JP2017041549A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 202
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 52
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 115
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 44
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 44
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 48
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 37
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 32
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 30
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 20
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 15
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 abstract 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 5
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/71—Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
- H01L21/768—Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics
- H01L21/76838—Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics characterised by the formation and the after-treatment of the conductors
- H01L21/76841—Barrier, adhesion or liner layers
- H01L21/76871—Layers specifically deposited to enhance or enable the nucleation of further layers, i.e. seed layers
- H01L21/76873—Layers specifically deposited to enhance or enable the nucleation of further layers, i.e. seed layers for electroplating
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/0005—Geometrical arrangement of magnetic sensor elements; Apparatus combining different magnetic sensor types
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/007—Environmental aspects, e.g. temperature variations, radiation, stray fields
- G01R33/0076—Protection, e.g. with housings against stray fields
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/0206—Three-component magnetometers
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/04—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their crystalline structure, e.g. polycrystalline, cubic or particular orientation of crystalline planes
- H01L29/045—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their crystalline structure, e.g. polycrystalline, cubic or particular orientation of crystalline planes by their particular orientation of crystalline planes
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/62—Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/93—Batch processes
- H01L2224/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L2224/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
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- H—ELECTRICITY
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1515—Shape
- H01L2924/15153—Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device
- H01L2924/15155—Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device the shape of the recess being other than a cuboid
- H01L2924/15156—Side view
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
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- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
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Abstract
Description
図1〜図5に基づき、本発明の第1実施形態にかかる半導体装置A10について説明する。説明の便宜上、平面図の左右方向を第1方向Xと、第1方向Xに対して直角である平面図の上下方向を第2方向Yとそれぞれ定義する。第1方向Xおよび第2方向Yは、ともに半導体装置A10(または後述する基板1)の厚さ方向Zに対して直角である。
図25〜図28に基づき、本発明の第2実施形態にかかる半導体装置A20について説明する。なお、これらの図において、先述した半導体装置A10と同一または類似の要素には同一の符号を付して、重複する説明を省略することとする。
1:基板
11:主面
12:裏面
13:第1側面
14:第2側面
15:凹部
151:底面
152:傾斜面
152a:第1傾斜面
152b:第2傾斜面
153:開口領域
16:絶縁層
20:導電層
201:バリア層
202:シード層
203:めっき層
204:バンプ層
21:第1導電経路
22:第2導電経路
23:パッド
24:端子
28:線対称領域
31:半導体素子
32:接合層
4:封止樹脂
41:樹脂主面
44:樹脂側面
81:基板
811:主面
812:裏面
815:溝部
815a:底面
815b:傾斜面
816:絶縁層
82:導電層
821:バリア層
822:シード層
823:めっき層
824:バンプ層
831:半導体素子
832:接合層
84:封止樹脂
881:マスク層
882:レジスト層
882a:露光領域
882b:線対称領域
882c:二次露光領域
X:第1方向
Y:第2方向
Z:厚さ方向
N:軸
CL:切断線
Claims (42)
- 半導体素子と、
主面を有し、かつ前記半導体素子を搭載する、半導体材料からなる基板と、
前記基板に形成された導電層と、
前記半導体素子を覆う封止樹脂と、を備える半導体装置であって、
前記基板には、底面と、前記基板の厚さ方向に対して直角である第1方向に離間した一対の傾斜面と、を有し、かつ前記主面から窪む凹部が形成され、
前記一対の傾斜面はそれぞれ、前記主面および前記底面につながり、
前記導電層は、前記一対の傾斜面に形成された複数の第1導電経路と、前記底面に形成された複数の第2導電経路と、を含み、
前記複数の第1導電経路および前記複数の第2導電経路は互いに導通し、
一方の前記傾斜面における前記第1導電経路が形成された領域と、前記基板の厚さ方向および前記第1方向のいずれに対して直角である第2方向に平行な軸に関して線対称である他方の前記傾斜面における領域に、前記第1導電経路が形成されていないことを特徴とする、半導体装置。 - 前記複数の第1導電経路は、いずれも前記第1方向に平行となるように形成されている、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記複数の第2導電経路は、いずれも前記第2方向に平行となる部分が形成されている、請求項2に記載の半導体装置。
- 前記複数の第2導電経路は、いずれも前記底面と前記傾斜面との交線に接して形成されている、請求項3に記載の半導体装置。
- 前記導電層は、前記底面に形成された複数のパッドをさらに含み、前記パッドは前記第2導電経路と導通し、前記複数のパッドに前記半導体素子が搭載されている、請求項1ないし4のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記導電層は、前記主面に形成された複数の端子をさらに含み、前記端子は前記第1導電経路と導通している、請求項1ないし5のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記導電層は、互いに積層されたシード層およびめっき層を有し、前記シード層は、前記基板と前記めっき層との間に介在している、請求項1ないし6のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記めっき層の厚さは、前記シード層の厚さよりも厚い、請求項7に記載の半導体装置。
- 前記シード層および前記めっき層は、いずれもCuからなる、請求項8に記載の半導体装置。
- 前記一対の傾斜面の前記底面に対する傾斜角は、ともに同一である、請求項1ないし9のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記底面は、前記基板の厚さ方向に対して直交している、請求項1ないし10のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記基板は、前記第1方向に離間した一対の第1側面と、前記第2方向に離間した一対の第2側面と、を有し、前記一対の第1側面および前記一対の第2側面は、いずれも前記主面に対して直交している、請求項1ないし11のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記凹部は、前記一対の第2側面においてそれぞれ開口した一対の開口領域を有する、請求項12に記載の半導体装置。
- 前記凹部の断面形状は、前記第2方向において一様である、請求項13に記載の半導体装置。
- 前記半導体材料は、単結晶材料である、請求項1ないし14のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記半導体材料は、Siである、請求項15に記載の半導体装置。
- 前記主面は、(100)面である、請求項16に記載の半導体装置。
- 前記主面、前記底面および前記一対の傾斜面に形成された絶縁層をさらに備え、前記導電層は前記絶縁層に接している、請求項1ないし17のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記絶縁層は、SiO2からなる、請求項18に記載の半導体装置。
- 前記導電層は、バリア層をさらに有し、前記バリア層は前記絶縁層に接している、請求項18または19に記載の半導体装置。
- 前記バリア層は、Tiからなる、請求項20に記載の半導体装置。
- 前記半導体素子は、ホール素子である、請求項1ないし21のいずれかに記載の半導体装置。
- 主面を有した半導体材料からなる基板に、底面と、前記基板の厚さ方向に直角である第1方向に離間した一対の傾斜面とを有し、かつ前記基板の厚さ方向および前記第1方向のいずれに対して直角である第2方向に延出した溝部を、前記主面が窪むように前記基板に複数形成する工程と、
複数の前記溝部を含む前記基板に導電層を形成する工程と、
前記溝部に収容されるように、複数の半導体素子を互いに離間した状態で前記底面に搭載する工程と、
前記複数の半導体素子を覆う封止樹脂を形成する工程と、
前記基板を、前記第1方向および前記第2方向に沿ってそれぞれ切断することで、前記半導体素子ごとの個片に分割する工程と、を備える半導体装置の製造方法であって、
前記導電層を形成する工程では、複数の前記溝部を含む前記基板に、フォトリソグラフィによって前記導電層を形成するためのパターニングを行う工程を含み、かつ前記フォトリソグラフィによって一方の前記傾斜面に形成された露光領域と、前記第2方向に平行な軸に関して線対称である他方の前記傾斜面の領域には、露光領域が形成されないことを特徴とする、半導体装置の製造方法。 - 前記パターニングを行う工程では、前記一対の傾斜面には、前記第1方向に平行である露光領域が形成される、請求項23に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記パターニングを行う工程では、前記底面には、前記第2方向に平行である部分を有した露光領域が形成され、該露光領域は、前記一対の傾斜面に形成された露光領域につながっている、請求項24に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記部分は、前記底面と前記傾斜面との交線に接している、請求項25に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記導電層を形成する工程では、前記パターニングを行う工程の前に、複数の前記溝部を含む前記基板にシード層を形成する工程を含む、請求項23ないし26のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記シード層を形成する工程では、スパッタリング法により前記シード層が形成される、請求項27に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記パターニングを行う工程において前記基板に形成されるレジスト層は、露光された部分が現像液によって除去される、請求項27または28に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記導電層を形成する工程では、前記パターニングを行う工程の後に、前記シード層が露出した部分にめっき層を形成する工程を含む、請求項29に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記めっき層を形成する工程では、電解めっきにより前記めっき層が形成される、請求項30に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記導電層を形成する工程では、前記めっき層を形成する工程の後に、前記めっき層に覆われていない前記シード層を除去する工程を含む、請求項30または31に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記シード層を除去する工程では、複数の前記溝部を含む前記基板に形成された前記レジスト層を除去した後に、エッチングにより前記シード層が除去される、請求項32に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記導電層を形成する工程の前に、複数の前記溝部を含む前記基板に絶縁層を形成する工程をさらに備える、請求項27ないし33のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記絶縁層を形成する工程では、熱酸化法により前記絶縁層が形成される、請求項34に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記導電層を形成する工程では、前記シード層を形成する工程の前に、前記絶縁層に接するバリア層を形成する工程を含む、請求項34または35に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記バリア層を形成する工程では、スパッタリング法により前記バリア層が形成される、請求項36に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体材料は、単結晶材料である、請求項23ないし37のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体材料は、Siである、請求項38に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記主面は、(100)面である、請求項39に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記基板に前記溝部を複数形成する工程では、異方性エッチングにより複数の前記溝部が形成される、請求項40に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記複数の半導体素子は、いずれもホール素子である、請求項23ないし41のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015162843A JP6595840B2 (ja) | 2015-08-20 | 2015-08-20 | 半導体装置およびその製造方法 |
US15/233,657 US10460989B2 (en) | 2015-08-20 | 2016-08-10 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015162843A JP6595840B2 (ja) | 2015-08-20 | 2015-08-20 | 半導体装置およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017041549A true JP2017041549A (ja) | 2017-02-23 |
JP6595840B2 JP6595840B2 (ja) | 2019-10-23 |
Family
ID=58158088
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015162843A Active JP6595840B2 (ja) | 2015-08-20 | 2015-08-20 | 半導体装置およびその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10460989B2 (ja) |
JP (1) | JP6595840B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Also Published As
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---|---|
US10460989B2 (en) | 2019-10-29 |
US20170054071A1 (en) | 2017-02-23 |
JP6595840B2 (ja) | 2019-10-23 |
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A977 | Report on retrieval |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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