JP2016192423A - 光伝導素子及び計測装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光伝導素子(110)は、基板(111)と、光伝導層(112)と、一対の電極層(113a、113b)とを備え、一対の電極層はギャップ部(114)を形成し、光伝導層は、基板の表面のうち一対の電極層及びギャップ部の下側に位置する第1面部分(111a−1、111a−2、111b−1、111b−2、111c)上に形成されている一方で、基板の表面のうち第2面部分(111d)上には形成されていない。
【選択図】図3
Description
<1>
第1実施形態の光伝導素子は、基板と、前記基板上に形成された光伝導層と、前記光伝導層上に形成された一対の電極層とを備え、前記一対の電極層は、当該一対の電極層が形成されていないギャップ部を、当該一対の電極層の間に形成し、前記光伝導層は、前記基板の表面のうち前記一対の電極層及び前記ギャップ部の下側に位置する第1面部分上に形成されている一方で、前記基板の表面のうち前記第1面部分とは異なる第2面部分上には形成されていない。
第1実施形態の光伝導素子の他の態様では、前記第2面部分は、前記基板の表面のうち前記第1面部分を除く面部分である。
第1実施形態の光伝導素子の他の態様では、前記光伝導層は、前記第1面部分上にのみ形成されている。
第1実施形態の光伝導素子の他の態様では、前記光伝導層は、前記第1面部分に加えて、前記基板の表面のうち前記第1面部分の近傍に位置する第3面部分に形成されており、前記第2面部分は、前記基板の表面のうち前記第1面部分及び前記第3面部分とは異なる面部分である。
上述の如く光伝導層が第3面部分に形成される光伝導素子の他の態様では、前記第2面部分は、前記基板の表面のうち前記第1面部分及び前記第3面部分を除く面部分である。
上述の如く光伝導層が第3面部分に形成される光伝導素子の他の態様では、前記光伝導層は、前記第1面部分及び前記第3面部分上にのみ形成されている。
第1実施形態の光伝導素子の他の態様では、前記光伝導層は、平面視において前記一対の電極層の形状と同一又は相似の形状を有する光伝導部を含む。
第1実施形態の光伝導素子の他の態様では、前記一対の電極層の夫々は、(i)第1の方向に沿って延びる第1電極部と、(ii)前記第1の方向に交わる第2の方向に沿って延びると共に前記ギャップ部を形成する第2電極部とを備えており、前記光伝導層は、(i)前記第1電極部の下側に形成され、平面視において前記第1電極部の形状と同一又は相似の形状を有し、且つ前記第1の方向に沿って延びる第1光伝導部と、(ii)前記第2電極部の下側に形成され、平面視において前記第2電極部の形状と同一又は相似の形状を有し、且つ前記第2の方向に沿って延びる第2光伝導部と、(iii)前記ギャップ部の下側に形成され、前記一対の電極層が備える一対の前記第2電極部の下側に形成される一対の前記第2光伝導部を連結する第3光伝導部とを備える。
第1実施形態の光伝導素子の他の態様では、前記光伝導層は、(i)前記光伝導層の前記一対の電極層側を向いている面の面積である第1面積が、前記一対の電極層の前記光伝導層側を向いている面の面積である第2面積よりも大きくなるように、且つ、(ii)前記第1面積と前記第2面積との差分が所定値以下になるように、前記基板上に形成されている。
<10>
第2実施形態の光伝送素子は、基板と、前記基板上に形成された光伝導層と、前記光伝導層上に形成された一対の電極層とを備え、前記一対の電極層は、当該一対の電極層が形成されていないギャップ部を、当該一対の電極層の間に形成し、前記光伝導層は、(i)前記光伝導層の前記一対の電極層側を向いている面の面積である第1面積が、前記一対の電極層の前記光伝導層側を向いている面の面積である第2面積よりも大きくなるように、且つ、(ii)前記第1面積と前記第2面積との差分が所定値以下になるように、前記基板上に形成されている。
<11>
本実施形態の計測装置は、計測対象物に電磁波を出射する出射手段と、前記計測対象物に照射された前記電磁波を検出する検出手段とを備え、前記出射手段及び前記検出手段のうちの少なくとも一方は、上述した第1又は第2実施形態の光伝導素子(但し、その各種態様を含む)を含む。
本実施形態の計測装置の他の態様では、前記電磁波は、テラヘルツ波を含む。
初めに、図1を参照しながら、本実施例のテラヘルツ波計測装置100の構成について説明する。図1は、本実施例のテラヘルツ波計測装置100の構成を示すブロック図である。
続いて、テラヘルツ波出射素子110及びテラヘルツ波検出素子130の構成について説明する。尚、テラヘルツ波出射素子110の構成は、テラヘルツ波検出素子130の構成と同様である。従って、以下では、テラヘルツ波出射素子110の構成について説明する。但し、以下の説明は、テラヘルツ波検出素子130に対しても同様に適用可能である。更に、以下の説明では、互いに直交するX軸、Y軸及びZ軸によって定義される三次元座標空間を用いて、テラヘルツ波出射素子110を説明する。
はじめに、図2(a)から図2(c)及び図3(a)から図3(b)を参照しながら、第1実施例のテラヘルツ波出射素子110(以降、便宜上、“テラヘルツ波出射素子110−1”と称する)の構成について説明する。図2(a)は、第1実施例のテラヘルツ波出射素子110−1の上面を示す上面図である。図2(b)は、図2(a)に示すテラヘルツ波出射素子110−1のII(1)−II(1)’断面を示す断面図である。図2(c)は、図2(a)に示すテラヘルツ波出射素子110−1のII(2)−II(2)’断面を示す断面図である。図3(a)は、第1実施例のテラヘルツ波出射素子110−1の構成を示す斜視図である。図3(b)は、第1実施例のテラヘルツ波出射素子110−1が備える各構成要素を個別に示す斜視図である。
続いて、図5(a)から図5(c)及び図6(a)から図6(c)を参照しながら、第2実施例のテラヘルツ波出射素子110(以降、便宜上、“テラヘルツ波出射素子110−2”と称する)の構成について説明する。図5(a)は、第2実施例のテラヘルツ波出射素子110−2の上面を示す上面図である。図5(b)は、図5(a)に示すテラヘルツ波出射素子110−2のV(1)−V(1)’断面を示す断面図である。図5(c)は、図5(a)に示すテラヘルツ波出射素子110−2のV(2)−V(2)’断面を示す断面図である。図6(a)は、第2実施例のテラヘルツ波出射素子110−2の構成を示す斜視図である。図6(b)は、第2実施例の光伝導層112の上面を示す上面図である。図6(c)は、第2実施例の基板111の表面を示す上面図である。
続いて、図7(a)から図7(b)を参照しながら、第3実施例のテラヘルツ波出射素子110(以降、便宜上、“テラヘルツ波出射素子110−3”と称する)の構成について説明する。図7(a)は、第3実施例のテラヘルツ波出射素子110−3の上面を示す上面図である。図7(b)は、図7(a)に示すテラヘルツ波出射素子110−3のVII(1)−VII(1)’断面を示す断面図である。
100 テラヘルツ波計測装置
101 パルスレーザ装置
110 テラヘルツ波出射素子
111 基板
112 光伝導層
113a、113b 電極層
114 ギャップ部
120 光学遅延機構
130 テラヘルツ波検出素子
150 制御部
151 ロックイン検出部
152 信号処理部
LB1 ポンプ光
LB2 プローブ光
THz テラヘルツ波
Claims (12)
- 基板と、
前記基板上に形成された光伝導層と、
前記光伝導層上に形成された一対の電極層と
を備え、
前記一対の電極層は、当該一対の電極層が形成されていないギャップ部を、当該一対の電極層の間に形成し、
前記光伝導層は、前記基板の表面のうち前記一対の電極層及び前記ギャップ部の下側に位置する第1面部分上に形成されている一方で、前記基板の表面のうち前記第1面部分とは異なる第2面部分上には形成されていない
ことを特徴とする光伝導素子。 - 前記第2面部分は、前記基板の表面のうち前記第1面部分を除く面部分である
ことを特徴とする請求項1に記載の光伝導素子。 - 前記光伝導層は、前記第1面部分上にのみ形成されている
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光伝導素子。 - 前記光伝導層は、前記第1面部分に加えて、前記基板の表面のうち前記第1面部分の近傍に位置する第3面部分に形成されており、
前記第2面部分は、前記基板の表面のうち前記第1面部分及び前記第3面部分とは異なる面部分である
ことを特徴とする請求項1に記載の光伝導素子。 - 前記第2面部分は、前記基板の表面のうち前記第1面部分及び前記第3面部分を除く面部分である
ことを特徴とする請求項4に記載の光伝導素子。 - 前記光伝導層は、前記第1面部分及び前記第3面部分上にのみ形成されている
ことを特徴とする請求項4又は5に記載の光伝導素子。 - 前記光伝導層は、平面視において前記一対の電極層の形状と同一又は相似の形状を有する光伝導部を含む
ことを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の光伝導素子。 - 前記一対の電極層の夫々は、(i)第1の方向に沿って延びる第1電極部と、(ii)前記第1の方向に交わる第2の方向に沿って延びると共に前記ギャップ部を形成する第2電極部とを備えており、
前記光伝導層は、(i)前記第1電極部の下側に形成され、平面視において前記第1電極部の形状と同一又は相似の形状を有し、且つ前記第1の方向に沿って延びる第1光伝導部と、(ii)前記第2電極部の下側に形成され、平面視において前記第2電極部の形状と同一又は相似の形状を有し、且つ前記第2の方向に沿って延びる第2光伝導部と、(iii)前記ギャップ部の下側に形成され、前記一対の電極層が備える一対の前記第2電極部の下側に形成される一対の前記第2光伝導部を連結する第3光伝導部とを備える
ことを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の光伝導素子。 - 前記光伝導層は、(i)前記光伝導層の前記一対の電極層側を向いている面の面積である第1面積が、前記一対の電極層の前記光伝導層側を向いている面の面積である第2面積よりも大きくなるように、且つ、(ii)前記第1面積と前記第2面積との差分が所定値以下になるように、前記基板上に形成されている
ことを特徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載の光伝導素子。 - 基板と、
前記基板上に形成された光伝導層と、
前記光伝導層上に形成された一対の電極層と
を備え、
前記一対の電極層は、当該一対の電極層が形成されていないギャップ部を、当該一対の電極層の間に形成し、
前記光伝導層は、(i)前記光伝導層の前記一対の電極層側を向いている面の面積である第1面積が、前記一対の電極層の前記光伝導層側を向いている面の面積である第2面積よりも大きくなるように、且つ、(ii)前記第1面積と前記第2面積との差分が所定値以下になるように、前記基板上に形成されている
ことを特徴とする光伝導素子。 - 計測対象物に電磁波を出射する出射手段と、
前記計測対象物に照射された前記電磁波を検出する検出手段と
を備え、
前記照射手段及び前記検出手段のうちの少なくとも一方は、請求項1から10のいずれか一項に記載の光伝導素子を含む
ことを特徴とする計測装置。 - 前記電磁波は、テラヘルツ波を含む
ことを特徴とする請求項11に記載の計測装置。
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