JP2016204178A - 単結晶製造装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図6に示すように、単結晶製造装置101は、メインチャンバー102と、メインチャンバー102中に設けられたルツボ103と、ルツボ103の周囲に配置されたヒーター106と、ルツボ103を回転させるルツボ保持軸110及びその回転機構(不図示)と、シリコンの種結晶113を保持するシードチャック104と、シードチャック104を引上げる引上げワイヤー108と、引上げワイヤー108を回転及び巻き取る巻き取り機構(不図示)を備えて構成されている。
まず、ルツボ103内でシリコンの高純度多結晶原料を融点(約1420℃)以上に加熱して融解する。そして、引上げワイヤー108を巻き出すことにより湯面の略中心部に種結晶113の先端を接触または浸漬させる。その後、ルツボ保持軸110を適宜の方向に回転させるとともに、引上げワイヤー108を回転させながら巻き取り、種結晶113を引上げることにより、単結晶育成が開始される。以後、引上げ速度と温度を適切に調節することにより円柱形状のシリコン単結晶112を得ることができる。
前記メインチャンバーの底部には前記ルツボから漏れた融液を収容する湯漏れ受け皿が設置され、該湯漏れ受け皿には、前記ルツボの湯漏れを検出する湯漏れ検出器が配置され、該湯漏れ検出器は、少なくとも一つ以上の差動式熱電対を有し、
該差動式熱電対は、前記湯漏れ受け皿に設けられた一対の接点を有し、該一対の接点の間に発生する起電力から温度差を検出することができるものであることを特徴とする単結晶製造装置を提供する。
高さが同じで、位置が異なるように湯漏れ受け皿に配置されたものであることが好ましい。
前記ルツボから漏れた融液を、前記差動式熱電対の一対の接点の片方に誘導する構造が設けられたものであることが好ましい。
前記差動式熱電対で検出された温度差を数学的に処理することにより、前記ルツボの湯漏れの発生を検出することができるものであることが好ましい。
上述したように、湯漏れ検出器として熱電対を用いて温度差を検出する場合には、同じ温度でも熱電対に発生する起電力には個体差が存在するため、温度差を高精度に検出することはできなかった。そのため、特許文献4のような湯漏れ検出器を用いた場合には、引上げ工程の初期段階で熱電対の個体差に起因する差分をリセットするか、あるいは湯漏れを検出する閾値を熱電対の個体差以上に設定しておく必要があった。さらに、上記のような設定を行ったとしても、正確に湯漏れを検出できないという問題があった。
このようなものであれば、一対の接点18a、18bのそれぞれの高さ位置を変えないため、簡易な構造とすることができるため、低コストで設置することができる。また、ヒーター14の昇降等によって検出される温度差の変化にはほとんど影響されないので、精度良く湯漏れを検出することができる。
このようなものであれば、わずかな湯漏れであっても、早い段階で、漏れた原料融液15の温度で上昇した温度差を検出することが可能となるため、ルツボ13の湯漏れをより確実に検出することができる。
このようなものであれば、ルツボ13の湯漏れをより高精度で検出することができる。
これにより、より感度良く検出温度差の変化を捉えて、より高精度に湯漏れを検出することができる。
図1に示すような本発明の単結晶製造装置11を用いてシリコン単結晶の製造を行った。差動式熱電対21はR熱電対を用いて、冷接点と高温側の一対の接点18a、18bをそれぞれロジウム13%を含む白金ロジウム合金で結び、高温側の一対の接点18a、18b間は白金で結んだものとした。そして、このような差動式熱電対21の一対の接点18a、18bの間に発生する起電力から温度差を検出し、検出された温度差の変化から湯漏れの検出を行った。
図6に示すような従来の単結晶製造装置101を用いてシリコン単結晶の製造を行った。温度差の検出には、図4に示すような2つの熱電対121a、121bを用いた。このとき、熱電対121a、121bはロジウム13%を含む白金ロジウム合金と白金からなるR熱電対を使用した。そして、まず2つの熱電対121a、121bのそれぞれの高温側の接点118a、118b部分の温度を測定した。その後、測定されたそれぞれの接点118a、118b部分の温度の差を算出することにより、温度差の検出を行った。これらのこと以外は実施例と同様にしてシリコン単結晶の製造を行った。
ところが、実際に湯漏れが発生して、漏れた融液を片方の接点に誘導する機構の下部にある接点118aを有する熱電対121a側で湯漏れによる温度上昇を検知しても、温度差の推移で見ると40℃以上を超えなかったため、この時点では湯漏れを検出することができなかった。
13…ルツボ、 13a…石英ルツボ、 13b…黒鉛ルツボ、 14…ヒーター、
15…原料融液、 16…ワイヤー、 17…湯漏れ受け皿、
18a、18b…接点、 19…ヒータ断熱材、 20…湯漏れ検出器、
21…差動式熱電対、 22…単結晶、 23…種結晶、 24…シードチャック、
25…断熱板、 26…堰、 27…貫通孔。
Claims (4)
- 原料融液を収容するルツボと、前記原料融液を加熱するヒーターを格納するメインチャンバーを具備するチョクラルスキー法によって単結晶を製造する単結晶製造装置であって、
前記メインチャンバーの底部には前記ルツボから漏れた融液を収容する湯漏れ受け皿が設置され、該湯漏れ受け皿には、前記ルツボの湯漏れを検出する湯漏れ検出器が配置され、該湯漏れ検出器は、少なくとも一つ以上の差動式熱電対を有し、
該差動式熱電対は、前記湯漏れ受け皿に設けられた一対の接点を有し、該一対の接点の間に発生する起電力から温度差を検出することができるものであることを特徴とする単結晶製造装置。 - 前記差動式熱電対の一対の接点はそれぞれ、
高さが同じで、位置が異なるように湯漏れ受け皿に配置されたものであることを特徴とする請求項1記載の単結晶製造装置。 - 前記ルツボと前記湯漏れ受け皿との間に、
前記ルツボから漏れた融液を、前記差動式熱電対の一対の接点の片方に誘導する構造が設けられたものであることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の単結晶製造装置。 - 前記湯漏れ検出器は、
前記差動式熱電対で検出された温度差を数学的に処理することにより、前記ルツボの湯漏れの発生を検出することができるものであることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の単結晶製造装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2021088478A (ja) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 | 住友金属鉱山株式会社 | 単結晶育成装置及び単結晶育成装置保護方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0351727A (ja) * | 1989-07-19 | 1991-03-06 | Toshiba Corp | 差温度測定装置 |
JPH0580861A (ja) * | 1991-09-19 | 1993-04-02 | Nec Yamagata Ltd | 温度制御回路 |
JP2011126730A (ja) * | 2009-12-16 | 2011-06-30 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 単結晶引上げ装置 |
JP2014091656A (ja) * | 2012-11-05 | 2014-05-19 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 単結晶製造装置の湯漏れ検出器 |
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2015
- 2015-04-16 JP JP2015084535A patent/JP2016204178A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0351727A (ja) * | 1989-07-19 | 1991-03-06 | Toshiba Corp | 差温度測定装置 |
JPH0580861A (ja) * | 1991-09-19 | 1993-04-02 | Nec Yamagata Ltd | 温度制御回路 |
JP2011126730A (ja) * | 2009-12-16 | 2011-06-30 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 単結晶引上げ装置 |
JP2014091656A (ja) * | 2012-11-05 | 2014-05-19 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 単結晶製造装置の湯漏れ検出器 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021088478A (ja) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 | 住友金属鉱山株式会社 | 単結晶育成装置及び単結晶育成装置保護方法 |
JP7398702B2 (ja) | 2019-12-04 | 2023-12-15 | 住友金属鉱山株式会社 | 単結晶育成装置及び単結晶育成装置保護方法 |
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