JP2017077731A - 電子デバイス用ガスバリア積層体 - Google Patents

Abstract

【課題】 有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）や電子ペーパーなどの電子デバイス用途に用いるような高度なガスバリア性、および、折り曲げなどの変形を行ってもそのガスバリア性が劣化しない可撓性と耐久性に優れたガスバリア積層体。【解決手段】 透明基材の表面に、少なくとも、１層又は複数の機能層からなる第１機能層と、ケイ素、アルミニウム、またはその両方を含む合金より選ばれる何れか１つ、若しくはその酸化物、窒化物、又はそれらの混合物より選ばれる何れかよりなる第１ガスバリア層と、１層又は複数の樹脂層からなる保護層と、をこの順に積層してなることを特徴とする、可撓性と耐久性に優れたガスバリア積層体を提供する。【選択図】 なし

Description

本発明は、耐久性やガスバリア性に優れたガスバリア積層体に関する。より具体的には、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）や電子ペーパーなどの電子デバイスにおいて水蒸気バリア性を向上させるために用いられる、耐透湿性の高いガスバリア積層体に関する。

昨今、液晶表示装置や有機ＥＬデバイス、電子ペーパー等の電子デバイスが広く用いられている。これらのデバイスは、携帯電話やタブレットなどのモバイル機器の普及により、軽量化、薄型化、および耐久性などの要求が高まっている。このような要求に対し、従来用いられていたガラス基板は、重くて衝撃に弱く割れやすいため問題となっていた。そこでガラス基板に代わり、軽量性や耐衝撃性などに優れている透明なプラスチックフィルムを基材とした電子デバイスの開発が進められている。プラスチックフィルム基板は可撓性があり、ロールトゥロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）方式に適用可能であることから、コストの点でも有利である。しかし、プラスチックフィルム基板はガラス基板と比較して水蒸気バリア性に劣り、これを用いた表示素子における表示性能などに支障をきたすおそれがあるという問題があった。

例えば有機ＥＬディスプレイには自発光型の有機素子が用いられている。このような素子を用いることでバックライトが不要となり、軽量で薄型の視認性に優れた表示装置や照明装置とすることができる。しかし、このような有機素子は湿度の影響で徐々に劣化し、輝度が低下してしまう。また同様に、電子ペーパーにおいては、電気泳動や磁気泳動などの物理現象を利用した電子インクを用いて、低消費電力で視認性の高い高性能な表示装置としている。しかし、電子インクも大気中の水分により機能低下する。そのため、電子デバイスにおいてガスや水蒸気などを透過させない性質（以下「ガスバリア性」とも言う。）は必要不可欠な要素となっている。

このような問題を解消するために、プラスチックフィルム基材表面にケイ素やアルミニウムなどの酸化物からなる透明なガスバリア層を形成したガスバリアフィルムによって、上記の有機素子や電子インク等を被覆して用いることが提案されている。しかし、このようなガスバリアフィルムは、積層された金属酸化物の薄膜が容易に剥離・脱落してしまい、ガスバリア性の機能を長期間にわたり安定的に発揮することができなかった。

そこで、プラスチックフィルムの表面に、予めアンダーコート層と呼ばれる層を設けることによって、基材と金属酸化物の薄膜との密着性を高め、耐久性を向上させる試みが行われている。
例えば引用文献１に記載の被覆フィルムでは、プラスチックフィルムの片面に、ポリシラザンの前駆体、変性体、混合体等からなる無機高分子層と、気相成長法により成膜された金属若しくは金属化合物からなる被覆層とを設けることで、基材フィルムと被覆層との密着性を向上させ、ガス遮断性と耐剥離性に優れたガスバリアフィルムとすることができる。

特開平０８−２６９６９０号

しかし、特許文献１に記載された被覆フィルムでは、有機ＥＬなどのより高いガスバリア性が必要とされる用途に対してガスバリア性が不足していた。そしてガスバリア性を向上させるために被覆層を厚膜にすると、膜の応力でクラックが入り、そこからバリア性が劣化する上、灰色ないしは褐色を帯びて透過率が低下し、視認性が低下するという問題があった。また、近年、フレキシブルデバイスやウェアラブルデバイスの需要が高まっており、可撓性に優れた表示装置が求められ、ひいてはガスバリアフィルム自体も同様の性能が求められるようになっているが、特許文献１に記載されたガスバリアフィルムでは、折り曲げ等の変形や長期の使用によって被覆層にクラックが入るなどしてガスバリア性が劣化するため、耐久性に問題があった。

本願発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、電子デバイス用途に用いるような高度なガスバリア性、および、折り曲げなどの変形を行ってもそのガスバリア性が劣化しない可撓性と耐久性に優れたガスバリア積層体を提供することである。

上記課題を解決するため、本願発明の請求項１に記載のガスバリア積層体に関する発明は、透明基材の表面に、少なくとも、１層又は複数の機能層からなる第１機能層と、ケイ素、アルミニウム、またはその両方を含む合金より選ばれる何れか１つ、若しくはその酸化物、窒化物、又はそれらの混合物より選ばれる何れかよりなる第１ガスバリア層と、１層又は複数の樹脂層からなる保護層と、をこの順に積層してなること、を特徴とする。

本願発明の請求項２に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１に記載のガスバリア積層体であって、前記保護層が、少なくとも、シロキサン系、シラン系、アクリル系、ウレタン系、エステル系、オレフィン系、ゴム系、エポキシ系、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ナイロンより選ばれる１種または複数の樹脂よりなること、を特徴とする。

本願発明の請求項３に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１または請求項２に記載のガスバリア積層体であって、前記第１機能層が、シロキサン系、シラン系、アクリル系、ウレタン系、エステル系より選ばれる１種または複数の樹脂からなること、を特徴とする。

本願発明の請求項４に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１ないし請求項３の何れか１項に記載のガスバリア積層体であって、前記保護層の最表面上に、さらに、１層又は複数のガスバリア層からなる第２ガスバリア層を積層してなること、を特徴とする。

本願発明の請求項５に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項４に記載のガスバリア積層体であって、前記第２ガスバリア層と前記保護層との間に、第２機能層を設けてなること、を特徴とする。

本願発明の請求項６に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１ないし請求項５の何れか１項に記載のガスバリア積層体であって、前記透明基材の裏面に、１層又は複数の機能層からなる第３機能層を積層してなること、を特徴とする。

本願発明の請求項７に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１ないし請求項６の何れか１項に記載のガスバリア積層体であって、前記透明基材のリタデーション（Ｒｅ）が１０ｎｍ以下であること、を特徴とする。

本願発明の請求項８に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１ないし請求項６の何れか１項に記載のガスバリア積層体であって、前記透明基材が位相差フィルムであること、を特徴とする。

本願発明の請求項９に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１ないし請求項８の何れか一項に記載のガスバリア積層体において、前記透明基材の表面側、裏面側、および両方のいずれかに、透明導電層を有してなること、を特徴とする。

本願発明の請求項１０に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項９に記載のガスバリア積層体であって、前記透明導電層が、金属酸化物、メタルナノワイヤー、メタルメッシュ、透明導電材料、カーボンナノチューブ、グラフェン、銀塩より選ばれる何れか１種よりなること、を特徴とする。

本願発明の請求項１１に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１ないし請求項１０の何れか１項に記載のガスバリア積層体であって、前記透明基材の裏面側に、偏光板または円偏光板の何れか１種を有してなること、を特徴とする。

本願発明の請求項１２に記載のガスバリア積層体に関する発明は、リタデーションが１０ｎｍ以下である低リタデーションフィルムの表面に、少なくともアクリル系樹脂からなる第１機能層と、酸化ケイ素を主としてなる第１ガスバリア層と、シロキサン系樹脂よりなる保護層と、をこの順に積層してなり、前記低リタデーションフィルムの裏面に、アクリル系樹脂からなる第３機能層を積層してなること、を特徴とする。

本願発明の請求項１３に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１２に記載のガスバリア積層体であって、前記第３機能層上、または前記第３機能層上と前記保護層上の両方に、さらに透明導電層を積層してなること、を特徴とする。

本願発明の請求項１４に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１２または請求項１３に記載のガスバリア積層体であって、前記低リタデーションフィルムの裏面側最表層に、さらに円偏光板を有してなること、を特徴とする。

本願発明の請求項１５に記載のガスバリア積層体に関する発明は、位相差フィルムの表面に、少なくともアクリル系樹脂からなる第１機能層と、酸化ケイ素を主としてなる第１ガスバリア層と、シロキサン系樹脂よりなる保護層と、をこの順に積層してなり、前記位相差フィルムの裏面に、偏光板または円偏光板を積層してなること、を特徴とする。

本願発明の請求項１６に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１ないし請求項６の何れか一項に記載のガスバリア積層体において、前記透明基材の表面側最表面に、接着層を設けてなること、を特徴とする、ガスバリア積層体。

本願発明の請求項１７に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１６に記載のガスバリア積層体であって、前記接着層がホットメルト樹脂よりなること、を特徴とする。

本願発明の請求項１８に記載のガスバリア積層体に関する発明は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる透明基材の表面に、ポリシラザンからなる第１機能層と、酸化ケイ素を主としてなるガスバリア層と、ＰＥＴフィルムからなる保護層と、ホットメルト樹脂からなる接着層と、をこの順に設けてなること、を特徴とする。

本願発明の請求項１９に記載のガスバリア積層体に関する発明は、ＰＥＴフィルムからなる透明基材の表面に、ポリシラザンからなる第１機能層と、酸化ケイ素を主としてなるガスバリア層と、シロキサン系樹脂を積層してなる保護層と、ホットメルト樹脂からなる接着層と、をこの順に設けてなること、を特徴とする。

本願発明の請求項２０に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１８または請求項１９に記載のガスバリア積層体であって、前記第１機能層が、シロキサン系樹脂とポリシラザンとをこの順に積層してなること、を特徴とする。

本願発明の請求項２１に記載のガスバリア積層体に関する発明は、請求項１８ないし請求項２０の何れか１項に記載のガスバリア積層体であって、前記透明基材の裏面に、最外層がハードコート層となる、１層または複数からなる第３機能層を積層してなること、を特徴とする。

本願発明にかかるガスバリア積層体であれば、ガスバリア層の表面に保護層を設けることによって、ガスバリア層の欠落やクラックを抑制できる。そのため、水蒸気透過率を低く保つことができ、ガスバリア性に優れたガスバリア積層体とすることができる。また、可撓性にも優れるため、何度も折り曲げたり湾曲させたりして使用するフレキシブルディスプレイのような用途でもガスバリア性が劣化しない。すなわち、耐久性と可撓性に優れたガスバリア積層体とすることができる。このような耐久性に優れたガスバリア積層体とすることで透過率の低下も抑制することができるので、視認性にも優れたガスバリア積層体とすることができる。このとき、ガスバリア層を複数層設けることで、よりガスバリア性を向上させることができる。さらに、透明基材のガスバリア層等を設ける面とは反対側表面に第３機能層を形成することで、加工や経年劣化などで傷つくことによる視認性の悪化を防ぐことができる。このようなガスバリア積層体に透明導電層を積層すれば、ガスバリア性を有した透明導電積層体とすることができる。また、偏光板や円偏光板を積層させることで、屋外使用においても視認性に優れた表示装置とすることができる。このとき、透明基材として位相差フィルムやリタデーションが１０ｎｍ以下というような低リタデーションフィルムを用いれば、位相が乱れて視認性が低下するのを防ぐことができる。また、接着層を設ければ、ガスバリア性封止材として、例えば電子ペーパーなどに用いることができる。

以下、本願発明の実施の形態について説明する。尚、ここで示す実施の形態はあくまでも一例であって、必ずしもこの実施の形態に限定されるものではない。

（実施の形態１）
本願発明に係るガスバリア積層体に関して、第１の実施の形態として説明する。

本実施の形態にかかるガスバリア積層体は、少なくとも、透明基材の片面に第１機能層と、ガスバリア層と、保護層とをこの順に積層してなる。

以下、順番に説明する。
（透明基材）
本実施の形態にかかる透明基材は、透明性を有するものであれば特に限定されず、各種プラスチックフィルムを用いることができる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のプラスチックフィルムを用いることができる。これらの中でも、安価でかつ強度に優れ、透明性と柔軟性とを兼ね備えている等の観点から、ＰＥＴフィルムが好ましい。また、透明基材の厚さは、２０μｍ以上２００μｍ以下が好ましい。このような範囲とすることで、可撓性に優れ、且つ取扱い易いガスバリア積層体とすることができる。本実施の形態においては５０μｍのＰＥＴフィルムを用いることとする。

上記で述べたような透明基材は、その表面濡れ性や、後述する第１機能層や第３機能層との密着性などを向上させるために表面処理を行ってもよい。このような表面処理としては、従来公知のものを適宜選択すれば良い。例えば、コロナ処理、プラズマ処理、イオンボンバード、グロー放電処理などである。

（第１機能層）
次に第１機能層であるが、透明基材と後述する第１ガスバリア層との密着性を向上させるものであれば特に限定しない。このようなものとしては例えば、シラン系樹脂、シロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂等が考えられる。このような機能層を設けることにより、ガスバリア層と透明基材との密着力が向上するので、耐久性に優れたガスバリア積層体とすることができる。また、第１機能層にアクリル系樹脂やウレタン系樹脂などのハードコート系樹脂として知られる樹脂を用いれば、工程間における擦傷などを抑制することができるため、視認性に優れたガスバリア層とすることができるので好ましい。例えばアクリル系樹脂であれば強靭性、伸張性、高硬度といった効果を得ることができる。

また、第１機能層は１層でもよく、基材への密着性や透明性の向上など様々な効果を得るために、必要に応じて２層以上を積層してもよい。例えばシラン系樹脂であるポリシラザン樹脂は、ケイ素やアルミニウムとの密着性に優れ、且つポリシラザン自体にバリア性を有しているため、このような樹脂を第１機能層として用いることで、ガスバリア性に優れたガスバリア積層体とすることができるが、透明基材との密着力に劣るため、折り曲げの多いフレキシブルディスプレイなどにおいては透明基材からガスバリア層が剥離し、ガスバリア性が劣化することが問題となっていた。そこでポリシラザン樹脂と透明基材との間にシロキサン系樹脂層を設けることにより、ガスバリア積層体の耐久性を向上させることができる。シロキサン系樹脂は、Ｓｉ−Ｏ結合を有するポリマーであり、有機物と無機物と双方に良好な密着性を有する。そのため、有機物である透明基材とポリシラザン層とを強固に密着させることができるので、ひいては得られるガスバリア積層体の層間密着力が向上し、耐久性を向上させることができる。本実施の形態においては、シロキサン系樹脂とポリシラザン樹脂とをこの順に積層した２層構成とする。

第１機能層の厚みは、必要に応じて適宜選択すれば良いが、全体で１０ｎｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。１０ｎｍ未満では膜としての十分な性能が得られず、安定した密着性を得ることが困難である。１０μｍより厚くなると可撓性がなく、カールが発生し、コストアップにつながる。本実施の形態においては、シロキサン系樹脂を２００ｎｍ、ポリシラザン樹脂を５０ｎｍ形成することとする。

第１機能層の積層方法としては、従来公知の方法から、用いる物質に応じて適宜選択すれば良い。例えば、有機物からなる樹脂を積層するのであれば、バーコート法、流延法、ローラーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、フローコート法、カーテンコート法、ダイレクトグラビア法、キスグラビアリバース法、スリットリバース法、等である。本実施の形態においてはダイレクトグラビア法を用いることとする。

（第１ガスバリア層）
本実施の形態にかかる第１ガスバリア層は、ケイ素、アルミニウム、またはその両方を含む合金より選ばれる何れか１つ、若しくはその酸化物、窒化物、又はそれらの混合物より選ばれる何れかよりなる。このようなガスバリア層とすることで、透明で水蒸気透過性の低い優れたガスバリア積層体とすることができる。本実施の形態においては酸化ケイ素を用いることとする。

第１ガスバリア層の厚みは、必要に応じて適宜選択すれば良いが、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましい。１０ｎｍ未満では物理的な膜とならず、バリア性を発現させることが困難である。１００ｎｍより厚くなると、可撓性が失われ、少し曲げただけでもガスバリア層にクラックが発生し、また、ガスバリア層の応力によりカールが発生するため好ましくない。本実施の形態においては４０ｎｍ積層することとする。

第１ガスバリア層の積層方法としては、従来公知の気相成長法を適宜選択して用いれば良い。例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長法や、化学気相成長法（ＣＶＤ）等である。なかでもスパッタリング法は、緻密な膜を簡便に形成することができ、薄膜でも良好なガスバリア性を得ることができるので好ましい。このとき、化合物のターゲットを用いて成膜を行っても良いし、単体のターゲットを用いて反応性ガスを導入して成膜を行う、反応性スパッタリング法を用いても良い。
反応性スパッタリング法によってガスバリア層を設けるとき、プラズマエミッションモニター（ＰＥＭ）を用いて反応性ガス量を調整して成膜を行うことが好ましい。ＰＥＭを用いることで、放電のプラズマ強度やインピーダンスを検知し、導入している反応性ガスの導入量を微調整することができる。放電のプラズマ強度を検知して導入している反応性ガスの量を制御するものをプラズマ制御方式、放電のインピーダンスを検知してその値がある一定値となるように反応性ガスの導入量を変動させるものをインピーダンス制御方式という。このような反応性ガス量の調整を行うことによって、安定した成膜を行うことができ、性能の良いガスバリア層とすることができる。本実施の形態においては酸素ガスの導入量をＰＥＭによってインピーダンス制御した反応性スパッタリング法によって成膜することとする。

（保護層）
本実施の形態にかかるガスバリア積層体は、前記第１ガスバリア層の表面に、さらに１層または複数の層からなる保護層を設けることを特徴としている。保護層を設けることによって、ガスバリア層にクラックが入りにくくなり、耐久性を高めることができる。このとき、保護層自体にガスバリア性があるものを使用すれば、ガスバリア性が高められるためより好ましい。
このような保護層としては、透明でガスバリア層や後工程で積層される層との密着性が良いものを適宜選択すれば良い。例えば、シロキサン系、シラン系、アクリル系、ウレタン系、エステル系、オレフィン系、ゴム系、エポキシ系、などの透明樹脂である。このような透明樹脂を積層したものとすれば、目的とする最低限の厚みのみ積層することができるので、軽薄短小な用途に有効である。また、オレフィン系、ゴム系、エポキシ系であれば、保護層自体から出るガスの量が非常に少ないためよりバリア性を高めることができ、アクリル系、ウレタン系、オレフィン系などであれば後述する接着層の役割を果たすこともできる。

保護層の形成方法としては、設ける保護層に合わせて適宜選択すれば良い。上記のような透明樹脂を保護層として設けるならば、従来公知のウェットコーティング法を適宜用いればよい。例えばバーコート法、流延法、ローラーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、フローコート法、カーテンコート法、ダイレクトグラビア法、キスグラビアリバース法、スリットリバース法、等である

また、保護層としては、シート状に成形された透明樹脂フィルムを、接着剤等を介して貼り合わせて用いてもよい。このような透明樹脂フィルムとしては、ＰＥＴフィルム、ＰＣフィルム、ＣＯＰフィルム、ポリプロピレン（ＰＰ）フィルム、ナイロンフィルム、アクリルフィルムなど従来公知の透明樹脂フィルムを適宜選択して用いればよい。このような透明樹脂フィルムを保護層として用いれば、簡便に保護層を設けることができ、剛性に富んでいるため屈曲耐性にも優れる。そして、機能性のある透明樹脂フィルムを選択すれば、ガスバリア積層体に新たな機能を付与することができる。例えば、ハードコートフィルムを保護層とすれば、耐擦傷性の高いガスバリア積層体とすることができ、易接着層を有した透明フィルムであれば、後工程で設ける層との密着力を向上させることができる。本実施の形態においてはＰＥＴフィルムを用いることする。

上記のような透明樹脂フィルムを保護層として設けるならば、ドライラミネート、粘着剤との貼り合わせなど、従来公知のラミネート法を適宜選択して用いれば良い。本実施の形態においてはドライラミネート法を用いることとする。

以上述べたような保護層の厚みとしては、用途に合わせて適宜選択すればよいが、０．５μｍ以上２００μｍ以下が好ましい。０．５μｍ未満では本来の目的である耐久性が得られず、また、搬送時のキズ付き等が懸念される。２００μｍより厚くなると可撓性がなく、カールが発生してしまう。また、１ロールに巻ける数量が少ないので効率が悪く、コストアップにつながる。本実施の形態においては１２μｍのＰＥＴフィルムを用いることとする。

（第３機能層）
本実施の形態にかかるガスバリア積層体は、透明基材の裏面、すなわち透明基材のガスバリア層等を設けた面とは反対側の面に、第３機能層を設けても良い。このような機能層を設けることによって、加工時や使用時に透明基材に傷が入るのを防ぐことができるので、外観良好なガスバリア積層体とすることができる。また、第３機能層側が使用面となる場合、より耐擦傷性が要求される。そこで、第３機能層を耐擦傷性に優れた層とすれば、耐久性の高い外観良好なデバイスとすることができる。また、第３機能層上に、後述する接着層や透明導電層、偏光板、円偏光板などを積層する場合、層間密着力を向上させるためにも設けることができる。

第３機能層としては、目的とする効果を有するものを適宜選択して用いれば良い。例えば、耐擦傷性を目的とする場合、アクリル系樹脂などの紫外線硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などの一般にハードコート剤とされる透明樹脂を用いればよく、反射防止性能を付与する場合は、屈折率を適宜調整した透明樹脂層を用いれば良い。後述する透明導電層や偏光板との密着力を向上させるために、それぞれ適した樹脂や無機物等をアンダーコート層として設けてもよい。そしてこれらの性能を得るために、複数層積層しても良い。例えば、第３機能層としてアクリル系樹脂を用いれば、強靭性、伸張性、高硬度といった性質があるため、耐擦傷性に優れたガスバリア積層体とすることができる。

第３機能層の積層方法としては、従来公知の方法を適宜選択して用いれば良い。例えば、有機物からなる樹脂を積層するのであれば、バーコート法、流延法、ローラーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、フローコート法、カーテンコート法、ダイレクトグラビア法、キスグラビアリバース法、スリットリバース法、等が考えられ、無機物からなる層とするのであれば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長法や、化学気相成長法（ＣＶＤ）等が考えられる。

第３機能層の厚みとしては、用途に合わせて適宜選択すればよいが、０．５μｍ以上１０μｍ以下が好ましい。０．５μｍ未満では本来の目的である耐擦傷性が得られず、搬送時のキズ付き等が懸念される。１０μｍより厚くなると可撓性がなく、カールが発生し、コストアップにつながる。

ここで、第３機能層はフィルムやシート形状に成形された樹脂フィルムを貼り合わせて設けても良い。例えば、耐擦傷性を目的とする場合、ハードコート層を有するハードコートフィルムを用いればよく、反射防止性能を付与する場合は、フィルム上に低屈折率層を積層したアンチグレアフィルムなどを用いれば良い。
このような樹脂フィルムを第３機能層として用いる場合、従来公知のラミネート方法を適宜選択して用いれば良い。例えば、ドライラミネート、粘着剤を介しての貼り合わせなどが考えられる。このとき、樹脂フィルム上にハードコート層などの機能層を設けている場合、その機能が発現できるよう、貼り合わせ面は適宜選択すれば良い。例えばハードコートフィルムをラミネートする場合、耐擦傷性を向上させるためにはハードコート層が最外層となるように設ける必要があるため、前記透明基材の裏面と貼り合わせるのは、第３機能層としての樹脂フィルムにおいてハードコート層とは反対面側となる。

上記のように樹脂フィルムを貼り合わせて第３機能層を設ける場合、そのフィルム厚みは２０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましい。２０μｍ未満ではハンドリング性・加工適性が悪く、機能層を設ける事が困難であり、２００μｍより厚くなると可撓性がなく、１ロールに巻ける数量が少ないので効率が悪く、コストアップにつながる。本実施の形態においては５μｍハードコート層を塗布した７５μｍのＰＥＴフィルムを、ハードコート層が外側になるように粘着層によって貼り合わせることとする。

本願発明に係るガスバリア積層体は、接着層や透明導電層、偏光板または円偏光板等を必要に応じて設けてもよい。また、これらの層は１種でも良く、２種以上を用いてもよい。本実施の形態においては接着層を設けたものについて説明するが、この形態に限定されるものではない。

（接着層）
本実施の形態にかかるガスバリア積層体は、その最表面に接着層を設けても良い。このような構成とすることにより、本実施の形態にかかるガスバリア積層体を封止剤として用いることができる。また接着層を設ける面は用途に応じて適宜選択すればよいが、透明基材の表面側、すなわちガスバリア層等を設ける側の最表面に設けることが好ましい。このような構成とすることで、ガスバリア層と電子インクなどの表示素子との間に層が少なくなるため、良好なバリア性を得ることができる。接着層としては従来公知の接着剤を適宜用いれば良いが、ホットメルト樹脂を用いることが好ましい。ホットメルト樹脂は、熱を加えることで可塑化し、冷却すると固化する樹脂で、一度塗布して硬化させても熱を加えることで再び可塑化する。そのため、必要なときに熱を加えて可塑化させ、対象物と貼り合わせて接着できるため好ましい。また、可塑化した樹脂は細部や側面にも拡がるため、表面だけでなく側面等から水分が侵入することを防ぐことができる。本実施の形態においては、保護層表面にホットメルト樹脂を用いることとする。

（実施の形態２）
次に第２の実施の形態として、有機ＥＬディスプレイなどのより高いバリア性を要求される用途に用いられるガスバリア積層体について説明する。

本実施の形態にかかる透明基材については、実施の形態１と同様に、透明性を有するものであれば特に限定されず、各種プラスチックフィルムを用いることができるが、ＣＯＰ、ＣＯＣ、ＰＣ、ＰＭＭＡ等の、光学的に配向性のないリタデーションが１０ｎｍ以下となるような低リタデーションフィルムや、偏光を調整することのできる位相差フィルムであることが好ましい。これについては後述する。このような透明基材の厚さは、実施の形態１と同様に２０μｍ以上２００μｍ以下が好ましい。本実施の形態においては５０μｍのＰＣフィルムを用いることとする。

上記で述べたような透明基材は、表面処理を行ってもよい。このような表面処理については実施の形態１と同様であるので説明を省略する。

本実施の形態にかかる第１機能層については、実施の形態１と同様であるので説明を省略する。
本実施の形態においては５μｍのアクリル系樹脂をダイレクトグラビア法によって形成したものとする。

本実施の形態にかかるガスバリア層については、実施の形態１と同様であるので説明を省略する。
本実施の形態においては、４０ｎｍの酸化ケイ素を酸素ガスの導入量をＰＥＭによってコントロールした反応性スパッタリング法によって成膜したものとする。

本実施の形態にかかる保護層については、透明でガスバリア層や後工程で積層される層との密着性が良いものを適宜選択すれば良いが、樹脂フィルムの貼り合わせではなく、透明樹脂の塗布によって設けられたものであることが好ましい。
本実施の形態にかかるガスバリア積層体は有機ＥＬデバイスや液晶表示装置などの用途にも用いることができる。これらのデバイスは、例えば有機ＥＬにおいては水蒸気により劣化する有機素子を有しているため、非常に高度な水蒸気バリア性が求められる。そこで、本実施の形態にかかるガスバリア積層体を設け、有機素子が水分等により劣化することを抑制することで、耐久性の高い有機ＥＬデバイスとすることができるのである。しかし、一般に樹脂フィルムは大気中の水分を吸着する性質があり、デバイスの発熱等によりガスバリア積層体が加熱されると、樹脂フィルムに吸着した水分が揮発し、水蒸気が放出される。そのため、ガスバリア層と有機素子との間に樹脂フィルムが存在すると、樹脂フィルムから放出される水蒸気によって有機素子が劣化し、ガスバリア積層体を設ける効果が弱まってしまう。そこで、このような高度なガスバリア性を要求されるガスバリア積層体においては、保護層において樹脂フィルムの積層を含まず、透明樹脂の塗布などによって設けられた層とすることによって、フィルム基材中に含まれる水分により劣化することを防ぎ、より効果の高いガスバリア積層体とすることができる。このような保護層としては、透明でガスバリア層や後工程で積層される層との密着性が良いものを適宜選択すれば良い。例えば、シロキサン系樹脂、シラン系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エステル系樹脂、オレフィン系樹脂、ゴム系樹脂、エポキシ系樹脂などの透明樹脂である。また、保護層は１層でも複数の層からなるものでもよい。

また、保護層の厚みとしては、用途に合わせて適宜選択すればよいが、０．５μｍ以上２００μｍ以下が好ましく、１μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましい。０．５μｍ未満では本来の目的である耐久性が得られず、搬送時のキズ付き等も懸念される。２００μｍより厚くなると可撓性がなく、カールが発生し、コストアップにつながる。本実施の形態においては２μｍのシロキサン系樹脂とする。

本実施の形態にかかる保護層の形成方法としては、従来公知のウェットコーティング法を適宜用いればよい。例えばバーコート法、流延法、ローラーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、フローコート法、カーテンコート法、ダイレクトグラビア法、キスグラビアリバース法、スリットリバース法、等である。本実施の形態においてはダイレクトグラビア法を用いることとする。

本実施の形態にかかるガスバリア積層体は、透明基材の表面に第１機能層と第１ガスバリア層とを積層し、その上に保護層を設けたものであるが、保護層の最表面上にさらに１層または複数層からなる第２ガスバリア層を積層しても良い。このとき、最表面上とは保護層の中で何も積層されていない最も外側の表面を指す。このように複数のガスバリア層を設けることにより、よりガスバリア性を高めることができる。第２ガスバリア層の種類、膜厚および形成方法は、第１ガスバリア層と同様であるので説明を省略する。本実施の形態においては、酸化ケイ素を４０ｎｍ、酸素ガスの導入量をＰＥＭによってコントロールした反応性スパッタリング法により積層することとする。

また保護層と第２ガスバリア層との間に第２機能層を設けても良い。第２機能層を設けることにより、第２ガスバリア層と保護層との層間密着力を向上させることができ、より耐久性に優れたガスバリア積層体とすることができる。第２機能層としては、保護層と第２ガスバリア層との密着性を有したものであれば特に限定するものではなく、適宜選択して用いれば良い。このような機能層としては例えばポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、シロキサン系、シラン系の樹脂などが考えられる。
本実施の形態においてはポリシラザンを５０ｎｍ積層することとする。

本実施の形態にかかる第３機能層については、実施の形態１と同様であるので説明を省略する。
本実施の形態においてはアクリル系樹脂を５μｍ積層することとする。

本実施の形態においても、実施の形態１と同様に、接着層や透明導電層、偏光板または円偏光板等を適宜設けることができる。本実施の形態においては特に、有機ＥＬデバイスや液晶表示装置等において利用される透明導電層と偏光板または円偏光板について説明する。

（透明導電層）
本実施の形態にかかるガスバリア積層体はさらに透明導電層を積層してもよい。本実施の形態にかかるガスバリア積層体に直接透明導電層を積層することにより、従来公知の透明導電フィルムを貼り合わせるよりも全体の厚みが薄くなり、より軽薄短小な用途に用いることができる。このとき、透明導電層を積層する前に、層間密着力を向上させるために下地層を設けても良い。このような層を設けることにより、透明導電層とガスバリア積層体とがより強固に密着し、耐久性を高めることができる。

透明導電層としては、透明導電層として用いられている従来公知のもの、例えば、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）やアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）などの金属酸化物、カーボンナノチューブ、グラフェン、メタルナノワイヤー、導電性フィラー、ＰＥＤＯＴ等による透明導電材料、金属メッシュ、銀塩等が考えられる。またこのような透明導電層の積層方法としては、設ける透明導電層の種類に応じて従来公知の方法を適宜選択すれば良い。例えば、ＩＴＯなどの薄膜であれば、スパッタリング法や蒸着法、ＣＶＤなどのドライコーティング法等が考えられ、また導電性高分子であればダイレクトグラビア法、バーコーター法など従来公知の塗工方法が考えられる。本実施の形態においては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）をスパッタリング法によって設けたものとする。

透明導電層を形成する面は、ガスバリア積層体のどちらか片面でも良いし両面に形成しても良い。これは用いる用途に従って適宜選択すれば良い。例えば、有機ＥＬデバイスは通常Ｘ軸方向とＹ軸方向の電極があり、その場合本実施の形態にかかるガスバリア積層体の両面に透明導電層からなる透明電極を設ける。しかし近年、Ｘ軸方向とＹ軸方向の電極を一括したＸＹ電極が注目されており、このような電極は透明基材の裏面側である表示面側、あるいは透明基材の表面側であるガスバリア面側のどちらか一方にのみ積層すればよい。このように用いる用途や目的、積層する層によって適宜積層面を選択すれば、目的に応じたガスバリア積層体とすることができる。

（偏光板または円偏光板）
本実施の形態にかかるガスバリア積層体は、円偏光板と貼り合わせることによって、表示装置などに用いたときに軽薄短小で屋外においても視認性の良好なものとすることができる。例えば有機ＥＬディスプレイ装置は、駆動電極部分の反射が強く、屋外で使用した場合、電極部分に外光が反射することで画像のコントラストが低下し、視認性を悪化させてしまう。しかしディスプレイの表面側に円偏光板を設けることで、内部で反射した光をカットし、視認性が悪化するのを抑制することができる。このような円偏光板としては、従来公知の円偏光板を用いれば良く、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の両面をトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）で保護してなる偏光板と、位相差フィルムとを貼り合わせたものなどが挙げられる。本実施の形態においては、透明基材側から、１／４波長位相差フィルム、１／２波長位相差フィルム、ＴＡＣ、ＰＶＡ、ＴＡＣの順に積層された円偏光板を用いることとする。

円偏光板を設ける面については、透明基材の裏面側、すなわち表示面側に設けることが好ましい。このような構成とすることで、上記で述べたように、外部からの入射光を低減するだけでなく、ディスプレイ装置内部の各界面からの反射光を一括して抑制することができる。また円偏光板の積層方法としては、積層する表面や偏光板の種類によって適宜選択すれば良い。本実施の形態では透明基材の裏面側最表面に、接着層を介してドライラミネートにより積層することとする。

このとき、透明基材に異方性を有した基材を用いると、円偏光板を通して入射した光や電極部分に反射された光の位相が乱れてしまい、円偏光板の効果が弱まってしまう。そのため、ガスバリア積層体の透明基材においても、円偏光板の効果を阻害しないよう、リタデーションが１０ｎｍ以下となるような低リタデーションフィルムや位相差フィルムを用いることが好ましい。

ここで、透明基材として位相差フィルムを用いれば、ガスバリア積層体の透明基材が円偏光板における位相差フィルムの効果を有するため、貼り合わせる位相差フィルムの数を減らし、全体の厚みを薄くすることができるので、より軽薄短小な積層体とすることができる。すなわち、透明基材が位相差フィルムであれば、少なくとも偏光板を貼り合わせるだけでも円偏光板の効果を得ることができるのである。

以上述べたような透明導電層、偏光板および円偏光板は、実施の形態１と同様に、どちらか１種のみ積層してもよいし２種以上を組み合わせてもよい。例えば、透明基材の裏面側最表面に、偏光板や円偏光板のみ設けてもよく、透明導電層と円偏光板とをこの順あるいは逆順に設けてもよい。また、透明基材の裏面側最表面に透明導電層のみを設けてもよく、透明基材の表面および裏面の最表面にそれぞれ透明導電層を設けてもよい。本実施の形態においては、第３機能層上にさらに透明導電層と円偏光板とをこの順に積層するものとする。

以上、実施の形態１および実施の形態２で述べたような、本願発明にかかるガスバリア積層体であれば、ガスバリア層上に保護層を設けることによって、ガスバリア層の欠落やクラックを抑制することができる。このようなガスバリア積層体は、折り曲げなど行ってもガスバリア性が劣化しない、耐久性とガスバリア性に優れた高度なガスバリア積層体となる。また、必要に応じて複数のガスバリア層や、第３機能層を設けることで、性能を向上させることができる。そしてこのようなガスバリア積層体に、さらに透明導電層、偏光板や円偏光板、接着層等を直接設けることにより、軽薄短小な電子デバイスとすることができる。

本願発明にかかるガスバリア積層体に関し、更に実施例を交えて以下説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

（実施例１）
透明基材として２５μｍのＰＥＴフィルムを用い、表面にバキューム式スロットダイコーターを用いてポリシラザン樹脂を塗布、乾燥し、厚さ５０ｎｍの第１機能層を得た。次に第１機能層上に、シリコンターゲットを用いて、酸化ケイ素を３０ｎｍ積層して第１ガスバリア層を得た。第１ガスバリア層の積層は、真空排気したチャンバー内にアルゴンガスと酸素ガスを０．２Ｐａとなるよう導入し、反応性マグネトロンスパッタリング法によって行った。またこのとき、ＰＥＭを用いて、放電のインピーダンスを検知し、その値が一定値となるように酸素ガスの導入量を変動させるインピーダンス制御方式により行った。次に、第１ガスバリア層上に、２本リバースコーターを用いてシロキサン樹脂を塗布、乾燥して厚さ１．５μｍの保護層を形成し、目的とするガスバリア積層体を得た

（実施例２）
透明基材として２５μｍのＰＥＴフィルムを用い、表面にバキューム式スロットダイコーターを用いてポリシラザン樹脂を塗布、乾燥し、厚さ５０ｎｍの第１機能層を得た。次に第１機能層上に、実施例１と同様にして第１ガスバリア層を得た。第１ガスバリア層の厚さは３０ｎｍとした。次に、第１ガスバリア層上に、ポリエステル樹脂を６μｍ塗布、乾燥した後、ドライラミネート法によって１２μｍのＰＥＴフィルムを貼り合わせて保護層とし、目的とするガスバリア積層体を得た。

（実施例３）
実施例１において、ポリシラザン層を積層する前に、マイクログラビアコーターを用いてシロキサン樹脂を２００ｎｍ塗布、乾燥した以外は、実施例１と同様にして目的とするガスバリア積層体を得た。

（実施例４）
実施例１で得られたガスバリア積層体において、保護層上に、ポリエステル樹脂を６μｍ塗布、乾燥した後、ドライラミネート法によって７５μｍのハードコートフィルムをハードコート層が外側になるように貼り合わせることでさらに保護層を形成し、目的とするガスバリア積層体を得た。

（実施例５）
透明基材として１００μｍのＰＣを用い、その両面にそれぞれ２本リバースコーターを用いてアクリル樹脂を塗布、乾燥して、厚さ１．５μｍの第１機能層および第３機能層を得た。次に第１機能層上に、実施例１と同様にして第１ガスバリア層を得た。第１ガスバリア層の厚さは４５ｎｍとした。次に、第１ガスバリア層上に２本リバースコーターを用いてシロキサン樹脂を塗布、乾燥して厚さ１．５μｍの保護層を形成し、目的とするガスバリア積層体を得た。

（比較例１）
保護層を形成しない以外は実施例１と同様にして、目的とするガスバリア積層体を得た。

（比較例２）
保護層を形成しない以外は実施例５と同様にして、目的とするガスバリア積層体を得た。

各実施例及び比較例につき、以下の項目を調べた。その結果を表１に示す。

（ガスバリア性）
各ガスバリア積層体の水蒸気透過率について、ＩＳＯ １５１０６−５の規格に従い測定した。測定条件は４０℃、９０％ＲＨ環境下で、２４時間以上、測定値が平衡に達するまで行うこととした。
その結果はそれぞれ表中の「ＷＶＴＲ」欄に記載する。

（密着性）
各ガスバリア積層体において、透明基材から見てガスバリア層側の最表面に対し、クロスカット法（ＪＩＳ Ｋ ５４００）により密着性を評価した。測定条件はクロスカットの幅１．５ｍｍ幅、マス目１００マスとした。その結果はそれぞれ表中の「密着性」欄に記載する。

（耐久試験）
各水準のガスバリア積層体において、耐久試験として６０℃、９５％ＲＨの条件で２５０時間促進試験を行い、耐久試験後のサンプルに対して、耐久試験前のサンプルと同様にガスバリア性と密着性を測定して評価を行った。その結果はそれぞれ表中の「ＷＶＴＲ」「密着性」欄に記載した。このとき、耐久試験前の結果は「初期」、耐久試験後の結果は「耐久試験後」の欄とする。

（光線透過率）
各ガスバリア積層体の全光線透過率について、日本電色工業株式会社製のヘーズメーター（品名：「ＮＤＨ２０００」）を用いて測定した。その結果を表中の「透過率」の欄に記載する。

（表１）

以上の結果より、本願発明に係るガスバリア積層体が、従来と比較してより高度なガスバリア性と耐久性とを兼ね備えていることが分かる。

以下詳細に比較する。
まず、水蒸気透過率についてであるが、比較例１は初期の水蒸気透過率こそ良好であるが、耐久試験後の水蒸気透過率は初期と比較して大幅に上昇している。しかし、比較例１に保護層を設けた構成である実施例１は、耐久試験後も初期の水蒸気透過率とほぼ変わらない数値を示している。また、比較例２は、初期の時点でガスバリア性が得られておらず、耐久性試験後はさらに悪化しているが、比較例２に保護層を設けた構成である実施例５は、初期の段階において良好な水蒸気透過率を示し、且つ耐久試験後もほぼ変わらず、良好な水蒸気透過率を示している。このことから、保護層を設けることにより、ガスバリア性が向上し、且つ耐久性にも優れた積層体となることが分かる。実施例２は、保護層としてＰＥＴフィルムを用いているが、実施例１と同様に耐久試験後も初期の水蒸気透過率と大幅に変わることなく、良好なガスバリア性を有している。このことから、保護層として樹脂フィルムを用いても同様の効果を示すことが分かる。実施例３は、第１機能層において、ポリシラザン樹脂の下地層としてシロキサン樹脂層を設けることで、初期、耐久試験後共にガスバリア性がより向上している。実施例４は、シロキサン樹脂層とハードコートフィルムと２種類の保護層を設けているが、これにより初期、耐久試験後ともにガスバリア性がさらに向上している。すなわち、実施例３および実施例４のように複数層設けることによって、よりガスバリア性や耐久性が向上することが分かる。
密着性および透過率においても、実施例１ないし実施例５は良好な数値を示しており、ディスプレイなどの透明性や耐久性が要求される用途においても、十分に利用可能であることが分かる。

本願発明にかかるガスバリア積層体は、高度なガスバリア性、耐久性、可撓性、透明性を必要とする用途、例えば電子ペーパーを用いた電子棚札、電子書籍、携帯電話、タブレット、ウェアラブルデバイスなどの様々な端末のディスプレイ、有機薄膜太陽電池用電極などに特に有用である。またそのような用途に用いるとき、必要に応じて透明導電層や偏光板、接着層などをガスバリア積層体に設けることで、より簡便にコンパクトな形状のものを得ることができる。

Claims (21)

1. 透明基材の表面に、少なくとも、
   １層又は複数の機能層からなる第１機能層と、
   ケイ素、アルミニウム、またはその両方を含む合金より選ばれる何れか１つ、若しくはその酸化物、窒化物、又はそれらの混合物より選ばれる何れかよりなる第１ガスバリア層と、
   １層又は複数の樹脂層からなる保護層と、
   をこの順に積層してなること、
   を特徴とする、ガスバリア積層体。
2. 前記保護層が、少なくとも、シロキサン系、シラン系、アクリル系、ウレタン系、エステル系、オレフィン系、ゴム系、エポキシ系、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ナイロンより選ばれる１種または複数の樹脂よりなること、を特徴とする、請求項１に記載のガスバリア積層体。
3. 前記第１機能層が、シロキサン系、シラン系、アクリル系、ウレタン系、エステル系より選ばれる１種または複数の樹脂からなること、を特徴とする、請求項１または請求項２に記載のガスバリア積層体。
4. 前記保護層の最表面上に、さらに、
   １層又は複数のガスバリア層からなる第２ガスバリア層を積層してなること、
   を特徴とする、請求項１ないし請求項３の何れか１項に記載のガスバリア積層体。
5. 前記第２ガスバリア層と前記保護層との間に、第２機能層を設けてなること、
   を特徴とする、請求項４に記載のガスバリア積層体。
6. 前記透明基材の裏面に、
   １層又は複数の機能層からなる第３機能層を積層してなること、
   を特徴とする、請求項１ないし請求項５の何れか１項に記載のガスバリア積層体。
7. 前記透明基材のリタデーション（Ｒｅ）が１０ｎｍ以下であること、
   を特徴とする、請求項１ないし請求項６の何れか１項に記載のガスバリア積層体。
8. 前記透明基材が位相差フィルムであること、
   を特徴とする、請求項１ないし請求項６の何れか１項に記載のガスバリア積層体。
9. 請求項１ないし請求項８の何れか一項に記載のガスバリア積層体において、
   前記透明基材の表面側、裏面側、および両方のいずれかに、
   透明導電層を有してなること、
   を特徴とする、ガスバリア積層体。
10. 前記透明導電層が、金属酸化物、メタルナノワイヤー、メタルメッシュ、透明導電材料、カーボンナノチューブ、グラフェン、銀塩より選ばれる何れか１種よりなること、
    を特徴とする、請求項９に記載のガスバリア積層体。
11. 請求項１ないし請求項１０の何れか１項に記載のガスバリア積層体において、
    前記透明基材の裏面側に、偏光板または円偏光板の何れか１種を有してなること、
    を特徴とする、ガスバリア積層体。
12. リタデーションが１０ｎｍ以下である低リタデーションフィルムの表面に、少なくとも
    アクリル系樹脂からなる第１機能層と、
    酸化ケイ素を主としてなる第１ガスバリア層と、
    シロキサン系樹脂よりなる保護層と、
    をこの順に積層してなり、
    前記低リタデーションフィルムの裏面に、
    アクリル系樹脂からなる第３機能層を積層してなること、
    を特徴とする、ガスバリア積層体。
13. 前記第３機能層上、または前記第３機能層上と前記保護層上の両方に、さらに透明導電層を積層してなること、
    を特徴とする、請求項１２に記載のガスバリア積層体。
14. 前記低リタデーションフィルムの裏面側最表層に、さらに円偏光板を有してなること、
    を特徴とする、請求項１２または請求項１３に記載のガスバリア積層体。
15. 位相差フィルムの表面に、少なくとも
    アクリル系樹脂からなる第１機能層と、
    酸化ケイ素を主としてなる第１ガスバリア層と、
    シロキサン系樹脂よりなる保護層と、
    をこの順に積層してなり、
    前記位相差フィルムの裏面に、偏光板または円偏光板を積層してなること、
    を特徴とする、ガスバリア積層体。
16. 請求項１ないし請求項６の何れか一項に記載のガスバリア積層体において、
    前記透明基材の表面側最表面に、接着層を設けてなること、
    を特徴とする、ガスバリア積層体。
17. 前記接着層がホットメルト樹脂よりなること、
    を特徴とする、請求項１６に記載のガスバリア積層体。
18. ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる透明基材の表面に、
    ポリシラザンからなる第１機能層と、
    酸化ケイ素を主としてなるガスバリア層と、
    ＰＥＴフィルムからなる保護層と、
    ホットメルト樹脂からなる接着層と、
    をこの順に設けてなること、を特徴とする、ガスバリア積層体。
19. ＰＥＴフィルムからなる透明基材の表面に、
    ポリシラザンからなる第１機能層と、
    酸化ケイ素を主としてなるガスバリア層と、
    シロキサン系樹脂を積層してなる保護層と、
    ホットメルト樹脂からなる接着層と、
    をこの順に設けてなること、を特徴とする、ガスバリア積層体。
20. 前記第１機能層が、シロキサン系樹脂とポリシラザンとをこの順に積層してなること、
    を特徴とする、請求項１８または請求項１９に記載のガスバリア積層体。
21. 前記透明基材の裏面に、最外層がハードコート層となる、１層または複数からなる第３機能層を積層してなること、
    を特徴とする、請求項１８ないし請求項２０の何れか１項に記載のガスバリア積層体。