基板側面位置の決定精度が満たされる所定の値となる。検出位置差Yが閾値Ysよりも大きいときは、第1検出光学系110の光検出器116で検出される信号波形Aの強度Iは、基板側面位置の決定精度に関係する閾値Isよりも大きくなることを前提とする。
以上のように、信号波形Aの強度、または、信号波形Aと信号波形Bの検出位置差から基板側面位置を決定するのに用いる信号波形(信号波形Aもしくは信号波形B)を決定することができる。信号波形Aの強度を用いて基板側面位置を決定するのに用いる信号波形を決定する場合、信号波形Aの強度Iが閾値Isよりも小さいときは、第2検出光学系120の光検出器125で検出された信号波形Bから基板側面位置を算出する。一方、信号波形Aの強度Iが閾値Isよりも大きいときは、第1検出光学系110の光検出器116で検出された信号波形Aから基板側面位置を算出する。また、信号波形Aと信号波形Bの検出位置差から基板側面位置の決定に用いる信号波形を決定する場合、各信号波形間の検出位置差Yが閾値Ysより大きいときは、第1検出光学系110の光検出器116で検出された信号波形Aから基板側面位置を算出する。一方、各信号波形間の検出位置差Yが閾値Ysより小さいときは、第2検出光学系120の光検出器125で検出された信号波形Bから基板側面位置を算出する。なお、上記の各閾値Ys及び閾値Isは、第1検出光学系110及び第2検出光学系120の仕様と、必要とされる基板側面位置の決定精度に応じて設定することができる。また、基板側面位置を決定する場合、予め得られた基板の面取り量に関する情報(基板の側面の形状に関する情報)から、基板側面位置を決定する信号波形を選択してもよい。
図8に示されるように、第1検出光学系110及び2を備えた位置計測装置100を、基板側面付近の基板支持部材に複数配置し、これらの装置を用いて各基板側面のX位置、Y位置を検出する。さらにその検出結果からZ軸周りの回転量も算出する。算出された結果をもとにステージ7を駆動させて、基板の位置を補正する。なお、演算部117、23で記録された基板側面位置の情報を持つ各位置信号の関係は、予め位置が決められている基板側面位置を検出したときの信号位置を基準としている。
第1検出光学系110において、基板側面部からの反射(散乱)光には、前記面取り量が大きいほど、また基板側面の法線に対して導光させる光の入射角度が大きいほど、面取りからの反射(散乱)光が多く含まれてしまう。ここで、基板側面の法線とは、面取り前の平坦な基板側面に対する法線のことを指すものとする。これは、基板側面位置の検出精度の低下につながる。よって、基板側面の法線に対して導光させる光の入射角度は0〜30度が望ましい。また、第2検出光学系120において、基板表裏面の法線に対して導光させる光の入射角度が大きいほど、基板側面付近の波形の立ち上がりが急峻になり、信号波形の強度も大きくなり、基板側面位置を決定する精度が向上する。よって、基板表裏面の法線に対して導光させる光の入射角度は大きい方が望ましい。また、第1検出光学系110及び第2検出光学系120で同じ基板側面部を照明し検出するため、光検出器116、22はライン(1次元)センサでもよい。
以上説明したように、本実施形態によると、第1検出光学系110と第2検出光学系120のどちらで基板側面の位置を計測するか、基板の面取り量により選択することができる。そのため、基板の面取り量が多様化しても検出精度を落とすことなく基板側面の位置を計測することができる。
(第2実施形態)
第2実施形態においては、第1検出光学系110と第2検出光学系120で個別に構成されている光源111と光源121、コリメーションレンズ112とコリメーションレンズ122とを共通化している。図9は、光源111とコリメーションレンズ112を第2検出光学系120と共通化した場合の第1検出光学系110を、図10は、光源121とコリメーションレンズ122を第1検出光学系110と共通化した場合の第2検出光学系120を示した図である。図11は、第1検出光学系110、2における基板側面部への検出光線入射方位の説明図である。図9〜図11に示されるように、第1検出光学系110と第2検出光学系120で個別に構成されている光源111、121、コリメーションレンズ112、122は、ハーフミラー26、27、ミラー30を用いることにより共通使用することができる。具体的には、図11に示されるように、第1検出光学系110において光源121から照射された光は、第1の導光部であるコリメーションレンズ122、ハーフミラー26、ミラー30、ミラー27を介して基板5の側面部に導光される。第2検出光学系120において第1検出光学系110と共通の光源である光源121から照射された光は、第2の導光部であるコリメーションレンズ122、ハーフミラー26を介して基板5の側面部に導光される。このように、第1検出光学系110と第2検出光学系120の構成の一部を共通化することで、計測装置の小型化を実現できる。
第2実施形態においては、第1検出光学系110と第2検出光学系120で個別に構成されている光源111と光源121、コリメーションレンズ112とコリメーションレンズ122とを共通化している。図9は、光源111とコリメーションレンズ112を第2検出光学系120と共通化した場合の第1検出光学系110を、図10は、光源121とコリメーションレンズ122を第1検出光学系110と共通化した場合の第2検出光学系120を示した図である。図11は、第1検出光学系110、2における基板側面部への検出光線入射方位の説明図である。図9〜図11に示されるように、第1検出光学系110と第2検出光学系120で個別に構成されている光源111、121、コリメーションレンズ112、122は、ハーフミラー26、27、ミラー30を用いることにより共通使用することができる。具体的には、図11に示されるように、第1検出光学系110において光源121から照射された光は、第1の導光部であるコリメーションレンズ122、ハーフミラー26、ミラー30、ミラー27を介して基板5の側面部に導光される。第2検出光学系120において第1検出光学系110と共通の光源である光源121から照射された光は、第2の導光部であるコリメーションレンズ122、ハーフミラー26を介して基板5の側面部に導光される。このように、第1検出光学系110と第2検出光学系120の構成の一部を共通化することで、計測装置の小型化を実現できる。
(第3実施形態)
第3実施形態においては、第1検出光学系110と第2検出光学系120で個別に構成されているレンズ114とレンズ123、レンズ115とレンズ124、光検出器116と光検出器125、演算部117と演算部126とを共通化している。図12は、本実施形態における第2検出光学系120を示した図である。第1検出光学系110と第2検出光学系120で個別に構成されているレンズ114、115、レンズ123、124、光検出器116、125、演算部117、126は、ミラー28及びハーフミラー29を用いることにより共通使用することができる。具体的には、図12に示されるように、第1検出光学系110において側面部から反射した光(第1の反射光)は、第3の導光部であるハーフミラー29、レンズ123、レンズ124を介して、光検出器125に導光される。また、第2検出光学系120において側面部から反射した光(第2の反射光)は、第4の導光部である、ミラー28、ハーフミラー29、レンズ123、レンズ124を介して、第1検出光学系110と共通の検出部である光検出器125に導光される。なお、位置計測装置100において上記構成部材を共通使用する場合、他の光学部材(ミラー、導光ファイバー等)を追加し、それらを含む構成部材を駆動させるための駆動部を備えることも可能である。このように、第1検出光学系110と第2検出光学系120の構成の一部を共通化することで、計測装置の小型化を実現できる。
第3実施形態においては、第1検出光学系110と第2検出光学系120で個別に構成されているレンズ114とレンズ123、レンズ115とレンズ124、光検出器116と光検出器125、演算部117と演算部126とを共通化している。図12は、本実施形態における第2検出光学系120を示した図である。第1検出光学系110と第2検出光学系120で個別に構成されているレンズ114、115、レンズ123、124、光検出器116、125、演算部117、126は、ミラー28及びハーフミラー29を用いることにより共通使用することができる。具体的には、図12に示されるように、第1検出光学系110において側面部から反射した光(第1の反射光)は、第3の導光部であるハーフミラー29、レンズ123、レンズ124を介して、光検出器125に導光される。また、第2検出光学系120において側面部から反射した光(第2の反射光)は、第4の導光部である、ミラー28、ハーフミラー29、レンズ123、レンズ124を介して、第1検出光学系110と共通の検出部である光検出器125に導光される。なお、位置計測装置100において上記構成部材を共通使用する場合、他の光学部材(ミラー、導光ファイバー等)を追加し、それらを含む構成部材を駆動させるための駆動部を備えることも可能である。このように、第1検出光学系110と第2検出光学系120の構成の一部を共通化することで、計測装置の小型化を実現できる。
(物品の製造方法に係る実施形態)
本実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。さらに、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
本実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。さらに、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
また、本発明は露光装置に限定されるものではなく、描画装置やインプリント装置などのパターン形成装置(リソグラフィ装置)にも適用することができる。ここで、描画装置は、荷電粒子線(電子線やイオンビームなど)で基板を描画するリソグラフィ装置であり、インプリント装置は、基板上のインプリント材(樹脂など)をモールドにより成形してパターンを基板に形成するリソグラフィ装置である。また、基板は、Siウエハに限定されるものではなく、SiC(シリコンカーバイド)、サファイア、ドーパントSi、ガラス基板などであってもよい。
また、本発明は露光装置に限定されるものではなく、描画装置やインプリント装置などのパターン形成装置(リソグラフィ装置)にも適用することができる。ここで、描画装置は、荷電粒子線(電子線やイオンビームなど)で基板を描画するリソグラフィ装置であり、インプリント装置は、基板上のインプリント材(樹脂など)をモールドにより成形してパターンを基板に形成するリソグラフィ装置である。また、基板は、Siウエハに限定されるものではなく、SiC(シリコンカーバイド)、サファイア、ドーパントSi、ガラス基板などであってもよい。
10 位置計測装置
17 光検出器
18 演算装置
22 光検出器
23 演算装置
17 光検出器
18 演算装置
22 光検出器
23 演算装置
Claims (11)
- 被検物の位置を計測する計測装置であって、
前記被検物に対して第1の入射方位で入射した光の第1の反射光を検出する第1検出光学系と、
前記被検物に対して第1の入射方位とは異なる第2の入射方位で入射した光の第2の反射光を検出する第2検出光学系と、
前記第1検出光学系が検出した前記第1の反射光に対応する第1の信号、又は、前記第2検出光学系が検出した前記第2の反射光に対応する第2の信号に基づいて、前記被検物の位置を計測する演算部と、を有することを特徴とする計測装置。 - 前記第1の反射光は、前記被検物の側面で散乱した反射光であり、前記第2の反射光は、前記被検物の側面で正反射された反射光であることを特徴とする請求項1に記載の計測装置。
- 前記演算部は、前記第1の信号の強度に基づいて前記第1の信号と前記第2の信号のうちいずれかの信号を選択し、選択された信号に基づいて前記被検物の位置を求めることを特徴とする請求項2に記載の計測装置。
- 前記演算部は、前記第1の信号と前記第2の信号との比較結果に基づいて前記第1の信号と前記第2の信号のうちいずれかの信号を選択し、選択された信号に基づいて前記被検物の位置を求めることを特徴とする請求項2に記載の計測装置。
- 前記比較結果は、前記第1の信号の強度のピーク位置または重心位置と、前記第2の信号の波形の所定の位置との差であることを特徴とする請求項4に記載の計測装置。
- 前記演算部は、前記被検物の側面の形状に関する情報に基づいて前記第1の信号と前記第2の信号のうちいずれかの信号を選択し、選択された信号に基づいて前記被検物の位置を求めることを特徴とする請求項1に記載の計測装置。
- 前記計測装置は、
光を照射する第1の照明部と、
前記第1の照明部から照射された光を導光し、前記被検物の側面に前記第1の入射方位で入射させる第1の導光部と、
前記第1の反射光を前記第1検出光学系に導光する第1のレンズ群と、
光を照射する第2の照明部と、
前記第2の照明部から照射された光を導光し、前記被検物の側面に前記第2の入射方位で入射させる第2の導光部と、
前記第2の反射光を前記第2検出光学系に導光する第2のレンズ群と、を備えることを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の計測装置。 - 前記計測装置は、
光を照射する照明部と、
前記照明部から照射された光を導光し、前記被検物の側面に前記第1の入射方位で入射させる第1の導光部と、
前記照明部から照射された光を導光し、前記被検物の側面に前記第2の入射方位で入射させる第2の導光部と、
前記第1の反射光を前記第1検出光学系に導光する第1のレンズ群と、
前記第2の反射光を前記第2検出光学系に導光する第2のレンズ群と、を備えることを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の計測装置。 - 前記計測装置は、
光を照射する第1の照明部と、
前記第1の照明部から照射された光を導光し、前記被検物の側面に前記第1の入射方位で入射させる第1の導光部と、
前記第1の反射光を前記第1検出光学系に導光する第3の導光部と、
光を照射する第2の照明部と、
前記第2の照明部から照射された光を導光し、前記被検物の側面に前記第2の入射方位で入射させる第2の導光部と、
前記第1の反射光を前記第2検出光学系に導光する第4の導光部と、を有することを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の計測装置。 - 基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の計測装置と、
基板を保持する基板保持部と、を有し、
前記計測装置で、前記基板の側面の位置を計測する
ことを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項10に記載のパターン形成装置を用いてパターンを基板上に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、を有する
ことを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016109636A JP2017215219A (ja) | 2016-06-01 | 2016-06-01 | 計測装置、パターン形成装置及び物品の製造方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016109636A Pending JP2017215219A (ja) | 2016-06-01 | 2016-06-01 | 計測装置、パターン形成装置及び物品の製造方法 |
Country Status (1)
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2019109311A (ja) * | 2017-12-15 | 2019-07-04 | キヤノン株式会社 | 計測装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法、および計測方法 |
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2016
- 2016-06-01 JP JP2016109636A patent/JP2017215219A/ja active Pending
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JP2019109311A (ja) * | 2017-12-15 | 2019-07-04 | キヤノン株式会社 | 計測装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法、および計測方法 |
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