JP2017090517A5 - 円筒状マスク、露光装置 - Google Patents

Claims (9)

1. 多数の画素部で構成される表示デバイス用のデバイスパターンを感応性の被転写基板に転写する為の円筒状マスクであって、
   所定の中心線から一定半径の円筒状の外周面に沿って形成され、前記デバイスパターンのうち少なくとも前記画素部に関わる第１パターンが、前記外周面の周方向と前記中心線の方向の各々に関して周期的に複数形成される繰返しパターン領域と、
   前記外周面の周方向に関して前記繰返しパターン領域と隣接して配置され、前記外周面の周方向の一部分であって前記中心線の方向に沿って前記第１パターンと異なる第２パターンが形成される緩衝領域とを有し、
   前記繰返しパターン領域の２以上のｎ個が前記緩衝領域のｎ−１個を挟み込んで前記外周面の周方向に継ぎ合せたときの大きさを、前記被転写基板に転写される前記デバイスパターンの全体の大きさに対応させた円筒状マスク。
2. 請求項１に記載の円筒状マスクであって、
   前記第２パターンは、前記外周面の周方向に沿った寸法を前記画素部の寸法よりも大きく設定すると共に、前記中心線の方向に沿って前記画素部の各々に対応して複数設けられる、
   円筒状マスク。
3. 請求項１に記載の円筒状マスクであって、
   前記第２パターンは、前記緩衝領域のほぼ全体を遮蔽する形状に設定される、
   円筒状マスク。
4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の円筒状マスクであって、
   前記デバイスパターンとして、前記外周面の周方向に対応した全体寸法がＬ１の第１デバイスパターン、或いは前記全体寸法Ｌ１と異なる全体寸法がＬ２の第２デバイスパターンを前記被転写基板に転写する為に、
   前記外周面の周方向に沿った前記繰返しパターン領域の寸法ＭＬと前記緩衝領域の寸法ＢＬとを、ＭＬ＞ＢＬの関係に設定すると共に、ｎａとｎｂを整数として、
   ｎａ×ＭＬ＋（ｎａ−１）×ＢＬ＝Ｌ１、及び、ｎｂ×ＭＬ＋（ｎｂ−１）×ＢＬ＝Ｌ２、
   の関係となるように、前記寸法ＢＬと前記寸法ＭＬを設定した、
   円筒状マスク。
5. 請求項４に記載の円筒状マスクであって、
   前記外周面の周方向に沿った前記緩衝領域の寸法ＢＬは、前記画素部の寸法の１以上２０倍以下の範囲に設定され、
   前記外周面の周方向の全長を、ｎ×（ＭＬ＋ＢＬ）に設定した、
   円筒状マスク。
6. 請求項５に記載の円筒状マスクであって、
   前記中心線の方向に関して前記繰返しパターン領域と隣接して配置され、前記外周面の周方向に沿って前記第１パターンと異なる第３パターンが形成される副緩衝領域を、さらに有する、
   円筒状マスク。
7. 請求項１から６のいずれか一項に記載の円筒状マスクを支持し、前記中心線の回りに回転させるマスク回転機構と、
   前記被転写基板を支持すると共に、前記円筒状マスクの回転と同期して前記被転写基板を所定方向へ移動させる基板移動機構と、
   前記円筒状マスクの外周面の一部に、前記中心線と平行な方向に延びた照明光を照射する照明光学系と、
   前記照明光の照射によって、前記円筒状マスクの外周面から発生する光を入射して、前記繰返しパターン領域と前記緩衝領域の像を前記被転写基板に投影露光する投影光学系と、
   前記円筒状マスクの回転中に、前記緩衝領域が前記投影光学系によって前記被転写基板に投影されるタイミングに応じて、それ以降の投影露光が中止されるように前記照明光の照射を遮断する露光遮断機構と、
   前記繰返しパターン領域のｎ個と前記緩衝領域のｎ−１個とが前記被転写基板上で継ぎ合わされて転写されるように、前記マスク回転機構、前記基板移動機構、前記露光遮断機構を制御する制御部と、
   を備える露光装置。
8. 請求項７に記載の露光装置であって、
   前記露光遮断機構は、前記照明光学系の照明光路、又は前記投影光学系の投影光路の一部に配置された可動の遮光板を有し、前記制御部は、前記円筒状マスクの前記緩衝領域が前記投影光学系によって前記被転写基板に投影されるタイミングに合わせて、前記遮光板を前記被転写基板の移動方向に応じて移動させる、
   露光装置。
9. 請求項７又は請求項８に記載の露光装置であって、
   前記被転写基板は、前記基板移動機構によって移動される方向に長尺のフレキシブル基板であり、
   前記基板移動機構は前記フレキシブル基板の一部を移動方向に円筒状に湾曲した状態で支持しつつ、前記円筒状マスクの回転と同期して回転する回転ドラムを有する、
   露光装置。