JP2016223636A - 容器内面の乾燥方法 - Google Patents
容器内面の乾燥方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016223636A JP2016223636A JP2013218318A JP2013218318A JP2016223636A JP 2016223636 A JP2016223636 A JP 2016223636A JP 2013218318 A JP2013218318 A JP 2013218318A JP 2013218318 A JP2013218318 A JP 2013218318A JP 2016223636 A JP2016223636 A JP 2016223636A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- gas supply
- drying
- suction
- suction exhaust
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B9/00—Machines or apparatus for drying solid materials or objects at rest or with only local agitation; Domestic airing cupboards
- F26B9/06—Machines or apparatus for drying solid materials or objects at rest or with only local agitation; Domestic airing cupboards in stationary drums or chambers
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
- F26B5/12—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by suction
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
【課題】容器内壁に付着した水滴(水分)が効果的に除去される技術を提供する。【解決手段】容器の内壁の乾燥方法であって、前記容器内の気体が吸引排気される吸引排気工程と、前記容器内に乾燥気体が供給される乾燥気体供給工程とを具備し、前記吸引排気と前記乾燥気体供給とは同時に行われ、前記吸引排気と前記乾燥気体供給とが同時に連続して行われる時間は20分以上であり、前記乾燥気体供給量は0.1L/min以上であり、前記吸引排気と前記乾燥気体供給とが同時に行われている際の前記容器内の圧力は0.1〜15kPaである。【選択図】図1
Description
本発明は乾燥技術に関する。
従来、容器内の乾燥(容器内壁に付着した水分の除去)方法としては、前記容器を加熱すると共に、前記容器内の気体を真空ポンプを用いて排気する手法が取られている。
この乾燥方法でも、通常の物質ならば、問題はなかった。
ところが、高純度化合物の如きの物質が、前記乾燥方法が実施された容器内に、充填された場合、種々の問題が予想された。例えば、水との反応性が高い化合物を、水分除去が不十分な容器内に、充填する訳には行かない。反応性が低い化合物であっても、高純度が要求される場合、問題である。
このようなことから、従来の水分除去技術には満足できなかった。
ところで、真空容器と、前記真空容器に加熱不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、前記真空容器内を真空にする真空ポンプとを具備した乾燥装置が提案(特開平6−69180)されていた。前記真空容器は、不活性ガス導入口と不活性ガス排気口とを備えている。前記乾燥装置は半導体デバイスの乾燥装置として開発されたものである。
前記乾燥装置の詳細は次の通りである。前記乾燥装置は、真空容器と、真空ポンプと、不活性ガス加熱供給手段とで構成されている。前記真空容器は、床部がメッシュ状である。前記真空容器内にセットされた製品(被乾燥物)に付着(含有)の水滴は、前記メッシュ構造を通り抜けて、滴り落ちる。前記床部は、中心部に向かって、テーパー状である。これにより、床部より落下した水滴が、スムーズに、落下する。前記テーパー部の先端に排気パイプが連結されている。水滴は、前記排気パイプを介して排出される。前記排気パイプの下部には、ドレン弁が、設けられている。前記真空ポンプは、前記排気パイプから分岐した本真空用のラインと予備真空引き用のラインとにより、真空容器に連結されている。真空容器内の気体は真空ポンプにより排気される。この時、真空容器内の真空度は、真空センサにより検出・制御される。前記ラインにはバルブが設けられている。
前記乾燥装置は次のように動作する。真空容器が開けられる。濡れた製品(未乾燥状態のシリコンウェハ)が、前記メッシュ状の床部に載置される。この後、真空容器が閉じられる。数分間放置される。これにより、水切りがされる。水切り後、ドレン弁が閉じられる。この後、真空容器内に加熱不活性ガスが供給される。同時に、予備真空引き(又は、本真空引き)のバルブが開けられ、容器内の圧力が100torr〜5torrに維持される。すなわち、前記圧力になるよう不活性ガスが供給される。この状態で1〜5分間放置される。その後、前記バルブが閉じられる。不活性ガスは、そのまま、流されている。従って、真空容器内の圧力は大気圧まで戻る。前記工程(操作)が、数回、繰り返された。このようにして、シリコンウェハの乾燥が行われた。
前記特許文献の乾燥装置が用いられたならば、真空容器内に配置されたシリコンウェハは乾燥したと言われている。シリコンウェハに付着している水滴(水分)が除去されたと考えられる。
ところで、前記特許文献の乾燥装置は、前記乾燥装置内(真空容器内)に配置されたシリコンウェハを乾燥する。前記シリコンウェハは容器内に配置されている。乾燥とはシリコンウェハに付着した水滴の除去のことである。シリコンウェハは容器内に存在する。従って、シリコンウェハの乾燥は、同時に、容器内壁の乾燥であると考えられる。
この点に関して、本願発明者による追試が行われた。すなわち、前記特許文献の実施例に記載の技術が実施された。
例えば、金属製容器内の気体が真空ポンプによって排気された。この排気と共に、乾燥窒素ガスが供給(供給量:1.5L/min、水分濃度約5ppb)された。この排気・供給が、前記特許文献の実施例に記載の時間、即ち、5分間、行われた。
この後(5分後)、バルブAを閉じ、真空ポンプによる排気が停止された。但し、乾燥窒素ガスの供給は続行された。すなわち、乾燥窒素ガスが引き続いて供給された。12分後(真空ポンプ停止から12分後)に、金属製容器内の圧力が1気圧になった。金属製容器内の圧力が1気圧になった時点で、再度、バルブAを開き、真空ポンプによる排気を再開した。この排気工程においても、前記と同様に、乾燥窒素ガスの供給が行われている。この排気・供給が、5分間、行われた。
この後、真空ポンプによる排気が、再度バルブAを閉じ、停止された。但し、乾燥窒素ガスの供給は続行された。真空ポンプ停止後、乾燥窒素ガスが引き続いて供給された。12分後に、金属製容器内の圧力が1気圧になった。金属製容器内の圧力が1気圧になった時点で、再々度バルブAを開き、真空ポンプによる排気を再開した。この排気工程においても、前記と同様に、乾燥窒素ガスの供給が行われている。この排気・供給が、5分間、行われた。
この後、真空ポンプによる排気が、再々度バルブAを閉じ、停止された。但し、乾燥窒素ガスの供給は続行された。真空ポンプ停止後、乾燥窒素ガスが引き続いて供給された。12分後に、金属製容器内の圧力が1気圧になった。金属製容器内の圧力が1気圧になった時点で、再々々度バルブAを開き、排気を再開した。この排気工程においては、前記と異なり、乾燥窒素ガスの供給は停止された。この排気が、5分間、行われた。
この後、前記金属製容器内の水分濃度の測定が行われた。前記金属製容器内の水分濃度は約160ppbであった。
この値(160ppb)は、金属製容器内の気体を、16時間、連続してターボ分子ポンプを用いて排気しながら、かつ、金属製容器を加熱した場合の金属製容器内の水分濃度(225ppb)に比べたならば、良かった。
しかしながら、この程度(160ppb)の乾燥では、満足できなかった。
従って、本発明は、容器内壁に付着した水滴(水分)が短時間で効果的に除去される技術を提供することである。
本発明は、
容器の内壁の乾燥方法であって、
前記容器内の気体が吸引排気される吸引排気工程と、前記容器内に乾燥気体が供給される乾燥気体供給工程とを具備し、
前記吸引排気と前記乾燥気体供給とは同時に行われ、
前記吸引排気と前記乾燥気体供給とが同時に連続して行われる時間は20分以上であり、
前記乾燥気体供給量は0.1L/min以上であり、
前記容器内の圧力が0.1〜15kPaである
ことを特徴とする乾燥方法を提案する。
容器の内壁の乾燥方法であって、
前記容器内の気体が吸引排気される吸引排気工程と、前記容器内に乾燥気体が供給される乾燥気体供給工程とを具備し、
前記吸引排気と前記乾燥気体供給とは同時に行われ、
前記吸引排気と前記乾燥気体供給とが同時に連続して行われる時間は20分以上であり、
前記乾燥気体供給量は0.1L/min以上であり、
前記容器内の圧力が0.1〜15kPaである
ことを特徴とする乾燥方法を提案する。
本発明は、前記乾燥方法であって、前記吸引排気と前記乾燥気体供給とが同時に連続して行われる時間内においては、吸引排気が、実質上、停止されないことを特徴とする乾燥方法を提案する。
本発明は、前記乾燥方法であって、前記容器の内容積が5〜1500Lであることを特徴とする乾燥方法を提案する。
本発明は、前記乾燥方法であって、前記容器が金属製であることを特徴とする乾燥方法を提案する。
本発明は、前記乾燥方法であって、前記容器が加熱される加熱工程を更に具備することを特徴とする乾燥方法を提案する。
本発明によれば、容器内壁に吸着していた水分が短時間で効果的に除去された。例えば、水分濃度が100ppb以下に乾燥できた。
本発明は乾燥方法である。特に、容器の内壁の乾燥方法である。容器は、例えばボンベである。或いは、配管である。前記容器は、その容積が、例えば5〜1500Lである。前記乾燥方法は、前記容器内の気体が吸引排気される吸引排気工程と、前記容器内に乾燥気体が供給される乾燥気体供給工程とを具備する。前記吸引排気と、前記乾燥気体供給とは、同時に、行われる。前記吸引排気と前記乾燥気体供給とが同時に連続して行われる時間は、20分以上である。前記乾燥気体供給量は0.1L/min以上である。前記乾燥気体は、好ましくは、水分濃度が100ppb以下である。
前記吸引排気と前記乾燥気体供給とが同時に連続して行われる時間内において、好ましくは、吸引排気は、実質上、停止されない。
前記吸引排気と前記乾燥気体供給とが同時に行われている際の前記容器内の圧力は、好ましくは、0.1〜15kPaであった。
前記吸引排気工程および前記乾燥気体供給工程においては、好ましくは、前記容器は加熱される。すなわち、加熱工程が実施されると、水分除去効果が高かった。加熱温度は、例えば80℃である。
以下、より具体的な実施形態が挙げられる。但し、本発明は以下の実施形態のみには限定されない。本発明の特長が大きく損なわれない限り、各種の変形例や応用例も本発明に含まれる。
[実施例1]
図1は、本発明の乾燥方法が実施される装置の概略図である。
図1は、本発明の乾燥方法が実施される装置の概略図である。
図1中、1は金属製(例えば、ステンレス製)の容器(ボンベ)である。内容積は19Lである。2は気体注入パイプである。3は気体排出パイプである。気体注入パイプ2及び気体排出パイプ3は容器1に取り付けられている。気体注入パイプ2を介して、乾燥気体(例えば、水分濃度が約5ppbの乾燥窒素ガス)が、容器1内に、注入される。容器1内の気体は、真空ポンプによって、気体排出パイプ3を介して、外部に排出される。4は、流路に設けられたバルブである。
上記装置が次のように運転された。
先ず、最初に、金属製容器1内が、真空ポンプによって、真空状態に維持された。
次に、パイプ2を介して、乾燥窒素ガスが金属製容器1内に供給された。前記吸引排気と前記乾燥窒素ガス供給は、同時に、行われている。勿論、どちらか一方の開始時期が早くても差し支えない。しかし、スイッチオン時から多少の時間が経過した時点(安定運転状態の時点)では、前記吸引排気と前記乾燥窒素ガス供給は、共に、続行している。前記続行時間(連続続行時間)は50分であった。前記乾燥窒素ガス供給量は1.5L/minであった。金属製容器1内の内圧は、多少の変動が認められたものの、5kPaであった。金属製容器1は、加熱炉内に配置されており、80℃に保持されていた。
上記50分経過後における金属製容器1内の水分濃度が計測された。その結果は95ppbであった。この値は、前記特許文献の方法に準拠した場合に比べると、遥かに、改善されたものであった。
[実施例2]
実施例1に準じて行われた。但し、本実施例では、乾燥時間(吸引排気と乾燥窒素ガス供給との連続続行時間)は5時間であった。この5時間経過後における金属製容器1内の計測水分濃度は40ppbであった。
実施例1に準じて行われた。但し、本実施例では、乾燥時間(吸引排気と乾燥窒素ガス供給との連続続行時間)は5時間であった。この5時間経過後における金属製容器1内の計測水分濃度は40ppbであった。
[実施例3]
実施例1に準じて行われた。但し、本実施例では、乾燥時間(吸引排気と乾燥窒素ガス供給との連続続行時間)は16時間であった。この16時間経過後における金属製容器1内の計測水分濃度は30ppbであった。
実施例1に準じて行われた。但し、本実施例では、乾燥時間(吸引排気と乾燥窒素ガス供給との連続続行時間)は16時間であった。この16時間経過後における金属製容器1内の計測水分濃度は30ppbであった。
この実施例の方法と、比較例の方法(前記特許文献1の実施例に記載の方法)とから、次のことが判る。
(1) 本実施例に記載の方法は、前記特許文献1に記載の方法に比べ、金属製容器内壁に付着(結合)の水分の除去効果が、各段に、高い。
(2) 金属製容器内壁に付着(結合)の水分の除去が、短時間で、行われる。
(1) 本実施例に記載の方法は、前記特許文献1に記載の方法に比べ、金属製容器内壁に付着(結合)の水分の除去効果が、各段に、高い。
(2) 金属製容器内壁に付着(結合)の水分の除去が、短時間で、行われる。
Claims (5)
- 容器の内壁の乾燥方法であって、
前記容器内の気体が吸引排気される吸引排気工程と、前記容器内に乾燥気体が供給される乾燥気体供給工程とを具備し、
前記吸引排気と前記乾燥気体供給とは同時に行われ、
前記吸引排気と前記乾燥気体供給とが同時に連続して行われる時間は20分以上であり、
前記乾燥気体供給量は0.1L/min以上であり、
前記吸引排気と前記乾燥気体供給とが同時に行われている際の前記容器内の圧力は0.1〜15kPaである
ことを特徴とする乾燥方法。 - 前記吸引排気と前記乾燥気体供給とが同時に連続して行われる時間内においては、吸引排気が、実質上、停止されない
ことを特徴とする請求項1の乾燥方法。 - 前記容器の内容積が5〜1500Lである
ことを特徴とする請求項1〜請求項3いずれかの乾燥方法。 - 前記容器が金属製である
ことを特徴とする請求項1〜請求項4いずれかの乾燥方法。 - 前記容器が加熱される加熱工程を更に具備する
ことを特徴とする請求項1〜請求項5いずれかの乾燥方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013218318A JP2016223636A (ja) | 2013-10-21 | 2013-10-21 | 容器内面の乾燥方法 |
PCT/JP2014/070337 WO2015059972A1 (ja) | 2013-10-21 | 2014-08-01 | 容器内面の乾燥方法 |
TW103129806A TW201532693A (zh) | 2013-10-21 | 2014-08-29 | 容器內面之乾燥方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013218318A JP2016223636A (ja) | 2013-10-21 | 2013-10-21 | 容器内面の乾燥方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016223636A true JP2016223636A (ja) | 2016-12-28 |
Family
ID=52992583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013218318A Pending JP2016223636A (ja) | 2013-10-21 | 2013-10-21 | 容器内面の乾燥方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2016223636A (ja) |
TW (1) | TW201532693A (ja) |
WO (1) | WO2015059972A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020155453A (ja) * | 2019-03-18 | 2020-09-24 | 大日商事株式会社 | 半導体搬送容器の乾燥方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3293061B2 (ja) * | 1997-08-29 | 2002-06-17 | 八木 俊一 | 被乾燥物の乾燥方法およびその装置 |
JP2003234273A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-08-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP4394134B2 (ja) * | 2007-05-23 | 2010-01-06 | カンサン株式会社 | ガス容器内部の洗浄方法 |
JP5371605B2 (ja) * | 2008-09-25 | 2013-12-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法 |
-
2013
- 2013-10-21 JP JP2013218318A patent/JP2016223636A/ja active Pending
-
2014
- 2014-08-01 WO PCT/JP2014/070337 patent/WO2015059972A1/ja active Application Filing
- 2014-08-29 TW TW103129806A patent/TW201532693A/zh unknown
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020155453A (ja) * | 2019-03-18 | 2020-09-24 | 大日商事株式会社 | 半導体搬送容器の乾燥方法 |
JP7168961B2 (ja) | 2019-03-18 | 2022-11-10 | 大日商事株式会社 | 半導体搬送容器の乾燥方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201532693A (zh) | 2015-09-01 |
WO2015059972A1 (ja) | 2015-04-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100335322B1 (ko) | 반도체웨이퍼등의처리방법및그처리장치 | |
JP5522124B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | |
JP6085423B2 (ja) | 基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体 | |
US20120048304A1 (en) | Supercritical drying method and supercritical drying system | |
JP4982320B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JPH09190997A (ja) | ウェーハ乾燥装置 | |
JP6342343B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR102253559B1 (ko) | 분리 재생 장치 및 기판 처리 장치 | |
JP6109772B2 (ja) | 分離再生装置および基板処理装置 | |
JP2016223636A (ja) | 容器内面の乾燥方法 | |
US20130081300A1 (en) | Vacuum cycling drying | |
JPWO2017150038A1 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | |
JP2014109425A (ja) | 減圧装置及び真空乾燥装置 | |
JP6563351B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | |
JPWO2012008439A1 (ja) | 基板処理方法及び基板処理システム | |
JPH06163508A (ja) | 基板の乾燥方法および装置 | |
JP3999946B2 (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
JP6117061B2 (ja) | 基板処理方法及びその装置 | |
JP2013149666A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP2009027078A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2009004694A (ja) | 基板処理装置 | |
JPH0669180A (ja) | 真空乾燥装置 | |
JP2002350049A (ja) | 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法 | |
JP2008277843A5 (ja) | 半導体製造装置のクリーニング方法および半導体製造装置 | |
JPH11169606A (ja) | 脱気装置 |