JP2016200639A - 位相差板の製造方法、位相差板を備えた積層板、および位相差板を備えた表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】トレードオフの関係にある乾燥ムラと塗布欠陥を十分に低減した液晶フィルムからなる位相差板の製造方法の提供。
【解決手段】本発明の位相差板の製造方法は、重合性液晶組成物と、界面活性剤と、溶媒とを含んでなる塗布液を調整する工程と、配向基板上に前記塗布液を塗布する工程と、前記塗布液を乾燥する工程と、液晶化合物を配向させて、液晶フィルムを形成する工程と、を含んでなる、液晶フィルムからなる位相差板の製造方法であって、前記塗布液の表面張力の濃度勾配が特定の数値範囲内となるように、前記界面活性剤の溶媒に対する濃度を調節することを特徴とする。
【選択図】なし
【解決手段】本発明の位相差板の製造方法は、重合性液晶組成物と、界面活性剤と、溶媒とを含んでなる塗布液を調整する工程と、配向基板上に前記塗布液を塗布する工程と、前記塗布液を乾燥する工程と、液晶化合物を配向させて、液晶フィルムを形成する工程と、を含んでなる、液晶フィルムからなる位相差板の製造方法であって、前記塗布液の表面張力の濃度勾配が特定の数値範囲内となるように、前記界面活性剤の溶媒に対する濃度を調節することを特徴とする。
【選択図】なし
Description
本発明は、液晶フィルムからなる位相差板の製造方法、該位相差板を備えた積層板、および該位相差板を備えた画像表示装置、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置等の表示装置に関する。
位相差板は、偏光（直線偏光、円偏光、楕円偏光）を得るために用いられる光学要素であり、液晶表示装置の色補償や視野角改良用フィルムの用途、直線偏光子と１／４波長板とを組み合わせた有機ＥＬ表示装置の反射防止フィルムの用途、また、コレステリック液晶等からなる右または左回りのどちらか一方の円偏光のみを反射する反射型偏光板の用途等、多くの用途で用いられる。位相差板は、無機材料（方解石、雲母、水晶）を薄く切り出した板や固有複屈折率が高い高分子フィルムを延伸したフィルム、棒状あるいは円盤状液晶化合物の配向を固定化した液晶フィルムが用いられている。
従来、液晶フィルムの製造方法としては、例えば、配向基板上に、液晶化合物を含む塗布液を塗布し、加熱などにより溶媒を除去して、液晶フィルムを形成することが行われてきた。しかし、加熱による溶媒除去は、加熱条件によって乾燥ムラを発生させてしまうという問題があった。この乾燥ムラの程度は、塗布液中の液晶化合物の濃度や溶媒の種類などによっても異なるが、得られた液晶フィルムを液晶ディスプレイに用いた場合には、この乾燥ムラによって画像表示品位が低下する恐れがある。また、配向基板と液晶化合物の種類によっては、溶液状態で均一に塗布しても、溶媒が除去された際に、液晶フィルムのぬれ性が乏しいためにハジキが発生してしまうという問題があった。このような問題点を解決するために、一般的には、塗布液に界面活性剤を添加することが行われているが、界面活性剤の種類によっては、上記問題を解決できても液晶の配向が乱れてしまい、所望の光学性能を得ることができないという問題があった。
上記の問題を解決するために、液晶性化合物を含む塗布液中に、液晶化合物１００重量部に対して０．５〜３重量部のフッ素系界面活性剤を添加することが提案されている（特許文献１参照）。また、塗布液に特定のフッ素含有ポリマーを添加することも提案されている（特許文献２および３参照）。さらに、塗布液の溶媒として低沸点溶媒成分と高沸点溶媒の２種類を用いることが提案されている（特許文献４参照）。さらにまた、塗布液の清浄ガラス面に対する接触角θと塗布液の表面張力σを調整することが提案されている（特許文献５参照）。あるいは、塗布液を、真空乾燥装置を用いて特定の条件下で乾燥することが提案されている（特許文献６参照）。
本発明者らは、液晶化合物と界面活性剤を含む塗布液を乾燥した場合、塗布液中の界面活性剤の濃度が低すぎると、乾燥過程で塗布液中の界面活性剤の濃度上昇に伴って塗布液の表面張力が不均一となり乾燥ムラが生じること、また、塗布液中の界面活性剤の濃度が高すぎると、過剰な界面活性剤によって液晶化合物の配向に対して悪影響を及ぼして塗布欠陥が生じることを知見した。従来、乾燥ムラを低減する方法として特許文献１〜６のような種々の方法が提案されているが、トレードオフの関係にある乾燥ムラと塗布欠陥の両方を低減するには十分でなかった。本発明者らは、塗布液中の界面活性剤の濃度に着目したところ、特許文献１のように界面活性剤の濃度を液晶化合物（固形分）に対する割合で決定したとしても、乾燥ムラの低減に対して必ずしも十分な効果が得られないという驚くべき知見を得た。したがって、トレードオフの関係にある乾燥ムラと塗布欠陥の両方を十分に低減した液晶フィルムからなる位相差板の開発が切望されている。
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、液晶化合物を含む塗布液中の界面活性剤の濃度を、塗布液の表面張力の濃度勾配が特定の数値範囲内となるように、界面活性剤の濃度を液晶化合物（固形分）ではなく溶媒（液体成分）に対して適切な範囲内に調節することで、上記の技術的課題を解決できることを知見した。本発明は、かかる知見に基づいて完成されたものである。
すなわち、本発明によれば、
重合性液晶組成物と、界面活性剤と、溶媒とを含んでなる塗布液を調整する工程と、
配向基板上に前記塗布液を塗布する工程と、
前記塗布液を乾燥する工程と、
液晶化合物を配向させて、液晶フィルムを形成する工程と、
を含んでなる、液晶フィルムからなる位相差板の製造方法であって、
前記塗布液が、下記数式（１）：
５００＜Δγ＜３００００ （１）
（式中、Δγ：γのｃに対する濃度勾配
γ：塗布液の表面張力（ｍＮ／ｍ）
ｃ：界面活性剤の溶媒に対する濃度（質量％））
を満たすように、前記界面活性剤の溶媒に対する濃度を調節することを特徴とする、位相差板の製造方法が提供される。
重合性液晶組成物と、界面活性剤と、溶媒とを含んでなる塗布液を調整する工程と、
配向基板上に前記塗布液を塗布する工程と、
前記塗布液を乾燥する工程と、
液晶化合物を配向させて、液晶フィルムを形成する工程と、
を含んでなる、液晶フィルムからなる位相差板の製造方法であって、
前記塗布液が、下記数式（１）：
５００＜Δγ＜３００００ （１）
（式中、Δγ：γのｃに対する濃度勾配
γ：塗布液の表面張力（ｍＮ／ｍ）
ｃ：界面活性剤の溶媒に対する濃度（質量％））
を満たすように、前記界面活性剤の溶媒に対する濃度を調節することを特徴とする、位相差板の製造方法が提供される。
本発明による位相差板の製造方法においては、前記塗布液の表面張力γが、下記数式（２）：
１０＜γ＜４０ （２）
を満たしてもよい。
１０＜γ＜４０ （２）
を満たしてもよい。
本発明による位相差板の製造方法においては、前記溶媒の表面張力γｓが、下記数式（３）：
１５＜γｓ＜７０ （３）
を満してもよい。
１５＜γｓ＜７０ （３）
を満してもよい。
本発明による位相差板の製造方法においては、前記溶媒が、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソプロピルアルコール、ブトキシエチルアルコール、メトキシ−２−プロパノール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸２−メトキシエチル、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート、酢酸エチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、およびγ-ブチロラクトンからなる群から選択される少なくとも１種であってもよい。
本発明による位相差板の製造方法においては、前記配向基板が、シクロオレフィンポリマーを含んでもよい。
本発明による位相差板の製造方法においては、前記液晶化合物の配向が、ホメオトロピック配向であってもよい。
本発明によれば、上記の製造方法により得られた位相差板と偏光子とを備えた、積層偏光板が提供される。
本発明によれば上記の製造方法により得られた位相差板を備えた、表示装置が提供される。
本発明によれば、レードオフの関係にある乾燥ムラと塗布欠陥の両方を十分に低減した液晶フィルムからなる位相差板の製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、このような位相差板を備えた積層板および表示装置を提供することができる。
＜位相差板の製造方法＞
本発明の液晶フィルムからなる位相差板の製造方法は、重合性液晶組成物と、界面活性剤と、溶媒とを含んでなる塗布液を調整する工程（塗布液調製工程）と、配向基板上に前記塗布液を塗布する工程（塗布工程）と、前記塗布液を乾燥する工程（乾燥工程）と、液晶化合物を配向させて、液晶フィルムを形成する工程（配向工程）と、を含むものである。以下、各工程について詳述する。
本発明の液晶フィルムからなる位相差板の製造方法は、重合性液晶組成物と、界面活性剤と、溶媒とを含んでなる塗布液を調整する工程（塗布液調製工程）と、配向基板上に前記塗布液を塗布する工程（塗布工程）と、前記塗布液を乾燥する工程（乾燥工程）と、液晶化合物を配向させて、液晶フィルムを形成する工程（配向工程）と、を含むものである。以下、各工程について詳述する。
（塗布液調製工程）
塗布液調製工程は、重合性液晶組成物と、界面活性剤と、溶媒とを含んでなる塗布液を調整する工程である。塗布液は、二色性色素、重合開始剤、および必要に応じて添加剤をさらに含んでもよい。本発明においては、塗布液が、下記数式（１）：
５００＜Δγ＜３００００ （１）
（式中、Δγ：γのｃに対する濃度勾配
γ：塗布液の表面張力（ｍＮ／ｍ）
ｃ：界面活性剤の溶媒に対する濃度（質量％））
を満たすように、好ましくは、
１０００＜Δγ＜２８０００ （１−２）
を満たすように、より好ましくは
２０００＜Δγ＜２５０００ （１−３）
を満たすように、前記界面活性剤の溶媒に対する濃度を液晶化合物（固形分）ではなく溶媒（液体成分）に対して適切な範囲内に調節することを特徴とする。塗布液の濃度勾配Δγが上記数式（１）を満たすということは、界面活性剤の濃度が過小でも過大でもなく、適切な範囲内にあるということを意味する。上述したように、液晶化合物と界面活性剤を含む塗布液を乾燥した場合、塗布液中の界面活性剤の濃度が低すぎると、乾燥過程で塗布液中の界面活性剤の濃度上昇に伴って塗布液の表面張力が不均一となり乾燥ムラが生じ、また、塗布液中の界面活性剤の濃度が高すぎると、過剰な界面活性剤によって液晶化合物の配向に対して悪影響を及ぼして塗布欠陥が生じる。特に、臨界ミセル濃度を超えると、液晶の乱れが生じやすい。したがって、塗布液の濃度勾配Δγが上記数式（１）を満たすように界面活性剤の溶媒に対する濃度を調節することで、過少量の界面活性剤による乾燥ムラと過剰量の界面活性剤による塗布欠陥の両方を十分に低減した液晶フィルムを形成することができる。
塗布液調製工程は、重合性液晶組成物と、界面活性剤と、溶媒とを含んでなる塗布液を調整する工程である。塗布液は、二色性色素、重合開始剤、および必要に応じて添加剤をさらに含んでもよい。本発明においては、塗布液が、下記数式（１）：
５００＜Δγ＜３００００ （１）
（式中、Δγ：γのｃに対する濃度勾配
γ：塗布液の表面張力（ｍＮ／ｍ）
ｃ：界面活性剤の溶媒に対する濃度（質量％））
を満たすように、好ましくは、
１０００＜Δγ＜２８０００ （１−２）
を満たすように、より好ましくは
２０００＜Δγ＜２５０００ （１−３）
を満たすように、前記界面活性剤の溶媒に対する濃度を液晶化合物（固形分）ではなく溶媒（液体成分）に対して適切な範囲内に調節することを特徴とする。塗布液の濃度勾配Δγが上記数式（１）を満たすということは、界面活性剤の濃度が過小でも過大でもなく、適切な範囲内にあるということを意味する。上述したように、液晶化合物と界面活性剤を含む塗布液を乾燥した場合、塗布液中の界面活性剤の濃度が低すぎると、乾燥過程で塗布液中の界面活性剤の濃度上昇に伴って塗布液の表面張力が不均一となり乾燥ムラが生じ、また、塗布液中の界面活性剤の濃度が高すぎると、過剰な界面活性剤によって液晶化合物の配向に対して悪影響を及ぼして塗布欠陥が生じる。特に、臨界ミセル濃度を超えると、液晶の乱れが生じやすい。したがって、塗布液の濃度勾配Δγが上記数式（１）を満たすように界面活性剤の溶媒に対する濃度を調節することで、過少量の界面活性剤による乾燥ムラと過剰量の界面活性剤による塗布欠陥の両方を十分に低減した液晶フィルムを形成することができる。
本発明において、塗布液のγのｃに対する濃度勾配Δγは、塗布液の表面張力γ（ｍＮ／ｍ）と界面活性剤の溶媒に対する濃度ｃ（質量％）の値から算出することができる。より詳細には、濃度勾配Δγは、縦軸をγ、横軸をcにプロットし、近似曲線を取る。その近似曲線の各cにおける勾配（微分値）をΔγとした。なお、Δγ＝０とは、塗布液中で界面活性剤が飽和している状態、すなわち、界面活性剤を添加しても表面張力が変化しない（下がらない）状態である。
塗布液の表面張力γは、下記数式（２）：
１０＜γ＜４０ （２）
を満たすことが好ましく、
１５＜γ＜３５ （２−２）
を満たすことがより好ましく、
１５＜γ＜３０ （２−３）
を満たすことがさらに好ましい。塗布液の表面張力γが上記範囲内であれば、乾燥ムラを抑制することができる。
１０＜γ＜４０ （２）
を満たすことが好ましく、
１５＜γ＜３５ （２−２）
を満たすことがより好ましく、
１５＜γ＜３０ （２−３）
を満たすことがさらに好ましい。塗布液の表面張力γが上記範囲内であれば、乾燥ムラを抑制することができる。
（重合性液晶組成物）
塗布液の調製に用いる重合性液晶組成物としては、重合により配向状態を固定化し得る液晶性化合物を含むものであれば特に制限されない。本発明における重合性液晶組成物は、１種または２種以上の重合性基を有する液晶化合物（重合性液晶化合物）、重合性基を有さない液晶化合物と液晶性を示さない重合性化合物との混合物、重合性基を有する液晶化合物と液晶性を示さない重合性化合物との混合物、および重合性基を有する液晶化合物と重合性基を有さない液晶化合物との混合物のいずれを含むものであってもよい。
塗布液の調製に用いる重合性液晶組成物としては、重合により配向状態を固定化し得る液晶性化合物を含むものであれば特に制限されない。本発明における重合性液晶組成物は、１種または２種以上の重合性基を有する液晶化合物（重合性液晶化合物）、重合性基を有さない液晶化合物と液晶性を示さない重合性化合物との混合物、重合性基を有する液晶化合物と液晶性を示さない重合性化合物との混合物、および重合性基を有する液晶化合物と重合性基を有さない液晶化合物との混合物のいずれを含むものであってもよい。
本発明においては、公知の重合性液晶化合物を適宜利用でき、このような重合性液晶化合物としては、基材上においてホメオトロピック配向させて、その配向状態を固定化し得る重合性液晶化合物を用いることが好ましい。更に、このような重合性液晶化合物としては、例えば、低分子の重合性液晶化合物（重合性基を有する液晶性モノマー）、高分子の重合性液晶化合物（重合性基を有する液晶性ポリマー）、及びこれらの混合物等を適宜利用することができる。
また、このような重合性液晶化合物としては、配向状態をより効率よく固定化できるといった観点から、光及び／又は熱により反応する重合性基を有する液晶化合物が好ましい。このような光や熱により反応する重合性基を備える液晶化合物としては、光及び／又は熱によって、その周りに存在する成分（液晶化合物等）と重合して、配向を固定化できるものであればよく、その種類は特に限定されず、公知の重合性基を備える液晶化合物を適宜利用できる。また、このような重合性基としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、アジリジニル基等が好ましい。なお、このような重合性基としては、反応条件等によっては、例えば、イソシアナート基、水酸基、アミノ基、酸無水物基、カルボキシル基等の他の重合性基を使用してもよい。
さらに、このような重合性液晶化合物としては、入手容易性、耐熱性、取扱い容易性の観点から、重合性基として（メタ）アクリロイル基を有する液晶化合物が好ましく、（メタ）アクリレート系液晶化合物（（メタ）アクリレート基を有する液晶化合物）を用いることがより好ましい。なお、本発明においては、場合により「メタアクリロイル」と「アクリロイル」とを総称して「（メタ）アクリロイル」と表記し、また、場合により「メタクリレート」と「アクリレート」とを総称して「（メタ）アクリレート」と表記し、更に、場合により「メタクリル」と「アクリル」とを総称して「（メタ）アクリル」と表記する。また、「（メタ）アクリレート基」とは、（メタ）アクリル酸のカルボキシル基から水素が脱離した残基（（メタ）アクリロイルオキシ基）をいう。
このような（メタ）アクリレート系液晶化合物としては、下記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物が好ましい。
上記一般式（１０）〜（１２）中、Ｗは、それぞれ独立に、Ｈ及びＣＨ３のうちのいずれかを示す。このようなＷの種類に応じて、式中において、ＣＨ２＝ＣＷＣＯＯで表わされる基がアクリレート基又はメタクリレート基のいずれかの基となる。
また、一般式（１０）〜（１２）中、ｎは１〜２０（より好ましくは２〜１２、更に好ましくは３〜６）の整数である。このようなｎの値が上記数値範囲内であれば、化合物が液晶性を発現する温度領域が広くなり、また、良好なネマチックハイブリッド配向を実現するのに必要な、化合物の液晶由来の流動性が保たれる結果、良好なネマチックハイブリッド配向を実現することできる。
また、一般式（１０）〜（１２）中、ｎは１〜２０（より好ましくは２〜１２、更に好ましくは３〜６）の整数である。このようなｎの値が上記数値範囲内であれば、化合物が液晶性を発現する温度領域が広くなり、また、良好なネマチックハイブリッド配向を実現するのに必要な、化合物の液晶由来の流動性が保たれる結果、良好なネマチックハイブリッド配向を実現することできる。
前記一般式（１０）中、Ｒａは炭素原子数が１〜２０のアルキル基及び炭素数が１〜２０のアルコキシ基の中から選択されるいずれかの基である。このようなＲａとして選択され得る炭素数が１〜２０のアルキル基は、炭素数が１〜１２のものがより好ましく、３〜６のものが更に好ましい。このような炭素数が上記数値範囲内であれば、良好なネマチックハイブリッド配向を実現するのに必要な、化合物の液晶由来の流動性が保たれる結果、良好なネマチックハイブリッド配向を実現することでき、また、化合物が液晶性を発現する温度領域が広くなる。なお、このようなアルキル基は、直鎖状のものであっても、分岐鎖状のものであっても、環状のものであってもよく特に制限されないが、良好なネマチックハイブリッド配向の実現の観点からは、直鎖状のものであることがより好ましい。
また、前記Ｒａとして選択され得る炭素数が１〜２０のアルコキシ基は、炭素数が１〜１２のものがより好ましく、３〜６のものが更に好ましい。このような炭素数が上記数値範囲内であれば、良好なネマチックハイブリッド配向を実現するのに必要な、化合物の液晶由来の流動性が保たれる結果、良好なネマチックハイブリッド配向を実現することができ、また、化合物が液晶性を発現する温度領域が広くなる。なお、アルコキシ基は、アルキル基が酸素原子に結合した構造を有するが、かかるアルキル基の部分の構造は直鎖状のものであっても、分岐鎖状のものであっても、環状のものであってもよく特に制限されないが、良好なネマチックハイブリッド配向の実現の観点からは、直鎖状のものであることがより好ましい。
また、前記Ｒａとして選択され得る炭素数が１〜２０のアルコキシ基は、炭素数が１〜１２のものがより好ましく、３〜６のものが更に好ましい。このような炭素数が上記数値範囲内であれば、良好なネマチックハイブリッド配向を実現するのに必要な、化合物の液晶由来の流動性が保たれる結果、良好なネマチックハイブリッド配向を実現することができ、また、化合物が液晶性を発現する温度領域が広くなる。なお、アルコキシ基は、アルキル基が酸素原子に結合した構造を有するが、かかるアルキル基の部分の構造は直鎖状のものであっても、分岐鎖状のものであっても、環状のものであってもよく特に制限されないが、良好なネマチックハイブリッド配向の実現の観点からは、直鎖状のものであることがより好ましい。
また、前記一般式（１２）中、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立に、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−のうちのいずれかの基である。このようなＺ１及びＺ２としては、化合物の調製の容易さ等の観点から、Ｚ１及びＺ２のうちの一方の基が−ＣＯＯ−で表わされる基であり、もう一方の基が−ＯＣＯ−で表わされる基であることが好ましい。また、前記一般式（１２）中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、Ｈ及び炭素数が１〜７のアルキル基のうちのいずれかを示す。このようなＸ１及びＸ２として選択され得る炭素数が１〜７のアルキル基としては、炭素数が１〜３であることがより好ましく、１であること（前記アルキル基がＣＨ３であること）がより好ましい。このような炭素原子数が上記数値範囲内であれば、良好なネマチックハイブリッド配向を実現することができる。このように、前記Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、Ｈ及びＣＨ３のうちのいずれかであることが特に好ましい。
また、このような一般式（１０）〜（１２）で表わされる（メタ）アクリレート系液晶化合物としては、例えば、下記化学式（１１０）〜（１１３）で表される低分子液晶化合物が挙げられる。なお、このような（メタ）アクリレート系の低分子液晶化合物は１種を単独で用いてもよく或いは２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、前記重合性液晶化合物としては、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物を組み合わせて利用することが好ましく、上記化学式（１１０）〜（１１３）で表わされる化合物を組み合わせて利用することがより好ましい。
このように、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物を組み合わせて前記重合性液晶化合物として利用する場合においては、上記一般式（１０）で表わされる化合物の含有量は、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物の総量１００重量部に対して２０〜６０重量部であることが好ましく、３０〜４５重量部であることがより好ましい。このような一般式（１０）で表わされる化合物の含有量が上記数値範囲内であれば、配向欠陥が生じるのを抑制することができる。
また、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物を組み合わせて利用する場合において、上記一般式（１１）で表わされる化合物の含有量は、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物の総量１００重量部に対して１０〜５０重量部であることが好ましく、２０〜３０重量部であることがより好ましい。このような一般式（１１）で表わされる化合物の含有量が上記数値範囲内であれば、配向欠陥が生じるのを抑制することができる。
さらに、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物を組み合わせて利用する場合において、上記一般式（１２）で表わされる化合物の含有量は、上記一般式（１０）〜（１２）で表わされる化合物の総量１００重量部に対して１０〜７０重量部であることが好ましく、２５〜４５重量部であることがより好ましい。このような一般式（１２）で表わされる化合物の含有量が上記数値範囲内であれば、配向欠陥が生じるのを抑制することができる。
さらに、上記化学式（１１０）〜（１１３）で表わされる化合物を組み合わせて前記重合性液晶化合物として利用する場合においては、各化合物の重量比が（［上記化学式（１１０）で表わされる化合物］：［上記化学式（１１１）で表わされる化合物］：［上記化学式（１１２）で表わされる化合物］：［上記化学式（１１３）で表わされる化合物］）が４５：４０：１５：０〜３５：５：３０：３０であることが好ましく、３５：２３：２３：１９〜３８：２５：２５：１２であることがより好ましい。
また、このような重合性液晶化合物を製造するための方法は特に制限されず、公知の方法を適宜利用することができ、例えば、上記化学式（１１０）で表わされる化合物を製造する場合には、例えば、英国特許出願公開第２，２８０，４４５号明細書に記載された方法を採用してもよく、上記化学式（１１１）で表わされる化合物を製造する場合には、例えば、Ｄ．Ｊ．Ｂｒｏｅｒらの「Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．（ｖｏｌ．１９０，１９８９年発行）」の第３２０１頁〜第３２１５頁に記載された方法を採用してもよく、上記化学式（１１２）〜（１１３）で表わされる化合物を製造する場合には、例えば、国際公開９３／２２３９７号に記載された方法を採用してもよい。このように、重合性液晶化合物は、その利用する化合物の種類に応じて公知の方法を適宜利用して製造することができる。また、このような重合性液晶化合物としては市販品を利用してもよい。さらに、このような重合性液晶化合物は１種を単独で用いてもよく、或いは２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、上記重合性液晶化合物としては市販品を利用してもよい。さらに、このような重合性液晶化合物は１種を単独で用いてもよく、あるいは２種以上を組み合わせた混合物として用いてもよい。また、液晶化合物を２種以上組み合わせる場合、全ての液晶化合物が液晶性を示す必要はなく、混合物が液晶性を示せばよい。例えば、二種類以上のメソゲン基を有する化合物は、それ自身が液晶性を示さなくても他の液晶化合物との混合物が液晶性を示せばよい。さらには、重合性液晶化合物を２種以上組み合わせた混合物として使用する場合、全ての液晶化合物が重合性官能基を有する必要はなく、少なくとも１種の液晶化合物が重合性官能基を有していればよい。
また、上述の通り、重合性液晶組成物は、重合性基を有する液晶化合物と液晶性を示さない他の重合性化合物との混合物を利用してもよい。このような他の重合性化合物としては、重合性基を有する液晶化合物との相溶性を有しており且つ該液晶性化合物を配向させる際に配向阻害を著しく引き起こすようなものではない限り特に限定されない。例えば、公知の重合性化合物を適宜利用でき、目的とする液晶組成物の設計に応じて公知の重合性化合物の中から好適な化合物を選択して利用すればよい。このような重合性化合物としては、例えば、エチレン性不飽和基（例えばビニル基、ビニルオキシ基、（メタ）アクリロイル基）等の重合性官能基を有する化合物等が挙げられる。なお、このような他の重合性化合物の添加量は、重合性基を有する液晶化合物と液晶性を示さない他の重合性化合物の総量１００重量部に対して０．５〜５０重量部とすることが好ましく、１〜３０重量部とすることが好ましい。また、このような重合性化合物の重合性官能基の数は、重合速度を十分に早いものとする観点及び得られる液晶フィルムに十分な耐熱性を付与する観点から、２以上であることが好ましい。さらに、このような重合性化合物を製造するための方法も特に制限されず、公知の方法を適宜利用できる。また、このような重合性化合物としては市販品を利用してもよい。また、ディスコチック液晶化合物であっても問題なく使用することができる。液晶高分子は通常、光学的に正または負の一軸性を示すものが用いられる。
（界面活性剤）
塗布液の調製に用いる界面活性剤は、塗布液の表面張力を所望の範囲内に調節できるものではれば特に限定されず、公知の界面活性剤を用いることができる。界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤を挙げることができる。このような界面活性剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
塗布液の調製に用いる界面活性剤は、塗布液の表面張力を所望の範囲内に調節できるものではれば特に限定されず、公知の界面活性剤を用いることができる。界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤を挙げることができる。このような界面活性剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
このような界面活性剤としては市販品を利用してもよい。例えば、フッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ株式会社製のＦ−５５５、Ｆ−５５６、Ｆ−５５８、Ｆ−５６０、Ｆ−５６３、Ｆ−５６９および、ＡＧＣセイミケミカル社製のＳ−２１１、Ｓ−２２１、Ｓ−２３１、Ｓ−２４１、Ｓ−２４２、Ｓ−２４３、Ｓ−４２０、Ｓ−６１１、Ｓ−６５１、Ｓ−３８６等が挙げられる。また、シリコーン系界面活性剤としては、ビックケミー・ジャパン社製のＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６，ＢＹＫ−３５５，ＢＹＫ−３５６、ＢＹＫ−３５７等が挙げられる。
（溶媒）
塗布液の調製に用いる溶媒としては、上記の重合性液晶組成物を溶解できる適当な条件で留去できる溶媒であれば特に限定されない。一般的にアセトン、メチルエチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどのケトン類、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール等のアルコール類、ブトキシエチルアルコール、ヘキシルオキシエチルアルコール、メトキシ−２−プロパノール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸２−メトキシエチル、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、乳酸エチルなどのエステル類、フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、等などのハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、γ-ブチロラクトンなどの複素環類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類等やこれらの混合系が好ましく用いられる。
塗布液の調製に用いる溶媒としては、上記の重合性液晶組成物を溶解できる適当な条件で留去できる溶媒であれば特に限定されない。一般的にアセトン、メチルエチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどのケトン類、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール等のアルコール類、ブトキシエチルアルコール、ヘキシルオキシエチルアルコール、メトキシ−２−プロパノール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸２−メトキシエチル、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、乳酸エチルなどのエステル類、フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、等などのハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、γ-ブチロラクトンなどの複素環類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類等やこれらの混合系が好ましく用いられる。
本発明においては、溶媒自体の表面張力γｓ（ｍＮ／ｍ）は、γ＜γｓであり、下記数式（３）：
１５＜γｓ＜７０ （３）
を満たすことが好ましく、
１５＜γｓ＜４５ （３−２）
を満たすことがより好ましく、
１９＜γｓ＜４５ （３−３）
を満たすことがさらに好ましい。溶媒自体の表面張力γｓが上記範囲内であれば、用いる界面活性剤の種類にも依るが、塗布液が上記数式（１）や（２）を満たすように調製し易くなる。このような溶媒として、γ−ブチロラクトン、トリエチレングリコールジメチルエーテル、メチルエチルケトン、およびシクロペンタノンからなる群から選択される少なくとも１種を用いることができる。
１５＜γｓ＜７０ （３）
を満たすことが好ましく、
１５＜γｓ＜４５ （３−２）
を満たすことがより好ましく、
１９＜γｓ＜４５ （３−３）
を満たすことがさらに好ましい。溶媒自体の表面張力γｓが上記範囲内であれば、用いる界面活性剤の種類にも依るが、塗布液が上記数式（１）や（２）を満たすように調製し易くなる。このような溶媒として、γ−ブチロラクトン、トリエチレングリコールジメチルエーテル、メチルエチルケトン、およびシクロペンタノンからなる群から選択される少なくとも１種を用いることができる。
また、本発明に使用する溶媒の含有量は、その組成物の使用方法（例えば液晶フィルムを形成するために使用する場合には、その厚さの設計やコーティング方法等も含めた使用方法等）等によって、適宜調整することができる。例えば、溶媒の含有量は、上記塗膜用組成物１００重量部に対して、３０〜９８重量部であることが好ましく、５０〜９５重量部であることがより好ましく、７０〜９０重量部であることが更に好ましい。溶媒の含有量が３０重量部以上であれば、重合性液晶組成物に対する溶媒の量が確保されるため、保管中に液晶が析出するのを抑制したり、該混合物の粘度が高くなって湿潤（wetting）性が低下するのを抑制し、位相差板の製造時のコーティングを良好に行ったりすることができる。また、溶媒の含有量が９５重量部以下であれば、溶媒を除去する場合にその除去時間（乾燥時間）が長くかからず、フィルムを製造する場合に作業効率が低下するのを抑制し、該混合物を基材上にコーティングした場合に表面の流動性を抑えるため、均一な位相差板を製造することができる。配向基板上に均一な塗膜を形成するために、反応活性化剤、増感剤、消泡剤、レベリング剤などを塗布液に添加してもよい。
（重合開始剤）
塗布液の調製に用いる重合開始剤は、重合性液晶組成物を重合できるものであれば特に制限されず、公知の重合開始剤を適宜利用することができる。重合開始剤は、公知の重合開始剤の中から、重合性液晶組成物の種類に応じて、より効率よく重合性液晶組成物の重合を開始させることが可能なものを適宜選択して利用すればよい。
塗布液の調製に用いる重合開始剤は、重合性液晶組成物を重合できるものであれば特に制限されず、公知の重合開始剤を適宜利用することができる。重合開始剤は、公知の重合開始剤の中から、重合性液晶組成物の種類に応じて、より効率よく重合性液晶組成物の重合を開始させることが可能なものを適宜選択して利用すればよい。
また、このような重合開始剤は、熱重合開始剤（熱重合反応を利用する際の開始剤）であっても、光重合開始剤（光や電子線の照射を利用する際の開始剤）であってもよい。このような重合開始剤としては、液晶フィルムを製造する際の基材としてプラスチックフィルム等を用いる場合に、熱によりその基材等が変形したり、変質したりすることを防止するといった観点から、光重合開始剤を用いることがより好ましい。このような光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとを組み合わせたもの、アクリジン及びフェナジン化合物及びオキサジアゾール化合物等が挙げられる。なお、このようなα−カルボニル化合物としては、例えば、米国特許２３６７６６１号明細書や米国特許２３６７６７０号明細書に記載のα−カルボニル化合物等が挙げられ、前記アシロインエーテルとしては、例えば、米国特許２４４８８２８号明細書に記載のもの等が挙げられる。また、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物としては、例えば、米国特許２７２２５１２号明細書に記載のもの等が挙げられ、前記多核キノン化合物としては、例えば、米国特許３０４６１２７号明細書や米国特許２９５１７５８号明細書に記載のもの等が挙げられる。また、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとを組み合わせたものとしては、例えば、米国特許３５４９３６７号明細書に記載されているもの等が挙げられ、前記アクリジン及びフェナジン化合物としては、例えば、特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書等に記載のもの等が挙げられ、更に、前記オキサジアゾール化合物としては、例えば、米国特許４２１２９７０号明細書に記載のもの等が挙げられる。
また、このような光重合開始剤としては、市販品を利用してもよく、例えば、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社製の光重合開始剤（商品名「イルガキュア９０７」、商品名「イルガキュア６５１」、商品名「イルガキュア１８４」）や、Ｕｎｉｏｎ Ｃａｒｂｉｄｅ社製の光重合開始剤（商品名「ＵＶＩ６９７４」）等を適宜使用してもよい。なお、このような光重合開始剤は、光又は電子線の照射により、自由ラジカルを生成するものや、イオンを生成するもの等があるが、組成物中の前記重合性液晶化合物の種類や重合反応の条件等に応じて、自由ラジカルを生成する光重合開始剤（例えば、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社製の商品名「イルガキュア６５１」等）や、イオンを生成する光重合開始剤（例えば、Ｕｎｉｏｎ
Ｃａｒｂｉｄｅ社製の光重合開始剤（商品名「ＵＶＩ６９７４」））の中から好適なものを適宜選択して利用すればよい。
Ｃａｒｂｉｄｅ社製の光重合開始剤（商品名「ＵＶＩ６９７４」））の中から好適なものを適宜選択して利用すればよい。
また、塗布液における重合開始剤の含有量としては、塗布液１００重量部に対して１〜１０重量部であることが好ましく、３〜５重量部であることがより好ましい。このような重合開始剤の含有量が上記数値範囲内であれば、得られる位相差板の硬化性が十分であり、また、液晶の配向に欠陥を生じるのを抑制することができる。
（塗布工程）
塗布工程は、上記で調製した塗布液を配向基板上に塗布する工程である。配向基板としては、まず平滑な平面を有するものが好ましく、有機高分子材料からなるフィルムやシート、ガラス板、金属板などを挙げることができる。コストや連続生産性の観点からは有機高分子材料を用いることが好ましい。有機高分子材料の例としては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンオキシド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスルフォン、環状ないしノルボルネン構造を有するシクロオレフィンポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。特に、低分子液晶化合物を低温で乾燥・配向させる場合には、シクロオレフィンポリマーを用いることが好ましい。
塗布工程は、上記で調製した塗布液を配向基板上に塗布する工程である。配向基板としては、まず平滑な平面を有するものが好ましく、有機高分子材料からなるフィルムやシート、ガラス板、金属板などを挙げることができる。コストや連続生産性の観点からは有機高分子材料を用いることが好ましい。有機高分子材料の例としては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンオキシド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスルフォン、環状ないしノルボルネン構造を有するシクロオレフィンポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。特に、低分子液晶化合物を低温で乾燥・配向させる場合には、シクロオレフィンポリマーを用いることが好ましい。
配向基板として、上記の有機高分子材料からなるフィルムを用いる場合、配向能を向上させるための処理を行ってもよい。具体的には、フィルムを適度な加熱下に延伸する、フィルム面をレーヨン布等で一方向に擦るいわゆるラビング処理を行う、フィルム上にポリイミド、ポリビニルアルコール、シランカップリング剤等の公知の配向剤からなる配向膜を設けてラビング処理を行う、フィルム上に光配向膜を塗布し適度な温度で加熱後、直線偏光紫外線を照射して配向膜を形成する、酸化珪素等の斜方蒸着処理、あるいはこれらを適宜組み合わせるなどして配向能を発現させたフィルムを用いても良い。また表面に規則的な微細溝を設けたアルミニウム、鉄、銅などの金属板や各種ガラス板等も配向基板として使用することができる。
塗布方法としては、得られる塗膜の均一性が確保される方法であれば、特に限定されることはなく公知の方法を採用することができる。例えば、スピンコート法、ダイコート法、カーテンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法などが挙げられる。塗布量は、光配向材料の濃度や光配向膜の厚み等に応じて適宜調整できる。スピンコート法、ダイコート法、カーテンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法などが挙げられる。このような塗膜としては、塗布液中の溶媒の含有量等によっても異なるものであるが、乾燥前の塗膜の厚み（ウエット膜厚）が３〜５０μｍであることが好ましく、５〜２０μｍであることがより好ましい。このような厚み（ウエット膜厚）が３μｍ以上であれば、所望の光学特性を得るために重合性液晶組成物中の固形分（液晶化合物等）の析出を抑制し、均一な液晶フィルムを得ることができ、また均一な塗布により液晶フィルムの十分な平滑性が得られる。また、２０μｍ以下であれば、塗布後の乾燥時間が長くなるのを抑制することができる。
（乾燥工程）
乾燥工程は、配向基板上に塗布された塗布液を乾燥する工程である。塗布液を乾燥する方法としては、任意の適切な方法（例えば、自然乾燥、加熱乾燥、風乾）であってよい。乾燥温度は、重合性液晶組成物の種類、溶媒の種類、配向基板の特性等に応じて適宜調整できる。乾燥温度は、４０〜２００℃、好ましくは４５〜１５０℃、より好ましくは５０〜１００℃、さらに好ましくは５５〜８０℃である。乾燥時間は、０．５〜３０分、好ましくは１〜１５分、より好ましくは１〜４分である。乾燥は、一定温度で行ってもよく、温度を連続的または段階的に変化させながら行ってもよい。このようにして得られる塗膜の厚みは１０ｎｍ〜５μｍ、好ましくは３０ｎｍ〜１．５μｍ、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍである。
乾燥工程は、配向基板上に塗布された塗布液を乾燥する工程である。塗布液を乾燥する方法としては、任意の適切な方法（例えば、自然乾燥、加熱乾燥、風乾）であってよい。乾燥温度は、重合性液晶組成物の種類、溶媒の種類、配向基板の特性等に応じて適宜調整できる。乾燥温度は、４０〜２００℃、好ましくは４５〜１５０℃、より好ましくは５０〜１００℃、さらに好ましくは５５〜８０℃である。乾燥時間は、０．５〜３０分、好ましくは１〜１５分、より好ましくは１〜４分である。乾燥は、一定温度で行ってもよく、温度を連続的または段階的に変化させながら行ってもよい。このようにして得られる塗膜の厚みは１０ｎｍ〜５μｍ、好ましくは３０ｎｍ〜１．５μｍ、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍである。
乾燥工程における圧力条件としては、特に制限されないが、６００〜１４００ｈＰａであることが好ましく、９００〜１１００ｈＰａであることがより好ましい。このような圧力条件が６００ｈＰａ以上であれば、乾燥ムラが生じるのを抑制することができ、１４００ｈＰａ以下であれば、溶媒の乾燥にかかる時間を低減することができる。このような溶媒除去工程の時間（乾燥時間）としては、特に制限されないが、１０秒〜６０分とすることが好ましく、１分〜３０分とすることがより好ましい。乾燥時間が１０秒以上であれば、液晶フィルムの平滑性を維持することができ、６０分以下であれば、十分な生産性を維持することができる。なお、このような溶媒除去工程に乾燥装置を利用する場合においては、前記塗膜と乾燥装置との相対的な移動速度を、相対風速が６０ｍ／分〜１２００ｍ／分となるように制御することが好ましい。塗膜の均一性が維持される方法であれば、特に限定されることなく公知の方法を採用することができる。例えば、ヒーター（炉）、温風吹きつけなどの方法が挙げられる。
塗膜の乾燥状態における膜厚は、０．１μｍ〜５０μｍ、好ましくは０．２μｍ〜２０μｍである。膜厚が上記数値範囲内であれば、得られる液晶フィルムの光学性能を十分に発現でき、液晶化合物を十分に配向させることができる。
（配向工程）
配向工程は、配向基板上に形成された塗膜中の液晶化合物を配向させて、液晶フィルムを形成する工程である。液晶化合物の配向状態を固定化する方法としては、用いる重合性液晶組成物および重合開始剤の種類等に応じて、重合が可能な公知の方法を適宜採用することができる。このような配向状態の固定化（重合・固定化）の方法としては、例えば、重合開始剤の種類等に応じて、光照射及び／又は加熱処理を施すことにより、重合性基（反応性官能基）を反応させて配向状態を固定化する方法を採用してもよい。
配向工程は、配向基板上に形成された塗膜中の液晶化合物を配向させて、液晶フィルムを形成する工程である。液晶化合物の配向状態を固定化する方法としては、用いる重合性液晶組成物および重合開始剤の種類等に応じて、重合が可能な公知の方法を適宜採用することができる。このような配向状態の固定化（重合・固定化）の方法としては、例えば、重合開始剤の種類等に応じて、光照射及び／又は加熱処理を施すことにより、重合性基（反応性官能基）を反応させて配向状態を固定化する方法を採用してもよい。
重合開始剤が光の照射により開始剤の機能を発現するようなものである場合（例えば、いわゆる光カチオン発生剤の場合）には、光照射により液晶化合物の配向状態を固定化することが好ましい。このような光照射の方法としては特に制限されず、例えば、用いる重合開始剤の吸収波長領域にスペクトルを有する光源（例えば、１０ｍＷ／ｃｍ２以上の照度を有する、メタルハライドランプ、中圧或いは高圧水銀灯（中圧或いは高圧水銀紫外ランプ）、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、アークランプ、レーザーなど）を用いて、その光源からの光を照射する方法が挙げられる。なお、このような光の照射により反応開始剤を活性化させることが可能となり、効率よく反応性官能基を反応させることが可能となる。
また、このような光照射の方法において光の積算照射量としては、波長３６５ｎｍでの積算露光量として、１０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、１００〜１５００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。ただし、前記重合開始剤の吸収領域と、光源のスペクトルが著しく異なる場合や、液晶化合物自身に光源波長光の吸収能がある場合等は、この限りではない。これらの場合には、より効率よく配向状態を維持したまま、塗膜を固定化（硬化）させるという観点から、適当な光増感剤や、吸収波長の異なる２種以上の重合開始剤を混合して用いる等の方法を採用してもよい。また、このような光照射時の温度条件は、液晶化合物が配向状態を維持できる温度範囲とすればよく、特に制限されない。なお、光照射時に、塗膜の表面温度が液晶温度の範囲を維持できるように、基材と光源（紫外線ランプ等）との間には、コールドミラーやその他の冷却装置を設けてもよい。
さらに、このような光照射時の雰囲気の条件としては、特に制限されず、大気雰囲気であっても或いは反応効率を高めるために酸素を遮断した窒素雰囲気下であってもよい。なお、雰囲気中の酸素濃度は重合度に関与するため、空気中で所望の重合度に達しない場合には、窒素置換等の方法により酸素濃度を低下させた雰囲気で光照射することが好ましい。このような場合の雰囲気ガス中の酸素濃度としては、１０容量％以下であることが好ましく、７容量％以下であることがさらに好ましく、３容量％以下であることが最も好ましい。
また、前記重合開始剤が熱により開始剤の機能を発現するようなものである場合（例えば、いわゆる熱カチオン発生剤の場合）には、加熱処理により液晶化合物の配向状態を固定化することが好ましい。このような加熱処理の条件としては、特に制限されず、前記重合開始剤の種類に応じて、配向状態が十分に維持されるように温度条件を選択すればよく、公知の条件を適宜採用することができる。なお、基材が耐熱性の低いものである場合には、前記重合開始剤として光の照射により開始剤の機能を発現するようなものを用い、光照射により液晶化合物の配向状態を固定化することが好ましい。
以上の工程により形成された液晶フィルムは、充分強固な膜となっている。具体的には、硬化前と比べて耐熱性（液晶配向保持の上限温度）が向上するのみでなく、耐スクラッチ性、耐磨耗性、耐クラック性などの機械的強度に関しても大幅に向上する。
＜位相差板＞
本発明の位相差板は、上記の工程により得られた液晶フィルムからなるものである。液晶フィルムとは、液晶化合物を液晶状態において配向固定化したフィルムである。ここでいう液晶フィルムの配向とは、液晶化合物の分子鎖が特定の方向に並んだ状態を示しており、この状態は液晶フィルムの位相差（Δｎ・ｄ）の測定により測定できる。ここでいう配向とは、例えば、測定波長５５０ｎｍでΔｎ・ｄが２０ｎｍ以上を指す。Δｎ・ｄは複屈折Δｎと膜厚ｄの積である。
本発明の位相差板は、上記の工程により得られた液晶フィルムからなるものである。液晶フィルムとは、液晶化合物を液晶状態において配向固定化したフィルムである。ここでいう液晶フィルムの配向とは、液晶化合物の分子鎖が特定の方向に並んだ状態を示しており、この状態は液晶フィルムの位相差（Δｎ・ｄ）の測定により測定できる。ここでいう配向とは、例えば、測定波長５５０ｎｍでΔｎ・ｄが２０ｎｍ以上を指す。Δｎ・ｄは複屈折Δｎと膜厚ｄの積である。
液晶フィルムの膜厚ｄとしては、用途や求める特性によっても異なるものではあるが、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．２〜５μｍであることがより好ましい。液晶フィルムの厚みが０．１μｍ以上であれば、所望の位相差を発現でき、１０μｍ以下であれば、液晶の配向性の低下を抑制したり、色素による透過率の低下を抑制することができる。
液晶フィルムの複屈折Δｎは、用途や求める特性によっても異なるものではあるが、０．００５〜０．５であることが好ましく、０．０１〜０．３であることがさらに好ましい。複屈折Δｎが上記の範囲であれば、フィルムを所望の位相差とした場合に厚さを１０μｍ以下とできるので位相差板、積層偏光板として好適に用いることができる。
＜積層偏光板＞
本発明に使用される積層偏光板は、位相差板と偏光子を組み合わせたものである。直線偏光子としては、通常、偏光子の片側または両側に保護フィルムを有するものが使用される。偏光子は、特に制限されず、各種のものを使用でき、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムを延伸して二色性材料（沃素、染料）を吸着・配向したものが好適に用いられる。偏光子の厚さも特に制限されないが、５〜８０μｍ程度が一般的である。
本発明に使用される積層偏光板は、位相差板と偏光子を組み合わせたものである。直線偏光子としては、通常、偏光子の片側または両側に保護フィルムを有するものが使用される。偏光子は、特に制限されず、各種のものを使用でき、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムを延伸して二色性材料（沃素、染料）を吸着・配向したものが好適に用いられる。偏光子の厚さも特に制限されないが、５〜８０μｍ程度が一般的である。
ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
前記積層偏光板は、位相差板及び偏光子をそれぞれ粘着層を介して互いに貼り合わせることにより作製することができる。粘着層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例えば、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。
＜表示装置＞
本発明の表示装置は、上記本発明の位相差板及び、該位相差板と偏光子からなる楕円偏光又は円偏向機能を有する積層偏光板を備えることを特徴とするものである。このような本発明の表示装置としては、上記本発明の位相差板を備えていればよく、表示装置の種類は特に制限されず、画像表示装置、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ等のような公知の表示装置を適宜利用することができる。また、上記本発明の位相差板を画像表示装置に配置する方法等も特に制限されず、公知の方法を適宜利用することができる。
本発明の表示装置は、上記本発明の位相差板及び、該位相差板と偏光子からなる楕円偏光又は円偏向機能を有する積層偏光板を備えることを特徴とするものである。このような本発明の表示装置としては、上記本発明の位相差板を備えていればよく、表示装置の種類は特に制限されず、画像表示装置、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ等のような公知の表示装置を適宜利用することができる。また、上記本発明の位相差板を画像表示装置に配置する方法等も特に制限されず、公知の方法を適宜利用することができる。
本発明の位相差板を適用する液晶表示装置について説明する。
本発明の液晶表示装置は、前記位相差板を少なくとも有する。液晶表示装置は一般的に、偏光子、液晶セル、および位相差板、反射層、光拡散層、バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシート等の部材から構成されるが、本発明においては前記位相差板を使用する点を除いて特に制限は無い。また位相差板の使用位置は特に制限はなく、１カ所でも複数カ所でも良い。また、他の位相差板と組み合わせて使用することもできる。
本発明の液晶表示装置は、前記位相差板を少なくとも有する。液晶表示装置は一般的に、偏光子、液晶セル、および位相差板、反射層、光拡散層、バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシート等の部材から構成されるが、本発明においては前記位相差板を使用する点を除いて特に制限は無い。また位相差板の使用位置は特に制限はなく、１カ所でも複数カ所でも良い。また、他の位相差板と組み合わせて使用することもできる。
液晶セルとしては特に制限されず、電極を備える一対の透明基板で液晶フィルムを狭持したもの等の一般的な液晶セルが使用できる。
液晶セルを構成する前記透明基板としては、液晶フィルムを構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶を配向させる性質を有していている透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。また、液晶セルの電極は、公知のものが使用できる。通常、液晶フィルムが接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。
前記液晶フィルムを形成する液晶性を示す材料としては、特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶物質、高分子液晶物質およびこれらの混合物が挙げられる。また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性物質等を添加することもできる。
前記液晶セルは、前記電極基板および液晶フィルムの他に、後述する各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていても良い。
液晶セルを構成する前記透明基板としては、液晶フィルムを構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶を配向させる性質を有していている透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。また、液晶セルの電極は、公知のものが使用できる。通常、液晶フィルムが接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。
前記液晶フィルムを形成する液晶性を示す材料としては、特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶物質、高分子液晶物質およびこれらの混合物が挙げられる。また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性物質等を添加することもできる。
前記液晶セルは、前記電極基板および液晶フィルムの他に、後述する各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていても良い。
前記液晶セルの方式としては、ＴＮ（Twisted Nematic）方式，ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）方式，ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）方式，ＩＰＳ（In-Plane Switching）方式，ＶＡ（Vertical Alignment）方式，ＯＣＢ（Optically Compensated Birefringence）方式，ＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）方式、ＡＳＭ（Axially Symmetric Aligned Microcell）方式，ハーフトーングレイスケール方式，ドメイン分割方式，あるいは強誘電性液晶，反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。
また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ−ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにＴＦＴ(Thin Film Transistor)電極、ＴＦＤ(Thin Film Diode)電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であっても良い。
本発明の位相差板を備える本発明の液晶表示装置は、位相差板が所望の複屈折波長分散特性を有することから、その特性に応じて、例えば、液晶表示装置の視野角を十分に広げたり、輝度を十分に向上させたりすること等が可能となり、これにより視野角向上や画質向上を十分に図ることができる。
本発明の位相差板を備える本発明の液晶表示装置は、位相差板が所望の複屈折波長分散特性を有することから、その特性に応じて、例えば、液晶表示装置の視野角を十分に広げたり、輝度を十分に向上させたりすること等が可能となり、これにより視野角向上や画質向上を十分に図ることができる。
本発明の位相差板を適用する有機エレクトロルミネセンス装置（有機ＥＬ表示装置）について説明する。
一般に、有機ＥＬ表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。
一般に、有機ＥＬ表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。
有機ＥＬ表示装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物資を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
有機ＥＬ表示装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を用いている。
このような構成の有機ＥＬ表示装置において、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度ときわめて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見える。
電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相差板を設けることができる。
電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相差板を設けることができる。
位相差板および直線偏光子は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相差板を１／４波長板で構成し、かつ直線偏光子と位相差板を組み合わせた円偏光板（積層偏光板）を形成させることにより、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、直線偏光子により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相差板により一般に楕円偏光となるが、とくに位相差板が１／４波長板でしかも直線偏光子と位相差板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差板に再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、直線偏光子の偏光方向と直交しているので、直線偏光子を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、直線偏光子により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相差板により一般に楕円偏光となるが、とくに位相差板が１／４波長板でしかも直線偏光子と位相差板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差板に再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、直線偏光子の偏光方向と直交しているので、直線偏光子を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（液晶化合物）
重合性液晶組成物ＡおよびＢの調製に用いる液晶化合物を下記の通り準備した。
重合性液晶組成物ＡおよびＢの調製に用いる液晶化合物を下記の通り準備した。
下記化学式（１１０）の液晶化合物はＧＢ２，２８０，４４５に記載された方法で合成した。
下記化学式（１１１）の液晶化合物は、Ｄ．Ｊ．Ｂｒｏｅｒらの「Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．（ｖｏｌ．１９０，１９８９年発行）」の第３２０１頁〜第３２１５頁に記載された方法で合成した。
下記化学式（１１２）の液晶化合物は、ＷＯ９３／２２３９７に記載された方法で合成した。
下記化学式（１１３）の液晶化合物は、ＷＯ９３／２２３９７に記載された方法で合成した。
（溶媒）
液晶組成物ＡおよびＢの調製に用いる溶媒として、γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）、トリエチレングリコールジメチルエーテル（トリグライム）、およびメチルエチルケトン（ＭＥＫ）とシクロペンタノンを２：１の割合で混合した混合溶媒を準備した。
液晶組成物ＡおよびＢの調製に用いる溶媒として、γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）、トリエチレングリコールジメチルエーテル（トリグライム）、およびメチルエチルケトン（ＭＥＫ）とシクロペンタノンを２：１の割合で混合した混合溶媒を準備した。
（液晶組成物Ａ）
化学式（１１０）の液晶化合物５５重量部と、化学式（１１１）の液晶化合物２０重量部と、化学式（１１２）の液晶化合物２５重量部とを混合した液晶化合物の混合物１００重量部に、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュア９０７）６．０重量部とトリフェニルホスフィン３．０重量部とを加えて、液晶組成物を得た。この液晶組成物を溶媒に固形分濃度が１５重量％〜２０重量％となるように溶解させて、重合性液晶組成物Ａを得た。
化学式（１１０）の液晶化合物５５重量部と、化学式（１１１）の液晶化合物２０重量部と、化学式（１１２）の液晶化合物２５重量部とを混合した液晶化合物の混合物１００重量部に、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュア９０７）６．０重量部とトリフェニルホスフィン３．０重量部とを加えて、液晶組成物を得た。この液晶組成物を溶媒に固形分濃度が１５重量％〜２０重量％となるように溶解させて、重合性液晶組成物Ａを得た。
（液晶組成物Ｂ）
化学式（１１０）の液晶化合物３５重量部と、化学式（１１１）の液晶化合物２３重量部と、化学式（１１２）の液晶化合物２３重量部と、化学式（１１３）の液晶化合物１９重量部とを混合した液晶化合物の混合物１００重量部に、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュア９０７）５．０重量部とトリフェニルホスフィン５．０重量部とを加えて、液晶組成物を得た。この液晶組成物を溶媒に固形分濃度が２０重量％となるように溶解させて、重合性液晶組成物Ｂを得た。
化学式（１１０）の液晶化合物３５重量部と、化学式（１１１）の液晶化合物２３重量部と、化学式（１１２）の液晶化合物２３重量部と、化学式（１１３）の液晶化合物１９重量部とを混合した液晶化合物の混合物１００重量部に、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュア９０７）５．０重量部とトリフェニルホスフィン５．０重量部とを加えて、液晶組成物を得た。この液晶組成物を溶媒に固形分濃度が２０重量％となるように溶解させて、重合性液晶組成物Ｂを得た。
〈液晶フィルムの作製〉
［実施例１］
配向基板としてシクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰフィルム、日本ゼオン社製、商品名：Ｚｅｏｎｏｒ）を準備した。また、溶媒としてＧＢＬを用いた液晶組成物Ａに、溶媒に対して０．００７５重量％のフッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５５）を加えて、塗布液１を得た。続いて、上記配向基板上に、塗布液１をグラビア塗工により塗布して、塗膜を形成し、塗膜と配向基板との積層体を得た。次に、塗膜と配向基板の積層体を圧力１０１３ｈＰａ、温度７２℃から２０分かけて室温まで徐冷し、前記塗膜から溶媒を乾燥除去した。次いで、溶媒を乾燥除去した後の塗膜に対して、照度：１５ｍＷ／ｃｍ２の高圧水銀ランプを用いて、積算照射量が２００ｍＪ／ｃｍ２となるようにして、紫外光（ただし、３６５ｎｍの波長の光を測定した光量）を照射することにより、液晶化合物を重合（硬化）して配向状態を固定化し、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。液晶の配向状態を、偏光顕微鏡（オリンパス光学社製、型番：ＢＨ２）を用いて確認したところ、ホメオトロピック配向であった。
［実施例１］
配向基板としてシクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰフィルム、日本ゼオン社製、商品名：Ｚｅｏｎｏｒ）を準備した。また、溶媒としてＧＢＬを用いた液晶組成物Ａに、溶媒に対して０．００７５重量％のフッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５５）を加えて、塗布液１を得た。続いて、上記配向基板上に、塗布液１をグラビア塗工により塗布して、塗膜を形成し、塗膜と配向基板との積層体を得た。次に、塗膜と配向基板の積層体を圧力１０１３ｈＰａ、温度７２℃から２０分かけて室温まで徐冷し、前記塗膜から溶媒を乾燥除去した。次いで、溶媒を乾燥除去した後の塗膜に対して、照度：１５ｍＷ／ｃｍ２の高圧水銀ランプを用いて、積算照射量が２００ｍＪ／ｃｍ２となるようにして、紫外光（ただし、３６５ｎｍの波長の光を測定した光量）を照射することにより、液晶化合物を重合（硬化）して配向状態を固定化し、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。液晶の配向状態を、偏光顕微鏡（オリンパス光学社製、型番：ＢＨ２）を用いて確認したところ、ホメオトロピック配向であった。
［実施例２］
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５５）の添加量を０．０１２５重量％に変更した以外は、実施例１と同様にして、塗布液２を得た。続いて、塗布液２を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５５）の添加量を０．０１２５重量％に変更した以外は、実施例１と同様にして、塗布液２を得た。続いて、塗布液２を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［実施例３］
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５５）の添加量を０．００５０重量％に変更した以外は、実施例１と同様にして、塗布液３を得た。続いて、塗布液３を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５５）の添加量を０．００５０重量％に変更した以外は、実施例１と同様にして、塗布液３を得た。続いて、塗布液３を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［実施例４］
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５５）の代わりにフッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）０．０２００重量％を加えた以外は、実施例１と同様にして、塗布液４を得た。続いて、塗布液４を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５５）の代わりにフッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）０．０２００重量％を加えた以外は、実施例１と同様にして、塗布液４を得た。続いて、塗布液４を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［実施例５］
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）の添加量を０．０２５０重量％に変更した以外は、実施例４と同様にして、塗布液５を得た。続いて、塗布液５を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）の添加量を０．０２５０重量％に変更した以外は、実施例４と同様にして、塗布液５を得た。続いて、塗布液５を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［実施例６］
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）の添加量を０．０３００重量％に変更した以外は、実施例４と同様にして、塗布液６を得た。続いて、塗布液６を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）の添加量を０．０３００重量％に変更した以外は、実施例４と同様にして、塗布液６を得た。続いて、塗布液６を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［実施例７］
溶媒としてＧＢＬを用いた液晶組成物Ｂに、溶媒に対して０．０５００重量％のフッ素系界面活性剤（ＡＧＣセイミケミカル社製、商品名：Ｓ−３８６）を加えて、塗布液７を得た。続いて、塗布液７を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
溶媒としてＧＢＬを用いた液晶組成物Ｂに、溶媒に対して０．０５００重量％のフッ素系界面活性剤（ＡＧＣセイミケミカル社製、商品名：Ｓ−３８６）を加えて、塗布液７を得た。続いて、塗布液７を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［実施例８］
溶媒としてＭＥＫ／シクロペンタノンを２：１の割合で混合した混合溶媒を用いた液晶組成物Ａに、溶媒に対して０．００５０重量％のフッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）を加えて、塗布液８を得た。続いて、塗布液８を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
溶媒としてＭＥＫ／シクロペンタノンを２：１の割合で混合した混合溶媒を用いた液晶組成物Ａに、溶媒に対して０．００５０重量％のフッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）を加えて、塗布液８を得た。続いて、塗布液８を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［実施例９］
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）の添加量を０．０１５０重量％に変更した以外は、実施例８と同様にして、塗布液９を得た。続いて、塗布液９を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）の添加量を０．０１５０重量％に変更した以外は、実施例８と同様にして、塗布液９を得た。続いて、塗布液９を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［実施例１０］
溶媒としてトリグライムを用いた液晶組成物Ａに、溶媒に対して０．０２５０重量％のシリコーン系界面活性剤（ビックケミー・ジャパン社製、商品名：ＢＹＫ−３０２）を加えて、塗布液１０を得た。続いて、塗布液１０を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
溶媒としてトリグライムを用いた液晶組成物Ａに、溶媒に対して０．０２５０重量％のシリコーン系界面活性剤（ビックケミー・ジャパン社製、商品名：ＢＹＫ−３０２）を加えて、塗布液１０を得た。続いて、塗布液１０を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［実施例１１］
シリコーン系界面活性剤（ビックケミー・ジャパン社製、商品名：ＢＹＫ−３０２）の添加量を０．１０００重量％に変更した以外は、実施例１０と同様にして、塗布液１１を得た。続いて、塗布液１１を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
シリコーン系界面活性剤（ビックケミー・ジャパン社製、商品名：ＢＹＫ−３０２）の添加量を０．１０００重量％に変更した以外は、実施例１０と同様にして、塗布液１１を得た。続いて、塗布液１１を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［比較例１］
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）の添加量を０．００５０重量％に変更した以外は、実施例４と同様にして、塗布液１２を得た。続いて、塗布液１２を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）の添加量を０．００５０重量％に変更した以外は、実施例４と同様にして、塗布液１２を得た。続いて、塗布液１２を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［比較例２］
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）の添加量を０．０１２５重量％に変更した以外は、実施例４と同様にして、塗布液１３を得た。続いて、塗布液１３を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）の添加量を０．０１２５重量％に変更した以外は、実施例４と同様にして、塗布液１３を得た。続いて、塗布液１３を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［比較例３］
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）の添加量を０．０７５０重量％に変更した以外は、実施例４と同様にして、塗布液１４を得た。続いて、塗布液１４を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、商品名：Ｆ５５８）の添加量を０．０７５０重量％に変更した以外は、実施例４と同様にして、塗布液１４を得た。続いて、塗布液１４を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［比較例４］
フッ素系界面活性剤（ＡＧＣセイミケミカル社製、商品名：Ｓ−３８６）の添加量を０．０２５０重量％に変更した以外は、実施例７と同様にして、塗布液１５を得た。続いて、塗布液１５を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
フッ素系界面活性剤（ＡＧＣセイミケミカル社製、商品名：Ｓ−３８６）の添加量を０．０２５０重量％に変更した以外は、実施例７と同様にして、塗布液１５を得た。続いて、塗布液１５を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［比較例５］
フッ素系界面活性剤（ＡＧＣセイミケミカル社製、商品名：Ｓ−３８６）の添加量を０．１０００重量％に変更した以外は、実施例７と同様にして、塗布液１６を得た。続いて、塗布液１６を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
フッ素系界面活性剤（ＡＧＣセイミケミカル社製、商品名：Ｓ−３８６）の添加量を０．１０００重量％に変更した以外は、実施例７と同様にして、塗布液１６を得た。続いて、塗布液１６を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［比較例６］
シリコーン系界面活性剤（ビックケミー・ジャパン社製、商品名：ＢＹＫ−３０２）の添加量を０．００７５重量％に変更した以外は、実施例１０と同様にして、塗布液１７を得た。続いて、塗布液１７を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
シリコーン系界面活性剤（ビックケミー・ジャパン社製、商品名：ＢＹＫ−３０２）の添加量を０．００７５重量％に変更した以外は、実施例１０と同様にして、塗布液１７を得た。続いて、塗布液１７を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［比較例７］
シリコーン系界面活性剤（ビックケミー・ジャパン社製、商品名：ＢＹＫ−３０２）の添加量を０．５０００重量％に変更した以外は、実施例１０と同様にして、塗布液１８を得た。続いて、塗布液１８を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
シリコーン系界面活性剤（ビックケミー・ジャパン社製、商品名：ＢＹＫ−３０２）の添加量を０．５０００重量％に変更した以外は、実施例１０と同様にして、塗布液１８を得た。続いて、塗布液１８を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［比較例８］
シリコーン系界面活性剤（ビックケミー・ジャパン社製、商品名：ＢＹＫ−３０２）の添加量を０．７０００重量％に変更した以外は、実施例１０と同様にして、塗布液１８を得た。続いて、塗布液１８を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
シリコーン系界面活性剤（ビックケミー・ジャパン社製、商品名：ＢＹＫ−３０２）の添加量を０．７０００重量％に変更した以外は、実施例１０と同様にして、塗布液１８を得た。続いて、塗布液１８を用いた以外は、実施例１と同様にして、配向基板上に配向状態が固定化された液晶フィルムを備える積層体を得た。
［評価試験］
（表面張力γ）
上記で調製した塗布液の表面張力γ（ｍＮ／ｍ）を、表面張力計（調和界面科学社製、型番：ＣＢＶＰ-Ａ３）を用いて測定した。測定結果を表１に示した。
さらに、塗布液のγのｃに対する濃度勾配Δγを、塗布液の表面張力γ（ｍＮ／ｍ）と界面活性剤の溶媒に対する濃度ｃ（質量％）の値から算出した。算出結果を表１に示した。
（表面張力γ）
上記で調製した塗布液の表面張力γ（ｍＮ／ｍ）を、表面張力計（調和界面科学社製、型番：ＣＢＶＰ-Ａ３）を用いて測定した。測定結果を表１に示した。
さらに、塗布液のγのｃに対する濃度勾配Δγを、塗布液の表面張力γ（ｍＮ／ｍ）と界面活性剤の溶媒に対する濃度ｃ（質量％）の値から算出した。算出結果を表１に示した。
（乾燥ムラ評価）
液晶フィルムの乾燥ムラを下記の評価基準に基づいて目視で評価した。評価結果を表１に示した。
（評価基準）
◎：乾燥による液晶フィルム表面のムラが認められなかった。
○：乾燥による液晶フィルム表面のムラがほとんど認められなかった。
△：乾燥による液晶フィルム表面のムラが多少認められた。
×：乾燥による液晶フィルム表面のムラがかなり認められなかった。
液晶フィルムの乾燥ムラを下記の評価基準に基づいて目視で評価した。評価結果を表１に示した。
（評価基準）
◎：乾燥による液晶フィルム表面のムラが認められなかった。
○：乾燥による液晶フィルム表面のムラがほとんど認められなかった。
△：乾燥による液晶フィルム表面のムラが多少認められた。
×：乾燥による液晶フィルム表面のムラがかなり認められなかった。
（塗布欠陥評価）
液晶フィルムの塗布欠陥を下記の評価基準に基づいて評価した。評価結果を表１に示した。
（評価基準）
○：塗布欠陥があった。
×：塗布欠陥がなかった。
液晶フィルムの塗布欠陥を下記の評価基準に基づいて評価した。評価結果を表１に示した。
（評価基準）
○：塗布欠陥があった。
×：塗布欠陥がなかった。
表１の結果から、塗布液のγのｃに対する濃度勾配Δγが特定の数値範囲内にあることで、トレードオフの関係にある乾燥ムラと塗布欠陥を十分に低減した液晶フィルムを作製することができた。この結果から、界面活性剤の溶媒に対する最適な濃度を算出することで、界面活性剤の濃度を決定することができる。
Claims (8)
- 重合性液晶組成物と、界面活性剤と、溶媒とを含んでなる塗布液を調整する工程と、
配向基板上に前記塗布液を塗布する工程と、
前記塗布液を乾燥する工程と
液晶化合物を配向させて、液晶フィルムを形成する工程と、
を含んでなる、液晶フィルムからなる位相差板の製造方法であって、
前記塗布液が、下記数式（１）：
５００＜Δγ＜３００００ （１）
（式中、Δγ：γのｃに対する濃度勾配
γ：塗布液の表面張力（ｍＮ／ｍ）
ｃ：界面活性剤の溶媒に対する濃度（質量％））
を満たすように、前記界面活性剤の溶媒に対する濃度を調節することを特徴とする、位相差板の製造方法。 - 前記塗布液の表面張力γが、下記数式（２）：
１０＜γ＜４０ （２）
を満たす、請求項１に記載の位相差板の製造方法。 - 前記溶媒の表面張力γｓが、下記数式（３）：
１５＜γｓ＜７０ （３）
を満たす、請求項１に記載の位相差板の製造方法。 - 前記溶媒が、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソプロピルアルコール、ブトキシエチルアルコール、メトキシ−２−プロパノール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸２−メトキシエチル、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート、酢酸エチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、およびγ-ブチロラクトンからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の位相差板の製造方法。
- 前記配向基板が、シクロオレフィンポリマーを含んでなる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の位相差板の製造方法。
- 前記液晶化合物の配向が、ホメオトロピック配向である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の位相差板の製造方法。
- 請求項１〜６のいずれか一項に記載の製造方法により得られた位相差板と偏光子とを備えた、積層偏光板。
- 請求項１〜６のいずれか一項に記載の製造方法により得られた位相差板を備えた、表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015078682A JP2016200639A (ja) | 2015-04-07 | 2015-04-07 | 位相差板の製造方法、位相差板を備えた積層板、および位相差板を備えた表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2015078682A JP2016200639A (ja) | 2015-04-07 | 2015-04-07 | 位相差板の製造方法、位相差板を備えた積層板、および位相差板を備えた表示装置 |
Publications (1)
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|---|---|
| JP2016200639A true JP2016200639A (ja) | 2016-12-01 |
Family
ID=57422680
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2015078682A Pending JP2016200639A (ja) | 2015-04-07 | 2015-04-07 | 位相差板の製造方法、位相差板を備えた積層板、および位相差板を備えた表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2016200639A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019102922A1 (ja) * | 2017-11-22 | 2019-05-31 | Dic株式会社 | 重合性液晶組成物、その重合体、光学異方体、及び表示素子 |
| WO2020218104A1 (ja) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | 住友化学株式会社 | 液晶硬化膜形成用組成物及びその用途 |
| WO2022191025A1 (ja) * | 2021-03-09 | 2022-09-15 | ウシオ電機株式会社 | 光学部材の製造方法、製造装置、光学部材 |
-
2015
- 2015-04-07 JP JP2015078682A patent/JP2016200639A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPWO2019102922A1 (ja) * | 2017-11-22 | 2019-11-21 | Ｄｉｃ株式会社 | 重合性液晶組成物、その重合体、光学異方体、及び表示素子 |
| WO2020218104A1 (ja) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | 住友化学株式会社 | 液晶硬化膜形成用組成物及びその用途 |
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| CN113906322A (zh) * | 2019-04-26 | 2022-01-07 | 住友化学株式会社 | 液晶固化膜形成用组合物及其用途 |
| WO2022191025A1 (ja) * | 2021-03-09 | 2022-09-15 | ウシオ電機株式会社 | 光学部材の製造方法、製造装置、光学部材 |
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