JP2017090517A - 円筒状マスク、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】種々の大きさの表示デバイスのパターンを基板に転写させることができる円筒状マスク、露光装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】所定の中心線から一定半径の円筒状の外周面に沿って形成され、デバイスパターンのうち少なくとも画素部に関わる第１パターンが、外周面の周方向と中心線の方向の各々に関して周期的に複数形成される繰返しパターン領域と、記外周面の周方向に関して繰返しパターン領域と隣接して配置され、外周面の周方向の一部分であって中心線の方向に沿って第１パターンと異なる第２パターンが形成される緩衝領域とを有し、繰返しパターン領域の２以上のｎ個が緩衝領域のｎ−１個を挟み込んで外周面の周方向に継ぎ合せたときの大きさを、被転写基板に転写されるデバイスパターンの全体の大きさに対応させる。
【選択図】図８

Description

本発明は、外周面に転写用のパターンが形成された円筒状マスク、円筒状マスクのパターンを被処理物体に転写する露光装置及びデバイス製造方法に関する。

フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置として、円筒状のマスクのパターンを、投影光学系を介してフレキシブルな基板上に走査露光する装置がある。特許文献１には、特に図５に示されているように、フレキシブルなマスクを、１つの回転ドラムの回転軸方向の半分程度の外周面に巻き付け、露光対象であるフレキシブルな基板（感光基板）を回転ドラムの回転軸方向の残りの半分程度に巻き付けた状態で回転ドラムを回転させつつ、マスク上の一部分のパターンを六角形の投影視野を有する投影光学系を介して基板上に投影露光する露光装置が記載されている。この露光装置は、回転ドラムの回転によって、マスクの１回転分のパターンを基板上に走査露光しつつ、回転ドラムを回転軸の方向にシフトさせることにより、投影視野のサイズよりも大きいマスクパターンの領域を基板上に露光している。

このように、円筒状のマスクを用いて基板にパターンを露光する露光装置では、円筒状のマスクの外周面の１周分に渡って形成されたマスクパターンを連続して基板に転写することができる。マスクのパターンは、基板上に作成するデバイスの種類毎、或いは層毎に、異なる為、交換する必要がある。また、液晶表示デバイスや有機ＥＬ表示デバイスのように、表示画面のサイズ（画面対角長や縦横比）は異なっていても、表示画面を構成する個々の画素（ピクセル）自体の寸法や構造が同じである場合が多い。しかしながら、画面サイズが異なる表示デバイスの場合は異品種のデバイスとして扱われ、画面サイズ毎にマスクパターンを用意し、マスクを交換している。円筒状のマスクの場合、表示画面のサイズが異なる場合、円筒マスクの周長が変わり、様々な直径の円筒マスクを用意することになる。そのため、種々の直径の円筒マスクの装着に対応した露光装置が必要になると言った問題が生じる。

米国特許第６０１８３８３号

本発明の第１の態様に従えば、多数の画素部で構成される表示デバイス用のデバイスパターンを感応性の被転写基板に転写する為の円筒状マスクであって、所定の中心線から一定半径の円筒状の外周面に沿って形成され、前記デバイスパターンのうち少なくとも前記画素部に関わる第１パターンが、前記外周面の周方向と前記中心線の方向の各々に関して周期的に複数形成される繰返しパターン領域と、記外周面の周方向に関して前記繰返しパターン領域と隣接して配置され、前記外周面の周方向の一部分であって前記中心線の方向に沿って前記第１パターンと異なる第２パターンが形成される緩衝領域とを有し、前記繰返しパターン領域の２以上のｎ個が前記緩衝領域のｎ−１個を挟み込んで前記外周面の周方向に継ぎ合せたときの大きさを、前記被転写基板に転写される前記デバイスパターンの全体の大きさに対応させた円筒状マスクが提供される。

本発明の第２の態様に従えば、上記に記載の前記円筒状マスクを支持し、前記中心線の回りに回転させるマスク回転機構と、前記被転写基板を支持すると共に、前記円筒状マスクの回転と同期して前記被転写基板を所定方向へ移動させる基板移動機構と、前記円筒状マスクの外周面の一部に、前記中心線と平行な方向に延びた照明光を照射する照明光学系と、前記照明光の照射によって、前記円筒状マスクの外周面から発生する光を入射して、前記繰返しパターン領域と前記緩衝領域の像を前記被転写基板に投影露光する投影光学系と、前記円筒状マスクの回転中に、前記緩衝領域が前記投影光学系によって前記被転写基板に投影されるタイミングに応じて、それ以降の投影露光が中止されるように前記照明光または前記投影光学系の光路を遮断する露光遮断機構と、記繰返しパターン領域のｎ個と前記緩衝領域のｎ−１個とが前記被転写基板上で継ぎ合わされて転写されるように、前記マスク回転機構、前記基板移動機構、前記露光遮断機構を制御する制御部と、を備える露光装置が提供される。

本発明の第３の態様に従えば、長尺の基板を長尺方向に移動させつつ、多数の画素部で構成される表示デバイス用のデバイスパターンを有する円筒状マスクを回転させて、前記基板上に前記デバイスパターンを転写するデバイス製造方法であって、所定の中心線から一定半径の円筒状の外周面に沿って形成され、前記デバイスパターンのうち少なくとも前記画素部に関わる第１パターンが、前記外周面の周方向と前記中心線の方向の各々に関して周期的に複数形成される繰返しパターン領域と、前記外周面の周方向に関して前記繰返しパターン領域と隣接して配置され、前記外周面の周方向の一部分であって前記中心線の方向に沿って前記第１パターンと異なる第２パターンが形成される緩衝領域とを有し、前記繰返しパターン領域の２以上のｎ個が前記緩衝領域のｎ−１個を挟み込んで前記外周面の周方向に継ぎ合せたときの大きさを、前記基板に転写される前記デバイスパターンの前記長尺方向の大きさに対応させた円筒状マスクを用意することと、
前記基板の前記長尺方向への移動と前記円筒状マスクの回転とを同期させ、前記円筒状マスクの前記繰返しパターン領域と前記緩衝領域とが前記基板上で前記長尺方向に順次継ぎ合されるように転写する第１の露光工程と、前記円筒状マスクの前記緩衝領域に対応した前記基板上の領域に、前記第１パターンと実質的に同じ形状のパターンを追加転写する第２の露光工程と、含むデバイス製造方法が提供される。

図１は、第１実施形態に係る処理装置（露光システム）の全体構成を示す模式図である。 図２は、図１における照明領域及び投影領域の配置を示す模式図である。 図３は、図１の処理装置（露光システム）に適用される投影光学系の構成を示す模式図である。 図４は、図１の処理装置（露光システム）に適用される回転ドラムの斜視図である。 図５は、図１の処理装置（露光システム）に適用される検出プローブと読み取り装置との関係を説明するための斜視図である。 図６Ａは、図１の処理装置（露光システム）に適用される露光遮蔽機構を説明するための模式図である。 図６Ｂは、図１の処理装置（露光システム）に適用される露光遮蔽機構を説明するための模式図である。 図７は、図１の処理装置（露光システム）に適用される円筒マスクを説明するための斜視図である。 図８は、図１の処理装置（露光システム）に適用される円筒マスクを説明するための部分展開図である。 図９は、露光遮蔽機構の他の例を説明するための模式図である。 図１０は、露光遮蔽機構の他の例を説明するための模式図である。 図１１は、露光遮蔽機構の他の例を説明するための模式図である。 図１２は、露光遮蔽機構の他の例を説明するための模式図である。 図１３は、円筒マスクを説明するための部分展開図である。 図１４は、他の円筒マスクを説明するための部分展開図である。 図１５は、露光遮蔽機構の他の例を説明するための模式図である。 図１６は、露光遮蔽機構の他の例を説明するための模式図である。 図１７は、露光遮蔽機構の他の例を説明するための模式図である。 図１８は、第２実施形態に係る処理装置（露光システム）の全体構成を示す模式図である。 図１９は、第１実施形態に係る処理装置（露光システム）を用いてデバイス製造方法を示すフローチャートである。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。ただし、本発明はこれに限定されない。以下の実施形態では、１個のデバイスを製造するための各種の処理を、基板に対して連続して施す、所謂、ロール・ツー・ロール（Roll to Roll）方式に用いる露光装置として説明する。

また、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。一例として、水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。

（第１実施形態）
まず、図１から図３を用いて、本実施形態の露光装置の構成について説明する。図１は、第１実施形態に係る処理装置の全体構成を示す模式図である。図２は、図１における円筒マスクを用いる場合の照明領域及び投影領域の配置を示す模式図である。図３は、図１図１における円筒マスクを用いる場合に適用される投影光学系の構成を示す模式図である。なお、図１〜図３に示す円筒マスクを用いる露光装置の基本構成は、国際公開ＷＯ２０１３／０９４２８６号公報、又は、国際公開ＷＯ２０１４／０７３５３５号公報に開示されている。図１に示すように、処理装置１１は、円筒マスクＤＭと投影光学系ＰＬを用いる第１露光装置（処理機構）ＥＸ１と、露光対象であるシート状の基板Ｐを円筒面状に支持する回転ドラム（２２）の周囲に設置された第２露光装置ＥＸ２と、基板Ｐを第１露光装置ＥＸ１、第２露光装置ＥＸ２の順番で送る搬送装置９を含む。第１露光装置ＥＸ１及び第２露光装置ＥＸ２は、搬送装置９により基板Ｐ（シート、フィルム等）が供給されている。基板Ｐは、パターンが転写される被転写基板である。また、本実施形態の基板Ｐは、巻きつけられたドラム等に沿って変形するフレキシブル基板である。また、第２露光装置ＥＸ２は、基板Ｐの搬送方向において、第１露光装置ＥＸ１よりも下流側に配置されている。例えば、図示しない供給ロールから引き出された可撓性の基板Ｐが、順次、ｎ台の処理装置を経て、処理装置１１で処理され、搬送装置９により他の処理装置に送出され、基板Ｐが回収ロールに巻き上げられるデバイス製造システムがある。このように、処理装置１１は、ロール・ツー・ロール方式のデバイス製造システム（フレキシブル・ディスプレー製造ライン）の一部として構成してもよい。

第１露光装置ＥＸ１は、多数の画素部で構成される表示デバイス用のデバイスパターンのうち、少なくとも画素部に関わる第１パターンを基板Ｐに転写する。ここで、第１パターンは、直交する２つの方向に周期的に行列配置された繰り返しパターンである。第１露光装置ＥＸ１は、いわゆる走査露光装置であり、円筒マスクＤＭの回転と可撓性の基板Ｐの送りとを同期駆動させつつ、円筒マスクＤＭに形成されているパターンの像を、投影倍率が等倍（×１）の投影光学系ＰＬ（ＰＬ１〜ＰＬ６）を介して基板Ｐに投影する。なお、図１に示す第１露光装置ＥＸ１は、ＸＹＺ直交座標系のＹ軸を第１ドラム部材２１の回転中心線ＡＸ１と平行に設定している。同様に、第１露光装置ＥＸ１は、ＸＹＺ直交座標系のＹ軸を回転ドラムである第２ドラム部材２２の回転中心線ＡＸ２と平行に設定している。

図１に示すように、第１露光装置ＥＸ１は、マスク保持装置１２、照明機構ＩＵ、投影光学系ＰＬ、露光遮断機構８０及び制御装置１４を備える。第１露光装置ＥＸ１は、マスク保持装置１２に保持された円筒マスクＤＭを回転移動させるとともに、搬送装置９によって基板Ｐを搬送する。照明機構ＩＵは、マスク保持装置１２に保持された円筒マスクＤＭの一部（照明領域ＩＲ）を、照明光束ＥＬ１によって均一な明るさで照明する。投影光学系ＰＬは、円筒マスクＤＭ上の照明領域ＩＲにおけるパターンの像を、搬送装置９によって搬送されている基板Ｐの一部（投影領域ＰＡ）に投影する。円筒マスクＤＭの移動に伴って、照明領域ＩＲに配置される円筒マスクＤＭ上の部位が変化し、また基板Ｐの移動に伴って、投影領域ＰＡに配置される基板Ｐ上の部位が変化する。これにより、円筒マスクＤＭ上の所定のパターン（マスクパターン）の像が基板Ｐに投影される。露光遮断機構８０は、マスクパターンの像が基板Ｐに投影される状態と、マスクパターンの像を遮り、マスクパターンの像が基板Ｐに投影されない状態とに切り換える。制御装置１４は、第１露光装置ＥＸ１の各部を制御し、各部に処理を実行させる。また、本実施形態において、制御装置１４は、搬送装置９及び第２露光装置ＥＸ２も制御する。

なお、制御装置１４は、上述したデバイス製造システムの複数の処理装置を統括して制御する上位制御装置の一部又は全部であってもよい。また、制御装置１４は、上位制御装置に制御され、上位制御装置とは別の装置であってもよい。制御装置１４は、例えば、コンピュータシステムを含む。コンピュータシステムは、例えば、ＣＰＵ及び各種メモリーやＯＳ、周辺機器等のハードウェアを含む。処理装置１１の各部の動作の過程は、プログラムの形式でコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記憶されており、このプログラムをコンピュータシステムが読み出して実行することによって、各種処理が行われる。コンピュータシステムは、インターネット或いはイントラネットシステムに接続可能な場合、ホームページ提供環境（あるいは表示環境）も含む。また、コンピュータ読み取り可能な記録媒体は、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ＲＯＭ、ＣＤ−ＲＯＭ等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置を含む。コンピュータ読み取り可能な記録媒体は、インターネット等のネットワークや電話回線等の通信回線を介してプログラムを送信する場合の通信線のように、短時間の間、動的にプログラムを保持するもの、その場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリーのように、一定時間プログラムを保持しているものも含む。また、プログラムは、処理装置１１の機能の一部を実現するためのものでもよく、処理装置１１の機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるものでもよい。上位制御装置は、制御装置１４と同様に、コンピュータシステムを利用して実現することができる。

図１に示すように、マスク保持装置１２は、円筒マスクＤＭを保持する第１ドラム部材２１、第１ドラム部材２１を支持するガイドローラー２３、制御装置１４の制御指令により第１駆動部２６が第１ドラム部材２１を駆動する駆動ローラー２４及び第１ドラム部材２１の位置を検出する第１検出器２５を備える。

第１ドラム部材２１は、所定の軸となる回転中心線ＡＸ１（以下、第１中心軸ＡＸ１とも呼ぶ）から一定半径で湾曲した曲面を有する円筒部材であって、所定の軸の周りを回転する。第１ドラム部材２１は、円筒マスクＤＭ上の照明領域ＩＲが配置される第１面Ｐ１を形成する。本実施形態において、第１面Ｐ１は、線分（母線）をこの線分に平行な軸（第１中心軸ＡＸ１）周りに回転した面（以下、円筒面という）を含む。円筒面は、例えば、円筒の外周面、円柱の外周面等である。第１ドラム部材２１は、例えばガラスや石英等で構成され、一定の肉厚を有する円筒状であり、その外周面（円筒面）が第１面Ｐ１を形成する。すなわち、本実施形態において、円筒マスクＤＭ上の照明領域ＩＲは、回転中心線ＡＸ１から一定の半径ｒ１を持つ円筒面状に湾曲している。このように、第１ドラム部材２１は、所定の軸である回転中心線ＡＸ１から一定半径で湾曲した曲面を有している。そして、第１ドラム部材２１は、駆動ローラー２４に駆動されて、所定の軸である回転中心線ＡＸ１の周りを回転することができる。

円筒マスク（円筒状マスク）ＤＭは、例えば平坦性の良い短冊状の極薄ガラス板（例えば厚さ１００μｍ〜５００μｍ）の一方の面にクロム等の遮光層でパターンを形成した透過型の平面状シートマスクとして作成される。マスク保持装置１２は、円筒マスクＤＭを第１ドラム部材２１の外周面の曲面に倣って湾曲させ、この曲面に巻き付けた（貼り付けた）状態で使用される。円筒マスクＤＭは、第１ドラム部材２１に対して取り外し可能に設けられる。円筒マスクＤＭについては、後述する。

なお、円筒マスクＤＭを極薄ガラス板で構成し、その円筒マスクＤＭを透明円筒母材による第１ドラム部材２１に巻き付ける代わりに、透明円筒母材による第１ドラム部材２１の外周面に直接クロム等の遮光層によるマスクパターンを描画形成して一体化してもよい。この場合も、第１ドラム部材２１が円筒マスクＤＭのパターンの支持部材として機能する。

第１検出器２５は、第１ドラム部材２１の回転位置を光学的に検出するもので、例えばロータリーエンコーダ等で構成される。第１検出器２５は、検出した第１ドラム部材２１の回転位置を示す情報、例えば、後述するエンコーダヘッドからの２相信号等を制御装置１４に出力する。電動モーター等のアクチュエータ含む第１駆動部２６は、制御装置１４から入力される制御信号に従って、駆動ローラー２４を回転させるためのトルク及び回転速度を調整する。制御装置１４は、第１検出器２５による検出結果に基づいて第１駆動部２６を制御することによって、第１ドラム部材２１の回転位置を制御する。そして、制御装置１４は、第１ドラム部材２１に保持されている円筒マスクＤＭの回転位置と回転速度の一方又は双方を制御する。

第２露光装置ＥＸ２は、基板Ｐの第１露光装置ＥＸ１でパターンを転写していない領域、或いは第１露光装置ＥＸ１でパターンの転写が完了していない領域にパターンを転写する。第２露光装置ＥＸ２は、所謂直描型の露光装置である。第２露光装置ＥＸ２は、例えば、国際公開ＷＯ２０１４／０３４１６１号公報に開示されているように、基板Ｐが長尺方向に一定速度で搬送されている間、ポリゴン走査ユニットＰＯによって１次元走査される描画用のレーザビームを基板Ｐ上にスポット光として集光し、スポット光の一次元走査の間に、レーザビームをパターンデータ（ＣＡＤデータ）に基づいて高速にＯＮ／ＯＦＦ変調することにより、基板Ｐ上に電子回路パターン等を描画（露光）するものである。露光装置ＥＸ２は、円筒マスクＤＭがなくても特定位置における基板Ｐに露光光（スポット光）を照射してパターニング処理をすることができる。ここで、第２露光装置ＥＸは、直描型の露光装置に限定されず、種々の形式の露光装置を用いることができる。例えば、露光装置ＥＸ２は、所謂プロキシミティ露光を基板Ｐに施す処理装置も用いることができる。プロキシミティ方式の露光装置は、透過型の円筒マスクを第２ドラム部材２２に支持された基板Ｐと微小なギャップで対向配置し、透過型の円筒マスクの内部に設置された照明機構からの照明光をマスクパターンに照射し、マスクパターンを透過した露光光（影像）を直接基板Ｐに照射することで、非接触露光するものである。また、第２露光装置ＥＸ２は、第２露光装置ＥＸ１と同様に、マスクパターンの像を投影光学系を介して露光する投影露光装置としても良い。さらに、第２露光装置ＥＸ２は、例えば、国際公開ＷＯ２０１４／０３４１６１号公報に開示された可変マスク（ＤＭＤ：デジタルミラーデバイス）によって形成されるパターン像を投影露光するマスクレス露光装置を使って、第２ドラム部材（回転ドラム）２２に巻き付けられた基板Ｐにパターンの露光を行ってもよい。

搬送装置９は、駆動ローラーＤＲ４、第１ガイド部材３１、基板Ｐ上の投影領域ＰＡが配置される第２面Ｐ２を形成する第２ドラム部材２２、第２ガイド部材３３、駆動ローラーＤＲ４、ＤＲ５、第２検出器３５及び第２駆動部３６を備える。

本実施形態において、搬送経路の上流から駆動ローラーＤＲ４へ搬送されてきた基板Ｐは、駆動ローラーＤＲ４を経由してエアターンバー等の第１ガイド部材３１へ搬送される。第１ガイド部材３１を経由した基板Ｐは、半径ｒ２の円筒状又は円柱状の第２ドラム部材２２の表面に支持されて、エアターンバー等の第２ガイド部材３３へ搬送される。第２ガイド部材３３を経由した基板Ｐは、搬送経路の下流へ搬送される。なお、第２ドラム部材２２の回転中心線ＡＸ２と、駆動ローラーＤＲ４、ＤＲ５の各回転中心線とは、何れもＹ軸と平行になるように設定される。

第１ガイド部材３１及び第２ガイド部材３３は、例えば、基板Ｐの搬送方向に移動することによって、搬送経路において基板Ｐに働くテンション等を調整する。また、駆動ローラＤＲ４と駆動ローラＤＲ５を、例えば、基板Ｐの幅方向（Ｙ方向）に移動可能な構成とすることによって、第２ドラム部材２２の外周に巻き付く基板ＰのＹ方向の位置等を調整することができる。なお、搬送装置９は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＡに沿って基板Ｐを搬送可能であればよく、搬送装置９の構成は適宜変更可能である。

第２ドラム部材２２は、所定の軸となる回転中心線ＡＸ２（以下、第２中心軸ＡＸ２とも呼ぶ）から一定半径で湾曲した曲面を有する円筒部材であって、所定の軸の周りを回転する回転ドラムである。第２ドラム部材２２は、投影光学系ＰＬからの結像光束が投射される基板Ｐ上の投影領域ＰＡを含む一部分を円弧状（円筒状）に支持する第２面（支持面）ｐ２を形成する。本実施形態において、第２ドラム部材２２は、搬送装置９の一部であるとともに、露光対象の基板Ｐを支持する支持部材（基板ステージ）を兼ねている。すなわち、第２ドラム部材２２は、第１露光装置ＥＸ１（或いは第２露光装置ＥＸ２）の一部であってもよい。このように、第２ドラム部材２２は、その回転中心線ＡＸ２（第２中心軸ＡＸ２）の周りに回転可能であり、基板Ｐは、第２ドラム部材２２上の外周面（円筒面）に倣って円筒面状に湾曲し、湾曲した部分の一部に投影領域ＰＡが配置される。

本実施形態において、第２ドラム部材２２は、電動モーター等のアクチュエータを含む第２駆動部３６から供給されるトルクによって回転する。第２検出器３５も、例えばロータリーエンコーダ等で構成され、第２ドラム部材２２と共に回転するスケール円盤の回折格子の回転位置変化を光学的に検出する。第２検出器３５は、検出した第２ドラム部材２２の回転位置変化を示す情報（例えば、後述するエンコーダヘッドＥＮ１、ＥＮ２、ＥＮ３、ＥＮ４、ＥＮ５、ＥＭ６の各々からの２相信号等）を制御装置１４に出力する。従って、制御装置１４内には、エンコーダヘッドＥＮ１〜ＥＭ６の各々に対応したデジタルカウンタ回路が設けられ、制御装置１４は、各カウンタ回路の計数値によって第２ドラム部材２２の外周面で支持される基板Ｐの移動量を算出する。第２駆動部３６は、制御装置１４から供給される制御信号に従って、第２ドラム部材２２を回転させるトルクを調整する。制御装置１４は、第２検出器３５による検出結果に基づいて第２駆動部３６を制御することによって、第２ドラム部材２２の回転位置を制御し、第１ドラム部材２１（円筒マスクＤＭ）と第２ドラム部材２２とを同期移動（同期回転）させる。

本実施形態の第１露光装置ＥＸ１は、国際公開ＷＯ２０１４／０３４１６１号公報にも開示されているように、所謂、マルチレンズ方式の投影光学系ＰＬを搭載することを想定した露光装置である。投影光学系ＰＬは、円筒マスクＤＭのパターンにおける一部の像を投影する複数の投影モジュールを備える。例えば、図１では、中心面Ｐ３の左側に３つの投影モジュール（投影光学系）ＰＬ１、ＰＬ３、ＰＬ５がＹ方向に一定間隔で配置され、中心面Ｐ３の右側にも３つの投影モジュール（投影光学系）ＰＬ２、ＰＬ４、ＰＬ６がＹ方向に一定間隔で配置される。

このようなマルチレンズ方式の第１露光装置ＥＸ１では、複数の投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６によって露光された領域（投影領域ＰＡ１〜ＰＡ６）のＹ方向の端部を走査によって互いに重ね合わせることによって、所望のパターンの全体像を投影する。このような第１露光装置ＥＸ１は、円筒マスクＤＭ上のパターンのＹ方向サイズが大きくなり、必然的にＹ方向の幅が大きな基板Ｐを扱う必要性が生じた場合でも、投影モジュールＰＡと、投影モジュールＰＡに対応する照明機構ＩＵ側のモジュールとをＹ方向に増設するだけで良いので、容易にパネルサイズ（基板Ｐの幅）の大型化に対応できると言った利点がある。

なお、第１露光装置ＥＸ１は、マルチレンズ方式でなくてもよい。例えば、基板Ｐの幅方向の寸法がある程度小さい場合等に、第１露光装置ＥＸ１は、１つの投影モジュールによってパターンの全幅の像を基板Ｐに投影してもよい。また、複数の投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６は、それぞれ、１個のデバイスに対応するパターンを投影してもよい。すなわち、第１露光装置ＥＸ１は、複数個のデバイス用のパターンを、複数の投影モジュールによって並行して投影してもよい。

本実施形態の照明機構ＩＵは、光源装置１３及び照明光学系を備える。照明光学系は、複数の投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６の各々に対応してＹ軸方向に並んだ複数（例えば６つ）の照明モジュールＩＬを備える。光源装置は、例えば水銀ランプ等のランプ光源、又はレーザーダイオード、発光ダイオード（ＬＥＤ）等の固体光源を含む。光源装置が射出する照明光は、例えばランプ光源から射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、或いは、赤外波長域のパルス状の種光をファイバーアンプで増幅した後、波長変換素子（高調波発生結晶等）によって紫外パルス光（波長３５５ｎｍ）を得るファイバーアンプレーザ等である。光源装置から射出された照明光は、照度分布が均一化されて、例えば光ファイバー等の導光部材を介して、複数の照明モジュールＩＬに振り分けられる。

複数の照明モジュールＩＬのそれぞれは、レンズ等の複数の光学部材を含む。本実施形態において、光源装置から出射して複数の照明モジュールＩＬのいずれかを通る光を照明光束ＥＬ１と称する。複数の照明モジュールＩＬのそれぞれは、例えばインテグレータ光学系、ロッドレンズ、フライアイレンズ等を含み、均一な照度分布の照明光束ＥＬ１によって照明領域ＩＲを照明する。本実施形態において、複数の照明モジュールＩＬは、円筒マスクＤＭの内側に配置されている。複数の照明モジュールＩＬのそれぞれは、円筒マスクＤＭの内側から円筒マスクＤＭの外周面に形成されたマスクパターンの各照明領域ＩＲを照明する。

図２は、本実施形態における照明領域ＩＲ及び投影領域ＰＡの配置を示す図である。なお、図２には、第１ドラム部材２１に配置された円筒マスクＤＭ上の照明領域ＩＲを−Ｚ側から見た平面図（図２中の左側の図）と、第２ドラム部材２２に配置された基板Ｐ上の投影領域ＰＡを＋Ｚ側から見た平面図（図２中の右側の図）とが図示されている。図２中の符号Ｘｓは、第１ドラム部材２１又は第２ドラム部材２２の回転方向（移動方向）を示す。

複数の照明モジュールＩＬは、それぞれ、円筒マスクＤＭ上の第１から第６照明領域ＩＲ１〜ＩＲ６を照明する。例えば、第１照明モジュールＩＬは、第１照明領域ＩＲ１を照明し、第２照明モジュールＩＬは第２照明領域ＩＲ２を照明する。

第１照明領域ＩＲ１は、Ｙ方向に細長い台形状の領域として説明するが、投影光学系（投影モジュール）ＰＬのように、中間像面を形成する構成の投影光学系の場合は、その中間像の位置に台形開口を有する視野絞り板を配置できる為、その台形開口を包含する長方形の領域としても良い。第３照明領域ＩＲ３及び第５照明領域ＩＲ５は、それぞれ、第１照明領域ＩＲ１と同様の形状の領域であり、Ｙ軸方向に一定間隔を空けて配置されている。また、第２照明領域ＩＲ２は、中心面Ｐ３に関して第１照明領域ＩＲ１と対称的な台形状（又は長方形）の領域である。第４照明領域ＩＲ４及び第６照明領域ＩＲ６は、それぞれ、第２照明領域ＩＲ２と同様の形状の領域であり、Ｙ軸方向に一定間隔を空けて配置されている。

図２に示すように、第１から第６照明領域ＩＲ１〜ＩＲ６のそれぞれは、第１面Ｐ１の周方向に沿って見た場合に、隣り合う台形状の照明領域の斜辺部の三角部が重なるように（オーバーラップするように）配置されている。そのため、例えば、第１ドラム部材２１の回転によって第１照明領域ＩＲ１を通過する円筒マスクＤＭ上の第１領域Ａ１は、第１ドラム部材２１の回転によって第２照明領域ＩＲ２を通過する円筒マスクＤＭ上の第２領域Ａ２と一部重複する。

本実施形態において、円筒マスクＤＭは、パターンが形成されているパターン形成領域Ａ３と、パターンが形成されていないパターン非形成領域Ａ４とを含む。そのパターン非形成領域Ａ４は、パターン形成領域Ａ３を枠状に囲むように配置されており、照明光束ＥＬ１を遮光する特性を有する。円筒マスクＤＭのパターン形成領域Ａ３は、第１ドラム部材２１の回転に伴って移動方向Ｘｓに移動し、パターン形成領域Ａ３のうちのＹ軸方向の各部分領域は、第１から第６照明領域ＩＲ１〜ＩＲ６のいずれかを通過する。換言すると、第１から第６照明領域ＩＲ１〜ＩＲ６は、パターン形成領域Ａ３のＹ軸方向の全幅をカバーするように、配置されている。

図１に示すように、Ｙ軸方向に並ぶ複数の投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６のそれぞれは、第１から第６照明モジュールＩＬのそれぞれと１対１で対応しており、対応する照明モジュールによって照明される照明領域ＩＲ内に現れる円筒マスクＤＭの部分的なパターンの像を、基板Ｐ上の各投影領域ＰＡに投影する。

例えば、第１投影モジュールＰＬ１は、第１照明モジュールＩＬに対応し、第１照明モジュールＩＬによって照明される第１照明領域ＩＲ１（図２参照）における円筒マスクＤＭのパターンの像を、基板Ｐ上の第１投影領域ＰＡ１に投影する。第３投影モジュールＰＬ３、第５投影モジュールＰＬ５は、それぞれ、第３〜第５照明モジュールＩＬと対応している。第３投影モジュールＰＬ３及び第５投影モジュールＰＬ５は、Ｙ軸方向から見ると、第１投影モジュールＰＬ１と重なる位置に配置されている。

また、第２投影モジュールＰＬ２は、第２照明モジュールＩＬに対応し、第２照明モジュールＩＬによって照明される第２照明領域ＩＲ２（図２参照）における円筒マスクＤＭのパターンの像を、基板Ｐ上の第２投影領域ＰＡ２に投影する。第２投影モジュールＰＬ２は、Ｙ軸方向から見ると、第１投影モジュールＰＬ１に対して中心面Ｐ３を挟んで対称的な位置に配置されている。

第４投影モジュールＰＬ４、第６投影モジュールＰＬ６は、それぞれ、第４、第６照明モジュールＩＬと対応して配置され、第４投影モジュールＰＬ４及び第６投影モジュールＰＬ６は、Ｙ軸方向から見て、第２投影モジュールＰＬ２と重なる位置に配置されている。

なお、本実施形態において、照明機構ＩＵの各照明モジュールＩＬから円筒マスクＤＭ上の各照明領域ＩＲ１〜ＩＲ６に達する光を照明光束ＥＬ１とする。また、各照明領域ＩＲ１〜ＩＲ６中に現れる円筒マスクＤＭの部分パターンに応じた強度分布変調を受けて各投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６に入射して各投影領域ＰＡ１〜ＰＡ６に達する光を、結像光束ＥＬ２とする。そして、各投影領域ＰＡ１〜ＰＡ６に達する結像光束ＥＬ２のうち、投影領域ＰＡ１〜ＰＡ６の各中心点を通る主光線は、図１に示すように、第２ドラム部材２２の第２中心軸ＡＸ２からみて、中心面Ｐ３を挟んで周方向で角度θの位置（特定位置）にそれぞれ配置される。

図２に示すように、第１照明領域ＩＲ１におけるパターンの像は第１投影領域ＰＡ１に投影され、第３照明領域ＩＲ３におけるパターンの像は、第３投影領域ＰＡ３に投影され、第５照明領域ＩＲ５におけるパターンの像は、第５投影領域ＰＡ５に投影される。本実施形態において、第１投影領域ＰＡ１、第３投影領域ＰＡ３及び第５投影領域ＰＡ５は、Ｙ軸方向に一列に並ぶように配置される。

また、第２照明領域ＩＲ２におけるパターンの像は、第２投影領域ＰＡ２に投影される。本実施形態において、第２投影領域ＰＡ２は、Ｙ軸方向から見て、中心面Ｐ３に関して第１投影領域ＰＡ１と対称的に配置される。また、第４照明領域ＩＲ４におけるパターンの像は、第４投影領域ＰＡ４に投影され、第６照明領域ＩＲ６におけるパターンの像は、第６投影領域ＰＡ６に投影される。本実施形態において、第２投影領域ＰＡ２、第４投影領域ＰＡ４及び第６投影領域ＰＡ６は、Ｙ軸方向に一列に並ぶように配置される。

第１から第６投影領域ＰＡ１〜ＰＡ６のそれぞれは、第２面ｐ２の周方向に沿って見た場合に、第２中心軸ＡＸ２に平行な方向において隣り合う投影領域（奇数番目と偶数番目)同士の端部（台形の三角部分）が重なるように配置されている。そのため、例えば、第２ドラム部材２２の回転によって第１投影領域ＰＡ１を通過する基板Ｐ上の第３領域Ａ５は、第２ドラム部材２２の回転によって第２投影領域ＰＡ２を通過する基板Ｐ上の第４領域Ａ６と一部重複する。第１投影領域ＰＡ１と第２投影領域ＰＡ２は、第３領域Ａ５と第４領域Ａ６が重複する領域での露光量が、重複しない領域の露光量と実質的に同じになるように、それぞれの形状等が設定されている。このように、第１〜第６投影領域ＰＡ１〜ＰＡ６は、基板Ｐ上に露光される露光領域Ａ７のＹ方向の全幅をカバーするように、配置されている。

次に、本実施形態の投影光学系ＰＬの詳細構成について図３を参照して説明する。なお、本実施形態において、第２投影モジュールＰＬ２〜第５投影モジュールＰＬ５のそれぞれは、第１投影モジュールＰＬ１と同様の構成である。このため、投影光学系ＰＬを代表して、第１投影モジュールＰＬ１の構成について説明し、第２投影モジュールＰＬ２〜第５投影モジュールＰＬ５のそれぞれの説明は省略する。

図３に示す第１投影モジュールＰＬ１は、第１照明領域ＩＲ１に配置された円筒マスクＤＭのパターンの像を中間像面Ｐ７に結像する第１光学系４１と、第１光学系４１が形成した中間像の少なくとも一部を基板Ｐの第１投影領域ＰＡ１に再結像する第２光学系４２と、中間像が形成される中間像面Ｐ７に配置された第１視野絞り４３とを備える。

また、第１投影モジュールＰＬ１は、フォーカス補正光学部材４４、像シフト補正光学部材４５、ローテーション補正機構４６及び倍率補正用光学部材４７を備えている。フォーカス補正光学部材４４は、基板Ｐ上に形成されるマスクのパターン像（以下、投影像という）のフォーカス状態を微調整するフォーカス調整装置である。また、補正光学部材４５は、投影像を像面内で微少に横シフトさせるシフト調整装置である。倍率補正用光学部材４７は、投影像の倍率を微少補正するシフト調整装置である。ローテーション補正機構４６は、投影像を像面内で微少回転させるシフト調整装置である。

円筒マスクＤＭのパターンからの結像光束ＥＬ２は、第１照明領域ＩＲ１から法線方向（Ｄ１）に出射し、フォーカス補正光学部材４４を通って像シフト補正光学部材４５に入射する。像シフト補正光学部材４５を透過した結像光束ＥＬ２は、第１光学系４１の要素である第１偏向部材５０の第１反射面（平面鏡）ｐ４で反射され、第１レンズ群５１を通って第１凹面鏡５２で反射され、再び第１レンズ群５１を通って第１偏向部材５０の第２反射面（平面鏡）ｐ５で反射されて、第１視野絞り４３に入射する。第１視野絞り４３を通った結像光束ＥＬ２は、第２光学系４２の要素である第２偏向部材５７の第３反射面（平面鏡）ｐ８で反射され、第２レンズ群５８を通って第２凹面鏡５９で反射され、再び第２レンズ群５８を通って第２偏向部材５７の第４反射面（平面鏡）ｐ９で反射されて、倍率補正用光学部材４７に入射する。倍率補正用光学部材４７から出射した結像光束ＥＬ２は、基板Ｐ上の第１投影領域ＰＡ１に入射し、第１照明領域ＩＲ１内に現れるパターンの像が第１投影領域ＰＡ１に等倍（×１）で投影される。

図１に示す円筒マスクＤＭの半径を半径ｒ１とし、第２ドラム部材２２に巻き付いた基板Ｐの円筒状の表面の半径を半径ｒ２として、半径ｒ１と半径ｒ２とを等しくした場合、各投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６のマスク側における結像光束ＥＬ２の主光線は、円筒マスクＤＭの中心軸線ＡＸ１を通るように傾けられるが、その傾き角は、基板側における結像光束ＥＬ２の主光線の傾き角θ（中心面Ｐ３に対して±θ）と同じになる。

第２偏向部材５７の第３反射面ｐ８が第２光軸ＡＸ４となす角度θ３は、第１偏向部材５０の第２反射面ｐ５が第１光軸ＡＸ３となす角度θ２と実質的に同じである。また、第２偏向部材５７の第４反射面ｐ９が第２光軸ＡＸ４となす角度θ４は、第１偏向部材５０の第１反射面ｐ４が第１光軸ＡＸ３となす角度θ１と実質的に同じである。上述した傾き角θを与えるため、図３に示した第１偏向部材５０の第１反射面ｐ４の光軸ＡＸ３に対する角度θ１を４５°よりもΔθ１だけ小さくし、第２偏向部材５７の第４反射面ｐ９の光軸ＡＸ４に対する角度θ４を４５°よりもΔθ４だけ小さくする。Δθ１とΔθ４は、図１中に示した角度θに対して、Δθ１＝Δθ４＝θ／２の関係に設定される。

図４は、図１の処理装置（露光システム）に適用される回転ドラムの斜視図である。図５は、図１の処理装置（露光システム）に適用される検出プローブと読み取り装置との関係を説明するための斜視図である。なお、図４においては、便宜上、第２から第４投影領域ＰＡ２〜ＰＡ４のみを図示し、第１、第５、第６投影領域ＰＡ１、ＰＡ５、ＰＡ６の図示を省略している。

図１に示す第２検出器３５は、第２ドラム部材２２の回転位置を光学的に検出するものであって、高真円度のスケール円盤（スケール部材）ＳＤと、読み取り装置であるエンコーダヘッドＥＮ１、ＥＮ２、ＥＮ３、ＥＮ４、ＥＮ５、ＥＮ６を含む。

スケール円盤ＳＤは、第２ドラム部材２２の端部に回転軸ＳＴと直交するように固定されている。このため、スケール円盤ＳＤは、回転中心線ＡＸ２回りに回転軸ＳＴと共に一体的に回転する。スケール円盤ＳＤの外周面には、スケール部ＧＰが刻設されている。スケール部ＧＰは、第２ドラム部材２２が回転する周方向に沿って、例えば２０μｍピッチで格子状の目盛が環状に配列され、かつ第２ドラム部材２２とともに回転軸ＳＴ（第２中心軸ＡＸ２）の周囲を回転する。エンコーダヘッドＥＮ１、ＥＮ２、ＥＮ３、ＥＮ４、ＥＮ５、ＥＮ６は、回転軸ＳＴ（第２中心軸ＡＸ２）からみてスケール部ＧＰの周囲に配置されている。エンコーダヘッドＥＮ１、ＥＮ２、ＥＮ３、ＥＮ４、ＥＮ５、ＥＮ６は、スケール部ＧＰと対向配置され、スケール部ＧＰにレーザビーム（１ｍｍ程度の径）を投射し、格子状の目盛からの反射回折光を光電検出することにより、例えば、０．１μｍ程度の分解能でスケール部ＧＰの周方向の位置変化を非接触で読み取ることができる。また、各エンコーダヘッドＥＮ１〜ＥＮ６は、第２ドラム部材２２の周方向の異なる位置に配置されている。

エンコーダヘッドＥＮ１〜ＥＮ６は、スケール部ＧＰの接線方向（ＸＺ面内）の変位の変動に対して計測感度（検出感度）を有する読み取り装置である。図４に示すように、エンコーダヘッドＥＮ１、ＥＮ２、ＥＮ３、ＥＮ４、ＥＮ５、ＥＮ６の設置方位（回転中心線ＡＸ２を中心としたＸＺ面内での角度方向）を設置方位線Ｌｅ１、Ｌｅ２、Ｌｅ３、Ｌｅ４、Ｌｅ５、Ｌｅ６で表す場合、設置方位線Ｌｅ１、Ｌｅ２が、中心面Ｐ３に対して角度±θ°になるように、エンコーダヘッドＥＮ１、ＥＮ２が配置される。なお、角度θは、例えば１５°である。また、各設置方位線Ｌｅ１〜Ｌｅ６は、各エンコーダヘッドＥＮ１〜ＥＮ６から投射されるレーザビーム（１ｍｍ程度の径）のスケール部ＧＰ上での投射位置を通るものとする。

図３に示す投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６は、基板Ｐを被処理物体とし、基板Ｐに光を照射する照射処理を施す第１露光装置ＥＸ１の処理部である。第１露光装置ＥＸ１は、基板Ｐに対して２つの結像光束ＥＬ２の主光線が基板Ｐに入射する。投影モジュールＰＬ１、ＰＬ３、ＰＬ５が第１処理部となり、投影モジュールＰＬ２、ＰＬ４、ＰＬ６が第２処理部となり、基板Ｐに対して２つの結像光束ＥＬ２の主光線が基板Ｐに入射するそれぞれの位置が基板Ｐに光を照射する照射処理を施す特定位置となる。特定位置は、第２ドラム部材２２の第２中心軸ＡＸ２からみて、第２ドラム部材２２上の曲面の基板Ｐにおける、中心面Ｐ３を挟んで周方向で角度±θの位置である。エンコーダヘッドＥＮ１の設置方位線Ｌｅ１は、奇数番目の投影モジュールＰＬ１、ＰＬ３、ＰＬ５の各投影領域（投影視野）ＰＡ１、ＰＡ３、ＰＡ５の中心点を通る主光線の中心面Ｐ３に対する傾き角θと一致し、ヘッドＥＮ２の設置方位線Ｌｅ２は、偶数番目の投影モジュールＰＬ２、ＰＬ４、ＰＬ６の各投影領域（投影視野）ＰＡ２、ＰＡ４、ＰＡ６の中心点を通る主光線の中心面Ｐ３に対する傾き角θと一致している。このため、エンコーダヘッドＥＮ１、ＥＮ２は、特定位置と第２中心軸ＡＸ２とを結ぶ方向に位置するスケール部ＧＰを読み取る読み取り装置となる。

エンコーダヘッドＥＮ３、ＥＮ４、ＥＮ５は、基板Ｐの送り方向の上流側、具体的には、第１露光装置ＥＸ１の露光位置（投影領域）よりも上流側に手前に配置されている。また、エンコーダヘッドＥＮ６は、基板Ｐの送り方向の下流側、第１露光装置ＥＸ１の露光位置（投影領域）よりも下流側でかつ第１露光装置ＥＸ２の露光位置（投影領域）よりも上流側に配置されている。つまり、各エンコーダヘッドＥＮ１〜ＥＮ６は、基板Ｐの送り方向において、上流側から下流側に向けて、エンコーダヘッドＥＮ３、エンコーダヘッドＥＮ４、エンコーダヘッドＥＮ５、エンコーダヘッドＥＮ１、エンコーダヘッドＥＮ２、エンコーダヘッドＥＮ６の順で配置されている。

エンコーダヘッドＥＮ３、ＥＮ４は、基板Ｐの送り方向において、プリアライメント（ラフアライメント）を行う位置に配置されている。プリアライメントを行う位置とは、基板Ｐの送り方向において、第２ドラム部材２２の上流側の部分であり、基板Ｐが第２ドラム部材２２に巻きつけられた位置である。エンコーダヘッドＥＮ５は、基板Ｐの送り方向において、第１露光装置ＥＸ１の為のファインアライメントの位置に配置されている。エンコーダヘッドＥＮ６は、基板Ｐの送り方向において、第２露光装置ＥＸ２の為のファインアライメントの位置に配置されている。

図１及び図５に示すように、第２ドラム部材２２の曲面に支持される基板Ｐの一部分に、図１に示す投影光学系ＰＬにより投影されたマスクパターンの一部分の像と基板Ｐとを相対的に位置合せ（アライメント）する為に、基板Ｐに予め形成されたアライメントマーク等を検出するアライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２、ＡＭＧ３、ＡＭＧ４が設けられている。アライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２、ＡＭＧ３、ＡＭＧ４は、基板Ｐ上に離散又は連続して形成された特定パターンを検出する為の検出プローブと、この検出プローブによる検出領域が、上述した特定位置よりも基板Ｐの送り方向の後方側（上流側）に設定されるように、第２ドラム部材２２の周囲に配置されるパターン検出装置である。

アライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２、ＡＭＧ３、ＡＭＧ４は、基板Ｐの送り方向において、上流側からこの順で配置されている。アライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２は、基板Ｐの送り方向において、プリアライメントを行う位置に配置されている。アライメント顕微鏡ＡＭＧ３は、基板Ｐの送り方向において、第１露光装置ＥＸ１のアライメント位置に配置されている。つまり、アライメント顕微鏡ＡＭＧ３は、基板Ｐの送り方向において、第１露光装置ＥＸ１のパターンが転写される領域よりも上流側に配置されている。アライメント顕微鏡ＡＭＧ４は、基板Ｐの送り方向において、第２露光装置ＥＸ２のアライメント位置に配置されている。つまり、アライメント顕微鏡ＡＭＧ４は、基板Ｐの送り方向において、第２露光装置ＥＸ２のパターンが転写される領域よりも上流側に配置されている。

図５に示すように、アライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２は、Ｙ軸方向（基板Ｐの幅方向）に一列に並んだ複数（例えば４つ）の検出プローブを有している。また、図示を省略したが、アライメント顕微鏡ＡＭＧ３、ＡＭＧ４は、基板Ｐの送り方向における位置が異なるのみで同様の構成である。アライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２、ＡＭＧ３、ＡＭＧ４は、第２ドラム部材２２のＹ軸方向の両側端の検出プローブで、基板Ｐの両端付近に形成されたアライメントマークを常時観察または検出することができる。そして、アライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２、ＡＭＧ３、ＡＭＧ４は、第２ドラム部材２２のＹ軸方向（基板Ｐの幅方向）の両側端以外の検出プローブで、例えば、基板Ｐ上に長尺方向に沿って複数形成される表示パネルのパターン形成領域の間の余白部等に形成されるアライメントマークを観察または検出することができる。

図５に示すように、ＸＺ面内かつ回転中心線ＡＸ２からみたときに、アライメント顕微鏡ＡＭＧ１による基板Ｐの観察方向ＡＭ１（第２中心軸ＡＸ２に向かう）の検出中心と同一方向となるように、スケール部ＧＰの径方向に設定される設置方位線Ｌｅ３上に、エンコーダヘッドＥＮ３が配置されている。また、ＸＺ面内かつ回転中心線ＡＸ２からみたときに、アライメント顕微鏡ＡＭＧ２による基板Ｐの観察方向ＡＭ２（回転中心線ＡＸ２に向かう）の検出中心と同一方向となるように、スケール部ＧＰの径方向に設定される設置方位線Ｌｅ４上の各々に、エンコーダヘッドＥＮ４が配置されている。このように、アライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２の検出プローブが第２中心軸ＡＸ２からみて第２ドラム部材２２の周囲に配置され、エンコーダヘッドＥＮ３、ＥＮ４が配置された位置と第２中心軸ＡＸ２とを結ぶ方向（設置方位線Ｌｅ３、Ｌｅ４）が、第２中心軸ＡＸ２とアライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２の検出領域とを結ぶ方向と一致するよう配置されている。なお、アライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２及びエンコーダヘッドＥＮ３、ＥＮ４が配置される回転中心線ＡＸ２周り方向の位置は、基板Ｐが第２ドラム部材２２に接触し始めるシート進入領域ＩＡと、第２ドラム部材２２から基板Ｐが外れるシート離脱領域ＯＡとの間に設定される。また、アライメント顕微鏡ＡＭＧ３による基板Ｐの観察方向（第２中心軸ＡＸ２に向かう）の検出中心と同一方向となるように、スケール部ＧＰの径方向に設定される設置方位線Ｌｅ５上に、エンコーダヘッドＥＮ５が配置されている。アライメント顕微鏡ＡＭＧ４による基板Ｐの観察方向（第２中心軸ＡＸ２に向かう）の検出中心と同一方向となるように、スケール部ＧＰの径方向に設定される設置方位線Ｌｅ６上に、エンコーダヘッドＥＮ６が配置されている。

アライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２、ＡＭＧ３、ＡＭＧ４は、基板ＰのＹ方向の端部付近に形成されたアライメントマーク（数十μｍ〜数百μｍ角内の領域に形成）を、基板Ｐが所定速度で送られている状態で、撮像素子等により高速に画像検出するものであり、顕微鏡視野（撮像範囲）でマークの像を高速にサンプリングする。そのサンプリングが行なわれた瞬間に、対応するエンコーダヘッドＥＮ３、ＥＮ４、ＥＮ５、ＥＮ６によって逐次計測されるスケール円盤ＳＤの回転角度位置を記憶することにより、基板Ｐ上のマーク位置と第２ドラム部材２２の回転角度位置との対応関係が求められる。

アライメント顕微鏡ＡＭＧ１で検出したマークを、アライメント顕微鏡ＡＭＧ２で検出したときに、エンコーダヘッドＥＮ３によって計測されて記憶された角度位置とエンコーダヘッドＥＮ４によって計測されて記憶された角度位置との差分値を、予め精密に較正されている２つのアライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２の設置方位線Ｌｅ３、Ｌｅ４の開き角に対応した基準値と比較する。これにより、基板Ｐの位置ずれや伸びを検出することができる。例えば、差分値と基準値に差が生じている場合は、シート進入領域ＩＡとシート離脱領域ＯＡとの間で、基板Ｐが第２ドラム部材２２上で僅かに滑っている、または送り方向（周方向）に伸縮していることを検出することができる。また、アライメント顕微鏡ＡＧＭ３によるマーク位置の検出結果とエンコーダＥＮ５による第２ドラム部材２２の回転角度の検出結果と、上流側のアライメント顕微鏡ＡＧＭ２によるマーク位置の検出結果とエンコーダＥＮ４による第２ドラム部材２２の回転角度の検出結果と、を比較することで、第１露光装置ＥＸ１で露光する直前の基板の変動を検出することができる。同様にアライメント顕微鏡ＡＧＭ４の検出結果とエンコーダＥＮ６の検出結果と、上流側のアライメント顕微鏡ＡＧＭ３の検出結果とエンコーダＥＮ５の検出結果と、を比較することで、第２露光装置ＥＸ２で露光する直前の基板の変動を検出することができる。制御装置１４は、検出結果に基づいて、露光条件（投影像の微少回転誤差や倍率誤差等）を調整することで、基板に好適なパターンを転写することができる。

次に、図１に加え、図６Ａ及び図６Ｂを用いて、露光遮蔽機構８０について説明する。図６Ａは、図１の処理装置（露光システム）に適用される露光遮蔽機構を説明するための模式図である。図６Ｂは、図１の処理装置（露光システム）に適用される露光遮蔽機構を説明するための模式図である。

露光遮断機構８０は、円筒マスクＤＭのパターンの像が基板Ｐに投影される状態と、マスクパターンの像を遮り、円筒マスクＤＭのパターンの像が基板Ｐに投影されない状態とに切り換える。露光遮蔽機構８０は、図６Ａ及び図６Ｂに示すように、遮蔽板８１と、遮蔽板８１を移動させる駆動機構８２と、を有する。遮蔽板８１は、投影光学系ＰＬの第２ドラム部材２２側の端部と第２ドラム部材２２の間に配置されている。つまり、遮蔽板８１は、第２ドラム部材２２と対面している。

遮蔽板８１は、板状のＹ軸方向の長さが投影領域（投影視野）ＰＡ１〜ＰＡ６の全域を覆う長さであり、Ｙ軸方向における位置が投影領域（投影視野）ＰＡ１〜ＰＡ６の全ての領域と重なる。また、遮蔽板８１は、図６Ａに示すように、ＺＸ平面上の形状が、第２ドラム部材２２に沿って曲がった円弧形状となる。遮蔽板８１は、基板Ｐの搬送方向における長さが、投影領域（投影視野）ＰＡ１〜ＰＡ６の全域を含む長さよりも長い。つまり、基板Ｐの搬送方向において、投影領域（投影視野）ＰＡ１の上流側の端部と投影領域（投影視野）ＰＡ２の下流側の端部とを結んだ距離よりも長く設定される。

遮蔽板８１は、少なくとも、投影光学系ＰＬ側の面が、投影光学系ＰＬから出射された光（投影像を形成する光束）を遮る機能を備える。遮蔽板８１は、投影光学系ＰＬから出射された光の大部分を吸収するように、反射率を極力低くすることが好ましいが、一定の反射率を持っていても良い。

駆動機構８２は、遮蔽板８１と接続された支持部８２ａと、支持部８２ａを移動させる駆動部８２ｂと、を有する。支持部８２ａは、棒状の部材であり、一方の端部が遮蔽板８１に固定され、他方の端部が駆動部８２ｂに支持されている。駆動部８２ｂは、支持部８２ａを基板Ｐの搬送方向に沿って矢印８４の方向に移動させる。駆動機構８２は、遮蔽板８１を投影領域（投影視野）ＰＡ１〜ＰＡ６と重ならない位置から投影領域（投影視野）ＰＡ１〜ＰＡ６と重なる位置に、または、投影領域（投影視野）ＰＡ１〜ＰＡ６と重なる位置から投影領域（投影視野）ＰＡ１〜ＰＡ６と重ならない位置に移動させる。遮蔽板８１が投影領域（投影視野）ＰＡ１〜ＰＡ６と重なる位置とは、遮蔽板８１が投影領域（投影視野）ＰＡ１〜ＰＡ６のそれぞれに照射される結像光束ＥＬ２を遮る位置であり、遮蔽板８１ａで示す位置である。つまり、駆動機構８２は、遮蔽板８１を、基板Ｐの搬送方向に沿って、遮蔽板８１で示す位置と遮蔽版８１ａで示す位置との間の任意の位置に移動させることができる。

露光遮蔽機構８０は、以上のような構成であり、本実施形態の駆動機構８２は、支持部８２ａと駆動部８２ｂとを遮蔽板８１の一方の端部のみに設けたが、遮蔽８１のＹ方向の両方の端部に設けてもよい。また、移動機構を設けていない側の端部に遮蔽版８１の移動を補助するレール等の案内機構を設けてもよい。

次に、図７及び図８を用いて、円筒マスクについて説明する。図７は、図１の処理装置（露光システム）に適用される円筒マスクを説明するための斜視図である。図８は、図１の処理装置（露光システム）に適用される円筒マスクを説明するための部分展開図である。円筒マスクＤＭは、多数の画素部で構成される表示デバイス用のデバイスパターンを基板Ｐに転写するマスクである。

本実施形態の円筒マスクＤＭは、所定の中心線から一定半径の円筒状の外周面に沿って繰り返しパターン領域９０と、緩衝領域９２とが形成されている。具体的には、円筒マスクＤＭは、円筒マスクＤＭの回転方向、つまり円周方向に、繰り返しパターン領域９０と、緩衝領域９２とが交互に隣接して形成されている。なお、円筒マスクＤＭの円周方向に配置される繰り返しパターン領域９０と緩衝領域９２の数は特に限定されない。

繰り返しパターン領域９０は、デバイスパターンのうち少なくとも画素部に関わる第１パターンが、外周面の周方向と中心線ＡＸ１の方向の各々に関して周期的に複数形成される。ここで、第１パターンとはカラーフィルタの各色に対応するパターンや、各画素の電極のパターン、各画素に形成される薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のゲート／ソース／ドレインの電極のパターン、ＴＦＴの半導体層や絶縁膜用のパターン等である。繰り返しパターン領域９０は、画素部に係る第１パターンに加え、他の繰り返しパターン、例えば基板の製造に必要なアライメントマークを転写するパターンを含んでいてもよい。

緩衝領域９２は、繰り返しパターン領域９０の第１パターンと異なる第２パターンが形成される。本実施形態の緩衝領域９２は、第１パターンの周方向（図８のＸ方向）に伸びた配線と同じＹ方向の間隔で形成され、かつ、Ｙ方向の幅が第１パターンの周方向に伸びた配線よりも太い配線のパターンが形成されている。また、第２パターンは、Ｘ方向の幅も第１パターンの周方向に伸びた配線の１つの繰り返しパターン、つまり１つの画素部の線幅よりも長い配線のパターンが形成されている。第２パターンは、形成されている太い配線が、対応する位置、つまりＹ軸方向の同じ位置に配置された、周方向の一方に隣接する繰り返しパターン領域９０の第１パターンの周方向に伸びた配線及び周方向の他方に隣接する繰り返しパターン領域９０の第１パターンの周方向に伸びた配線と繋がっている。

円筒マスクＤＭは、図８に示すように展開した場合の繰り返しパターン領域９０の周方向の寸法（距離）がＭＬとなり、緩衝領域９２の周方向の寸法がＢＬとなる。また、円筒マスクＤＭ上において、繰り返しパターン領域９０の第１パターンの画素部の周方向の寸法（画素ピッチ）はＰＸとする。円筒マスクＤＭは、２以上のｎ個の繰返しパターン領域９０と、当該繰返しパターン領域９０に挟み込まれたｎ−１個の緩衝領域９２とを繋ぎ合わせた周方向の長さに露光時の倍率をかけた長さが、転写するデバイスパターンの全体の大きさとなる。つまり、形成するデバイスパターンの全体の大きさをＬとすると、Ｌ＝ｎ・ＭＬ＋（ｎ−１）・ＢＬとなる。例えば、円筒マスクＤＭの外周面の周方向に１個の繰返しパターン領域９０と１個の緩衝領域９２とを継ぎ合わせたマスクパターン領域のセットを、円筒マスクＤＭの外周面の周方向に１２０度の間隔で配置する場合、円筒マスクＤＭの外周面上には、３個の繰返しパターン領域９０と３個の緩衝領域９２とが周方向に交互に並ぶことになる。

また、円筒マスクＤＭは、種々の方法で製作することができる。例えば、円筒形状の部材に直描装置で描画して製作してもよい。また、円筒マスクＤＭは、第１パターンを全周に形成し、全周に繰り返しパターンを形成したマスクを製作し、その表面に緩衝領域９２のパターンが形成され、それ以外は透明のマスクを積層してもよい。また、円筒マスクＤＭは、第１パターンを全周に形成し、全周に繰り返しパターンを形成したマスクを製作し、その一部に、緩衝領域９２のパターンが形成された部材（例えばシート状のフィルム等）を貼り付けてもよい。本実施形態では、円筒マスクＤＭの外周面の周方向に沿って、少なくとも２個の繰返しパターン領域９０（寸法ＭＬ）と、その繰返しパターン領域９０に挟まれる１個の緩衝領域９２（寸法ＢＬ）とが、円筒マスクＤＭの外周面の全周長（円筒マスクＤＭの直径×円周率）に収まるように形成されれば良い。従って、円筒マスクＤＭの外周面には、周方向に沿って１個の繰返しパターン領域９０と１個の緩衝領域９２とを継ぎ合わせたマスクパターン領域のセットが少なくとも２つ形成されることを意味する。１個の繰返しパターン領域９０と１個の緩衝領域９２とを継ぎ合わせたマスクパターン領域のセット数は、いくつでも良い。また、緩衝領域９２の寸法ＢＬは、図６Ａ、６Ｂで説明した遮蔽板８１のＹ方向に延びるエッジ部が、第２ドラム部材２２の回転位置と同期して回動する際の周方向の追従精度と、そのエッジ部で遮られる露光光（投影光束）が基板Ｐ上に投射される際の半影ボケの周方向の寸法とによって決められる。一例として、緩衝領域９２の寸法ＢＬは数ｍｍ程度、好ましくは１ｍｍ程度に設定されるが、画素ピッチＰＸ（μｍ）による条件から、２０・ＰＸ≧ＢＬ≧ＰＸの範囲に設定しても良い。

さらに、基板Ｐ上に形成されるディスプレイの幾つかの表示画面サイズ（例えば、３６インチ、４２インチ、４６インチ、５０インチ）に対応する為に、基板Ｐの長尺方向（搬送方向）に沿った表示画面サイズの長さをＬＸとしたとき、１個の繰返しパターン領域９０と１個の緩衝領域９２とを継ぎ合わせたマスクパターン領域の周方向の寸法ＭＬ＋ＢＬと、長さＬＸとが、ｎを整数として、ＬＸ＝ｎ・（ＭＬ＋ＢＬ）の関係になるように設定しておくと良い。

次に、処理装置１１の処理時の動作について説明する。処理装置１１は、制御装置１４により各部の駆動を制御することで、基板Ｐへのパターンの転写を実行する。処理装置１１は、搬送装置９により基板Ｐを搬送方向に所定の一定速度（例えば１０〜５０ｍｍ／秒の範囲）で搬送する。処理装置１１は、第２ドラム部材２２に巻きつけられた基板Ｐに予め形成されているアライメントマークをアライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２で検出する。同時にエンコーダヘッドＥＮ３、ＥＮ４で第２ドラム部材２２の回転角度位置を検出し、アライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２によるアライメントマークの位置の検出結果と、第２ドラム部材２２の回転角度位置とに基づいて、基板Ｐの第２ドラム部材２２上での位置を対応付ける。本実施形態では、アライメント顕微鏡ＡＭＧ１、ＡＭＧ２による基板Ｐのアライメントマークの位置検出は、比較的にラフな精度で行うプリアライメントとして実行される。

さらに、処理装置１１は、第２ドラム部材２２に巻きつけられた基板Ｐ上の形成されたアライメントマークの位置をアライメント顕微鏡ＡＭＧ３（図１参照）で検出する。同時に、アライメント顕微鏡ＡＭＧ３の設置方位に対応したエンコーダヘッドＥＮ５（図４、図５参照）で第２ドラム部材２２の回転角度位置を検出し、アライメント顕微鏡ＡＭＧ３によるアライメントマークの位置の検出結果と、第２ドラム部材２２の回転角度位置とに基づいて、基板Ｐの第２ドラム部材２２上での位置を対応付ける。このように、処理装置１１は、アライメント顕微鏡ＡＭＧ３でアライメントを実行する。アライメント顕微鏡ＡＭＧ３によるアライメントマークの位置検出は、第１露光装置ＥＸ１による露光時の円筒マスクＤＭと基板Ｐとの相対的な位置関係を精密に合わせるファインアライメントとして実行される。

第１露光装置ＥＸ１は、第２ドラム部材２２に巻きつけられて搬送される基板Ｐに円筒マスクＤＭのパターン（繰返しパターン領域９０と緩衝領域９２）の投影像を転写する。具体的には、処理装置１１は、第２ドラム部材２２の回転に同期させて、第１ドラム部材２１とともに円筒マスクＤＭを回転させる。また、処理装置１１は、光源装置１３から光を射出させ、円筒マスクＤＭのパターンを基板Ｐに投影し、転写させる。なお、処理装置１１は、アライメント顕微鏡ＡＭＧ３でのアライメント結果（相対的な位置誤差）と、エンコーダＥＮ１、ＥＮ２によって計測される第２ドラム部材２２の回転角度位置に基づいて、逐次、露光位置等を微調整する。その微調整は、例えば、国際公開ＷＯ２００８／０２９９１７号公報に開示されているように、円筒マスクＤＭを支持するマスク支持部の姿勢を複数の微動用アクチュエータ等で変位させたり、円筒マスクＤＭの回転方向の推力を調整したりすることで実行できる。さらに、本実施形態では、図３に示すように、投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６の各々に、フォーカス補正光学部材４４、像シフト補正光学部材４５、ローテーション補正機構４６及び倍率補正用光学部材４７が設けられているので、それらの補正光学部材や補正機構を、アライメント顕微鏡ＡＭＧ３によってファインアライメント時に計測された相対的な位置誤差に応じて、露光中に適宜駆動するようにしても良い。

処理装置１１は、第２ドラム部材２２に支持されて搬送される基板Ｐ上のアライメントマークをアライメント顕微鏡ＡＭＧ４で検出すると共に、そのときの第２ドラム部材２２の回転角度位置をエンコーダヘッドＥＮ６で検出（カウンタ回路の計数値をラッチ）し、基板Ｐの第２ドラム部材２２上での位置を精密に計測する。

引き続き、第２露光装置ＥＸ２（マスク方式、或いはマスクレス方式の露光装置）が、第２ドラム部材２２に支持された基板Ｐにパターニングの為の露光光を照射し、円筒マスクＤＭの緩衝領域９２が転写された基板Ｐ上の対応する領域に、繰返しパターン領域９０中の一部のパターンと同等のパターンを転写する。第２露光装置ＥＸ２は、アライメント顕微鏡ＡＭＧ４でのアライメント結果に基づいて露光位置を調整し、露光（描画）の実行と停止を切り換えることで、基板Ｐ上の緩衝領域９２が転写された領域（寸法ＢＬの範囲）に、選択的に繰り返しパターンを転写する。
以上のことから、第２露光装置ＥＸ２による画素部のパターン露光が正しく行えるように、先の図８に示した円筒マスクＤＭの外周面の緩衝領域９２に形成されるパターンは、全面を遮光性パターンとしたり、画素部分の領域のみを個別に遮光性パターンとしたりして、第１露光装置ＥＸ１によって緩衝領域９２が転写される基板Ｐ上の領域内では、画素部分が未露光な状態となるようにしても良い。

以上の動作において、第１露光装置ＥＸ１に装着された円筒マスクＤＭの回転によって、繰返しパターン領域９０と緩衝領域９２との各パターン像が、基板Ｐ上に長尺方向に沿って交互に連続して転写され続けるが、基板Ｐ上に形成すべき１つの表示画面の長尺方向の長さＬＸで、第１露光装置ＥＸ１による露光を一時的に中断する必要がある。そこで、処理装置１１は、第１露光装置ＥＸ１でのパターン像の転写を停止させると判定した場合、露光遮断機構８０で遮蔽板８１を同期移動させ、遮蔽板８１によって結像光束ＥＬ２を遮る。具体的には、処理装置１１は、駆動機構８２による遮蔽板８１の移動を円筒マスクＤＭの移動に同期させ、緩衝領域９２のパターン像を転写している間に遮蔽板８１を、投影領域（投影視野）ＰＡ１〜ＰＡ６のそれぞれに照射される結像光束ＥＬ２を遮る位置に移動させる。これにより、第１露光装置ＥＸと対向する位置を通過する基板Ｐに結像光束ＥＬ２が照射されず、それ以降は、緩衝領域９２に隣接した繰返しパターン領域９０のパターン像の転写が阻止される。

処理装置１１は、第１露光装置ＥＸ１で円筒マスクＤＭを用いることで基板Ｐに複数の繰り返しパターン領域９０に対応したパターン（表示画素を構成するパターン）像と、緩衝領域９２に対応したパターン（遮光性パターン）像とを交互に転写することができる。また、処理装置１１は、第１露光装置ＥＸ１によるパターンの転写を一時的に中断する場合、円筒マスクＤＭの緩衝領域９２が照明領域ＩＲを通過している間に、露光遮蔽機構８０の遮蔽板８１を遮蔽板８１ａの位置まで同期移動させることで、引き続き転写され得る繰り返しパターン領域９０に対応したパターン像の露光を阻止することができる。また、処理装置１１は、第２露光装置ＥＸ２によって、基板Ｐ上の緩衝領域９２に対応したパターン像が転写された領域（寸法ＢＬ）に対して、選択的に繰り返しパターンを転写するので、基板Ｐ上の緩衝領域９２に対応した領域にも必要なパターンを転写することができ、表示画面サイズの長さＬＸの全体に渡って、画素用のパターン像を所定の繰り返しピッチで一様に転写できる。

これにより、処理装置１１は、ｎ個の繰り返しパターン領域９０に対応したパターンとｎ−１個の緩衝領域９２に対応したパターンとを継ぎ合わせた１つのデバイスパターンを転写することができる。なお、本実施形態の処理装置１１は、第１露光装置ＥＸ１で緩衝領域にも所定のパターンが形成できるため、第２露光装置ＥＸ２によってパターンを転写しなくてもよい。また、処理装置１１は、露光遮蔽機構８０を用いてパターンの転写を停止するタイミングを調整することで、デバイスパターンに含まれるｎ個の繰り返しパターン領域９０とｎ−１個の緩衝領域９２のｎの値を調整することができる。したがって、種々の大きさの表示画面を持つディスプレイ用パネルを、品種ごとに円筒マスクＤＭを交換することなく、簡単に形成することができる。

以上のように、円筒マスクＤＭに緩衝領域９２を設けて、露光遮蔽機構８０の遮蔽板８１によって結像光束ＥＬ２を遮ることにより、基板Ｐの搬送や円筒マスクＤＭの回転を一時的に停止させたり、搬送速度や回転速度を一時的に低下させたりする必要性がなくなり、基板Ｐに転写されたパターンの端部が不鮮明になることが抑制される。これにより、デバイスパターンの端部に対する加工を正確に行うことができる。つまり、デバイスパターンの端部の配線の電極を繋げる処理や、端子を設ける処理を確実に行うことができ、パターンが断線することも抑制することができる。

また、円筒マスクＤＭは、デバイスパターンとして、外周面の周方向に関する全体寸法がＬ１の第１デバイスパターン（第１の表示パネル）の露光と、全体寸法がＬ２の第２デバイスパターン（第２の表示パネル）の露光とのいずれにも用いられるように、繰返しパターン領域の周方向の寸法をＭＬ、緩衝領域の周方向の寸法をＢＬとしたとき、ＭＬ＞ＢＬ、であって、ｎａ×ＭＬ＋（ｎａ−１）×ＢＬ＝Ｌ１、ｎｂ×ＭＬ＋（ｎｂ−１）×ＢＬ＝Ｌ２、を満たすと共に、ｎａとｎｂとが共に整数となるように、寸法ＢＬと寸法ＭＬを設定することが好ましい。これにより、１つのデバイスパターンに含める繰り返しパターン領域９０の寸法ＭＬや緩衝領域９２の寸法ＢＬを設定するだけで、つまり、露光遮蔽機構８０で遮蔽を行うタイミングを切り換えるだけで、１つの円筒マスクＤＭで、大きさ（画面サイズ）が異なる複数種の表示パネル（ディスプレイ）やデバイスパターンを製造することができる。

本実施形態の円筒マスクＤＭでは、緩衝領域９２の寸法ＢＬを画素部の寸法（画素ピッチ）ＰＸの１倍以上２０倍以下に設定すると共に、円筒マスクＤＭの外周面の全周長を、ｎ×（ＭＬ＋ＢＬ）と等しく設定することが好ましい。円筒マスクＤＭの緩衝領域９２の寸法ＢＬを画素部の画素ピッチＰＸの１倍以上２０倍以下とすることで、緩衝領域９２が転写される基板Ｐ上の対応領域の搬送方向での寸法も、投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６の投影倍率が等倍の場合は最大で２０・ＰＸとなり、第２露光装置ＥＸ２による基板Ｐ上の対応領域へのパターン転写を好適に行うことができる。円筒マスクＤＭ上の緩衝領域９２の寸法ＢＬは、画素部の画素ピッチＰＸの整数倍とすることが好ましい。これにより、緩衝領域９２が転写された基板Ｐ上の対応領域に、第２露光装置ＥＸ２によって画素部に応じた繰り返しパターンを転写した場合、表示パネルとして完成した表示画面中において、緩衝領域９２に対応した表示部分をより目立たなくすることができる。円筒マスクＤＭの外周面の全周長（直径×円周率）を、ｎ×（ＭＬ＋ＢＬ）と等しくすることで、周方向に繰り返しパターン領域９０と緩衝領域９２とを交互に隙間なく形成することができる。これにより、円筒マスクの回転位置によらず、同じ形状のデバイスパターン（表示パネル）を、基板Ｐの長尺方向に沿って一定の間隔で並べて基板Ｐ上に転写することができる。

＜第１実施形態の変形例＞
以下、図９から図１２を用いて、処理装置１１の変形例に付いて説明する。図９から図１２は、それぞれ露光遮蔽機構の他の例を説明するための模式図である。第１実施形態では、第１露光装置ＥＸ１の投影光学系ＰＬ（投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６）と第２ドラム部材２２の間に、第２ドラム部材２２に沿って湾曲した遮蔽板８１を回動するように配置した露光遮光機構８０を設けた。図９に示す変形例では、投影光学系ＰＬと第２ドラム部材２２の間に配置した露光遮光機構８０ａの遮蔽板を、平板形状とし、投影光学系ＰＬからの結像光束ＥＬ２の進行方向と直交した矢印８４ａの方向に移動する。このように、遮蔽板を平板とし、直線運動で移動させるようにしてもよい。

図１０に示す変形例では、露光遮光機構８０ｂの遮蔽板が投影光学系ＰＬと円筒マスクＤＭの間に配置されている。露光遮光機構８０ｂの遮蔽板は、円筒マスクＤＭの外周面の直径よりも僅かに大きな直径の曲面形状であり、円筒マスクＤＭの回転方向に沿った矢印８４ｂの周方向に移動する。このように、投影光学系ＰＬと円筒マスクＤＭの間でマスクパターンから投影光学系ＰＬに入射する像光束を遮る位置に遮蔽板を配置してもよい。

図１１に示す変形例では、露光遮光機構８０ｃの遮蔽板が投影光学系ＰＬと円筒マスクＤＭの間に配置され、露光遮光機構８０ｃの遮蔽板を図９と同様の平板形状とする。露光遮光機構８０ｃの遮蔽板（平板）は、マスクパターンから投影光学系ＰＬに入射する像光束の進行方向と直交する矢印８４ｃの方向に移動される。このように、遮蔽板を平板とし、直線運動で移動させるようにしてもよい。

図１２に示す変形例では、露光遮光機構８０ｄの遮蔽板を、先の図３で示した投影光学系ＰＬ（投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６）内の中間像面Ｐ７に配置される第１視野絞り４３の近傍に配置する。露光遮光機構８０ｄの遮蔽板は、第１視野絞り４３と平行な平板形状であり、中間像面Ｐ７を通る結像光束の進行方向と直交する矢印８４ｄの方向に移動する。このように、第１視野絞り４３の近傍で結像光束を遮ることができる位置に遮蔽板を配置してもよい。或いは、第１視野絞り４３自体を矢印８４ｄの方向に往復移動可能に設けて、第１視野絞り４３の開口部の周囲の遮光部（遮蔽板に相当）で結像光束を遮るようにしても良い。中間像面Ｐ７、又はその近傍に露光遮光機構８０ｄの遮蔽板を配置した場合、遮蔽板（又は第１視野絞り４３の開口部）のエッジ部を、基板Ｐ上にシャープに結像させることができるので、エッジ部の基板Ｐでの半影ボケの幅を小さくでき、その結果、円筒マスクＤＭの緩衝領域９２の寸法ＢＬを、例えば、最大でも画素ピッチＰＸの１０倍程度に小さくすることができる。

また、上記実施形態の露光遮光機構では、遮蔽板８１等を複数の投影領域の全てを覆うことができる１枚の板状の部材としたが、これに限定されない。遮蔽板は、投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６のそれぞれに分割して設け、投影領域毎に結像光束を遮蔽できるようにしても良い。この場合、露光遮光装置の複数の遮蔽板は、それぞれ同期して移動するように制御される。具体的には、基板Ｐ上の奇数番の投影領域ＰＡ１、ＰＡ３、ＰＡ５の各々に向かう結像光束を遮蔽する遮蔽板は、基板Ｐの搬送方向（ドラム部材２２の周方向）に沿って同時に移動するように制御され、基板Ｐ上の偶数番の投影領域ＰＡ２、ＰＡ４、ＰＡ６の各々に向かう結像光束を遮蔽する遮蔽板は、基板Ｐの搬送方向（ドラム部材２２の周方向）に沿って同時に移動するように制御される。

また、上記実施形態や変形例では、露光遮光機構（８０、８０ａ〜８０ｄ）の遮蔽板を、円筒マスクＤＭから基板Ｐまでの投影光路中のいずれかに配置したが、円筒マスクＤＭの外周面上の照明領域ＩＲ１〜ＩＲ６の各々に照明光を照射する照明モジュールＩＬ（図１参照）内に配置しても良い。この場合、円筒マスクＤＭ上の照明領域ＩＲ１〜ＩＲ６の各々に照射される照明光の円筒マスクＤＭの周方向に関する幅が、円筒マスクＤＭの回転に同期して徐々に狭くなるように、照明光が遮蔽板のエッジ部によって遮られるに制御される。

＜円筒マスクの変形例＞
ここで、上記実施形態や変形例における円筒マスクＤＭは、一例として、緩衝領域９２内に形成される第２パターンが、繰り返しパターン領域９０内に形成される第１パターンよりも太く、第１パターンと同様の配置間隔で並ぶ配線としたが、これに限定されない。以下、図１３を用いて、円筒マスクの変形例を説明する。図１３は、円筒マスクを説明するための部分展開図である。

図１３に示す円筒マスクＤＭａは、円周方向に４つの繰り返しパターン領域９０ａが形成され、繰り返しパターン領域９０ａの間にそれぞれ緩衝領域９２ａが形成されている。つまり、図１３に示す円筒マスクＤＭａは、４つの繰り返しパターン領域９０ａと４つの緩衝領域９２ａが交互に１つずつ形成されている。繰り返しパターン領域９０ａには、上述した繰り返しパターン領域９０と同様に、画素部に対応する第１パターンが複数繰り返し形成されている。緩衝領域９２ａには、第２パターンとして、円周方向に直交する方向に延在するストライプ状の遮光部と、繰り返しパターン領域９０ａからストライプ状の遮光部を通って周方向に延びた配線パターンと含む。

円筒マスクＤＭａは、図１３に示すように、緩衝領域９２ａの第２パターンが全体に遮光部であって、第１パターンと同じ形状のパターン配列を持たない為、緩衝領域９２ａに対応した基板Ｐ上の領域には、何らのパターンも転写されない。しかしながら、処理装置１１は、第２露光装置ＥＸ２によって、基板Ｐ上の緩衝領域９２ａに対応した領域内に、繰り返しパターン領域９０内の第１パターン（画素部のパターン）の一部（緩衝領域９２ａの寸法ＢＬに対応した画素数分のパターン）を、精密に位置合わせてして露光することができるので、緩衝領域９２ａに隣接する繰り返しパターン領域９０ａで転写された基板Ｐ上のパターン同士を継ぎ合わせることができる。

図１４は、円筒マスクＤＭｂの外周面に形成されるマスクパターンを展開して示したもので、本変形例の円筒マスクＤＭｂは、８つの繰り返しパターン領域９０ｂと、８つの緩衝領域（主緩衝領域）９２ｂと、１つの副緩衝領域９４とが形成されている。繰り返しパターン領域９０ｂ及び緩衝領域９２ｂは、図１３中の繰り返しパターン領域９０ａ及び緩衝領域９２ａと同様の構成である。本変形例では、円筒マスクＤＭｂの外周面に、４つの繰り返しパターン領域９０ｂと４つの緩衝領域（主緩衝領域）９２ｂとを周方向に交互に配置したパターンセットを、円筒マスクＤＭの回転中心線の方向（円周方向と直交する方向）に２組設ける。その２組のパターンセットの間には、円周方向に直線的に伸びたストライプ状の副緩衝領域９４が配置されている。副緩衝領域９４には、第１パターンと異なる第３パターンが形成されているが、本実施形態では緩衝領域９２ｂと同様にストライプ状の遮光部が形成されている。図１４に示すように円筒マスクＤＭｂに副緩衝領域９４を設けることで、基板Ｐ上に作成されるデバイスパターン（表示パネル）の基板搬送方向と直交する方向の長さを変えることができる。なお、図１４では、４つの繰り返しパターン領域９０ｂと４つの緩衝領域９２ｂとによるパターンセットを、円筒マスクＤＭの回転中心線ＡＸ１の方向に２組配置したが、それ以上の組に分けて配置するように、繰り返しパターン領域９０ｂや緩衝領域９２ｂの個々の寸法（特に回転中心線ＡＸ１の方向の寸法）を、画素ピッチＰＸの整数倍と言う条件の下で変えても良い。

次に、図１５から図１７を用いて、図１４に示す副緩衝領域９４が形成された円筒ドラムＤＭｂを用いる場合に好適な露光遮蔽機構について説明する。図１５から図１７は、それぞれ露光遮蔽機構の他の例を説明するための模式図である。図１５に示す露光遮蔽機構８０ｅは、露光遮蔽ユニット８５ａと、２つの露光遮蔽ユニット８６ａと、を有する。露光遮蔽ユニット８５ａは、先の図６に示した露光遮蔽機構８０と同様の構成であるので説明を省略する。露光遮蔽ユニット８６ａは、投影光学系ＰＬ（投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６の各々）と円筒マスクＤＭｂの間に配置されている。露光遮光ユニット８６ａは、遮蔽板の形状と移動方向が異なるが基本的に露光遮蔽機構８０と同様の構成である。露光遮光ユニット８６ａは、遮蔽板が平板形状であり、結像光束の進行方向と直交する方向であって、かつ、円筒マスクＤＭｂの回転方向に直交する方向（回転中心軸ＡＸ１の延在方向）である矢印８８ａの方向（Ｙ方向）に移動される。露光遮蔽ユニット８６ａの遮蔽板をＹ方向に移動させることで、副緩衝領域９４を境界として、Ｙ方向の一方側の繰り返しパターン領域９０ｂと緩衝領域９２ｂとのパターンセットからの投影光束を、遮蔽するか否かが切り換えられる。露光遮蔽ユニット８６ａを設けることで、基板Ｐに転写するデバイスパターンの円周方向と直交するＹ方向の大きさを変えることができる。なお、露光遮蔽ユニット８６ａは、緩衝領域９２ｂが照明領域ＩＲ（ＩＲ１〜ＩＲ６）を通過している間に遮蔽板のエッジ部を同期移動させることが好ましい。なお、露光遮蔽ユニット８６ａの配置個数は特に限定されず１つでもよい。

図１６に示す露光遮蔽機構８０ｆは、露光遮蔽ユニット８５ｂと、２つの露光遮蔽ユニット８６ｂと、を有する。露光遮蔽機構８０ｆは、露光遮蔽機構８０ｅに対して、露光遮蔽ユニット８５ｂと、２つの露光遮蔽ユニット８６ｂとの配置位置を入れ換えている。露光遮蔽ユニット８５ｂは、投影光学系ＰＬと円筒マスクＤＭｂの間に配置されている。露光遮蔽ユニット８６ｂは、第２ドラム部材２２と投影光学系ＰＬとの間に配置されている。露光遮蔽機構８０ｆのように、基板Ｐに転写すべきデバイスパターンのＹ方向の大きさを切り替える為の露光遮蔽ユニット８６ｂの配置を、第２ドラム部材２２と円筒マスクＤＭｂの間に配置しても、図１５の実施形態と同様に基板Ｐに転写すべきデバイスパターンのＹ方向の寸法を異ならせることができる。

図１７に示す露光遮蔽機構８０ｇは、露光遮蔽ユニット８５ｃと、２つの露光遮蔽ユニット８６ｃと、を有する。露光遮蔽機構８０ｇは、露光遮蔽機構８０ｆに対して、２つの露光遮蔽ユニット８６ｃの配置を変更している。露光遮蔽ユニット８６ｃの遮蔽板は、先の図１２と同様に、投影光学系ＰＬ（投影モジュールＰＬ１〜ＰＬ６の各々）内の中間像面に配置される第１視野絞り４３の近傍に配置されている。露光遮蔽機構８０ｇのように、基板Ｐに転写すべきデバイスパターン（表示パネル）のＹ方向の大きさを切り替える為の露光遮蔽ユニット８６ｃの遮蔽板を、第１視野絞り４３の近傍に配置しても、上記の図１０、図１１の各実施形態と同様に、基板Ｐに転写されるデバイスパターンのＹ方向の大きさを異ならせることができる。

（第２実施形態）
次に、本発明に係る処理装置の第２実施形態について、図１８を参照して説明する。この図において、第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。図１８は、第２実施形態に係る処理装置（露光システム）の全体構成を示す模式図である。第２実施形態の処理装置１０１は、第１露光装置ＥＸ１と、第２露光装置ＥＸ２と、搬送機構１０９と、を有する。また、処理装置１０１は、プリアライメント用のアライメント顕微鏡ＡＭＧ１と、第１露光装置ＥＸ１におけるファインアライメント用のアライメント顕微鏡ＡＭＧ３と、第２露光装置ＥＸ２におけるファインアライメント用のアライメント顕微鏡ＡＭＧ４と、を有する。搬送機構１０９は、第１露光装置ＥＸ１と第２露光装置ＥＸ２との間に配置された基板Ｐのバッファ部１１２と、第２露光装置ＥＸ２の下流側に配置された基板Ｐのバッファ部１１４とを有する。バッファ部１１２は、第１露光装置ＥＸ１と第２露光装置ＥＸ２との間で、基板Ｐを所定の長さに渡って一時的に蓄積する機構である。バッファ部１１４は、第２露光装置ＥＸ２と下流側の処理装置との間で、基板Ｐを所定の長さに渡って一時的に蓄積する機構である。

処理装置１０１は、バッファ部１１２を設けることで、第１露光装置ＥＸ１と対面する露光位置（投影領域）における基板Ｐの搬送速度と、第２露光装置ＥＸ２と対面する露光位置における基板Ｐの搬送速度とを、異なる値に設定することができる。これにより、第２露光装置ＥＸ２が、緩衝領域９２（９２ａ、９２ｂ）に対応した基板Ｐ上の領域にパターン露光する際の基板Ｐの搬送速度が、第１露光装置ＥＸ１を通る基板Ｐの搬送速度よりも遅い場合でも、第２露光装置ＥＸ２での基板Ｐの遅い搬送速度に合せるように第１露光装置ＥＸ１での基板Ｐの搬送速度を低下させることなく、パターン露光を高速に実行できる。また、円筒マスクＤＭ（ＤＭａ、ＤＭｂ）の緩衝領域９２（９２ａ、９２ｂ）の円周方向の寸法ＢＬを、繰り返しパターン領域９０（９０ａ、９０ｂ）の円周方向の寸法ＭＬよりも十分に短くしてある。そのため、第２露光装置ＥＸ２が、基板Ｐ上の緩衝領域９２（９２ａ、９２ｂ）に対応した領域にパターン露光する間は、基板Ｐの搬送速度を低下させ、緩衝領域９２（９２ａ、９２ｂ）に対応した領域へのパターン露光が完了したら、緩衝領域９２（９２ａ、９２ｂ）に対応した基板Ｐ上の次の領域がくるまで、即ち、繰り返しパターン領域９０（９０ａ、９０ｂ）に対応した基板Ｐ上の領域が通過する間、基板Ｐの搬送速度を高めることができる。それによって、バッファ部１１２で蓄積される基板Ｐの長さを短くすることができる。

処理装置１０１は、第１露光装置ＥＸ１と第２露光装置ＥＸ２との間にバッファ１０２を設けることで、第２露光装置ＥＸ２でのパターンの転写速度が遅い場合でも、第１露光装置ＥＸ１で連続して円筒マスクによる露光を行うことができる。これにより、効率よくパターンを形成することができる。

以上、第１実施形態、第２実施形態、及びそれの各変形例において、円筒マスクＤＭに形成される緩衝領域９２（９２ａ、９２ｂ）や副緩衝領域９４は、第２露光装置ＥＸ２によって、基板Ｐ上の対応する領域中に、画素部に応じた第１パターンを露光するとしたが、緩衝領域９２（９２ａ、９２ｂ）の幅（寸法ＢＬ）や副緩衝領域９４の幅を充分に小さくすることで、表示パネルの用途によっては、第２露光装置ＥＸ２による追加露光を行わなくても良い。この場合、緩衝領域９２（９２ａ、９２ｂ）や副緩衝領域９４に対応した表示パネル上には画素が形成されないが、デジタルサイネージュ（電子広告）用のパネルでは問題無く使われることもある。また、基板Ｐの表面に塗布される感光層（フォトレジスト等）がポジ型でもネガ型でも、上記で説明したように、円筒マスクＤＭ上の緩衝領域９２（９２ａ、９２ｂ）や副緩衝領域９４の部分を遮光部（遮蔽部）にしておくことで、第２露光装置ＥＸ２による追加露光によって、基板Ｐの現像後には、追加露光された部分のレジストパターンが、繰り返しパターン領域９０（９０ａ、９０ｂ）に対応したレジストパターンと正確につながって現れる。

また、第１実施形態、第２実施形態、及びそれの各変形例において、円筒マスクＤＭは、透過型のマスクパターンとして形成したが、例えば、国際公開ＷＯ２００８／０２９９１７号公報、国際公開ＷＯ２０１４／０７３５３５号公報に開示されているような反射型のマスクパターンとし、照明光学系を落射照明方式にしても良い。

＜デバイス製造方法＞
次に、図１９を参照して、デバイス製造方法について説明する。図１９は、第１実施形態のデバイス製造方法を示すフローチャートである。図１９は、第１実施形態に係る処理装置（露光システム）を用いてデバイス製造方法を示すフローチャートである。

図１９に示すデバイス製造方法では、まず、例えば有機ＥＬ等の自発光素子による表示パネルの機能・性能設計を行い、必要な回路パターンや配線パターンをＣＡＤ等で設計する（ステップＳ２０１）。次いで、ＣＡＤ等で設計された各種レイヤー毎のパターンに基づいて、必要なレイヤー分の円筒マスクＤＭを製作する（ステップＳ２０２）。また、表示パネルの基材となる可撓性の基板Ｐ（樹脂フィルム、金属箔膜、プラスチック等）が巻かれた供給用ロールＦＲ１を準備しておく（ステップＳ２０３）。なお、このステップＳ２０３にて用意しておくロール状の基板Ｐは、必要に応じてその表面を改質したもの、下地層（例えばインプリント方式による微小凹凸）を事前形成したもの、光感応性の機能膜や透明膜（絶縁材料）を予めラミネートしたもの、でも良い。

次いで、基板Ｐ上に表示パネルデバイスを構成する電極や配線、絶縁膜、ＴＦＴ（薄膜半導体）等によって構成されるバックプレーン層を形成すると共に、そのバックプレーンに積層されるように、有機ＥＬ等の自発光素子による発光層（表示画素部）が形成される（ステップＳ２０４）。このステップＳ２０４には、先の各実施形態で説明した第１露光装置ＥＸ１、ＥＸ２を用いて、フォトレジスト層を露光する従来のフォトリソグラフィ工程も含まれるが、フォトレジストの代わりに感光性シランカップリング材を塗布した基板Ｐをパターン露光して表面に親撥水性によるパターンを形成する露光工程、光感応性の触媒層をパターン露光し無電解メッキ法によって金属膜のパターン（配線、電極等）を形成する湿式工程、或いは、銀ナノ粒子を含有した導電性インク等によってパターンを描画する印刷工程、等による処理も含まれる。

次いで、ロール方式で長尺の基板Ｐ上に連続的に製造される表示パネルデバイス毎に、基板Ｐをダイシングしたり、各表示パネルデバイスの表面に、保護フィルム（対環境バリア層）やカラーフィルターシート等を貼り合せたりして、デバイスを組み立てる（ステップＳ２０５）。次いで、表示パネルデバイスが正常に機能するか、所望の性能や特性を満たしているかの検査工程が行なわれる（ステップＳ２０６）。以上のようにして、表示パネル（フレキシブル・ディスプレー）を製造することができる。

なお、上述の実施形態及び変形例の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報、特許公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

９ 搬送装置
１１ 処理装置
１２ マスク保持装置
１３ 光源装置
１４ 制御装置
２１ 第１ドラム部材
２２ 第２ドラム部材
２３ ガイドローラー
２４ 駆動ローラー
２５ 第１検出器
２６ 第１駆動部
３１ ガイド部材
３１ 固体光源
３３ 第２ガイド部材
３５ 検出器
８０ 露光遮断機構
８１ 遮光板
８２ 駆動機構
８２ａ 支持部
８２ｂ 駆動部
８４ 矢印
ＡＭ１、ＡＭ２、ＡＭ３、ＡＭ４ 観察方向
ＡＭＧ１、ＡＭＧ２、ＡＭＧ３、ＡＭＧ４ アライメント顕微鏡
ＤＭ 円筒マスク
ＥＮ１、ＥＮ２、ＥＮ３、ＥＮ４、ＥＮ５、ＥＮ６ エンコーダヘッド
ＥＸ１、ＥＸ２ 露光装置

Claims (10)

1. 多数の画素部で構成される表示デバイス用のデバイスパターンを感応性の被転写基板に転写する為の円筒状マスクであって、
   所定の中心線から一定半径の円筒状の外周面に沿って形成され、前記デバイスパターンのうち少なくとも前記画素部に関わる第１パターンが、前記外周面の周方向と前記中心線の方向の各々に関して周期的に複数形成される繰返しパターン領域と、
   前記外周面の周方向に関して前記繰返しパターン領域と隣接して配置され、前記外周面の周方向の一部分であって前記中心線の方向に沿って前記第１パターンと異なる第２パターンが形成される緩衝領域とを有し、
   前記繰返しパターン領域の２以上のｎ個が前記緩衝領域のｎ−１個を挟み込んで前記外周面の周方向に継ぎ合せたときの大きさを、前記被転写基板に転写される前記デバイスパターンの全体の大きさに対応させた円筒状マスク。
2. 前記第２パターンは、前記外周面の周方向に沿った寸法を前記画素部よりも大きく設定すると共に、前記中心線の方向に沿って前記画素部の各々に対応して複数設けられる請求項１に記載の円筒状マスク。
3. 前記第２パターンは、前記緩衝領域のほぼ全体を遮蔽する形状に設定される請求項１に記載の円筒状マスク。
4. 前記デバイスパターンとして、前記外周面の周方向に関する全体寸法がＬ１の第１デバイスパターンと、全体寸法がＬ２の第２デバイスパターンとに対応する為、
   前記外周面の周方向に関して、前記繰返しパターン領域の寸法をＭＬ、前記緩衝領域の寸法をＢＬとしたとき、
   ＭＬ＞ＢＬ、であって、ｎａ×ＭＬ＋（ｎａ−１）×ＢＬ＝Ｌ１、ｎｂ×ＭＬ＋（ｎｂ−１）×ＢＬ＝Ｌ２、ｎａとｎｂとが整数になるように、前記ＢＬと前記ＭＬを設定する請求項１〜３のいずれか一項に記載の円筒状マスク。
5. 前記外周面の周方向に関して、前記緩衝領域の寸法ＢＬは、前記画素部の寸法の１以上２０倍以下の範囲に設定され、
   前記外周面の周方向の全長を、ｎ×（ＭＬ＋ＢＬ）と等しく設定した請求項４に記載の円筒状マスク。
6. 前記中心線の方向に関して前記繰返しパターン領域と隣接して配置され、前記外周面の周方向に沿って前記第１パターンと異なる第３パターンが形成される副緩衝領域を、
   さらに有する請求項５に記載の円筒状マスク。
7. 請求項１から６のいずれか一項に記載の前記円筒状マスクとを支持し、前記中心線の回りに回転させるマスク回転機構と、
   前記被転写基板を支持すると共に、前記円筒状マスクの回転と同期して前記被転写基板を所定方向へ移動させる基板移動機構と、
   前記円筒状マスクの外周面の一部に、前記中心線と平行な方向に延びた照明光を照射する照明光学系と、
   前記照明光の照射によって、前記円筒状マスクの外周面から発生する光を入射して、前記繰返しパターン領域と前記緩衝領域の像を前記被転写基板に投影露光する投影光学系と、
   前記円筒状マスクの回転中に、前記緩衝領域が前記投影光学系によって前記被転写基板に投影されるタイミングに応じて、それ以降の投影露光が中止されるように前記照明光学系の照明光路、または前記投影光学系の投影光路を遮断する露光遮断機構と、
   前記繰返しパターン領域のｎ個と前記緩衝領域のｎ−１個とが前記被転写基板上で継ぎ合わされて転写されるように、前記マスク回転機構、前記基板移動機構、前記露光遮断機構を制御する制御部と、
   を備える露光装置。
8. 前記露光遮断機構は、前記照明光学系の照明光路、又は前記投影光学系の投影光路の一部に配置された可動の遮光板を有し、前記制御部は、前記円筒状マスクの前記緩衝領域が前記投影光学系によって前記被転写基板に投影されるタイミングに合わせて、前記遮光板を前記被転写基板の移動方向に応じて移動させる請求項７に記載の露光装置。
9. 前記被転写基板は、前記基板移動機構によって移動される方向に長尺のフレキシブル基板であり、
   前記基板移動機構は前記フレキシブル基板の一部を移動方向に円筒状に湾曲した状態で支持しつつ、前記円筒状マスクの回転と同期して回転する回転ドラムを有する請求項７に記載の露光装置。
10. 長尺の基板を長尺方向に移動させつつ、多数の画素部で構成される表示デバイス用のデバイスパターンを有する円筒状マスクを回転させて、前記基板上に前記デバイスパターンを転写するデバイス製造方法であって、
    所定の中心線から一定半径の円筒状の外周面に沿って形成され、前記デバイスパターンのうち少なくとも前記画素部に関わる第１パターンが、前記外周面の周方向と前記中心線の方向の各々に関して周期的に複数形成される繰返しパターン領域と、前記外周面の周方向に関して前記繰返しパターン領域と隣接して配置され、前記外周面の周方向の一部分であって前記中心線の方向に沿って前記第１パターンと異なる第２パターンが形成される緩衝領域とを有し、前記繰返しパターン領域の２以上のｎ個が前記緩衝領域のｎ−１個を挟み込んで前記外周面の周方向に継ぎ合せたときの大きさを、前記基板に転写される前記デバイスパターンの前記長尺方向の大きさに対応させた円筒状マスクを用意することと、
    前記基板の前記長尺方向への移動と前記円筒状マスクの回転とを同期させ、前記円筒状マスクの前記繰返しパターン領域と前記緩衝領域とが前記基板上で前記長尺方向に順次継ぎ合されるように転写する第１の露光工程と、
    前記円筒状マスクの前記緩衝領域に対応した前記基板上の領域に、前記第１パターンと実質的に同じ形状のパターンを追加転写する第２の露光工程と、
    を含むデバイス製造方法。

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