JP2017211493A - 露光装置、露光方法、および、物品の製造方法 - Google Patents
露光装置、露光方法、および、物品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017211493A JP2017211493A JP2016104552A JP2016104552A JP2017211493A JP 2017211493 A JP2017211493 A JP 2017211493A JP 2016104552 A JP2016104552 A JP 2016104552A JP 2016104552 A JP2016104552 A JP 2016104552A JP 2017211493 A JP2017211493 A JP 2017211493A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- concave mirror
- surface shape
- exposure apparatus
- measurement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/7015—Details of optical elements
- G03F7/70175—Lamphouse reflector arrangements or collector mirrors, i.e. collecting light from solid angle upstream of the light source
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/7085—Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
Abstract
Description
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (10)
- 基板の走査露光を行う露光装置であって、
原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、
制御部と、
を有し、
前記投影光学系は、
一対の凹面鏡と凸面鏡とを含む複数の光学部材と、
前記凹面鏡の面形状を調整するために前記凹面鏡の裏面の複数箇所に力を加える複数の調整部と、
前記光学部材の位置および姿勢の少なくともいずれかを計測する計測部と、
を含み、
前記制御部は、前記計測部によって計測された計測結果に基づき、前記走査露光の実行中に前記凹面鏡の面形状を調整するように前記複数の調整部の制御を行う
ことを特徴とする露光装置。 - 前記計測部は、前記凸面鏡の位置および姿勢の少なくともいずれかを計測することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記凸面鏡は、前記投影光学系の筐体の内壁に棒状部材を介して固定されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記制御部は、
前記計測部の計測結果に基づき収差を予測し、
前記予測された収差を補正するための前記凹面鏡の面形状を算出し、
前記算出された面形状を目標として前記複数の調整部を制御する
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記制御部は、あらかじめ求められた前記計測部の計測対象である光学部材の変位と収差との対応関係から、前記収差を予測することを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- 前記制御部は、更に、前記走査露光の非実行中にも、前記複数の調整部の制御を行うことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記複数の光学部材は、収差の補正を行うため露光光を屈折させる屈折部材を含むことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記計測部は、前記屈折部材の位置および姿勢の少なくともいずれかを計測することを特徴とする請求項7に記載の露光装置。
- 前記計測部は、前記走査露光により前記原版の一点が露光領域の所定部分を通過する間に計測を行い、
前記制御部は、
前記計測の結果に基づき収差を予測し、
前記予測された収差を補正する前記凹面鏡の面形状を算出し、
前記走査露光により前記一点が前記露光領域の前記所定部分を除く残りの部分を通過する間に、前記算出された面形状を目標として前記複数の調整部を制御する
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の露光装置。 - 請求項1乃至9のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016104552A JP6748482B2 (ja) | 2016-05-25 | 2016-05-25 | 露光装置、および、物品の製造方法 |
KR1020170063874A KR102169893B1 (ko) | 2016-05-25 | 2017-05-24 | 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
CN201710375971.8A CN107436539B (zh) | 2016-05-25 | 2017-05-25 | 曝光装置以及物品的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016104552A JP6748482B2 (ja) | 2016-05-25 | 2016-05-25 | 露光装置、および、物品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017211493A true JP2017211493A (ja) | 2017-11-30 |
JP2017211493A5 JP2017211493A5 (ja) | 2019-05-09 |
JP6748482B2 JP6748482B2 (ja) | 2020-09-02 |
Family
ID=60458973
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016104552A Active JP6748482B2 (ja) | 2016-05-25 | 2016-05-25 | 露光装置、および、物品の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6748482B2 (ja) |
KR (1) | KR102169893B1 (ja) |
CN (1) | CN107436539B (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019138627A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 株式会社Jvcケンウッド | 虚像表示装置 |
WO2019138629A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 株式会社Jvcケンウッド | 虚像表示装置 |
WO2019138628A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 株式会社Jvcケンウッド | 虚像表示装置 |
JP2019211718A (ja) * | 2018-06-08 | 2019-12-12 | 株式会社Jvcケンウッド | 虚像表示装置 |
US11966043B2 (en) | 2020-07-10 | 2024-04-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Imaging optical system, exposure apparatus, and article manufacturing method |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6896404B2 (ja) * | 2016-11-30 | 2021-06-30 | キヤノン株式会社 | 露光装置及び物品の製造方法 |
JP7005364B2 (ja) * | 2018-01-29 | 2022-01-21 | キヤノン株式会社 | 投影光学系、露光装置、物品の製造方法及び調整方法 |
JP7121509B2 (ja) * | 2018-03-19 | 2022-08-18 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光方法、および物品製造方法 |
CN108983414B (zh) * | 2018-08-30 | 2024-01-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光学反射镜、光学反射镜***及曝光机 |
JP7227810B2 (ja) * | 2019-03-25 | 2023-02-22 | キヤノン株式会社 | 光学装置、露光装置および物品製造方法 |
JP7357488B2 (ja) * | 2019-09-04 | 2023-10-06 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11345761A (ja) * | 1998-05-29 | 1999-12-14 | Nikon Corp | 走査型露光装置 |
JP2005228922A (ja) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2006128699A (ja) * | 2004-10-28 | 2006-05-18 | Asml Holding Nv | 調整可能な投影系を有するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2012059733A (ja) * | 2010-09-03 | 2012-03-22 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2013037300A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-21 | Canon Inc | 露光装置および露光方法 |
JP2014135368A (ja) * | 2013-01-09 | 2014-07-24 | Canon Inc | 露光装置、計測方法及びデバイスの製造方法 |
JP2015212775A (ja) * | 2014-05-02 | 2015-11-26 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
JP2016092309A (ja) * | 2014-11-07 | 2016-05-23 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
JP2016092366A (ja) * | 2014-11-11 | 2016-05-23 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004056125A (ja) | 2002-06-20 | 2004-02-19 | Nikon Corp | 個別アクチュエータを有する反射投影光学系 |
US6803994B2 (en) * | 2002-06-21 | 2004-10-12 | Nikon Corporation | Wavefront aberration correction system |
JP2004347814A (ja) * | 2003-05-21 | 2004-12-09 | Canon Inc | 保持装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
CN101523294B (zh) * | 2006-08-14 | 2012-08-08 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 具有光瞳镜的反射折射投影物镜、投影曝光设备和方法 |
WO2008122313A1 (en) * | 2007-04-05 | 2008-10-16 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical element module with imaging error and position correction |
CN100570430C (zh) * | 2007-10-11 | 2009-12-16 | 上海交通大学 | 静电驱动的焦点可变微平面镜及其制造方法 |
DE102008042356A1 (de) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsanlage mit optimierter Justagemöglichkeit |
JP2011039172A (ja) * | 2009-08-07 | 2011-02-24 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2011119551A (ja) * | 2009-12-04 | 2011-06-16 | Nikon Corp | 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 |
JP5643626B2 (ja) * | 2010-12-07 | 2014-12-17 | キヤノン株式会社 | 荷電粒子線レンズ |
US9772564B2 (en) * | 2012-11-12 | 2017-09-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
CN104459986B (zh) * | 2013-09-13 | 2017-02-15 | 上海微电子装备有限公司 | 一种微动变形像差校正装置 |
-
2016
- 2016-05-25 JP JP2016104552A patent/JP6748482B2/ja active Active
-
2017
- 2017-05-24 KR KR1020170063874A patent/KR102169893B1/ko active IP Right Grant
- 2017-05-25 CN CN201710375971.8A patent/CN107436539B/zh active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11345761A (ja) * | 1998-05-29 | 1999-12-14 | Nikon Corp | 走査型露光装置 |
JP2005228922A (ja) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2006128699A (ja) * | 2004-10-28 | 2006-05-18 | Asml Holding Nv | 調整可能な投影系を有するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2012059733A (ja) * | 2010-09-03 | 2012-03-22 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2013037300A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-21 | Canon Inc | 露光装置および露光方法 |
JP2014135368A (ja) * | 2013-01-09 | 2014-07-24 | Canon Inc | 露光装置、計測方法及びデバイスの製造方法 |
JP2015212775A (ja) * | 2014-05-02 | 2015-11-26 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
JP2016092309A (ja) * | 2014-11-07 | 2016-05-23 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
JP2016092366A (ja) * | 2014-11-11 | 2016-05-23 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019138627A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 株式会社Jvcケンウッド | 虚像表示装置 |
WO2019138629A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 株式会社Jvcケンウッド | 虚像表示装置 |
WO2019138628A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 株式会社Jvcケンウッド | 虚像表示装置 |
JP2019124730A (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-25 | 株式会社Jvcケンウッド | 虚像表示装置 |
JP2019124731A (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-25 | 株式会社Jvcケンウッド | 虚像表示装置 |
JP2019211718A (ja) * | 2018-06-08 | 2019-12-12 | 株式会社Jvcケンウッド | 虚像表示装置 |
US11966043B2 (en) | 2020-07-10 | 2024-04-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Imaging optical system, exposure apparatus, and article manufacturing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20170133275A (ko) | 2017-12-05 |
CN107436539A (zh) | 2017-12-05 |
KR102169893B1 (ko) | 2020-10-26 |
JP6748482B2 (ja) | 2020-09-02 |
CN107436539B (zh) | 2023-09-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6748482B2 (ja) | 露光装置、および、物品の製造方法 | |
JP2005033208A (ja) | 結像プロセス中のパターンの像の修正 | |
KR102234255B1 (ko) | 노광 장치 및 물품의 제조 방법 | |
JP2013247258A (ja) | アライメント方法、露光方法、及びデバイス製造方法、並びにデバイス製造システム | |
JP2010097970A (ja) | 露光装置 | |
TWI621929B (zh) | 微影裝置及方法 | |
JP5595015B2 (ja) | 投影光学系、露光装置およびデバイス製造方法 | |
KR102372650B1 (ko) | 투영 광학계, 노광 장치, 물품의 제조 방법, 및 조정 방법 | |
JP5764881B2 (ja) | 露光方法、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
US8400611B2 (en) | Scanning exposure apparatus and device manufacturing method | |
KR20090046727A (ko) | 노광 장치 및 그 제조 방법 | |
JP2020197609A (ja) | 露光装置、および物品製造方法 | |
KR102608013B1 (ko) | 리소그래피 방법 | |
KR20200028845A (ko) | 노광 방법, 노광 장치, 및 물품 제조 방법 | |
JP7178932B2 (ja) | 露光装置、および物品製造方法 | |
JP2010283089A (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP5632685B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
CN116482946A (zh) | 曝光方法、曝光装置以及物品的制造方法 | |
JP2024064791A (ja) | 露光装置、露光方法、物品の製造方法、制御装置、決定方法及びプログラム | |
JP2022130036A (ja) | 露光装置、露光方法及び物品の製造方法 | |
JP2022026158A (ja) | 調整方法、露光方法及び物品の製造方法 | |
TW202032289A (zh) | 投影系統及包含投影系統之微影裝置 | |
JP2017198758A (ja) | 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 | |
JP2015082556A (ja) | 露光装置 | |
JP2000091202A (ja) | 走査露光方法及び走査型露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190319 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190319 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200319 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200710 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200807 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6748482 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |