JP2016143062A - Colored photosensitive resin composition, column spacer produced using the same, and liquid-crystal display comprising the same - Google Patents

Colored photosensitive resin composition, column spacer produced using the same, and liquid-crystal display comprising the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a colored photosensitive resin composition including a random type silsesquioxane having at least one reactive group in a molecular structure so as to be used in formation of a black matrix and a column spacer.SOLUTION: A colored photosensitive resin composition contains a colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a random type silsesquioxane having at least one reactive group in a molecular structure. The random type silsesquioxane is preferably represented by the chemical formula 1 in the figure. (In the chemical formula 1, R', R", Rand Rare hydrogen or the like, and x, y and n are integers such as 1.)SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、優れた遮光性、弾性回復率、耐溶剤性及び高い信頼性を有し、カラムスペーサ及びブラックマトリックスの両方に利用することができる着色感光性樹脂組成物、及びこれによって製造されたカラムスペーサ及びこれを具備した液晶表示装置に関する。   The present invention has an excellent light-shielding property, elastic recovery rate, solvent resistance and high reliability, and a colored photosensitive resin composition that can be used for both a column spacer and a black matrix, and produced thereby. The present invention relates to a column spacer and a liquid crystal display device having the same.

ディスプレイ産業は、CRT(cathode−ray tube)からPDP(plasma display panel)、OLED(organic light−emitting diode)、LCD(liquid−crystal display)などのような平板ディスプレイに急激な変化を進行して来た。特に、LCDは、平板ディスプレイ市場の主要製品であって、カラーフィルターが設けられた上板と、薄膜トランジスタ(TFT)が設けられた下板と、それらの間に注入された液晶とで構成される。   The display industry has undergone a rapid change from a CRT (cathode-ray tube) to a flat panel display such as a plasma display panel (PDP), an organic light-emitting diode (OLED), and an LCD (liquid-crystal display). It was. In particular, the LCD is a main product in the flat display market, and is composed of an upper plate provided with a color filter, a lower plate provided with a thin film transistor (TFT), and a liquid crystal injected therebetween. .

カラーフィルターは、LCDにおいて色を表現する核心的な部品であって、平板ディスプレイの普及とともに、ノートパソコン、モニター、携帯端末機など幅広い用途に採用されて来た。このようなカラーフィルターは、基板上に赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のパターンを通じて画面に多様なカラーを具現し、各赤色(R)、緑色(G)、青色(B)パターンの間に位置し、ピクセル間の光漏れを防止するブラックマトリックスと、各画素間の段差を補正し、平坦度を向上させるオーバーコート(OC;over coat)と、2つの基板の間のセルギャップ(Cell−gap)を維持するカラムスペーサ(CS;column spacer)とで構成されている。   The color filter is a core part for expressing colors in the LCD, and has been adopted in a wide range of applications such as notebook computers, monitors, and portable terminals with the spread of flat panel displays. Such a color filter implements various colors on the screen through a red (R), green (G), and blue (B) pattern on the substrate, and each red (R), green (G), and blue (B ) Between the two substrates, a black matrix that is located between the patterns and prevents light leakage between the pixels, an overcoat (OC) that corrects the step between the pixels and improves the flatness, and It is comprised with the column spacer (CS; column spacer) which maintains a cell gap (Cell-gap).

カラーフィルターの製造は、通常、ブラックマトリックスがパターン形成された基板上に赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色に相当する着色剤を含有する感光性樹脂組成物をスピンコーティングによって均一に塗布した後、加熱乾燥して形成された塗膜を露光、現像し、必要に応じてさらに加熱硬化する操作を色ごとに繰り返して、各色の画素を形成することによって製造されている。この際、ブラックマトリックス(BM)は、各画素において他の色の混色を防止するかまたは電極のパターンを隠すために、各色の着色層間の境界部分に位置し、主に黒色感光性樹脂組成物で形成される。また、オーバーコート(OC)とカラムスペーサ(CS)も、感光性樹脂組成物を利用して構成される。   The color filter is usually manufactured by spin-coating a photosensitive resin composition containing a colorant corresponding to each color of red (R), green (G), and blue (B) on a substrate on which a black matrix is patterned. It is manufactured by forming the pixels of each color by repeating the operation of exposing and developing the coating film formed by heating and drying after uniform coating, developing, and further heating and curing as necessary for each color . At this time, the black matrix (BM) is located at the boundary between the colored layers of each color in order to prevent color mixture of other colors or hide the electrode pattern in each pixel, and is mainly a black photosensitive resin composition. Formed with. Further, the overcoat (OC) and the column spacer (CS) are also configured using the photosensitive resin composition.

したがって、感光性樹脂組成物は、LCDの用途が高級化、多様化されるにつれて、重要性が高くなっており、生産性及び耐久性の向上のために、光に速く反応し、機械的に優れた物性に対する要求が高くなっている。   Therefore, the photosensitive resin composition is becoming more important as LCD applications are upgraded and diversified, and responds quickly to light to improve productivity and durability. The demand for excellent physical properties is increasing.

これに加えて、最近には、ディスプレイの内部に使用される1つの素材が多様な役目を同時に行うことが要求されている。代表的に、ブラックマトリックス一体型カラムスペーサとしてブラックマトリックスにおいて要求される均一な光学密度(Optical density:OD)だけでなく、優れた電気絶縁性をも一緒に要求される。また、非常に高い信頼性が要求され、使用される着色剤の有機溶剤に対する溶出特性が制御されなければならない。   In addition to this, recently, it is required that one material used in the display perform various functions simultaneously. Typically, not only a uniform optical density (OD) required in a black matrix as a black matrix-integrated column spacer but also an excellent electrical insulating property is required together. Further, very high reliability is required, and the elution characteristics of the colorant used with respect to the organic solvent must be controlled.

しかし、ブラックマトリックス一体型カラムスペーサの形成のために、通常のブラックマトリックスのように、カーボンブラックのみを利用すれば、光学密度は満足させるが、電気絶縁性が劣る短所がある。その他、無機化合物を使用するブラックマトリックス材料は、いずれも絶縁性が低いため、ブラックマトリックス一体型カラムスペーサで要求する物性を満足していなかった。   However, if only carbon black is used as in the case of a normal black matrix for forming the black matrix integrated column spacer, the optical density can be satisfied, but the electrical insulation is inferior. In addition, since all black matrix materials using inorganic compounds have low insulating properties, they did not satisfy the physical properties required for the black matrix integrated column spacer.

しかも、ブラックマトリックスをTFT面に形成させるか、カラーフィルターの上部に形成させるパネルにおいては、電気絶縁性が液晶に直接的に影響を与えるので、高い絶縁性または低誘電特性を要求している。このようにブラックマトリックス及びカラムスペーサの形成のための感光性組成物の組成が類似しているが、カラムスペーサの場合、着色剤を使用していないなどの要求される物性の差異に起因して、1つの組成を利用してこれら両方に応用することは容易ではない。   In addition, in a panel in which a black matrix is formed on the TFT surface or on the upper part of the color filter, the electrical insulation directly affects the liquid crystal, so that high insulation or low dielectric properties are required. Thus, the composition of the photosensitive composition for forming the black matrix and the column spacer is similar, but in the case of the column spacer, due to the difference in required physical properties such as not using a colorant. It is not easy to apply a single composition to both of them.

一例として、日本国特許公開第2007−071994号の場合、黒色顔料として導電性のカーボンブラックの代わりに、絶縁性を有するペリレン系化合物を使用することによって、カラムスペーサの役目をも一緒に行うことができる感光性樹脂組成物を提案している。   As an example, in the case of Japanese Patent Publication No. 2007-071994, the role of the column spacer is performed together by using an insulating perylene compound instead of conductive carbon black as a black pigment. The photosensitive resin composition which can be manufactured is proposed.

また、韓国特許公開第2012−0033893号は、バインダー樹脂、多管能性モノマー、光重合開始剤または光増感剤、及び溶媒を含み、これに着色剤としてアニリンブラック、ペリレンブラック、金属酸化物などのブラック顔料を添加する技術を言及している。   Korean Patent Publication No. 2012-0033893 includes a binder resin, a multi-functional monomer, a photopolymerization initiator or photosensitizer, and a solvent, and aniline black, perylene black, metal oxide as a colorant. It mentions the technology of adding black pigments.

これら特許は、着色剤として使用される化合物の多様な組み合わせを通じてある程度の電気絶縁性の向上を確保することができるが、カラムスペーサとして使用するに際して着色剤によって塗膜の硬化性が減少し、弾性率が低くなるなどの問題点とともに、密着性、耐化学性、感度、現像性において満足できる特性を得ることは不足である。   These patents can ensure a certain degree of electrical insulation improvement through various combinations of compounds used as colorants, but when used as column spacers, the colorants reduce the curability of the coating film and provide elasticity. It is insufficient to obtain satisfactory characteristics in adhesion, chemical resistance, sensitivity, and developability as well as problems such as a low rate.

これより、接着特性と化学的安定性を改善させるために、韓国特許公開第2011−0068861号は、着色感光性樹脂組成物にかご型シルセスキオキサンを添加する技術を開示している。   Accordingly, Korean Patent Publication No. 2011-0068861 discloses a technique of adding a cage silsesquioxane to a colored photosensitive resin composition in order to improve adhesive properties and chemical stability.

しかし、前記特許は、かご型シルセスキオキサンを通じてある程度の密着性及び耐溶剤性の改善を示しているが、前記組成は、カラーフィルターの適用のためのものであって、ブラックマトリックス、カラムスペーサに要求される物性と異なっていて、かご型シルセスキオキサンは、合成において多くの費用が要求されるので、生産性の側面において不利である。   However, although the patent shows some improvement in adhesion and solvent resistance through the cage silsesquioxane, the composition is for the application of a color filter and includes a black matrix, a column spacer Unlike the physical properties required for the cage, the cage silsesquioxane is disadvantageous in terms of productivity because a lot of cost is required in the synthesis.

日本国特開2007−071994号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-071994 韓国特許公開第2012−0033893号公報Korean Patent Publication No. 2012-0033893 韓国特許公開第2011−0068861号公報Korean Patent Publication No. 2011-0068861

これより、本出願人は、液晶表示装置のカラムスペーサ及びブラックマトリックスの物性を同時に満足させて、それら両方に使用可能な感光性組成物を製造するために多様な研究を進行した結果、分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサンを使用することによって、前記カラムスペーサ及びブラックマトリックスが要求する光学密度、遮光性、密着性、電気絶縁性、弾性回復率及び耐溶剤性に優れ、液晶表示装置の信頼度を向上させることができることを確認し、本発明を完成した。   As a result, the present applicant has conducted various studies to simultaneously satisfy the physical properties of the column spacer and the black matrix of the liquid crystal display device, and to produce a photosensitive composition that can be used for both. By using a random silsesquioxane having at least one reactive group therein, the optical density, light shielding property, adhesion, electrical insulation, elastic recovery rate and solvent resistance required by the column spacer and the black matrix are obtained. The present invention was completed by confirming that the liquid crystal display device was excellent in reliability and could improve the reliability of the liquid crystal display device.

したがって、本発明の目的は、ブラックマトリックス及びカラムスペーサの形成に使用し得るように、分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサンを含む着色感光性樹脂組成物を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a colored photosensitive resin composition comprising a random silsesquioxane having at least one reactive group in the molecular structure so that it can be used to form a black matrix and a column spacer. There is to do.

また、本発明の他の目的は、前記着色感光性樹脂組成物をカラムスペーサの製造に使用し得る用途を提供することにある。   Moreover, the other object of this invention is to provide the use which can use the said colored photosensitive resin composition for manufacture of a column spacer.

また、本発明のさらに他の目的は、前記着色感光性樹脂組成物をブラックマトリックス一体型カラムスペーサの製造に使用し得る用途を提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide an application in which the colored photosensitive resin composition can be used for production of a black matrix integrated column spacer.

前記目的を達成するために、本発明は、着色剤、アルカリ可溶性樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤及び分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサンを含む着色感光性樹脂組成物を提供する。   To achieve the above object, the present invention provides a coloring agent, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a random silsesquioxane having at least one reactive group in the molecular structure. A photosensitive resin composition is provided.

前記分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサンは、下記化学式1で表示されることを特徴とする。   The random silsesquioxane having at least one reactive group in the molecular structure is represented by the following chemical formula 1.

(前記化学式1で、R’、R”、x及びyは、明細書内で説明した通りである) (In Formula 1, R ′, R ″, x and y are as described in the specification)

前記着色感光性樹脂組成物は、全体組成物100重量%を満足するように、着色剤1〜60重量%、アルカリ可溶性樹脂10〜80重量%、光重合性化合物1〜30重量%、光重合開始剤0.01〜10重量%及び分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサン0.1〜15重量%を含むことを特徴とする。   The colored photosensitive resin composition is 1 to 60% by weight of a colorant, 10 to 80% by weight of an alkali-soluble resin, 1 to 30% by weight of a photopolymerizable compound, and photopolymerized so as to satisfy 100% by weight of the total composition. It contains 0.01 to 10% by weight of an initiator and 0.1 to 15% by weight of a random silsesquioxane having at least one reactive group in the molecular structure.

また、本発明は、前記着色感光性樹脂組成物で製造されたカラムスペーサ及びこれを含む液晶表示装置を特徴とする。   In addition, the present invention is characterized by a column spacer manufactured with the colored photosensitive resin composition and a liquid crystal display device including the same.

また、本発明は、前記着色感光性樹脂組成物で製造されたブラックマトリックス一体型カラムスペーサ及びこれを含む液晶表示装置を特徴とする。   In addition, the present invention is characterized by a black matrix-integrated column spacer manufactured using the colored photosensitive resin composition and a liquid crystal display device including the same.

本発明による着色感光性樹脂組成物は、ブラックマトリックス及びスペイサーの両方に要求される光学密度、密着性、電気絶縁性、遮光性などの物性を確保することができるとともに、弾性回復率及び耐溶剤性に優れ、液晶表示装置の信頼度を向上させることができる。   The colored photosensitive resin composition according to the present invention can ensure physical properties such as optical density, adhesion, electrical insulation, and light-shielding properties required for both a black matrix and a spacer, and has an elastic recovery rate and solvent resistance. And the reliability of the liquid crystal display device can be improved.

本発明は、液晶表示装置においてカラムスペーサまたはブラックマトリックス一体型カラムスペーサとして使用可能な着色感光性樹脂組成物を提示する。   The present invention provides a colored photosensitive resin composition that can be used as a column spacer or a black matrix integrated column spacer in a liquid crystal display device.

特に、本発明においては、分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサンを必須成分とする着色感光性樹脂組成物を提示し、前記分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサンは、無機材に対する接着性に優れ、透明導電膜または無機膜との密着性を高めることができる。また、前記着色感光性樹脂組成物は、ブラックマトリックス及びカラムスペーサの両方に要求される光学密度、弾性回復率、電気絶縁性、遮光性などの物性を確保することができるとともに、耐熱性及び耐溶剤性に優れ、液晶表示装置の信頼度を向上させることができる利点を確保する。   In particular, in the present invention, a colored photosensitive resin composition having a random silsesquioxane having at least one reactive group in the molecular structure as an essential component is presented, and at least one reaction is present in the molecular structure. The random silsesquioxane having a group is excellent in adhesiveness to an inorganic material and can improve adhesion to a transparent conductive film or an inorganic film. In addition, the colored photosensitive resin composition can ensure physical properties such as optical density, elastic recovery, electrical insulation, and light-shielding properties required for both the black matrix and the column spacer, as well as heat resistance and resistance. It is excellent in solvent property and ensures the advantage of improving the reliability of the liquid crystal display device.

前記分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサンとともに、本発明による着色感光性樹脂組成物は、着色剤、アルカリ可溶性樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤を含む。   Along with a random silsesquioxane having at least one reactive group in the molecular structure, the colored photosensitive resin composition according to the present invention includes a colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator. .

以下、各組成を説明する。
本発明においての分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサンは、下記化学式1で表示されることを特徴とする。
Hereinafter, each composition will be described.
The random silsesquioxane having at least one reactive group in the molecular structure in the present invention is represented by the following chemical formula 1.

特に、前記分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサンは、末端の反応基とアルコキシシラン基が残存するので、無機材に対する密着性に非常に優れていて、従来の着色感光性樹脂組成物に密着促進剤として添加されるシランカップリング剤を代替することができる。また、耐溶剤性及び耐熱性に優れ、工程において化学的安定性が向上し、信頼性及び耐久性をさらに高めることができる。これは、従来提案されたはしご型シルセスキオキサンを着色感光性樹脂組成物に使用する場合、耐溶剤性及び耐熱性が充分に改善せず、かご型シルセスキオキサンを使用して着色感光性樹脂組成物を製造する場合、導入された反応基の反応性が、かご型シルセスキオキサンが有する構造に起因して反応性が阻害され、完全な反応が行われないため、ランダム型シルセスキオキサンを使用することが改善される特性の側面において長所を有する。また、ランダム型シルセスキオキサンの合成は、かご型またははしご型に比べて工程が簡単であるから、製品の経済的な面において非常に有利である。   In particular, the random silsesquioxane having at least one reactive group in the molecular structure has very excellent adhesion to inorganic materials because the terminal reactive group and the alkoxysilane group remain. A silane coupling agent added as an adhesion promoter to the colored photosensitive resin composition can be substituted. Moreover, it is excellent in solvent resistance and heat resistance, chemical stability is improved in the process, and reliability and durability can be further enhanced. This is because when a ladder-type silsesquioxane that has been proposed in the past is used for a colored photosensitive resin composition, the solvent resistance and heat resistance are not sufficiently improved. When the reactive resin composition is produced, the reactivity of the introduced reactive group is hindered due to the structure of the cage silsesquioxane and a complete reaction is not performed. The use of sesquioxane has advantages in terms of improved properties. In addition, the synthesis of random silsesquioxane is very advantageous in terms of economics of the product because the process is simpler than that of a cage type or a ladder type.

(前記化学式1で、
R’及びR”は、互いに同じかまたは異なり、それぞれ独立であり、水素、ヒドロキシ基、C〜C10のアルキル基、C〜C10のアルコキシ基または−(R−Rであり、前記R’及びR”のうち少なくとも1つは、−(R−Rであり;
この際、Rは、水素、C〜C10のアルキレン基、−R−O−R−または−R−C(=O)O−R−であり、この際、R〜Rは、互いに同じかまたは異なり、それぞれ独立に、C〜C10のアルキレン基であり;
は、水素、チオール基、イソシアネート基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、ウレア基、ウレタン基、(メタ)アクリレート基、C〜C10のアルキル基、C〜C10のアルコキシ基、C〜C15のシクロアルキル基、C〜C15のヘテロシクロアルキル基、C〜C20のアリール基またはC〜C20のヘテロアリール基であり;
xは、1〜500の整数であり;
yは、1〜500の整数であり;
nは、0または1の整数である)
(In Formula 1 above,
R ′ and R ″ are the same or different from each other, and are independent of each other, and are hydrogen, a hydroxy group, a C 1 to C 10 alkyl group, a C 1 to C 10 alkoxy group, or — (R 1 ) n —R 2. And at least one of said R ′ and R ″ is — (R 1 ) n —R 2 ;
In this case, R 1 is hydrogen, a C 1 to C 10 alkylene group, —R 3 —O—R 4 — or —R 5 —C (═O) O—R 6 —, and in this case, R 3 -R 6 is the same or different from each other and each independently is a C 1 -C 10 alkylene group;
R 2 is hydrogen, thiol group, isocyanate group, carboxyl group, hydroxyl group, amino group, urea group, urethane group, (meth) acrylate group, C 1 to C 10 alkyl group, C 1 to C 10 alkoxy group , heteroaryl group C 3 -C 15 cycloalkyl group, C 3 -C 15 heterocycloalkyl group, C 6 -C 20 aryl group or C 5 -C 20;
x is an integer from 1 to 500;
y is an integer from 1 to 500;
n is an integer of 0 or 1)

本発明において言及するアルキル基は、直鎖型または分岐型を含み、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、4、4−ジメチルペンチル、オクチル、2、2、4−トリメチルペンチル、ノニルなどを含む。   The alkyl group referred to in the present invention includes straight-chain type or branched type, and includes methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, isobutyl, pentyl, hexyl, isohexyl, heptyl, 4,4-dimethylpentyl. , Octyl, 2,2,4-trimethylpentyl, nonyl and the like.

本発明において言及するアルキレン基は、アルキル基の2価形態である。アルキレンは、直鎖、分岐型、サイクリック、またはそれらの組み合わせであることができる。   The alkylene group referred to in the present invention is a divalent form of an alkyl group. The alkylene can be linear, branched, cyclic, or combinations thereof.

本発明において言及するシクロアルキル基は、炭素原子の完全に飽和された及び部分的に不飽和された炭化水素環であって、シクロプロピル、シクロプロピルメチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチル、及び置換及び非置換ボルニル、ノルボルニル及びノルボルネニルを含む。   Cycloalkyl groups referred to in the present invention are fully saturated and partially unsaturated hydrocarbon rings of carbon atoms, including cyclopropyl, cyclopropylmethyl, cyclopentyl, cyclohexyl, adamantyl, and substituted and non-substituted Including substituted bornyl, norbornyl and norbornenyl.

本発明において言及するヘテロシクロアルキル基は、環において1個の炭素原子が酸素、硫黄または窒素から選択されたヘテロ原子によって代替され、3個以下の追加の炭素原子が前記ヘテロ原子によって代替され得る非芳香族シクロアルキル基を意味する。このようなヘテロシクロアルキル基の例としては、エポキシ、チラニル、アジリジニル、オキセタニル、アゼチジニル、テトラヒドロ−フラニル、テトラヒドロ−チオフェニル(テトラヒドロ−チエニルと同義語)、ピロリジニル、ピラゾリジニル、イミダゾリジニル、オキサジジニル、イソオキサジジニル、チアゾリジニル、イソチアゾリジニル、ピペリジニル、ピペラジジニル、モルホリニル、またはテトラヒドロピラニルなどを含む。   Heterocycloalkyl groups referred to in the present invention may be substituted in the ring by one heteroatom selected from oxygen, sulfur or nitrogen and up to three additional carbon atoms replaced by said heteroatom. Means a non-aromatic cycloalkyl group; Examples of such heterocycloalkyl groups include epoxy, tyranyl, aziridinyl, oxetanyl, azetidinyl, tetrahydro-furanyl, tetrahydro-thiophenyl (synonymous with tetrahydro-thienyl), pyrrolidinyl, pyrazolidinyl, imidazolidinyl, oxadidinyl, isoxadidinyl , Thiazolidinyl, isothiazolidinyl, piperidinyl, piperazinyl, morpholinyl, tetrahydropyranyl and the like.

本発明において言及するアルコキシ基は、−OR基を意味し、ここで、Rは、前記で定義したようなアルキル基である。具体的に、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、1−プロポキシ、t−ブトキシ、n−ブトキシ、ペントキシなどを含む。 The alkoxy group referred to in the present invention means a —OR a group, where R a is an alkyl group as defined above. Specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, 1-propoxy, t-butoxy, n-butoxy, pentoxy and the like are included.

本発明において言及するアリール基は、モノサイクリックまたはビサイクリック芳香族環として6個以上の原子を有する1個以上の環を含有し、22個以下の原子を含有する5個以下の環が存在することができ、隣接炭素原子または適合なヘテロ原子の間に二重結合が交互に存在することができる。具体的に、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、スチルベン、ナフチル、アントラセニル、ペナントリル、ピレニルなどを含む。   The aryl group referred to in the present invention contains 1 or more rings having 6 or more atoms as monocyclic or bicyclic aromatic rings, and there are 5 or less rings containing 22 or less atoms. There can be alternating double bonds between adjacent carbon atoms or compatible heteroatoms. Specific examples include phenyl, biphenyl, terphenyl, stilbene, naphthyl, anthracenyl, penanthryl, pyrenyl and the like.

本発明において言及するヘテロアリール基は、1個以上の環に1個以上のヘテロ原子(酸素、硫黄または窒素)を有する置換されたまたは非置換された芳香族モノサイクリック基、ビサイクリック基及びトリサイクリック基を意味する。具体的に、フリル、チエニル、ピリジル、キノリニル、イソキノリニル、インドリル、イソインドリル、トリアゾリル、ピロリル、テトラゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、ベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、カルバゾリル、ベンゾオキサゾリル、ピリミジニル、ベンゾイミダゾリル、キノキサリニル、ベンゾチアゾリル、ナフチリジニル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、フリニル、キナゾリニル、ピラジニル、1−オキシドピリジル、ピリダジニル、トリアジニル、テトラジニル、オキサジアゾリル、チアジアゾール、テトラヒドロナフチルなどを含む。   The heteroaryl groups referred to in the present invention are substituted or unsubstituted aromatic monocyclic groups, bicyclic groups having one or more heteroatoms (oxygen, sulfur or nitrogen) in one or more rings, and Means a tricyclic group. Specifically, furyl, thienyl, pyridyl, quinolinyl, isoquinolinyl, indolyl, isoindolyl, triazolyl, pyrrolyl, tetrazolyl, imidazolyl, pyrazolyl, oxazolyl, thiazolyl, benzofuranyl, benzothiophenyl, carbazolyl, benzoxazolyl, pyrimidinyl, benzimidazolyl, quinoxalinyl Benzothiazolyl, naphthyridinyl, isoxazolyl, isothiazolyl, frynyl, quinazolinyl, pyrazinyl, 1-oxidepyridyl, pyridazinyl, triazinyl, tetrazinyl, oxadiazolyl, thiadiazole, tetrahydronaphthyl and the like.

好ましくは、前記Rは、C〜Cのアルキレン基であり、前記R〜Rは、互いに同じかまたは異なり、それぞれ独立に、C〜Cのアルキレン基である。 Preferably, the R 1 is a C 1 to C 5 alkylene group, and the R 3 to R 6 are the same or different from each other, and are each independently a C 1 to C 5 alkylene group.

好ましくは、前記Rは、チオール基、イソシアネート基、(メタ)アクリレート基、フェニル基またはエポキシ基である。 Preferably, R 2 is a thiol group, an isocyanate group, a (meth) acrylate group, a phenyl group or an epoxy group.

好ましくは、前記−(R−Rは、n=0の場合、前記Rは、チオール基、イソシアネート基、(メタ)アクリレート基、フェニル基またはエポキシ基であり、n=1の場合、前記R及びR〜Rは、互いに同じかまたは異なり、それぞれ独立に、C〜Cのアルキレン基であり、前記Rは、前述したn=0の場合に言及した通りである。 Preferably, the-(R 1 ) n -R 2 is, when n = 0, the R 2 is a thiol group, an isocyanate group, a (meth) acrylate group, a phenyl group or an epoxy group, and n = 1 In this case, the R 1 and R 3 to R 6 are the same or different from each other, and are each independently a C 1 to C 5 alkylene group, and the R 2 is as described above in the case of n = 0. It is.

好ましくは、前記R’及びR”は、互いに同じかまたは異なることができ、前述したヒドロキシ基、C〜C10のアルキルまたは−(R−Rであり、前記R’及びR”のうち少なくとも1つは、−(R−Rである。一例として、前記R’及びR”は、メチル基−チオール基、メチル基−フェニル基、メチル基−エポキシ基、チオール基−エポキシ基の組み合わせなどで互いに異なる反応基を有し、無機材に対する反応性を向上させることができる。 Preferably, the R ′ and R ″ may be the same or different from each other, and are the aforementioned hydroxy group, C 1 -C 10 alkyl or — (R 1 ) n —R 2 , and the R ′ and R At least one of “is — (R 1 ) n —R 2 . For example, R ′ and R ″ have different reactive groups such as a combination of methyl group-thiol group, methyl group-phenyl group, methyl group-epoxy group, thiol group-epoxy group, and the like. Can be improved.

前記x及びyは、本発明によるランダム型シルセスキオキサンの重量平均分子量によって定められるものであって、通常、ランダム型シルセスキオキサンの重量平均分子量は、500〜1,000,000、好ましくは、1,000〜100,000である。また、本発明によるランダム型シルセスキオキサンの場合にも、反応基の当量(g/eq)が200以上600以下であることが好ましくて、より好ましくは、300以上500以下であることが良い。反応基の当量が200未満では、硬化構造の緻密性に起因して弾性回復率の増加が少なく、600超過の場合にも、十分な硬化構造が難しい。   The x and y are determined by the weight average molecular weight of the random silsesquioxane according to the present invention, and the weight average molecular weight of the random silsesquioxane is usually 500 to 1,000,000, preferably Is 1,000 to 100,000. Also in the case of the random silsesquioxane according to the present invention, the equivalent (g / eq) of the reactive group is preferably 200 or more and 600 or less, more preferably 300 or more and 500 or less. . If the equivalent of the reactive group is less than 200, the elastic recovery rate increases little due to the denseness of the cured structure, and if it exceeds 600, a sufficient cured structure is difficult.

前記化学式1の化合物は、直接製造するかまたは市販されるものを使用し、ARAKAWA CHEMICAL社のCOMPOCERAN SQ107、COMPOCERAN SQ109、COMPOCERAN SQ111、COMPOCERAN SQ113、COMPOCERAN SQ506、COMPOCERAN SQ502−8などを使用することができる。   The compound represented by Formula 1 may be produced directly or commercially available, and may be used from ARAKAWA CHEMICAL's COMPOCERAN SQ107, COMPOCERAN SQ109, COMPOCERAN SQ111, COMPOCERAN SQ113, COMPOCERAN SQ506, and COMPOCERA8 Q50. .

前記反応基を有するランダム型シルセスキオキサンは、全体着色感光性樹脂組成物100重量%内で0.1〜15重量%、好ましくは0.1〜10重量%で使用することができる。このような含量は、密着性の向上を確保するために選定された範囲であって、もし前記範囲の未満で使用される場合、目的する効果が充分に得られないおそれがあり、反対に、前記範囲を超過すれば、他の成分との相溶性が低下するかまたはアルカリ現像性が低下し、汚染、膜残余物などが発生しやすい問題がある。   The random silsesquioxane having the reactive group can be used in an amount of 0.1 to 15% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, within 100% by weight of the whole colored photosensitive resin composition. Such a content is a range selected to ensure improved adhesion, and if used in less than the above range, the intended effect may not be sufficiently obtained, on the contrary, When the above range is exceeded, there is a problem that compatibility with other components is lowered or alkali developability is lowered, and contamination, film residue and the like are likely to occur.

本発明においての着色剤は、遮光性を付与し、ブラックマトリックスには光漏れを防止する役目を行い、カラムスペーサには外部から惹起される光による機器の誤作動を防止する役目を行うことができる。   The colorant in the present invention imparts light-shielding properties, serves to prevent light leakage from the black matrix, and serves to prevent malfunction of the device due to light induced from the outside to the column spacer. it can.

前記着色剤としては、可視光線に遮光性があるものなら、本発明において特に限定せず、有機顔料、染料及び黒色顔料など公知されたすべての着色剤が使用可能であり、これらは、単独または2種以上混合して使用することができる。   The colorant is not particularly limited in the present invention as long as it has a light-shielding property for visible light, and all known colorants such as organic pigments, dyes, and black pigments can be used. Two or more kinds can be mixed and used.

一例として、有機顔料は、カラーインデックス(C.I.;ザ ソサエティ オブ ダイアズ アンドカラーリスツ(The Society of Dyers and Colourists)社発行)においてピグメントと分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス(C.I.)名が付与されているものが挙げられる。   As an example, the organic pigment is a compound classified as a pigment in the Color Index (CI; published by The Society of Dyers and Colorists), specifically, Such a color index (CI) name is given.

C.I.顔料黄色1号、C.I.顔料黄色12号、C.I.顔料黄色13号、C.I.顔料黄色14号、C.I.顔料黄色15号、C.I.顔料黄色16号、C.I.顔料黄色17号、C.I.顔料黄色20号、C.I.顔料黄色24号、C.I.顔料黄色31号、C.I.顔料黄色53号、C.I.顔料黄色55号、C.I.顔料黄色83号、C.I.顔料黄色86号、C.I.顔料黄色93号、C.I.顔料黄色94号、C.I.顔料黄色109号、C.I.顔料黄色110号、C.I.顔料黄色117号、C.I.顔料黄色125号、C.I.顔料黄色128号、C.I.顔料黄色137号、C.I.顔料黄色138号、C.I.顔料黄色139号、C.I.顔料黄色147号、C.I.顔料黄色148号、C.I.顔料黄色150号、C.I.顔料黄色153号、C.I.顔料黄色154号、C.I.顔料黄色155号、C.I.顔料黄色166号、C.I.顔料黄色168号、C.I.顔料黄色173号、C.I.顔料黄色180号、C.I.顔料黄色211号;
C.I.顔料オレンジ色5号、C.I.顔料オレンジ色13号、C.I.顔料オレンジ色14号、C.I.顔料オレンジ色24号、C.I.顔料オレンジ色31号、C.I.顔料オレンジ色34号、C.I.顔料オレンジ色36号、C.I.顔料オレンジ色38号、C.I.顔料オレンジ色40号、C.I.顔料オレンジ色42号、C.I.顔料オレンジ色43号、C.I.顔料オレンジ色46号、C.I.顔料オレンジ色49号、C.I.顔料オレンジ色51号、C.I.顔料オレンジ色55号、C.I.顔料オレンジ色59号、C.I.顔料オレンジ色61号、C.I.顔料オレンジ色64号、C.I.顔料オレンジ色65号、C.I.顔料オレンジ色68号、C.I.顔料オレンジ色70号、C.I.顔料オレンジ色71号、C.I.顔料オレンジ色72号、C.I.顔料オレンジ色73号、C.I.顔料オレンジ色74号;
C.I.顔料赤色1号、C.I.顔料赤色2号、C.I.顔料赤色5号、C.I.顔料赤色9号、C.I.顔料赤色17号、C.I.顔料赤色31号、C.I.顔料赤色32号、C.I.顔料赤色41号、C.I.顔料赤色97号、C.I.顔料赤色105号、C.I.顔料赤色122号、C.I.顔料赤色123号、C.I.顔料赤色144号、C.I.顔料赤色149号、C.I.顔料赤色166号、C.I.顔料赤色168号、C.I.顔料赤色170号、C.I.顔料赤色171号、C.I.顔料赤色175号、C.I.顔料赤色176号、C.I.顔料赤色177号、C.I.顔料赤色178号、C.I.顔料赤色179号、C.I.顔料赤色180号、C.I.顔料赤色185号、C.I.顔料赤色192号、C.I.顔料赤色202号、C.I.顔料赤色206号、C.I.顔料赤色207号、C.I.顔料赤色208号、C.I.顔料赤色209号、C.I.顔料赤色214号、C.I.顔料赤色215号、C.I.顔料赤色216号、C.I.顔料赤色220号、C.I.顔料赤色221号、C.I.顔料赤色224号、C.I.顔料赤色242号、C.I.顔料赤色243号、C.I.顔料赤色254号、C.I.顔料赤色255号、C.I.顔料赤色262号、C.I.顔料赤色264号、C.I.顔料赤色265号、C.I.顔料赤色272号;
C.I.顔料青色15号、C.I.顔料青色15:3号、C.I.顔料青色15:4号、C.I.顔料青色15:6号、C.I.顔料青色16号、C.I.顔料青色60号、C.I.顔料青色80号;
C.I.顔料紫色1号、C.I.顔料紫色19号、C.I.顔料紫色23号、C.I.顔料紫色29号、C.I.顔料紫色32号、C.I.顔料紫色36号、C.I.顔料紫色38号;
C.I.顔料緑色7号、C.I.顔料緑色36号、C.I.顔料緑色58号;
C.I.顔料茶色23号、C.I.顔料茶色25号;
C.I.顔料黒色1号、C.I.顔料黒色7号。
C. I. Pigment Yellow No. 1, C.I. I. Pigment Yellow No. 12, C.I. I. Pigment Yellow No. 13, C.I. I. Pigment Yellow No. 14, C.I. I. Pigment Yellow No. 15, C.I. I. Pigment Yellow No. 16, C.I. I. Pigment Yellow No. 17, C.I. I. Pigment Yellow No. 20, C.I. I. Pigment Yellow No. 24, C.I. I. Pigment Yellow No. 31, C.I. I. Pigment Yellow No. 53, C.I. I. Pigment Yellow No. 55, C.I. I. Pigment Yellow No. 83, C.I. I. Pigment Yellow 86, C.I. I. Pigment Yellow No. 93, C.I. I. Pigment Yellow No. 94, C.I. I. Pigment Yellow No. 109, C.I. I. Pigment Yellow No. 110, C.I. I. Pigment Yellow 117, C.I. I. Pigment Yellow No. 125, C.I. I. Pigment Yellow 128, C.I. I. Pigment Yellow 137, C.I. I. Pigment Yellow 138, C.I. I. Pigment Yellow 139, C.I. I. Pigment Yellow 147, C.I. I. Pigment Yellow 148, C.I. I. Pigment Yellow No. 150, C.I. I. Pigment Yellow 153, C.I. I. Pigment Yellow 154, C.I. I. Pigment Yellow 155, C.I. I. Pigment Yellow 166, C.I. I. Pigment Yellow 168, C.I. I. Pigment Yellow 173, C.I. I. Pigment Yellow No. 180, C.I. I. Pigment Yellow No. 211;
C. I. Pigment Orange No. 5, C.I. I. Pigment Orange No. 13, C.I. I. Pigment Orange No. 14, C.I. I. Pigment Orange 24, C.I. I. Pigment Orange 31, C.I. I. Pigment Orange 34, C.I. I. Pigment Orange 36, C.I. I. Pigment Orange 38, C.I. I. Pigment Orange 40, C.I. I. Pigment Orange 42, C.I. I. Pigment Orange 43, C.I. I. Pigment Orange 46, C.I. I. Pigment Orange 49, C.I. I. Pigment Orange 51, C.I. I. Pigment Orange 55, C.I. I. Pigment Orange 59, C.I. I. Pigment Orange 61, C.I. I. Pigment Orange 64, C.I. I. Pigment Orange 65, C.I. I. Pigment Orange 68, C.I. I. Pigment Orange 70, C.I. I. Pigment Orange 71, C.I. I. Pigment Orange 72, C.I. I. Pigment Orange 73, C.I. I. Pigment Orange 74
C. I. Pigment Red No. 1, C.I. I. Pigment Red No. 2, C.I. I. Pigment Red No. 5, C.I. I. Pigment Red No. 9, C.I. I. Pigment Red No. 17, C.I. I. Pigment Red No. 31, C.I. I. Pigment Red No. 32, C.I. I. Pigment Red No. 41, C.I. I. Pigment Red No. 97, C.I. I. Pigment Red No. 105, C.I. I. Pigment Red No. 122, C.I. I. Pigment Red No. 123, C.I. I. Pigment Red 144, C.I. I. Pigment Red 149, C.I. I. Pigment Red 166, C.I. I. Pigment Red 168, C.I. I. Pigment Red No. 170, C.I. I. Pigment Red 171 C.I. I. Pigment Red 175, C.I. I. Pigment Red 176, C.I. I. Pigment Red 177, C.I. I. Pigment Red 178, C.I. I. Pigment Red 179, C.I. I. Pigment Red No. 180, C.I. I. Pigment Red 185, C.I. I. Pigment Red 192, C.I. I. Pigment Red No. 202, C.I. I. Pigment Red 206, C.I. I. Pigment Red 207, C.I. I. Pigment Red No. 208, C.I. I. Pigment Red 209, C.I. I. Pigment Red No. 214, C.I. I. Pigment Red 215, C.I. I. Pigment Red 216, C.I. I. Pigment Red 220, C.I. I. Pigment Red 221; C.I. I. Pigment Red 224, C.I. I. Pigment Red No. 242, C.I. I. Pigment Red 243, C.I. I. Pigment Red 254, C.I. I. Pigment Red No. 255, C.I. I. Pigment Red 262, C.I. I. Pigment Red 264, C.I. I. Pigment Red 265, C.I. I. Pigment Red No. 272;
C. I. Pigment Blue No. 15, C.I. I. Pigment Blue 15: 3, C.I. I. Pigment Blue 15: 4, C.I. I. Pigment Blue 15: 6, C.I. I. Pigment Blue No. 16, C.I. I. Pigment Blue No. 60, C.I. I. Pigment Blue No. 80;
C. I. Pigment Purple No. 1, C.I. I. Pigment Purple No. 19, C.I. I. Pigment Purple 23, C.I. I. Pigment Purple 29, C.I. I. Pigment Purple No. 32, C.I. I. Pigment Purple 36, C.I. I. Pigment Purple No. 38;
C. I. Pigment Green No. 7, C.I. I. Pigment Green 36, C.I. I. Pigment Green No. 58;
C. I. Pigment Brown No. 23, C.I. I. Pigment Brown No. 25;
C. I. Pigment Black No. 1, C.I. I. Pigment black No. 7.

これら顔料は、場合によってロジン処理、酸性基または塩基性基が導入されている顔料誘導体を利用した表面処理、重合体化合物などを利用した表面グラフト処理、硫酸を利用した微細粒子化処理、または有機溶媒または水を利用した洗浄処理などが行われたものであってもよい。   These pigments are optionally treated with rosin, surface treatment using a pigment derivative having an acidic group or basic group introduced, surface grafting using a polymer compound, etc., fine particle formation using sulfuric acid, or organic It may have been subjected to a cleaning treatment using a solvent or water.

具体的に、本発明において使用される有機顔料は、着色剤固形分100重量部に対して30〜95重量部で含有されることができる。このような着色剤のうち有機顔料は、C.I.顔料青色16及びC.I.顔料青色60を含むことを特徴とする。C.I.顔料青色16及びC.I.顔料青色60は、全体有機顔料着色剤100重量部のうち、10〜50重量部を含有することができる。C.I.顔料青色16及びC.I.顔料青色60の含量が10重量部以下では、赤色波長の光が充分に遮光されないことがあり、50重量部以上では、組成物の形成が難しい。また、使用される着色剤の有機顔料は、C.I.顔料赤色179を含むことができ、場合によってはC.I.顔料黄色139またはC.I.顔料紫色23が使用されることができる。C.I.顔料赤色179を使用する場合、着色剤固形分100重量部に対して20〜40重量部で使用可能である。C.I.顔料黄色139をも含んで使用するときには、着色剤固形分100重量部に対して5〜25重量部で使用することができる。C.I.顔料紫色23をも含んで使用するときには、着色剤固形分100重量部に対して5〜25重量部で使用することができる。   Specifically, the organic pigment used in the present invention may be contained in an amount of 30 to 95 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the colorant solid content. Among such colorants, organic pigments include C.I. I. Pigment Blue 16 and C.I. I. Pigment blue 60 is included. C. I. Pigment Blue 16 and C.I. I. The pigment blue 60 can contain 10 to 50 parts by weight out of 100 parts by weight of the total organic pigment colorant. C. I. Pigment Blue 16 and C.I. I. When the content of pigment blue 60 is 10 parts by weight or less, red wavelength light may not be sufficiently blocked, and when it is 50 parts by weight or more, formation of a composition is difficult. The organic pigment used as the colorant is C.I. I. Pigment Red 179 can be included, and in some cases C.I. I. Pigment Yellow 139 or C.I. I. Pigment purple 23 can be used. C. I. When using pigment red 179, it can be used in 20-40 weight part with respect to 100 weight part of colorant solid content. C. I. When the pigment yellow 139 is also used, it can be used at 5 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the colorant solid content. C. I. When using also including the pigment purple 23, it can be used at 5 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the colorant solid content.

使用されるC.I.顔料青色16及びC.I.顔料青色60以外に、顔料としては、印刷インク、インクジェットなどに使用される顔料及び水溶性アゾ系、不溶性アゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、イソインドリノン系、イソインドリン、ペリレン、ペリノン、ジオキシジン、アントラキノン、ジアントラキノニル、アントラピリミジン、アンタントロン、インダントロン、フラバントロン、ピラントロン系の顔料などを使用することができる。   C. used I. Pigment Blue 16 and C.I. I. In addition to pigment blue 60, pigments used in printing inks, inkjets and the like and water-soluble azo-based, insoluble azo-based, phthalocyanine-based, quinacridone-based, isoindolinone-based, isoindoline, perylene, perinone, dioxidine, Anthraquinone, dianthraquinonyl, anthrapyrimidine, antanthrone, indanthrone, flavantron, pyranthrone pigments, and the like can be used.

一例として、黒色顔料は、アニリンブラック、ペリレンブラック、チタンブラック、カーボンブラックであることができ、遮光性があるものなら、特に制限なしに使用することができる。具体的に、前記カーボンブラックは、チャネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラックなどであることができる。必要な場合、電気絶縁性のために表面に樹脂が被覆されたカーボンブラックが使用されることができる。付言すれば、樹脂が被覆されたカーボンブラックは、樹脂が被覆されていないカーボンブラックに比べて導電性が低いため、ブラックマトリックス、スペーサまたはブラックマトリックス一体型スペーサの形成時に優れた電気絶縁性を付与することができる。使用される黒色顔料は、着色剤固形分の100重量部に対して5〜70重量部で含有されることができる。   As an example, the black pigment can be aniline black, perylene black, titanium black, or carbon black, and any black pigment can be used without particular limitation. Specifically, the carbon black may be channel black, furnace black, thermal black, lamp black, and the like. If necessary, carbon black whose surface is coated with a resin for electrical insulation can be used. In other words, carbon black coated with resin has lower electrical conductivity than carbon black not coated with resin, so it provides excellent electrical insulation when forming black matrix, spacer or black matrix integrated spacer. can do. The black pigment used can be contained in an amount of 5 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the colorant solids.

染料の具体的な例としては、C.I.ソルベント黄色2号、C.I.ソルベント黄色14号、C.I.ソルベント黄色16号、C.I.ソルベント黄色33号、C.I.ソルベント黄色34号、C.I.ソルベント黄色44号、C.I.ソルベント黄色56号、C.I.ソルベント黄色82号、C.I.ソルベント黄色93号、C.I.ソルベント黄色94号、C.I.ソルベント黄色98号、C.I.ソルベント黄色116号、C.I.ソルベント黄色135号;C.I.ソルベントオレンジ色1号、C.I.ソルベントオレンジ色3号、C.I.ソルベントオレンジ色7号、C.I.ソルベントオレンジ色63号;C.I.ソルベント赤色1号、C.I.ソルベント赤色2号、C.I.ソルベント赤色3号、C.I.ソルベント赤色8号、C.I.ソルベント赤色18号、C.I.ソルベント赤色23号、C.I.ソルベント赤色24号、C.I.ソルベント赤色27号、C.I.ソルベント赤色35号、C.I.ソルベント赤色43号、C.I.ソルベント赤色45号、C.I.ソルベント赤色48号、C.I.ソルベント赤色49号、C.I.ソルベント赤色91:1号、C.I.ソルベント赤色119号、C.I.ソルベント赤色135号、C.I.ソルベント赤色140号、C.I.ソルベント赤色196号、C.I.ソルベント赤色197号;C.I.ソルベント紫色8号、C.I.ソルベント紫色9号、C.I.ソルベント紫色13号、C.I.ソルベント紫色26号、C.I.ソルベント紫色28号、C.I.ソルベント紫色31号、C.I.ソルベント紫色59号;C.I.ソルベント青色4号、C.I.ソルベント青色5号、C.I.ソルベント青色25号、C.I.ソルベント青色35号、C.I.ソルベント青色36号、C.I.ソルベント青色38号、C.I.ソルベント青色70号;C.I.ソルベント緑色3号、C.I.ソルベント緑色5号、C.I.ソルベント緑色7号などが挙げられる。   Specific examples of the dye include C.I. I. Solvent Yellow No. 2, C.I. I. Solvent Yellow No. 14, C.I. I. Solvent Yellow 16, C.I. I. Solvent Yellow 33, C.I. I. Solvent Yellow 34, C.I. I. Solvent Yellow 44, C.I. I. Solvent Yellow 56, C.I. I. Solvent Yellow 82, C.I. I. Solvent Yellow No. 93, C.I. I. Solvent Yellow 94, C.I. I. Solvent Yellow 98, C.I. I. Solvent Yellow No. 116, C.I. I. Solvent Yellow 135; C.I. I. Solvent Orange No. 1, C.I. I. Solvent Orange No. 3, C.I. I. Solvent Orange No. 7, C.I. I. Solvent Orange No. 63; C.I. I. Solvent Red No. 1, C.I. I. Solvent Red No. 2, C.I. I. Solvent Red No. 3, C.I. I. Solvent Red No. 8, C.I. I. Solvent Red No. 18, C.I. I. Solvent Red No. 23, C.I. I. Solvent Red No. 24, C.I. I. Solvent Red No. 27, C.I. I. Solvent Red No. 35, C.I. I. Solvent Red No. 43, C.I. I. Solvent Red 45, C.I. I. Solvent Red 48, C.I. I. Solvent Red 49, C.I. I. Solvent Red 91: 1, C.I. I. Solvent Red 119, C.I. I. Solvent Red 135, C.I. I. Solvent Red 140, C.I. I. Solvent Red 196, C.I. I. Solvent Red 197; C.I. I. Solvent Purple No. 8, C.I. I. Solvent Purple No. 9, C.I. I. Solvent Purple No. 13, C.I. I. Solvent Purple 26, C.I. I. Solvent Purple 28, C.I. I. Solvent Purple No. 31, C.I. I. Solvent Purple No. 59; C.I. I. Solvent Blue No. 4, C.I. I. Solvent Blue No. 5, C.I. I. Solvent Blue No. 25, C.I. I. Solvent Blue 35, C.I. I. Solvent Blue 36, C.I. I. Solvent Blue 38, C.I. I. Solvent blue 70; C.I. I. Solvent Green No. 3, C.I. I. Solvent Green No. 5, C.I. I. Solvent green No. 7 etc. are mentioned.

前記着色剤は、全体着色感光性樹脂組成物100重量%内で1〜60重量%、好ましくは1〜50重量%で含有される。もしその含量が前記範囲未満なら、遮光性が十分でないため、前記言及した効果を確保することができず、反対に、前記範囲を超過すれば、パターニング後に得られたパターン品質が低下するおそれがあるので、前記範囲内で適切に使用する。   The colorant is contained in an amount of 1 to 60% by weight, preferably 1 to 50% by weight, within 100% by weight of the whole colored photosensitive resin composition. If the content is less than the above range, the above-mentioned effect cannot be ensured because the light shielding property is not sufficient. On the contrary, if the content exceeds the above range, the pattern quality obtained after patterning may be deteriorated. Therefore, it is used appropriately within the above range.

本発明においての着色剤は、必要に応じて、分散剤、分散補助剤とともに使用することができる。   The colorant in the present invention can be used together with a dispersant and a dispersion aid as necessary.

前記分散剤としては、例えば、陽イオン系、陰イオン系、非イオン系などの適切な分散剤を使用することができるが、重合体分散剤が好ましい。具体的には、アクリル系共重合体、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミンなどが挙げられる。このような分散剤は、商業的に入手することができ、例えば、アクリル系共重合体として、DisperBYK−2000、DisperBYK−2001、BYK−LPN6919、BYK−LPN21116(以上、BYK社製造)、Solsperse 5000(Lubrizol社製造)、ポリウレタンとしてDisperBYK−161、DisperBYK−162、DisperBYK−163、DisperBYK−165、DisperBYK−167、DisperBYK−170、DisperBYK−182(以上、BYK社製造)、Solsperse 76500(Lubrizol社製造)、ポリエチレンイミンとしてSolsperse 24000(Lubrizol社製造)、ポリエステルとしてアジスパーPB821、アジスパーPB822、アジスパーPB880(味の素ファインテクノ株式会社製造)などが挙げられる。   As the dispersant, for example, an appropriate dispersant such as a cation system, an anion system, or a nonionic system can be used, and a polymer dispersant is preferable. Specific examples include acrylic copolymers, polyurethane, polyester, polyethyleneimine, polyallylamine, and the like. Such a dispersing agent can be obtained commercially. For example, as an acrylic copolymer, DisperBYK-2000, DisperBYK-2001, BYK-LPN6919, BYK-LPN21116 (manufactured by BYK), Solsperse 5000 (Manufactured by Lubrizol), DispersBYK-161, DisperBYK-162, DisperBYK-163, DisperBYK-165, DisperBYK-167, DisperBYK-170 (manufactured by BYK), Solz (by BYK), 76 Solsperse 24000 (manufactured by Lubrizol) as polyethyleneimine and Par PB821, Ajisper PB822, Ajisper PB880 (Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd. production), and the like.

前記分散補助剤としては、例えば、顔料誘導体が挙げられ、具体的には、銅フタロシアニン、ジケトピロロピロール、キノフタロンのスルホン酸誘導体などが挙げられる。   Examples of the dispersion aid include pigment derivatives, and specific examples include copper phthalocyanine, diketopyrrolopyrrole, and sulfonic acid derivatives of quinophthalone.

これら分散剤は、単独にまたは2種以上を混合して使用することができる。分散剤の含量は、着色剤100重量部に対して、通常、100重量部以下、好ましくは、1〜70重量部、さらに好ましくは、10〜50重量部である。分散剤の含有量が過度に多ければ、現像性などが損傷されるおそれがある。   These dispersants can be used alone or in admixture of two or more. The content of the dispersant is usually 100 parts by weight or less, preferably 1 to 70 parts by weight, and more preferably 10 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the colorant. If the content of the dispersant is excessively large, developability and the like may be damaged.

本発明においてのアルカリ可溶性樹脂は、光や熱の作用による反応性及びアルカリ溶解性を有し、着色剤を含めた固形分の分散媒として作用し、決着樹脂の機能をし、これは、樹脂組成物を利用したフィルム製造の現像段階で使用されたアルカリ性現像液に溶解可能な結合剤樹脂なら、いずれでも使用可能である。   The alkali-soluble resin in the present invention has reactivity and alkali solubility due to the action of light and heat, acts as a solid dispersion medium including a colorant, and functions as a final resin. Any binder resin that can be dissolved in the alkaline developer used in the development stage of film production using the composition can be used.

前記アルカリ可溶性樹脂は、下記化学式2〜5の構造単位のうち少なくとも1つ以上を含んでなる。   The alkali-soluble resin comprises at least one of structural units represented by the following chemical formulas 2 to 5.


前記アルカリ可溶性樹脂において前記化学式2〜5の反応物は、アルカリ可溶性樹脂の総モル数に対してモル分率で3〜80モル%含まれることが好ましく、より好ましくは、5〜70モル%含まれることが好ましい。前記構造単位が前記範囲内に含まれる場合、感度及び密着性に優れ、現像工程中にパターンの剥離がなく、耐溶剤性に優れた特性を示す。   In the alkali-soluble resin, the reactants of Chemical Formulas 2 to 5 are preferably included in a molar fraction of 3 to 80 mol%, more preferably 5 to 70 mol% with respect to the total number of moles of the alkali-soluble resin. It is preferable that When the structural unit is included in the range, the sensitivity and adhesion are excellent, the pattern does not peel during the development process, and the solvent resistance is excellent.

前記化学式2〜5の構造単位を有するアルカリ可溶性樹脂は、多様な重合可能な化合物の重合によって製造されることができる。   The alkali-soluble resin having the structural units represented by Chemical Formulas 2 to 5 can be produced by polymerizing various polymerizable compounds.

前記アルカリ可溶性樹脂の化学式2〜5と他の種類との共重合が可能であり、共重合が可能な不飽和結合の具体的な例としては、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、p−クロロスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−メトキシスチレン、o−ビニルベンジルメチルエーテル、m−ビニルベンジルメチルエーテル、p−ビニルベンジルメチルエーテル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどの芳香族ビニル化合物;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、i−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート類;シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.0 2、6]デカン−8−イル(メタ)アクリレート、2−ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレートなどの脂環族(メタ)アクリレート類またはエポキシ改質脂環族(メタ)アクリレート類;フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートなどのアリール(メタ)アクリレート類;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類;N−シクロヘキシルマレイミド、N−ベンジルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−o−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−m−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−p−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−o−メチルフェニルマレイミド、N−m−メチルフェニルマレイミド、N−p−メチルフェニルマレイミド、N−o−メトキシフェニルマレイミド、N−m−メトキシフェニルマレイミド、N−p−メトキシフェニルマレイミドなどのN−置換マレイミド系化合物;(メタ)アクリルアミド、N、N−ジメチル(メタ)アクリルアミドなどの不飽和アミド化合物;3−(メタクリロイルオキシメチル)オキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)−3−エチルオキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)−2−トリフルオロメチルオキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)−2−フェニルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシメチル)オキセタン、2−(メタクリロイルオキシメチル)−4−トリフルオロメチルオキセタンなどの不飽和オキセタン化合物などが挙げられる。   Specific examples of unsaturated bonds that can be copolymerized with chemical formulas 2 to 5 of the alkali-soluble resin and other types include styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, p- Chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzyl methyl ether, m-vinylbenzyl methyl ether, p-vinylbenzyl methyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl Aromatic vinyl compounds such as glycidyl ether and p-vinylbenzyl glycidyl ether; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) Acrylate, i-butyl (meth) acrylate , Alkyl (meth) acrylates such as sec-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate; cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5 .2.1.0 2,6] decane-8-yl (meth) acrylate, 2-dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and other alicyclic (meth) acrylates or epoxy Modified alicyclic (meth) acrylates; aryl (meth) acrylates such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and the like Hydro Sialkyl (meth) acrylates; N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-o-hydroxyphenylmaleimide, Nm-hydroxyphenylmaleimide, Np-hydroxyphenylmaleimide, N-o- N-substituted maleimides such as methylphenylmaleimide, Nm-methylphenylmaleimide, Np-methylphenylmaleimide, N-o-methoxyphenylmaleimide, Nm-methoxyphenylmaleimide, Np-methoxyphenylmaleimide Compound; unsaturated amide compound such as (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide; 3- (methacryloyloxymethyl) oxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -3-ethyloxetane, 3- Such as methacryloyloxymethyl) -2-trifluoromethyloxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -2-phenyloxetane, 2- (methacryloyloxymethyl) oxetane, 2- (methacryloyloxymethyl) -4-trifluoromethyloxetane And unsaturated oxetane compounds.

前記例示した化合物は、それぞれ単独にまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。   The compounds exemplified above can be used alone or in combination of two or more.

本発明によるアルカリ可溶性樹脂は、必要に応じて当該分野において一般的に使用される公知された多様な可溶性樹脂を追加に混合して使用することができる。   The alkali-soluble resin according to the present invention can be used by additionally mixing various known soluble resins that are generally used in the art as needed.

好ましくは、前記アルカリ可溶性樹脂は、ポリスチレン換算の重量平均分子量が3,000〜100,000の範囲にあり、5,000〜50,000の範囲にあることがより好ましい。前記アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量が3,000未満の場合には、樹脂の分子量があまりにも少なくて、表面が滑らかでない形状が発見され、分子量が100,000超過の場合には、現像時に現像速度が遅い。   Preferably, the alkali-soluble resin has a polystyrene-equivalent weight average molecular weight in the range of 3,000 to 100,000, and more preferably in the range of 5,000 to 50,000. When the weight average molecular weight of the alkali-soluble resin is less than 3,000, the resin has a molecular weight that is too low and a surface with a non-smooth shape is found. When the molecular weight exceeds 100,000, development is performed during development. The speed is slow.

前記アルカリ可溶性樹脂の酸価は、30〜250(KOHmg/g)であり、好ましくは、50〜200(KOHmg/g)であり、より好ましくは、60〜150(KOHmg/g)である。前記アルカリ可溶性樹脂の酸価が30〜250(KOHmg/g)である場合には、現像液に対する溶解性が向上し、残膜率が向上するので好ましい。酸価が30未満の場合、アルカリ現像液に現像が良好に行われないことが分かる。また、酸価が250超過の場合には、あまりにも多いカルボキシル基による他の物性の減少に起因して感光性樹脂として使用しにくい。ここで、酸価とは、アクリル系重合体1gを中和するのに必要な水酸化カリウムの量(mg)として測定される値であり、通常、水酸化カリウム水溶液を使用して滴定することによって求めることができる。   The acid value of the alkali-soluble resin is 30 to 250 (KOH mg / g), preferably 50 to 200 (KOH mg / g), and more preferably 60 to 150 (KOH mg / g). When the alkali-soluble resin has an acid value of 30 to 250 (KOHmg / g), the solubility in a developing solution is improved, and the residual film ratio is improved. It can be seen that when the acid value is less than 30, development is not performed satisfactorily in the alkaline developer. On the other hand, when the acid value exceeds 250, it is difficult to use as a photosensitive resin due to a decrease in other physical properties due to too many carboxyl groups. Here, the acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide necessary to neutralize 1 g of the acrylic polymer, and is usually titrated using an aqueous potassium hydroxide solution. Can be obtained.

前記アルカリ可溶性樹脂は、全体着色感光性樹脂組成物100重量%内で10〜80重量%、好ましくは、10〜70重量%の範囲で使用する。このような含量は、現像液に対する溶解度と、パターン形成などを多角的に考慮して選定された範囲であって、前記範囲内で使用する場合、現像液に対する溶解性が十分で、パターン形成が容易であり、現像時に露光部の画素部分の膜減少が防止され、非画素部分の脱落性が良好になる。   The alkali-soluble resin is used in the range of 10 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight, within 100% by weight of the whole colored photosensitive resin composition. Such a content is a range selected in consideration of the solubility in the developer and pattern formation from a multifaceted perspective. When used within the above range, the solubility in the developer is sufficient, and the pattern formation is not possible. It is easy, and the film reduction of the pixel portion of the exposed portion is prevented at the time of development, and the drop-out property of the non-pixel portion is improved.

本発明においての光重合性化合物は、紫外線などの光の照射を受けて重合し硬化する物質であって、光重合開始剤の作用により重合することができる化合物なら特に限定されない。前記光重合性化合物は、パターンの強度を強化させるための成分であって、単管能単量体、2管能単量体または3管能以上の多管能単量体などを使用することができる。   The photopolymerizable compound in the present invention is a substance that polymerizes and cures upon irradiation with light such as ultraviolet rays, and is not particularly limited as long as it can be polymerized by the action of a photopolymerization initiator. The photopolymerizable compound is a component for enhancing the strength of the pattern, and a single-capacity monomer, a two-capacity monomer, or a multi-tubular monomer having three or more capacities is used. Can do.

前記単管能単量体の具体的な例としては、アクリレート、メタアクリレート、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、N−ビニルピロリドンなどが挙げられ、市販品としては、アロニックスM−101(東亜合成)、KAYARAD TC−110S(日本化薬)またはビスコート158(大阪有機化学工業)などが挙げられる。   Specific examples of the single-capacity monomer include acrylate, methacrylate, nonylphenyl carbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, N -Vinylpyrrolidone etc. are mentioned, As a commercial item, Aronix M-101 (Toagosei), KAYARAD TC-110S (Nippon Kayaku) or Biscote 158 (Osaka organic chemical industry) etc. are mentioned.

前記2管能単量体の具体的な例としては、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのビス(アクリロイルオキシエチル)エーテル、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレートなどが挙げられ、市販品としては、アロニックスM−210、M−1100、1200(東亜合成)、KAYARAD HDDA(日本化薬)、ビスコート260(大阪有機化学工業)、AH−600、AT−600またはUA−306H(共栄社化学社)などがある。   Specific examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and triethylene glycol di (meth). ) Acrylate, bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, etc., and commercially available products include Aronix M-210, M-1100, 1200 (Toagosei), KAYARAD There are HDDA (Nippon Kayaku), Biscote 260 (Osaka Organic Chemical Industry), AH-600, AT-600 or UA-306H (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).

前記3管能以上の多管能光重合性化合物の具体的な例としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシレイティドトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシレイティドトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エトキシレイティドジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、プロポキシレイティドジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどがあり、市販品としては、アロニックスM−309、TO−1382(東亜合成)、KAYARAD TMPTA、KAYARAD DPHAまたはKAYARAD DPHA−40H(日本化薬)などがある。   Specific examples of the multi-tube photopolymerizable compound having three or more tubes include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri ( (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate , Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc., and commercially available products include Aronix M-309, TO-1382 (Toagosei), KAYARAD MPTA, there is such KAYARAD DPHA or KAYARAD DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku).

前記で例示した光重合性化合物のうち、3管能以上の(メタ)アクリル酸エステル類及びウレタン(メタ)アクリレートが重合性に優れ、強度を向上させることができるという点から、特に好ましい。   Of the photopolymerizable compounds exemplified above, (meth) acrylic acid esters and urethane (meth) acrylates having 3 or more capacities are particularly preferable because they are excellent in polymerizability and can improve strength.

前記で例示した光重合性化合物は、それぞれ単独にまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。   The photopolymerizable compounds exemplified above can be used alone or in combination of two or more.

前記光重合性化合物は、全体着色感光性樹脂組成物100重量%内で1〜30重量%含まれることが好ましく、特に1〜20重量%で含まれることがより好ましい。このような含量の範囲は、カラムスペーサまたはブラックマトリックス一体型カラムスペーサの強度や平滑性が良好になる傾向などを多角的に考慮して選定された範囲であって、もしその含量が前記範囲の未満なら、強度及び平滑性が不足で、反対に、前記範囲を超過する場合、高い強度に起因してパターニングが容易でない問題が発生するので、前記範囲内で適切に使用する。   The photopolymerizable compound is preferably contained in an amount of 1 to 30% by weight within 100% by weight of the whole colored photosensitive resin composition, and more preferably 1 to 20% by weight. The range of the content is a range selected in consideration of the tendency of the strength and smoothness of the column spacer or the black matrix integrated column spacer to be good, and the content is within the above range. If it is less than the range, the strength and smoothness are insufficient. On the other hand, if the range is exceeded, patterning is not easy due to the high strength.

本発明においての光重合開始剤は、前記光重合性化合物の重合を開始するための化合物であって、本発明において特に限定しないが、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、トリアジン系、チオキサントン系、オキシム系、ベンゾイン系、アントラセン系、アントラキノン系、及びビイミダゾール系化合物などを使用することができ、これらは、単独または2種以上混合して使用が可能である。   The photopolymerization initiator in the present invention is a compound for initiating polymerization of the photopolymerizable compound, and is not particularly limited in the present invention, but is not limited to acetophenone, benzophenone, triazine, thioxanthone, oxime, Benzoin-based, anthracene-based, anthraquinone-based, and biimidazole-based compounds can be used, and these can be used alone or in combination of two or more.

アセトフェノン系化合物は、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタル、2−ヒドロキシ−1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパン−1−オンのオリゴマーなどが可能であり、これらのうち、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オンが好ましく使用可能である。   Acetophenone compounds include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2- Methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4- Morpholinophenyl) butan-1-one, oligomers of 2-hydroxy-2-methyl [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one, etc. are possible, among which 2-benzyl-2- Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one can be preferably used.

ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、4、4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4、4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンなどが可能である。   Examples of benzophenone compounds include benzophenone, benzoylbenzoic acid, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino). Benzophenone and the like are possible.

トリアジン系化合物としては、2、4、6−トリクロロ−s−トリアジン、2−フェニル−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3’、4’−ジメトキシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4’−メトキシナフチル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ビフェニル−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、ビス(トリクロロメチル)−6−スチリル−s−トリアジン、2−(ナフト1−イル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフト1−イル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2、4−トリクロロメチル(ピペロニル)−6−トリアジン、2、4−トリクロロメチル(4’−メトキシスチリル)−6−トリアジンなどが可能である。   Examples of triazine compounds include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, and 2- (3 ′, 4′-dimethoxystyryl) -4. 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4′-methoxynaphthyl) -4, 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4, 6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-biphenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, Bis (trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, 2- (naphth-1-yl) -4, 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxy Naphtho 1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-trichloromethyl (piperonyl) -6-triazine, 2,4-trichloromethyl (4′-methoxystyryl) -6 Triazines are possible.

チオキサントン系化合物としては、2−イソプロピルチオキサントン、2、4−ジエチルチオキサントン、2、4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントンなどが可能である。   As the thioxanthone-based compound, 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and the like are possible.

オキシム系化合物としては、o−エトキシカルボニル−α−オキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オンなどが挙げられ、市販品としてCiba社のOXE−01、OXE−02が代表的である。   Examples of oxime compounds include o-ethoxycarbonyl-α-oxyimino-1-phenylpropan-1-one, and OXE-01 and OXE-02 manufactured by Ciba are representative.

ベンゾイン系化合物としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタルなどが使用可能である。   As the benzoin compound, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyldimethyl ketal, or the like can be used.

アントラセン系化合物としては、例えば9、10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9、10−ジメトキシアントラセン、9、10−ジエトキシアントラセンまたは2−エチル−9、10−ジエトキシアントラセンなどがある。   Examples of the anthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, and 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene.

アントラキノン系化合物としては、2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1、2−ベンゾアントラキノン、2、3−ジフェニルアントラキノンなどが可能である。   Examples of the anthraquinone compound include 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzoanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, and the like.

ビイミダゾール系化合物としては、2、2’−ビス(2−クロロフェニル)−4、4’、5、5’−テトラフェニルビイミダゾール、2、2’−ビス(2、3−ジクロロフェニル)−4、4’、5、5’−テトラフェニルビイミダゾール、2、2’−ビス(2−クロロフェニル)−4、4’、5、5’−テトラ(アルコキシフェニル)ビイミダゾール、2、2’−ビス(2−クロロフェニル)−4、4’、5、5’−テトラ(トリアルコキシフェニル)ビイミダゾール、4、4’、5、5’位置のフェニル基がカルボアルコキシ基によって置換されているイミダゾール化合物などが可能である。   Examples of biimidazole compounds include 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4, 4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2,3-dichlorophenyl) -4, 4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (alkoxyphenyl) biimidazole, 2,2′-bis ( 2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, imidazole compounds in which the phenyl group at the 4,4 ′, 5,5 ′ position is substituted by a carboalkoxy group Is possible.

前記光重合開始剤は、全体着色感光性樹脂組成物100重量%内で0.01〜10重量%、好ましくは0.01〜5重量%で使用することができる。このような含量の範囲は、光重合性化合物の光重合速度及び最終得られる塗膜の物性を考慮したものであって、前記範囲の未満なら、重合速度が低くて、全体的な工程時間が長くなることができ、反対に、前記範囲を超過する場合、過度な反応によって架橋反応が経過し、塗膜の物性がむしろ低下することができるため、前記範囲内で適切に使用する。   The photopolymerization initiator can be used in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.01 to 5% by weight, within 100% by weight of the whole colored photosensitive resin composition. Such a content range is based on the photopolymerization rate of the photopolymerizable compound and the physical properties of the final coating film. If the content is less than the above range, the polymerization rate is low and the overall process time is low. On the contrary, when the above range is exceeded, the crosslinking reaction may be caused by excessive reaction, and the physical properties of the coating film may be lowered.

前記光重合開始剤は、光重合開始補助剤を組み合わせて使用してもよい。前記光重合開始剤に光重合開始補助剤を併用すれば、これらを含有する着色感光性樹脂組成物は、さらに高感度になって、これを使用してセルギャップ維持用カラムスペーサを形成するとき、生産性が向上するので好ましい。   The photopolymerization initiator may be used in combination with a photopolymerization initiation auxiliary agent. When a photopolymerization initiator auxiliary agent is used in combination with the photopolymerization initiator, the colored photosensitive resin composition containing them becomes more sensitive, and this is used to form a cell gap maintaining column spacer. It is preferable because productivity is improved.

光重合開始補助剤は、重合効率を高めるために使用することができ、アミン系化合物、アルコキシアントラセン系化合物、及びチオキサントン系化合物などが可能である。   The photopolymerization initiation auxiliary agent can be used to increase the polymerization efficiency, and examples thereof include amine compounds, alkoxyanthracene compounds, and thioxanthone compounds.

アミン系化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4−ジメチルアミノベンゼン酸メチル、4−ジメチルアミノベンゼン酸エチル、4−ジメチルアミノベンゼン酸イソアミル、ベンゼン酸−2−ジメチルアミノエチル、4−ジメチルアミノベンゼン酸2−エチルヘキシル、N、N−ジメチルパラトルイジン、4、4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(別名;ミヒラーズケトン)、4、4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4、4’−ビス(エチルメチルアミノ)ベンゾフェノンなどが挙げられ、このうち、4、4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが好ましい。   Examples of amine compounds include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzeneate, ethyl 4-dimethylaminobenzeneate, isoamyl 4-dimethylaminobenzeneate, 2-dimethylaminoethylbenzeneate, 2-dimethylhexyl 4-dimethylaminobenzene, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone (also known as Michler's ketone), 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4 ′ -Bis (ethylmethylamino) benzophenone and the like can be mentioned, among which 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone is preferable.

また、アルコキシアントラセン系化合物としては、例えば、9、10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9、10−ジメトキシアントラセン、9、10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9、10−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。   Examples of the alkoxyanthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene and the like. Can be mentioned.

チオキサントン系化合物としては、例えば、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2、4−ジエチルチオキサントン、2、4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。   Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and the like.

前記光重合開始補助剤は、直接製造するかまたは市販されるものを購入して使用が可能であり、一例として、EAB−Fシリーズ(保土ヶ谷化学工業株式会社)などを使用することができる。   The photopolymerization initiation auxiliary agent can be directly manufactured or purchased and used, and as an example, EAB-F series (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) can be used.

このような光重合開始補助剤は、光重合開始剤1モル当たり通常10モル以下、好ましくは、0.01〜5モルの範囲内で使用することが好ましい。前記範囲内で光重合開始補助剤を使用する場合、重合効率を高めて、生産性向上効果を期待することができる。   Such a photopolymerization initiation auxiliary agent is usually used in an amount of usually 10 mol or less, preferably 0.01 to 5 mol per mol of the photopolymerization initiator. When the photopolymerization initiation auxiliary agent is used within the above range, the polymerization efficiency can be increased and the productivity improvement effect can be expected.

本発明においての溶剤は、前記言及した組成を溶解または分散させることができるものなら、いずれでも使用し、本発明において特に限定しない。代表的に、アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、芳香族炭化水素類、ケトン類、低級及び高級アルコール類、環状エステル類などが挙げられる。より具体的に、前記溶剤として、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどのアルキレングリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート及びメトキシペンチルアセテートなどのアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコール類;3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチルなどのエステル類;γ−ブチロラクトンなどの環状エステル類などが挙げられる。   Any solvent can be used in the present invention as long as it can dissolve or disperse the above-mentioned composition, and is not particularly limited in the present invention. Representative examples include alkylene glycol monoalkyl ethers, alkylene glycol alkyl ether acetates, aromatic hydrocarbons, ketones, lower and higher alcohols, and cyclic esters. More specifically, as the solvent, alkylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dibutyl ether; methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate and the like Alkylene glycol alkyl ether acetates such as methoxypentyl acetate; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene; ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethanol, propanol and butanol , Alcohols such as hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin; esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; and cyclic esters such as γ-butyrolactone.

前記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の面から、好ましくは、前記溶剤のうち沸点が100〜200℃の有機溶剤が挙げられ、より好ましくは、アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、3−エトキシプロピオン酸エチルや、3−メトキシプロピオン酸メチルなどのエステル類が挙げられ、さらに好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチルなどが挙げられる。これら溶剤は、それぞれ単独にまたは2種類以上混合して使用することができる。   Of the above-mentioned solvents, organic solvents having a boiling point of 100 to 200 ° C. are preferable from the viewpoint of coating properties and drying properties, and more preferable are alkylene glycol alkyl ether acetates, ketones, 3 -Esters such as ethyl ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate, and more preferably, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methoxy And methyl propionate. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.

前記溶剤は、コーティング方法や装置によって粘度が変わることができるので、前記言及した組成を有する着色感光性樹脂組成物の濃度が5〜90重量%、好ましくは、15〜80重量%になり得るように含量を適切に調節する。このような含量は、組成の分散安定性及び製造工程での工程容易性(例えば、塗布性)を考慮して選定された範囲である。   Since the viscosity of the solvent can vary depending on the coating method and apparatus, the concentration of the colored photosensitive resin composition having the above-mentioned composition can be 5 to 90% by weight, preferably 15 to 80% by weight. Adjust the content appropriately. Such a content is a range selected in consideration of the dispersion stability of the composition and process ease (for example, coating property) in the production process.

さらに、本発明による着色感光性樹脂組成物は、多様な目的によって公知の添加剤をさらに含むことができる。このような添加剤としては、界面活性剤、充填剤、他の高分子化合物、紫外線吸収剤、凝集防止剤などの添加剤を併用することも可能である。これら添加剤は、1種または2種以上が可能であり、光効率などを考慮して全体組成物内で1重量%以下で使用することが好ましい。   Furthermore, the colored photosensitive resin composition according to the present invention may further contain known additives for various purposes. As such additives, additives such as surfactants, fillers, other polymer compounds, ultraviolet absorbers and anti-aggregation agents can be used in combination. These additives can be used alone or in combination of two or more, and are preferably used in an amount of 1% by weight or less in the entire composition in consideration of light efficiency and the like.

界面活性剤としては、市販される製品を利用することができ、好ましくは、フッ素系界面活性剤を使用する。前記フッ素系界面活性剤としては、BM−1000、BM−1100(BMChemie社)、FC−135、FC−170C、FC−430(住友スリーエム(株))、SH−28PA、SH−190、SZ−6032(東レシリコーン(株))などを使用することができる。   As the surfactant, a commercially available product can be used, and a fluorine-based surfactant is preferably used. Examples of the fluorosurfactant include BM-1000, BM-1100 (BMC Chemie), FC-135, FC-170C, FC-430 (Sumitomo 3M Ltd.), SH-28PA, SH-190, SZ-. 6032 (Toray Silicone Co., Ltd.) or the like can be used.

充填剤としては、ガラス、シリカ、アルミナなどが可能であり、他の高分子化合物としては、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂などの硬化性樹脂、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフルオロアルキルアクリレート、ポリエステル、ポリウレタンなどの熱可塑性樹脂などが挙げられる。   Glass, silica, alumina, etc. can be used as the filler, and other polymer compounds include curable resins such as epoxy resin and maleimide resin, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoro. Examples thereof include thermoplastic resins such as alkyl acrylate, polyester, and polyurethane.

紫外線吸収剤としては、具体的に2−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノンなどが可能であり、凝集防止剤としては、具体的に、ポリアクリル酸ナトリウムなどが挙げられる。   Specific examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenone. Specific examples of the aggregation inhibitor include And sodium polyacrylate.

前述したような着色感光性組成物の製造は、本発明において特に限定せず、公知された感光性組成物の製造方法による。   The production of the colored photosensitive composition as described above is not particularly limited in the present invention, and is performed by a known method for producing a photosensitive composition.

一例として、着色剤を溶剤に添加した後、分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサンを含めた残りの組成及びその他添加剤を添加し、撹拌を通じて得ることができる。この際、着色剤は、溶剤またはアルカリ可溶性樹脂に溶解されるかまたは分散した状態で存在することができ、添加剤が溶液形態の場合、着色剤とともに溶媒にあらかじめ添加することができる。   As an example, after adding the colorant to the solvent, the remaining composition including random silsesquioxane having at least one reactive group in the molecular structure and other additives can be added and obtained through stirring. . At this time, the colorant can be dissolved or dispersed in a solvent or an alkali-soluble resin. When the additive is in the form of a solution, it can be added to the solvent together with the colorant.

このように製造された着色感光性樹脂組成物は、表示装置、好ましくは液晶表示装置のセルギャップ維持のためのカラムスペーサまたはブラックマトリックス一体型カラムスペーサとして好ましく使用することができる。   The colored photosensitive resin composition thus produced can be preferably used as a column spacer or a black matrix integrated column spacer for maintaining a cell gap of a display device, preferably a liquid crystal display device.

セルギャップ維持のためのカラムスペーサとして、本発明による着色感光性樹脂組成物は、化学式1の分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサンを含むことによって、無機膜に対する優れた密着性を示し、耐溶剤性及び耐熱性に優れ、化学的・熱的安定性に優れ、信頼性を高めることができる。また、本発明の着色感光性樹脂組成物は、外部圧力によって変形が少ないのみならず、柔軟性を有すると同時に、高い弾性回復率を有し、優れた遮光性によって光による損傷を防止することができる。   As a column spacer for maintaining a cell gap, the colored photosensitive resin composition according to the present invention includes a random silsesquioxane having at least one reactive group in the molecular structure of Chemical Formula 1, thereby preventing the inorganic film from forming. It exhibits excellent adhesion, excellent solvent resistance and heat resistance, excellent chemical and thermal stability, and can improve reliability. In addition, the colored photosensitive resin composition of the present invention is not only less deformed by external pressure, but also has flexibility and at the same time has a high elastic recovery rate and prevents light damage due to excellent light shielding properties. Can do.

また、ブラックマトリックスの場合、要求される高い光学密度(O.D)、優れた遮光性及び電気絶縁性を有し、本発明による着色感光性樹脂組成物は、ブラックマトリックス及びカラムスペーサの両方で要求される物性を満足させることができ、その結果、ブラックマトリックス一体型カラムスペーサとして好ましく適用可能である。   Further, in the case of a black matrix, it has the required high optical density (OD), excellent light-shielding properties and electrical insulation properties, and the colored photosensitive resin composition according to the present invention is used in both the black matrix and the column spacer. The required physical properties can be satisfied, and as a result, it can be preferably applied as a black matrix integrated column spacer.

ブラックマトリックス一体型スペーサは、ブラックマトリックス及びカラムスペーサをそれぞれ形成するものではなく、1つのパターンでブラックマトリックス及びカラムスペーサの役目をすべて行うことができるものであって、本発明による着色感光性樹脂組成物を使用することができる。   The black matrix integrated spacer does not form a black matrix and a column spacer, but can perform all the functions of the black matrix and the column spacer in one pattern. Things can be used.

ポトリソグラフィ方法によるカラムスペーサまたはブラックマトリックス一体型カラムスペーサの通常のパターニング工程は、
a)着色感光性樹脂組成物を塗布する段階と;
b)溶媒を乾燥するプリベーク段階と;
c)得られた被膜の上にフォトマスクをつけて活性光線を照射して露光部を硬化させる段階;
d)アルカリ水溶液を利用して未露光部を溶解する現像工程を行う段階と;
e)乾燥及びポストベークを行う。
A typical patterning process of a column spacer or a black matrix integrated column spacer by a photolithography method is as follows.
a) applying a colored photosensitive resin composition;
b) a pre-bake step of drying the solvent;
c) A step of attaching a photomask on the obtained coating and irradiating with active light to cure the exposed portion;
d) performing a development step of dissolving the unexposed portion using an alkaline aqueous solution;
e) Dry and post bake.

前記基板は、ガラス基板やポリマー板が使用される。ガラス基板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラスまたは石英などが好ましく使用することができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフィドまたはポリスルホンなどが挙げられる。   As the substrate, a glass substrate or a polymer plate is used. As the glass substrate, soda lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, or quartz can be preferably used. Examples of the polymer plate include polycarbonate, acrylic, polyethylene terephthalate, polyether sulfide, and polysulfone.

この際、塗布は、所望の厚さが得られるように、ロールコーター、スピンコーター、スリットアンドスピンコーター、スリットコーター(ダイコーターともいう場合がある)、インクジェットなどの塗布装置を利用した湿式コーティング方法が可能である。   In this case, a wet coating method using a coating device such as a roll coater, a spin coater, a slit and spin coater, a slit coater (sometimes also referred to as a die coater), or an ink jet so as to obtain a desired thickness. Is possible.

プリベークは、オーブン、ホットプレートなどによって加熱することで行われる。この際、プリベークにおける加熱温度及び加熱時間は、使用する溶剤によって適宜選択され、例えば、80〜150℃の温度で1〜30分間行われる。   Pre-baking is performed by heating with an oven, a hot plate, or the like. Under the present circumstances, the heating temperature and heating time in a prebaking are suitably selected by the solvent to be used, for example, are performed at the temperature of 80-150 degreeC for 1 to 30 minutes.

また、プリベーク後に行われる露光は、露光器によって行われ、フォトマスクを介して露光することによって、パターンに対応した部分のみを感光させる。この際、照射する光は、例えば、可視光線、紫外線、X線及び電子線などが可能である。   The exposure performed after pre-baking is performed by an exposure device, and only the part corresponding to the pattern is exposed by exposing through a photomask. At this time, the irradiated light can be, for example, visible light, ultraviolet light, X-rays, and electron beams.

露光後のアルカリ現像は非露光部分の除去されない部分の感光性樹脂組成物を除去する目的で行われ、この現像によって所望のパターンが形成される。このアルカリ現像に適した現像液としては、例えばアルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩の水溶液などを使用することができる。特に、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムなどの炭酸塩を1〜3重量%含有するアルカリ水溶液を利用して10〜50℃、好ましくは、20〜40℃の温度内で現像機または超音波洗浄機などを利用して行う。   The alkali development after the exposure is performed for the purpose of removing the photosensitive resin composition in the part where the non-exposed part is not removed, and a desired pattern is formed by this development. As a developer suitable for this alkali development, for example, an alkali metal or alkaline earth metal carbonate aqueous solution can be used. In particular, using an alkaline aqueous solution containing 1 to 3% by weight of a carbonate such as sodium carbonate, potassium carbonate or lithium carbonate, a developing machine or ultrasonic cleaning at a temperature of 10 to 50 ° C, preferably 20 to 40 ° C Use a machine.

ポストベークは、パターニングされた膜と基板との密着性を高めるために行い、80〜220℃で10〜120分の条件で熱処理を通じて行われる。ポストベークは、プリベークと同様に、オーブン、ホットプレートなどを利用して行う。   The post-baking is performed in order to improve the adhesion between the patterned film and the substrate, and is performed through heat treatment at 80 to 220 ° C. for 10 to 120 minutes. Post-baking is performed using an oven, a hot plate, or the like, as in pre-baking.

この際、カラムスペーサ及びブラックマトリックス一体型カラムスペーサの膜厚さとしては、0.1〜8μmが好ましく、0.1〜6μmがより好ましく、0.1〜4μmが特に好ましい。   In this case, the film thickness of the column spacer and the black matrix integrated column spacer is preferably 0.1 to 8 μm, more preferably 0.1 to 6 μm, and particularly preferably 0.1 to 4 μm.

このようなカラムスペーサまたはブラックマトリックス一体型カラムスペーサは、これら両方に要求される光学密度、弾性回復率、電気絶縁性、遮光性などの物性を確保することができるとともに、密着性、耐熱性及び耐溶剤性などに優れ、液晶表示装置の信頼度を向上させることができる。   Such column spacers or black matrix integrated column spacers can ensure the physical properties such as optical density, elastic recovery rate, electrical insulation, light-shielding properties, etc. required for both, as well as adhesion, heat resistance and It has excellent solvent resistance and can improve the reliability of the liquid crystal display device.

以下、本発明の理解を助けるために好ましい実施例を提示するが、下記実施例は、本発明を例示するものに過ぎず、本発明の範疇及び技術思想の範囲内で多様な変更及び修正が可能であることは、当業者にとって明白なことであり、このような変形及び修正が添付の特許請求の範囲に属することは、当然なことである。また、以下で、含有量を示す「%」及び「部」は、特に言及しない限り、質量基準である。   Hereinafter, preferred examples are presented to help understanding of the present invention. However, the following examples are merely illustrative of the present invention, and various changes and modifications may be made within the scope and technical idea of the present invention. What is possible will be apparent to those skilled in the art, and it is obvious that such variations and modifications fall within the scope of the appended claims. In the following, “%” and “part” indicating the content are based on mass unless otherwise specified.

製造例1:着色剤の製造
C.I.顔料青色16及びC.I.顔料青色60それぞれ20.0重量部、カーボンブラック(MA−8、三菱社製造)及び有機ブラック(バスフ社製造)を混合し、ビーズミルによって12時間混合・分散し、着色剤を製造した。
Production Example 1: Production of colorant C.I. I. Pigment Blue 16 and C.I. I. 20.0 parts by weight of pigment blue 60, carbon black (MA-8, manufactured by Mitsubishi) and organic black (manufactured by Basf) were mixed, and mixed and dispersed by a bead mill for 12 hours to manufacture a colorant.

製造例2:アルカリ可溶性樹脂の製造
撹拌器、温度計還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を具備したフラスコを準備した。モノマー滴下ロートとして、3、4−エポキシトリシクロデカン−8−イル(メタ)アクリレートと3、4−エポキシトリシクロデカン−9−イル(メタ)アクリレートをモル比50:50で混合した混合物40重量部、メチルメタクリレート50重量部、アクリル酸40重量部、ビニルトルエン70重量部、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)40重量部を添加し、撹拌を準備した。
Production Example 2: Production of alkali-soluble resin A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet was prepared. As a monomer dropping funnel, a mixture of 3,4-epoxytricyclodecan-8-yl (meth) acrylate and 3,4-epoxytricyclodecan-9-yl (meth) acrylate mixed at a molar ratio of 50:50 40 weight Parts, methyl methacrylate 50 parts by weight, acrylic acid 40 parts by weight, vinyl toluene 70 parts by weight, t-butyl peroxy-2-ethylhexanoate 4 parts by weight, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) 40 parts by weight Prepared for stirring.

これに連鎖移動剤滴下槽として、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を添加し、撹拌を準備した。   As a chain transfer agent dropping tank, 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added to prepare stirring.

その後、フラスコにPGMEA 395重量部を添加し、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に交換した後、撹拌しながらフラスコの温度を90℃まで昇温した。   Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was added to the flask, the atmosphere in the flask was changed from air to nitrogen, and then the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring.

その後、モノマー及び連鎖移動剤を滴下ロートから滴下を開始した。滴下は、90℃を維持しつつ、それぞれ2時間進行し、1時間後に110℃まで昇温し、5時間維持し、固形分の酸価が100mgKOH/gである樹脂を得た。   Thereafter, dropping of the monomer and the chain transfer agent from the dropping funnel was started. The dropwise addition proceeded for 2 hours while maintaining 90 ° C., and after 1 hour, the temperature was raised to 110 ° C. and maintained for 5 hours to obtain a resin having a solid acid value of 100 mgKOH / g.

アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)の測定は、GPC法を利用し、HLC−8120GPC(東ソー(株)製造)装置を使用した。   The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the alkali-soluble resin were measured using a GPC method and an HLC-8120 GPC (manufactured by Tosoh Corporation) apparatus.

その条件は、TSK−GELG4000HXLとTSK−GELG2000HXLカラムを直列連結して使用し、カラムの温度は、40℃にした。テトラヒドロフランを移動相溶媒として使用し、1.0mL/分の流速で流しつつ測定した。測定試料の濃度は、0.6重量%であり、注入量は50μlであり、RI検出器を使用して分析した。較正用標準物質としては、TSK STANDARD POLYSTYRENE F−40、F−4、F−1、A−2500、A−500(東ソー(株)製造)を使用し、前記条件で得られたアルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量と数平均分子量を測定した。   The conditions were TSK-GELG4000HXL and TSK-GELG2000HXL columns connected in series, and the column temperature was 40 ° C. Tetrahydrofuran was used as a mobile phase solvent, and measurement was performed while flowing at a flow rate of 1.0 mL / min. The concentration of the measurement sample was 0.6% by weight, the injection volume was 50 μl, and analysis was performed using an RI detector. TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (manufactured by Tosoh Corp.) was used as a calibration standard, and the alkali-soluble resin obtained under the above conditions was used. The weight average molecular weight and number average molecular weight were measured.

GPCによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、17,000であり、分子量分布(Mw/Mn)は、2.3であった。   The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 17,000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3.

実施例1〜4及び比較例1〜3
混合器に溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加した後、これに着色剤、アルカリ可溶性樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤及び反応基を有するランダム型シルセスキオキサンを添加し、撹拌を通じて均一に混合し、着色感光性樹脂組成物を製造した。この際、組成物は、下記表1の組成による。
Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3
After adding propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent to the mixer, add a colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator and a random silsesquioxane having a reactive group, and stir The mixture was uniformly mixed to produce a colored photosensitive resin composition. Under the present circumstances, a composition is based on a composition of following Table 1.

5×5cmのガラス基板(コニン社、#1737)を中性洗剤及び水で洗浄した後、乾燥した。このガラス基板上に前記得られた着色感光性樹脂組成物をスピンコーティング法で塗布した後、加熱板上に載置し、80〜120℃の温度で1〜2分間乾燥し、溶剤を除去した。   A 5 × 5 cm glass substrate (Conin, # 1737) was washed with a neutral detergent and water and then dried. After apply | coating the obtained colored photosensitive resin composition on this glass substrate by the spin-coating method, it mounted on a heating plate and dried for 1-2 minutes at the temperature of 80-120 degreeC, and removed the solvent. .

引き続いて、前記薄膜の上に紫外線を照射した。この際、紫外線の光源は、ウシオ電機(株)製の超高圧水銀ランプ(商品名USH−250D)を利用して大気雰囲気の下に40〜100mJ/cmの露光量(365nm)で光照射し、特別な光学フィルターは使用しなかった。 Subsequently, the thin film was irradiated with ultraviolet rays. At this time, the ultraviolet light source is irradiated with light of 40 to 100 mJ / cm 2 in an atmospheric atmosphere using an ultrahigh pressure mercury lamp (trade name USH-250D) manufactured by Ushio Electric Co., Ltd. However, no special optical filter was used.

前記紫外線が照射された薄膜をpH 12.5のKOH水溶液現像溶液にスプレイ現像機を利用して60秒間現像後、220〜250℃の加熱オーブンで10〜30分間加熱し、パターンを製造した。前記で製造された膜の厚さは3.0μmで形成した。   The thin film irradiated with ultraviolet rays was developed in a KOH aqueous solution developing solution having a pH of 12.5 using a spray developing machine for 60 seconds, and then heated in a heating oven at 220 to 250 ° C. for 10 to 30 minutes to produce a pattern. The film manufactured as described above was formed with a thickness of 3.0 μm.

実験例1:信頼性評価
前記実施例及び比較例で得られた膜の信頼性を評価した後、その結果を下記表2に示した。この際、信頼性は、NMP(n−methyl−2−pyrrolidone)溶剤に対する耐溶剤性で評価し、膜を3×3cmサイズに切って、NMP 5gに入れ、100℃オーブンで30分間放置後、NMP溶剤を回収し、UV−vis spectrometer(UV−2550、Shimadzu社)を利用してNMP溶剤に抽出された有機顔料の吸光度を使用して測定した。
Experimental Example 1: Reliability Evaluation After evaluating the reliability of the films obtained in the examples and comparative examples, the results are shown in Table 2 below. At this time, the reliability was evaluated by the solvent resistance against NMP (n-methyl-2-pyrrolidone) solvent, the film was cut into 3 × 3 cm size, placed in 5 g of NMP, and left in an oven at 100 ° C. for 30 minutes. The NMP solvent was collected and measured using the absorbance of the organic pigment extracted into the NMP solvent using a UV-vis spectrometer (UV-2550, Shimadzu).

この際、信頼性は、下記基準で評価した。
〈基準〉
◎:吸光度が0.7未満
○:吸光度が0.7以上1未満
△:吸光度が1以上3未満
×:吸光度が3以上
At this time, reliability was evaluated according to the following criteria.
<Standard>
◎: Absorbance is less than 0.7 ○: Absorbance is 0.7 or more and less than 1 Δ: Absorbance is 1 or more and less than 3 ×: Absorbance is 3 or more

実験例2:弾性回復率評価
前記実施例及び比較例で得られた膜の弾性回復率を評価した後、その結果を下記表2に示した。この際、弾性回復率は、Fisher硬度計(fisherscope HM−2000、fisher社)を利用して、20μmサイズで形成されたパターンに50mNまで力を加えて測定した。
Experimental Example 2: Elastic recovery rate evaluation After evaluating the elastic recovery rates of the films obtained in the examples and comparative examples, the results are shown in Table 2 below. At this time, the elastic recovery rate was measured by applying a force up to 50 mN to a pattern formed in a 20 μm size using a Fisher hardness meter (Fisherscope HM-2000, Fisher).

この際、弾性回復率は、その数値が高いほど弾性回復程度に優れていることを意味し、下記基準で評価した。
〈基準〉
◎:弾性回復率が85%以上
○:弾性回復率が80%以上85%未満
△:弾性回復率が70%以上80%未満
×:弾性回復率が70%未満
At this time, the elastic recovery rate means that the higher the numerical value, the better the degree of elastic recovery, and the evaluation was based on the following criteria.
<Standard>
◎: Elastic recovery rate is 85% or more ○: Elastic recovery rate is 80% or more and less than 85% Δ: Elastic recovery rate is 70% or more and less than 80% ×: Elastic recovery rate is less than 70%

前記表2によれば、本発明による反応基を有するランダム型シルセスキオキサンを含む組成物で製造された膜の場合、これを含まない比較例1〜3に比べて信頼性及び弾性回復率が増加することを示した。   According to Table 2, in the case of a film manufactured with a composition containing a random silsesquioxane having a reactive group according to the present invention, reliability and elastic recovery rate compared to Comparative Examples 1 to 3 not containing the film. Showed an increase.

信頼性の評価において、比較例1〜3の場合、吸光度が高く現われ、NMPによって膜の端部が浮き上がるかまたは分解されるなど耐久性においても問題が発生した。   In the evaluation of reliability, in Comparative Examples 1 to 3, the absorbance appeared high, and there was a problem in durability such that the end of the film was lifted or decomposed by NMP.

弾性回復率において、反応基を有するランダム型シルセスキオキサンではなく、かご型またははしご型シルセスキオキサンを使用した場合(比較例1及び2参照)と、従来の密着促進剤を使用した場合(比較例3参照)、数値が実施例1〜6に比べて低下することを確認することができた。   When using a cage-type or ladder-type silsesquioxane instead of a random silsesquioxane having a reactive group in the elastic recovery rate (see Comparative Examples 1 and 2), and when using a conventional adhesion promoter It was confirmed that the numerical values were lower than those of Examples 1 to 6 (see Comparative Example 3).

また、ランダム型シルセスキオキサンの場合にも、反応基の当量が重要で、これは、形成された膜の硬化構造を決定する主な役目をする。最も好適な当量(g/eq)は、200以上且つ600以下であり、より好ましくは、300以上且つ500以下であることが良い。反応基を有するランダム型シルセスキオキサンを使用する場合、実験例1及び2のように、いずれも、基本的に良好な結果が得られる。しかし、実施例5のように、当量が200未満では、硬化構造が非常に緻密であるため、信頼性は優れているが、弾性回復率が向上する程度が好適な範囲と比較して充分でないことが分かる。また、実施例6のように、当量が600超過の場合には、あまり緩い硬化構造が形成されるため、信頼性が好適な範囲と比較して充分でなく、弾性回復率の増加が好適な範囲と比較して減少する結果が得られる。   Also in the case of random silsesquioxane, the equivalent of reactive groups is important, and this plays a main role in determining the cured structure of the formed film. The most preferable equivalent (g / eq) is 200 or more and 600 or less, and more preferably 300 or more and 500 or less. When a random silsesquioxane having a reactive group is used, good results can be basically obtained as in Experimental Examples 1 and 2. However, as in Example 5, when the equivalent is less than 200, the cured structure is very dense, and thus the reliability is excellent, but the degree to which the elastic recovery rate is improved is not sufficient as compared with the preferred range. I understand that. Further, as in Example 6, when the equivalent is over 600, a too loose cured structure is formed. Therefore, the reliability is not sufficient as compared with a preferable range, and an increase in elastic recovery rate is preferable. Decreasing results are obtained compared to the range.

本発明による着色感光性樹脂組成物は、液晶表示装置のカラムスペーサまたはブラックマトリックス一体型カラムスペーサとして好ましく使用可能である。   The colored photosensitive resin composition according to the present invention can be preferably used as a column spacer of a liquid crystal display device or a black matrix integrated column spacer.

Claims (9)

着色剤、アルカリ可溶性樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤及び分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサンを含む着色感光性樹脂組成物。   A colored photosensitive resin composition comprising a colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a random silsesquioxane having at least one reactive group in the molecular structure. 前記分子構造内に少なくとも1個の反応基を有するランダム型シルセスキオキサンは、下記化学式1で表示されることを特徴とする請求項1に記載の着色感光性樹脂組成物。
(前記化学式1で、
R’及びR”は、互いに同じかまたは異なり、それぞれ独立であり、水素、ヒドロキシ基、C〜C10のアルキル基、C〜C10のアルコキシ基または−(R−Rであり、前記R’及びR”のうち少なくとも1つは、−(R−Rであり;
この際、Rは、水素、C〜C10のアルキレン基、−R−O−R−または−R−C(=O)O−R−であり、この際、R〜Rは、互いに同じかまたは異なり、それぞれ独立に、C〜C10のアルキレン基であり;
は、水素、チオール基、イソシアネート基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、ウレア基、ウレタン基、(メタ)アクリレート基、C〜C10のアルキル基、C〜C10のアルコキシ基、C〜C15のシクロアルキル基、C〜C15のヘテロシクロアルキル基、C〜C20のアリール基またはC〜C20のヘテロアリール基であり;
xは、1〜500の整数であり;
yは、1〜500の整数であり;
nは、0または1の整数である)
The colored photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the random silsesquioxane having at least one reactive group in the molecular structure is represented by the following chemical formula 1.
(In Formula 1 above,
R ′ and R ″ are the same or different from each other, and are independent of each other, and are hydrogen, a hydroxy group, a C 1 to C 10 alkyl group, a C 1 to C 10 alkoxy group, or — (R 1 ) n —R 2. And at least one of said R ′ and R ″ is — (R 1 ) n —R 2 ;
In this case, R 1 is hydrogen, a C 1 to C 10 alkylene group, —R 3 —O—R 4 — or —R 5 —C (═O) O—R 6 —, and in this case, R 3 -R 6 is the same or different from each other and each independently is a C 1 -C 10 alkylene group;
R 2 is hydrogen, thiol group, isocyanate group, carboxyl group, hydroxyl group, amino group, urea group, urethane group, (meth) acrylate group, C 1 to C 10 alkyl group, C 1 to C 10 alkoxy group , heteroaryl group C 3 -C 15 cycloalkyl group, C 3 -C 15 heterocycloalkyl group, C 6 -C 20 aryl group or C 5 -C 20;
x is an integer from 1 to 500;
y is an integer from 1 to 500;
n is an integer of 0 or 1)
前記Rは、C〜Cのアルキレン基であり、
前記Rは、チオール基、イソシアネート基、(メタ)アクリレート基、フェニル基またはエポキシ基であり、
前記R〜Rは、互いに同じかまたは異なり、それぞれ独立に、C〜Cのアルキレン基であることを特徴とする請求項2に記載の着色感光性樹脂組成物。
R 1 is a C 1 -C 5 alkylene group,
R 2 is a thiol group, an isocyanate group, a (meth) acrylate group, a phenyl group or an epoxy group,
3. The colored photosensitive resin composition according to claim 2, wherein R 3 to R 6 are the same or different from each other and are each independently a C 1 to C 5 alkylene group.
前記Rの当量が200〜600g/eqであることを特徴とする請求項2または3に記載の着色感光性樹脂組成物。 The colored photosensitive resin composition according to claim 2 or 3 equivalents of the R 2 is characterized in that it is a 200 to 600 g / eq. 前記着色感光性樹脂組成物は、全体組成物100重量%を満足するように
着色剤1〜60重量%、
アルカリ可溶性樹脂10〜80重量%、
光重合性化合物1〜30重量%、
光重合開始剤0.01〜10重量%及び
反応基を有するランダム型シルセスキオキサン0.1〜15重量%を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物。
The colored photosensitive resin composition is 1 to 60% by weight of a colorant so as to satisfy 100% by weight of the total composition,
10-80% by weight of alkali-soluble resin,
1 to 30% by weight of a photopolymerizable compound,
The colored photosensitivity according to any one of claims 1 to 4, comprising 0.01 to 10% by weight of a photopolymerization initiator and 0.1 to 15% by weight of a random silsesquioxane having a reactive group. Resin composition.
請求項1〜5のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物で製造されることを特徴とするカラムスペーサ。   A column spacer manufactured with the colored photosensitive resin composition according to claim 1. 請求項6に記載のカラムスペーサを具備した液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising the column spacer according to claim 6. 請求項1〜5のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物で製造されることを特徴とするブラックマトリックス一体型カラムスペーサ。   A black matrix-integrated column spacer manufactured by the colored photosensitive resin composition according to claim 1. 請求項8に記載のブラックマトリックス一体型カラムスペーサを具備した液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising the black matrix integrated column spacer according to claim 8.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018066992A (en) * 2016-10-21 2018-04-26 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. Coloring photosensitive resin composition, and color filter and image display device produced by using the same
JP2018070695A (en) * 2016-10-25 2018-05-10 東京応化工業株式会社 Colorant dispersion liquid, photosensitive resin composition, cured product, organic el element, patterning method, and method for producing photosensitive resin composition
WO2018105679A1 (en) * 2016-12-08 2018-06-14 シャープ株式会社 Black matrix composition, black matrix, and black matrix production method
JP2018129292A (en) * 2017-02-09 2018-08-16 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. Black photosensitive resin composition, organic light-emitting element derived therefrom, quantum dot light-emitting element, and display device
CN112947001A (en) * 2021-03-26 2021-06-11 浙江福斯特新材料研究院有限公司 Photosensitive resin composition, dry film resist and manufacturing method of PCB
US20220276556A1 (en) * 2021-02-26 2022-09-01 Echem Solutions Corp. Photoresist composition, optical film thereof, and preparing method of the optical film
WO2022196261A1 (en) * 2021-03-17 2022-09-22 東レ株式会社 Organic el display device
CN112947001B (en) * 2021-03-26 2024-05-28 杭州福斯特电子材料有限公司 Photosensitive resin composition, dry film resist and manufacturing method of PCB

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018061988A1 (en) * 2016-09-29 2018-04-05 株式会社カネカ Photosensitive composition, colored pattern and method for producing same
US20200201180A1 (en) * 2018-12-21 2020-06-25 Rohm And Haas Electronic Materials Korea Ltd. Colored photosensitive resin composition and black matrix prepared therefrom
CN113087913A (en) * 2021-03-15 2021-07-09 北京化工大学常州先进材料研究院 Double-bond modified cage-type silsesquioxane and photoresist composition thereof

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007071994A (en) 2005-09-05 2007-03-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Black photosensitive resin composition
JP4568237B2 (en) * 2006-02-22 2010-10-27 三洋化成工業株式会社 Photosensitive resin composition
US8293354B2 (en) * 2008-04-09 2012-10-23 The Regents Of The University Of Michigan UV curable silsesquioxane resins for nanoprint lithography
JP5515714B2 (en) 2009-12-16 2014-06-11 Jsr株式会社 Coloring composition, color filter and color liquid crystal display element
KR20120033893A (en) 2010-09-30 2012-04-09 코오롱인더스트리 주식회사 Photopolymerizable resin composition
TWI471381B (en) * 2011-11-25 2015-02-01 Lg Chemical Ltd Curable composition
JP2015096559A (en) * 2012-03-02 2015-05-21 電気化学工業株式会社 Resin composition
JP5924089B2 (en) * 2012-04-11 2016-05-25 Jsr株式会社 Radiation-sensitive coloring composition, color filter, and display element
US9341946B2 (en) * 2012-05-25 2016-05-17 Lg Chem, Ltd. Photosensitive resin composition, pattern formed using same and display panel comprising same
TWI470359B (en) * 2012-09-27 2015-01-21 Chi Mei Corp Photosensitive resin composition, protecting film, and a device containing the protecting film
JP6127497B2 (en) * 2012-12-19 2017-05-17 Jsr株式会社 Coloring composition, color filter, display element, and polysiloxane
EP2986658A4 (en) * 2013-04-19 2017-03-08 Basf Se Colored charged silsesquioxanes
CN105278245B (en) * 2014-07-03 2020-11-06 东友精细化工有限公司 Colored curable resin composition

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018066992A (en) * 2016-10-21 2018-04-26 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. Coloring photosensitive resin composition, and color filter and image display device produced by using the same
JP7015138B2 (en) 2016-10-21 2022-02-02 東友ファインケム株式会社 Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device manufactured by using the colored photosensitive resin composition.
JP2018070695A (en) * 2016-10-25 2018-05-10 東京応化工業株式会社 Colorant dispersion liquid, photosensitive resin composition, cured product, organic el element, patterning method, and method for producing photosensitive resin composition
WO2018105679A1 (en) * 2016-12-08 2018-06-14 シャープ株式会社 Black matrix composition, black matrix, and black matrix production method
JPWO2018105679A1 (en) * 2016-12-08 2019-10-31 シャープ株式会社 Black matrix composition, black matrix, and method for producing black matrix
US11028270B2 (en) 2016-12-08 2021-06-08 Merck Patent Gmbh Black matrix composition, black matrix, and black matrix production method
JP2018129292A (en) * 2017-02-09 2018-08-16 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. Black photosensitive resin composition, organic light-emitting element derived therefrom, quantum dot light-emitting element, and display device
US20220276556A1 (en) * 2021-02-26 2022-09-01 Echem Solutions Corp. Photoresist composition, optical film thereof, and preparing method of the optical film
WO2022196261A1 (en) * 2021-03-17 2022-09-22 東レ株式会社 Organic el display device
CN112947001A (en) * 2021-03-26 2021-06-11 浙江福斯特新材料研究院有限公司 Photosensitive resin composition, dry film resist and manufacturing method of PCB
CN112947001B (en) * 2021-03-26 2024-05-28 杭州福斯特电子材料有限公司 Photosensitive resin composition, dry film resist and manufacturing method of PCB

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