KR102319892B1 - Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 착색 감광성 수지, 이를 포함하는 컬러필터 및 화상표시장치에 관한 것으로, 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1); 및 화학식 2로 표시되는 화합물(a1) 유래의 반복단위, (a1) 및 (a3)와 공중합 가능한 불포화 결합을 포함하는 화합물(a2) 유래의 반복단위, 불포화 카르복실산(a3) 유래의 반복단위를 포함하는 알칼리 가용성 수지(A-2)를 2:8 내지 8:2의 중량비로 포함하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 화상표시장치에 관한 것이다. The present invention relates to a colored photosensitive resin, a color filter comprising the same, and an image display device, comprising: an alkali-soluble resin represented by Chemical Formula 1 (A-1); and a repeating unit derived from compound (a1) represented by Formula 2, a repeating unit derived from compound (a2) containing an unsaturated bond copolymerizable with (a1) and (a3), and a repeating unit derived from an unsaturated carboxylic acid (a3) It relates to a colored photosensitive resin composition comprising an alkali-soluble resin (A-2) comprising a weight ratio of 2:8 to 8:2, a color filter comprising the same, and an image display device.

Description

착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 화상표시장치{COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER AND IMAGE DISPLAY DEVICE USING THE SAME}Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device comprising the same

본 발명은 내화학성을 개선하고, 컨택트 홀 내의 잔사로 인한 표시불량을 개선할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 화상표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive resin composition capable of improving chemical resistance and improving display defects caused by residues in contact holes, a color filter comprising the same, and an image display device.

컬러필터는 촬상소자, 액정표시장치(LCD) 등의 각종 표시장치에 널리 이용되는 것으로, 그 응용 범위가 급속히 확대되고 있다. 상기 컬러필터는 레드(Red), 그린(Green) 및 블루(Blue)의 3가지 컬러의 착색 패턴으로 이루어지거나, 옐로우(Yellow), 마젠타(Magenta) 및 시안(Cyan)의 3가지 컬러의 착색 패턴으로 이루어진다. A color filter is widely used in various display devices such as an imaging device and a liquid crystal display (LCD), and its application range is rapidly expanding. The color filter consists of a coloring pattern of three colors of red, green, and blue, or a coloring pattern of three colors of yellow, magenta, and cyan. is made of

상기 컬러필터 각각의 착색 패턴은 일반적으로 안료 또는 염료 등의 착색제, 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된다. 상기 착색 감광성 수지 조성물을 이용한 착색 패턴 가공은 통상적으로 리소그래피 공정으로 수행되고 있다.The color pattern of each color filter is generally formed using a color photosensitive resin composition including a colorant such as a pigment or dye, a binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent. The coloring pattern processing using the colored photosensitive resin composition is generally performed by a lithography process.

한편, 박막 트랜지스터(TFT) 기판을 사용하는 컬러 액정표시장치에 있어서, 종래에는 컬러 화상을 표시하기 위한 컬러필터 기판을 박막 트랜지스터(TFT)가 배치된 구동용 기판과 별도로 제작하고, 이 컬러필터 기판을 상기 구동용 기판과 접합하여 제조하였다. 그러나, 이러한 방식에서는 접합할 때의 위치 정밀도가 낮기 때문에 블랙 매트릭스의 폭을 크게 하지 않으면 안되고, 개구율(즉, 광을 투과하는 개구부의 비율)을 높이는 것이 곤란하다는 결점이 있었다. On the other hand, in a color liquid crystal display device using a thin film transistor (TFT) substrate, conventionally, a color filter substrate for displaying a color image is prepared separately from a driving substrate on which a thin film transistor (TFT) is disposed, and this color filter substrate was manufactured by bonding with the driving substrate. However, in this method, since the positional accuracy at the time of joining is low, the width|variety of a black matrix must be enlarged, and there existed a fault that it was difficult to raise the aperture ratio (that is, the ratio of the aperture part which transmits light).

상기 문제를 해결하기 위해 대한민국 공개특허 제2010-0022402호는 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터, 이를 구비한 액정표시장치에 관한 것으로서, 결합제 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 착색 재료 및 용제로 이루어지고, TFT기판 상의 R, G, B 픽셀에 각각 대응되어 코팅되는 착색 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 결합제 수지는 GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량(Mw)이 5,000 내지 20,000이고, 상기 착색 감광성 수지 조성물로 형성되는 착색층은 R, G, B 픽셀별로 형성되는 오버랩(Overlap) 단차(Ra)가 각각 0.6㎛보다 작게 형성된 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물이 기재되어 있으나, 식각공정 또는 약품 처리시 도막의 불안정성으로 인하여 화소불량을 개선하기에는 다소 부족한 실정이다.In order to solve the above problems, Korean Patent Application Laid-Open No. 2010-0022402 relates to a colored photosensitive resin composition, a color filter, and a liquid crystal display having the same, and consists of a binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, a coloring material, and a solvent. , in the colored photosensitive resin composition coated to correspond to each of the R, G, and B pixels on the TFT substrate, wherein the binder resin has a polystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw) of 5,000 to 20,000 measured by GPC, and the colored photosensitivity The colored layer formed of the resin composition has a colored photosensitive resin composition characterized in that the overlap step (Ra) formed for each R, G, and B pixel is formed to be smaller than 0.6 μm, respectively, but an etching process or chemical treatment Due to the instability of the coating film, it is somewhat insufficient to improve pixel defects.

대한민국 공개특허 제2010-0022402호(2010.03.02, 동우화인켐 주식회사)Republic of Korea Patent Publication No. 2010-0022402 (2010.03.02, Dongwoo Fine Chem Co., Ltd.)

본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위한 것으로서, 개구율을 높일 수 있는 COA(Color Filter on Array) 방식의 컬러필터 제조시 발생하는 문제점인 식각 공정 및 약품처리시 발생하는 내화학성의 부족 및 컨택트홀 내의 잔사로 인한 표시불량을 개선할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 데 그 목적이 있다. The present invention is intended to solve the above problems, and the lack of chemical resistance and contact holes occurring during the etching process and chemical treatment, which are problems that occur during the manufacture of color filters of the COA (Color Filter on Array) method that can increase the aperture ratio. An object of the present invention is to provide a colored photosensitive resin composition capable of improving display defects caused by residues in the interior.

또한, 본 발명은 상기 착색 감광성 수지 조성물을 포함하는 컬러필터 및 화상표시장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide a color filter and an image display device including the colored photosensitive resin composition.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물은 하기 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1); 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물(a1) 유래의 반복단위, (a1) 및 (a3)와 공중합 가능한 불포화 결합을 포함하는 화합물(a2) 유래의 반복단위, 불포화 카르복실산(a3) 유래의 반복단위를 포함하는 알칼리 가용성 수지(A-2)를 포함하는 것을 특징으로 한다:The colored photosensitive resin composition according to the present invention for achieving the above object is an alkali-soluble resin (A-1) represented by the following formula (1); and a repeating unit derived from compound (a1) represented by the following formula (2), a repeating unit derived from compound (a2) containing an unsaturated bond copolymerizable with (a1) and (a3), and a repeating unit derived from an unsaturated carboxylic acid (a3) It is characterized in that it comprises an alkali-soluble resin (A-2) comprising a unit:

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112016030487137-pat00001
Figure 112016030487137-pat00001

(상기 화학식 1에서, (In Formula 1,

R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 H 또는 C1~C5의 알킬기이고,R1, R2 and R3 are each independently H or a C1-C5 alkyl group,

n은 1 내지 4의 정수이며,n is an integer from 1 to 4,

x, y, z는 각 반복단위의 공중합체 내 몰%로서,x, y, z are mole % in the copolymer of each repeating unit,

x + y + z = 70 내지 100 몰%이다)x + y + z = 70 to 100 mol%)

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112016030487137-pat00002
Figure 112016030487137-pat00002

(상기 화학식 2에서, (In Formula 2,

R4은 수소 또는 메틸기이고,R4 is hydrogen or a methyl group,

R5는 치환 또는 비치환된 2가 탄소수 1 내지 6의 알킬렌기 또는 알케닐렌기이며,R5 is a substituted or unsubstituted divalent alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or an alkenylene group,

A는 치환 또는 비치환된 페닐기, 시클로헥실기, 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 알케닐기이고,A is a substituted or unsubstituted phenyl group, a cyclohexyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkenyl group,

이 때, R5 및 A의 치환체는 각각 독립적으로 불소, 염소, 브롬, 요오드, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 3의 퍼할로겐화 알킬기, 히드록시기, 탄소수 1 내지 6의 케톤기, 탄소수 1 내지 6의 에스테르기, N,N-(C1-C3) 알킬 치환된 아미드기로 이루어진 군으로부터 선택된다).In this case, the substituents of R5 and A are each independently fluorine, chlorine, bromine, iodine, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a perhalogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydroxyl group, a ketone group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 6 carbon atoms. ester groups of, N,N-(C1-C3) alkyl-substituted amide groups).

본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물은 식각공정 및 약품처리시 내화학성을 향상시키고, 컨택트 홀 내의 잔사로 인한 표시불량을 개선할 수 있는 효과가 있다. The colored photosensitive resin composition according to the present invention has an effect of improving chemical resistance during an etching process and chemical treatment, and improving display defects caused by residues in contact holes.

또한, 본 발명에 따른 컬러필터 및 화상표시장치 역시 상기와 같은 효과가 있다. In addition, the color filter and the image display device according to the present invention also have the same effects as described above.

본 발명에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In the present invention, when a part "includes" a certain component, this means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise stated.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 양태를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

<착색 감광성 수지 조성물><Colored photosensitive resin composition>

알칼리 가용성 수지(A)Alkali-soluble resin (A)

본 발명의 한 양태에 따른 착색 감광성 수지 조성물은 하기 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1); 및 하기 하기 화학식 2로 표시되는 화합물(a1) 유래의 반복단위, (a1) 및 (a3)와 공중합 가능한 불포화 결합을 포함하는 화합물(a2) 유래의 반복단위, 불포화 카르복실산(a3) 유래의 반복단위를 포함하는 알칼리 가용성 수지(A-2)를 포함한다:The colored photosensitive resin composition according to an aspect of the present invention includes an alkali-soluble resin (A-1) represented by the following formula (1); and a repeating unit derived from compound (a1) represented by the following formula (2), a repeating unit derived from compound (a2) containing an unsaturated bond copolymerizable with (a1) and (a3), and an unsaturated carboxylic acid (a3) derived from and alkali-soluble resin (A-2) containing repeating units:

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112016030487137-pat00003
Figure 112016030487137-pat00003

(상기 화학식 1에서,(In Formula 1,

R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 H 또는 C1~C5의 알킬기이고,R1, R2 and R3 are each independently H or a C1-C5 alkyl group,

n은 1 내지 4의 정수이며,n is an integer from 1 to 4,

x, y, z는 각 반복단위의 공중합체 내 몰%로서,x, y, z are mole % in the copolymer of each repeating unit,

x + y + z = 70 내지 100 몰%이다)x + y + z = 70 to 100 mol%)

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112016030487137-pat00004
Figure 112016030487137-pat00004

(상기 화학식 2에서, (In Formula 2,

R4은 수소 또는 메틸기이고,R4 is hydrogen or a methyl group,

R5는 치환 또는 비치환된 2가 탄소수 1 내지 6의 알킬렌기 또는 알케닐렌기이며,R5 is a substituted or unsubstituted divalent alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or an alkenylene group,

A는 치환 또는 비치환된 페닐기, 시클로헥실기, 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 알케닐기이고,A is a substituted or unsubstituted phenyl group, a cyclohexyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkenyl group,

이 때, R5 및 A의 치환체는 각각 독립적으로 불소, 염소, 브롬, 요오드, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 3의 퍼할로겐화 알킬기, 히드록시기, 탄소수 1 내지 6의 케톤기, 탄소수 1 내지 6의 에스테르기, N,N-(C1-C3) 알킬 치환된 아미드기로 이루어진 군으로부터 선택된다).In this case, the substituents of R5 and A are each independently fluorine, chlorine, bromine, iodine, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a perhalogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydroxyl group, a ketone group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 6 carbon atoms. ester groups of, N,N-(C1-C3) alkyl-substituted amide groups).

상기 화학식 1의 공중합체는 말단 이중 결합 함유 반복 단위 (x), 에폭시 고리 함유 반복 단위 (y) 및 알킬기 함유 반복 단위 (z)로 구성된다. 구체적으로, 상기 말단 이중 결합 함유 반복 단위는 하이드록실메타아크릴레이트 그룹을 포함하는 아크릴계 단량체로부터, 상기 에폭시 고리 함유 반복 단위는 에폭시기를 포함하는 아크릴계 단량체로부터, 상기 알킬기 함유 반복 단위는 에틸 헥실아크릴레이트를 포함하는 아크릴계 단량체로부터 유래할 수 있다.The copolymer of Formula 1 is composed of a terminal double bond-containing repeating unit (x), an epoxy ring-containing repeating unit (y), and an alkyl group-containing repeating unit (z). Specifically, the terminal double bond-containing repeating unit is from an acrylic monomer containing a hydroxyl methacrylate group, the epoxy ring-containing repeating unit is from an acrylic monomer containing an epoxy group, and the alkyl group-containing repeating unit is ethyl hexyl acrylate. It may be derived from an acrylic monomer containing.

상기 말단 이중 결합 함유 반복 단위(x)는 바인더 수지로서 기능하기 위한 부분으로서, 상기 x는 상기 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1)를 구성하는 반복 단위들의 총 함량에 대하여 15 내지 50 몰%인 것이 바람직하다. 상기 x가 상기 범위를 만족하는 경우 현상 특성이 악화되는 것을 방지하며, 수소 결합에 의해 점도가 상승하는 현상을 방지하여 다루기가 용이한 이점이 있다.The terminal double bond-containing repeating unit (x) is a portion for functioning as a binder resin, wherein x is 15 to 50 based on the total content of repeating units constituting the alkali-soluble resin (A-1) represented by Formula 1 It is preferable that it is mol%. When x satisfies the above range, there is an advantage in that the development characteristics are prevented from being deteriorated, and a phenomenon in which the viscosity is increased due to hydrogen bonding is prevented, so that it is easy to handle.

상기 에폭시 고리 함유 반복 단위(y)는 상기 착색 감광성 수지 조성물의 현상 속도를 낮추는 역할을 수행할 수 있다. The epoxy ring-containing repeating unit (y) may serve to lower the development rate of the colored photosensitive resin composition.

상기 알킬기 함유 반복 단위(z) 중 에틸헥실아크릴레이트는 전체 공중합체의 유리전이온도(Tg)를 낮추어 흐름성을 높임으로써 상기 착색 감광성 수지 조성물의 흐름성 개선 효과를 높이는 역할을 할 수 있다.Ethylhexyl acrylate among the alkyl group-containing repeating unit (z) may serve to increase the flowability improvement effect of the colored photosensitive resin composition by lowering the glass transition temperature (Tg) of the entire copolymer to increase flowability.

상기 y로 표시되는 반복단위 및 z로 표시되는 반복단위의 합은 전체 공중합체 내 50 몰% 이상, 구체적으로 50≤y+z≤85 몰%로 사용함으로써 미세패턴의 유실이 적어 패턴 형성 시 안정성을 높이는 효과를 확보할 수 있다.The sum of the repeating unit represented by y and the repeating unit represented by z is 50 mol% or more in the entire copolymer, specifically, 50≤y+z≤85 mol%, so the loss of the fine pattern is small, so stability during pattern formation The effect of increasing the .

구체적으로, 상기 착색 감광성 수지는, 착색제(D)로서 염료를 사용하는 경우에도, 현상공정 중 미세 패턴의 유실을 막아 패턴 형성 시 안정성 개선 효과를 달성하기 위해서는 상기 화학식 1 구조의 광경화성 반응성기의 함량이 50 몰% 이상인 것이 바람직하다.Specifically, the colored photosensitive resin, even when using a dye as the colorant (D), to prevent the loss of the fine pattern during the developing process to achieve the stability improvement effect during pattern formation, the photocurable reactive group of the formula 1 It is preferable that the content is 50 mol% or more.

상기 y+z의 몰비가 50 몰% 이상일 경우 유리전이 온도를 0℃ 이하로 제조하기 용이하며, 바인더의 열처리 공정 중 바인더의 흐름성 저하 및 현상공정 중의 미세패턴의 유실이 생기는 현상을 방지하여, 패턴 형성시 안정성이 떨어져 패턴의 유실이 발생하기 쉬운 현상을 막을 수 있는 이점이 있다. 상기 화학식 1 구조의 광경화성 반응성기의 함량이 높을수록 상기 착색 감광성 조성물의 열처리 공정 중 바인더의 흐름성 저하 및 현상 공정 중의 미세패턴의 유실이 적어 언더컷의 개선효과는 크나 85몰% 초과로 제조시 수지 자체의 현상성이 현저히 떨어져 바람직하지 않다.When the molar ratio of y + z is 50 mol% or more, it is easy to manufacture the glass transition temperature at 0 ° C. or less, and the flowability of the binder during the heat treatment process of the binder and loss of the fine pattern during the developing process are prevented. There is an advantage in that it is possible to prevent a phenomenon in which the pattern loss tends to occur due to poor stability during pattern formation. The higher the content of the photocurable reactive group of the formula (1), the less the flowability of the binder during the heat treatment process of the colored photosensitive composition and the loss of the fine pattern during the developing process is small, so the improvement effect of the undercut is great, but when it is prepared in excess of 85 mol% The developability of the resin itself is remarkably deteriorated, which is undesirable.

본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서 상기 언급된 반복단위 x, y 및 z의 단량체 이외의 공중합 가능한 불포화 결합을 갖는 다른 단량체를 추가로 첨가하여 공중합하여 사용할 수도 있다. 상기 반응성 단량체는 상기 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1) 내에 30몰% 이내로 포함될 수 있다.In the range that does not impair the effects of the present invention, other monomers having a copolymerizable unsaturated bond other than those of the above-mentioned repeating units x, y and z may be further added and used by copolymerization. The reactive monomer may be contained within 30 mol% of the alkali-soluble resin (A-1) represented by Formula 1 above.

상기 공중합 가능한 불포화 결합을 갖는 추가 단량체들은 하기에 예시되어지나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 상기 공중합 가능한 불포화 결합을 갖는 추가 단량체의 구체적인 예로는, 스티렌, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 방향족 비닐 화합물; N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-페닐말레이미드, N-o-히드록시페닐말레이미드, N-m-히드록시페닐말레이미드, N-p-히드록시페닐말레이미드, N-o-메틸페닐말레이미드, N-m-메틸페닐말레이미드, N-p-메틸페닐말레이미드, N-o-메톡시페닐말레이미드, N-m-메톡시페닐말레이미드, N-p-메톡시페닐말레이미드 등의 N-치환 말레이미드계 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, i-프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, i-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트 등의 알킬(메타)아크릴레이트류; 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.0 2,6 ]데칸-8-일(메타)아크릴레이트, 2-디시클로펜타닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트 등의 지환족(메타)아크릴레이트류; 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필 (메타)아크릴레이트, N-히드록시에틸아크릴아마이드 등의 히드록시에틸(메타)아크릴레이트류; 페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 등의 아릴(메타)아크릴레이트류; 3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-트리플루오로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-페닐옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)-4-트리플루오로메틸옥세탄 등의 불포화 옥세탄 화합물 등이 있다. 상기 예시한 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Additional monomers having the copolymerizable unsaturated bond are exemplified below, but are not necessarily limited thereto. For example, specific examples of the additional monomer having a copolymerizable unsaturated bond include styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o -Aromatic vinyls such as vinylbenzylmethyl ether, m-vinylbenzylmethylether, p-vinylbenzylmethylether, o-vinylbenzylglycidylether, m-vinylbenzylglycidylether, and p-vinylbenzylglycidylether compound; N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-phenylmaleimide, No-hydroxyphenylmaleimide, Nm-hydroxyphenylmaleimide, Np-hydroxyphenylmaleimide, No-methylphenylmaleimide, Nm -N-substituted maleimide compounds, such as methylphenylmaleimide, Np-methylphenylmaleimide, No-methoxyphenylmaleimide, Nm-methoxyphenylmaleimide, and Np-methoxyphenylmaleimide; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, alkyl (meth)acrylates such as sec-butyl (meth)acrylate and t-butyl (meth)acrylate; Cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl (meth) acrylate, 2- alicyclic (meth)acrylates such as dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate and isobornyl (meth)acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, N -Hydroxyethyl (meth)acrylates, such as hydroxyethyl acrylamide; aryl (meth)acrylates such as phenyl (meth)acrylate and benzyl (meth)acrylate; 3-(methacryloyloxymethyl)oxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-3-ethyloxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-2-trifluoromethyloxetane; 3-(methacryloyloxymethyl)-2-phenyloxetane, 2-(methacryloyloxymethyl)oxetane, 2-(methacryloyloxymethyl)-4-trifluoromethyloxetane, etc. unsaturated oxetane compounds. The monomers exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

상기 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1)의 중량평균분자량은 5,000 내지 50,000, 구체적으로 10,000 내지 30,000, 더욱 구체적으로 10,000 내지 20,000일 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 이때, 상기 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1)의 중량평균분자량은 현상성과 산가에 영향을 주는 것으로서, 상기 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1)의 중량평균분자량이 상기 범위를 만족하는 경우 현상성 및 패턴 형성시 안정성을 부여할 수 있는 효과가 있다.The weight average molecular weight of the alkali-soluble resin (A-1) represented by Formula 1 may be 5,000 to 50,000, specifically 10,000 to 30,000, and more specifically 10,000 to 20,000, but is not limited thereto. In this case, the weight average molecular weight of the alkali-soluble resin (A-1) represented by the formula (1) affects developability and acid value, and the weight average molecular weight of the alkali-soluble resin (A-1) represented by the formula (1) is the above When the range is satisfied, there is an effect of imparting developability and stability during pattern formation.

상기 알칼리 가용성 수지(A-2)는 하기 (a1), (a2) 및 (a3)의 화합물의 중합(이는 공중합도 포함하는 개념이다)으로 얻어질 수 있는 구성 단위를 포함하는 공중합체인 것을 특징으로 한다. The alkali-soluble resin (A-2) is a copolymer comprising structural units obtainable by polymerization of the compounds of (a1), (a2) and (a3) below (this is a concept that also includes copolymerization). do.

(a1): 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 (a1): a compound represented by the following formula (2)

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112016030487137-pat00005
Figure 112016030487137-pat00005

(상기 화학식 2에서, (In Formula 2,

R4은 수소 또는 메틸기이고,R4 is hydrogen or a methyl group,

R5는 치환 또는 비치환된 2가 탄소수 1 내지 6의 알킬렌기 또는 알케닐렌기이며,R5 is a substituted or unsubstituted divalent alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or an alkenylene group,

A는 치환 또는 비치환된 페닐기, 시클로헥실기, 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 알케닐기이고,A is a substituted or unsubstituted phenyl group, a cyclohexyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkenyl group,

이 때, R5 및 A의 치환체는 각각 독립적으로 불소, 염소, 브롬, 요오드, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 3의 퍼할로겐화 알킬기, 히드록시기, 탄소수 1 내지 6의 케톤기, 탄소수 1 내지 6의 에스테르기, N,N-(C1-C3) 알킬 치환된 아미드기로 이루어진 군으로부터 선택된다.)In this case, the substituents of R5 and A are each independently fluorine, chlorine, bromine, iodine, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a perhalogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydroxyl group, a ketone group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 6 carbon atoms. ester group of, N,N-(C1-C3) alkyl substituted amide group.)

(a2): (a1) 및 (a3)과 공중합이 가능한 불포화 결합을 포함하는 화합물 (a2): a compound containing an unsaturated bond copolymerizable with (a1) and (a3)

(a3): 불포화 카르복실산(a3): unsaturated carboxylic acid

상기 알칼리 가용성 수지(A-2)는 상기의 단량체 이외에도 다른 단량체들을 추가하여 함께 중합 가능하다. 즉, 상기의 (a1) 내지 (a3) 이외의 단량체가 더 포함되어 공중합되는 경우에도 본 발명에 포함된다.The alkali-soluble resin (A-2) may be polymerized together by adding other monomers in addition to the above monomers. That is, even when a monomer other than the above (a1) to (a3) is further included and copolymerized, it is included in the present invention.

본 발명의 몇몇 실시 양태에 있어서, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물(a1)의 구체적인 예는 하기와 같다.In some embodiments of the present invention, specific examples of the compound (a1) represented by Formula 2 are as follows.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112016030487137-pat00006
Figure 112016030487137-pat00006

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112016030487137-pat00007
Figure 112016030487137-pat00007

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112016030487137-pat00008
Figure 112016030487137-pat00008

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112016030487137-pat00009
Figure 112016030487137-pat00009

상기 (a1) 화합물의 보다 구체적인 예로서는, 2-(페닐티오)에틸(메타)아크릴레이트, 헥실티오에틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As a more specific example of the said (a1) compound, 2-(phenylthio)ethyl (meth)acrylate, hexylthioethyl (meth)acrylate, etc. are mentioned. These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

본 발명에 있어서 (a1) 및 (a3)과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물(a2)로서는, 방향족 비닐화합물, N-치환 말레이미드계 화합물, 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 알킬에스테르, 지환식 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물, 카르복실산비닐에스테르계, 옥세탄기를 포함하는 불포화 옥세타닐계 등을 들 수 있다. 상기 화합물 중, 방향족 비닐화합물, N-치환 말레이미드계 화합물이 감도 및 밀착성 향상의 면에서 보다 바람직하다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In the present invention, as the compound (a2) having an unsaturated bond copolymerizable with (a1) and (a3), an aromatic vinyl compound, an N-substituted maleimide compound, an unsubstituted or substituted alkyl ester of an unsaturated carboxylic acid, or an alicyclic The unsaturated carboxylic acid ester compound containing a formula substituent, the carboxylate vinyl ester type, the unsaturated oxetanyl type containing an oxetane group, etc. are mentioned. Among the above compounds, aromatic vinyl compounds and N-substituted maleimide compounds are more preferable in terms of sensitivity and adhesion improvement. These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

상기 (a2) 화합물 중 방향족 비닐화합물로서는, 비닐톨루엔, 스티렌, α-메틸스티렌, α-클로로스티렌, 디비닐벤젠 등을 들 수 있고, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the aromatic vinyl compound in the compound (a2) include vinyltoluene, styrene, α-methylstyrene, α-chlorostyrene, and divinylbenzene, and these may be used alone or in combination of two or more.

또한, 상기 N-치환 말레이미드계 화합물로서는, 하기의 화학식 7로 표현되는 화합물을 예시할 수 있다:In addition, as the N-substituted maleimide-based compound, a compound represented by the following formula (7) can be exemplified:

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112016030487137-pat00010
Figure 112016030487137-pat00010

(상기 화학식 7에서, (In Formula 7,

R6는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 탄소수 1 내지 20의 지방족 또는 방향족 탄화수소이다).R6 is an aliphatic or aromatic hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms with or without a hetero atom).

상기 R6의 구체적 예로는 페닐기, 벤질기, 나프틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등을 들 수 있으며, 특히 벤질기 및 시클로헥실기가 바람직하다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of R6 include a phenyl group, a benzyl group, a naphthyl group, a cyclohexyl group, a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, and a benzyl group and a cyclohexyl group are particularly preferable. These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

또한, 상기 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 알킬에스테르 화합물계로서는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 아미노에틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In addition, as an unsubstituted or substituted alkylester compound system of the said unsaturated carboxylic acid, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, and aminoethyl (meth)acrylate. These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

또한, 상기 지환식 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물계로서는, 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헵틸(메타)아크릴레이트, 시클로옥틸(메타)아크릴레이트, 멘틸(메타)아크릴레이트, 시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 시클로헥세닐(메타)아크릴레이트, 시클로헵테닐(메타)아크릴레이트, 시클로옥테닐(메타)아크릴레이트, 멘타디에닐(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 피나닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보르닐(메타)아크릴레이트, 피네닐(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용 할 수 있다.Further, examples of the unsaturated carboxylic acid ester compound system containing an alicyclic substituent include cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, and cycloheptyl (meth) acrylate. , cyclooctyl (meth) acrylate, menthyl (meth) acrylate, cyclopentenyl (meth) acrylate, cyclohexenyl (meth) acrylate, cycloheptenyl (meth) acrylate, cyclooctenyl (meth) acrylic Late, menthadienyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, pinanyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, pinenyl (meth) ) acrylates and the like. These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

또한, 상기 카르복실산비닐에스테르계 화합물로서는, 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Moreover, vinyl acetate, vinyl propionate, etc. are mentioned as said carboxylate vinyl ester type compound. These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

또한, 상기 옥세탄기를 포함하는 불포화 옥세타닐계 화합물로서는, 3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-트리플로로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-펜타플로로에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-페닐옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2,2-디플로로옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2,2,4-트리플로로옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2,2,4,4-테트라플로로옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-3-에틸옥세탄, 2-에틸-3-(메타크릴로일옥시에틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2-트리플로로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2-펜타플로로에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2-페닐옥세탄, 2, 2-디플로로-3-(메타크릴로일옥시에틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2,2,4-트리플로로옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2,2,4,4-테트라플로로옥세탄 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Further, examples of the unsaturated oxetanyl-based compound containing an oxetane group include 3-(methacryloyloxymethyl)oxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-3-ethyloxetane, and 3-(methacryl). Royloxymethyl)-2-methyloxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-2-trifluoromethyloxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-2-pentafluoroethylox Cetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-2-phenyloxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-2,2-difluorooxetane, 3-(methacryloyloxymethyl) -2,2,4-trifluorooxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-2,2,4,4-tetrafluorooxetane, 3-(methacryloyloxyethyl)oxetane , 3-(methacryloyloxyethyl)-3-ethyloxetane, 2-ethyl-3-(methacryloyloxyethyl)oxetane, 3-(methacryloyloxyethyl)-2-trifluoro Romethyloxetane, 3-(methacryloyloxyethyl)-2-pentafluoroethyloxetane, 3-(methacryloyloxyethyl)-2-phenyloxetane, 2,2-difluoro- 3-(methacryloyloxyethyl)oxetane, 3-(methacryloyloxyethyl)-2,2,4-trifluorooxetane, 3-(methacryloyloxyethyl)-2,2 and 4,4-tetrafluorooxetane. These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

본 발명에 있어서, 불포화 카르복실기를 갖는 화합물(a3)으로서는 중합이 가능한 불포화 이중 결합을 갖는 카르복실산 화합물이라면 제한되지 않으며, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. 구체적인 일례로 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산 등의 모노카르복실산류; 푸마르산, 메사콘산, 이타콘산 등의 디카르복실산류; 및 이것들 디카르복실산의 무수물; ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복실기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트류 등을 들 수 있다. 상기 중 아크릴산, 메타크릴산이 공중합반응성 및 현상액에 대한 용해성이 우수하여 바람직하다.In the present invention, the compound (a3) having an unsaturated carboxyl group is not limited as long as it is a carboxylic acid compound having an unsaturated double bond capable of polymerization, and may be used alone or in combination of two or more. Specific examples include monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, and crotonic acid; dicarboxylic acids such as fumaric acid, mesaconic acid, and itaconic acid; and anhydrides of these dicarboxylic acids; and polymer mono(meth)acrylates having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals, such as ω-carboxypolycaprolactone mono(meth)acrylate. Among the above, acrylic acid and methacrylic acid are preferable because of their excellent copolymerization reactivity and solubility in a developer.

본 발명에서 사용되는 (a1) 내지 (a3)을 공중합하여 얻어지는 공중합체, 즉 알칼리 가용성 수지(A-2)에 있어서, (a1) 내지 (a3) 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율은 상기의 공중합체를 구성하는 구성 성분의 합계 몰수에 대하여 몰 분율로 하기의 범위에 있는 것이 바람직하다.In the copolymer obtained by copolymerizing (a1) to (a3) used in the present invention, that is, alkali-soluble resin (A-2), the ratio of the constituents derived from each of (a1) to (a3) is It is preferable to exist in the following range as a mole fraction with respect to the total number of moles of the constituent components constituting the coalescence.

(a1)로부터 유도되는 구성단위: 2 내지 50몰%,Structural unit derived from (a1): 2 to 50 mol%,

(a2)로부터 유도되는 구성단위: 2 내지 50몰%,Structural unit derived from (a2): 2 to 50 mol%,

(a3)로부터 유도되는 구성단위: 2 내지 70몰%Structural unit derived from (a3): 2 to 70 mol%

본 발명의 실시형태에 있어서, 상기 공중합체의 제조방법으로는 (a1) 내지 (a3)를 공중합시켜 얻어지는 경우라면 특별히 제한되지 않고, 종래 공지되어 있는 각종 중합방법이 사용될 수 있으며, 공지의 중합방법 중에서 용액중합법이 보다 바람직하다. 또한, 중합 온도나 중합 시간은 도입되는 단량체의 종류나 비율, 목표 결합제 수지 분자량 및 산가에 따라 다르지만 바람직하게는 60℃ 내지 130℃에서 1 내지 10시간 동안 중합시키는 것이다.In the embodiment of the present invention, the method for preparing the copolymer is not particularly limited as long as it is obtained by copolymerizing (a1) to (a3), and various conventionally known polymerization methods may be used, and known polymerization methods Among them, the solution polymerization method is more preferable. In addition, the polymerization temperature and polymerization time vary depending on the type or ratio of the introduced monomer, the target binder resin molecular weight and acid value, but preferably, polymerization is carried out at 60°C to 130°C for 1 to 10 hours.

그리고, 상기의 공정에서 중합 개시제의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있고, (a1), (a2) 및 (a3)의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있다.And in said process, a part or whole quantity of a polymerization initiator may be put into a flask, and part or whole quantity of (a1), (a2), and (a3) may be put into a flask.

또한, 상기의 공정에서 용매를 이용하는 경우에는, 통상의 라디칼 중합 반응시 사용되는 용매를 이용할 수 있으며, 구체적으로는, 테트라히드로퓨란, 디옥산, 에틸렌글리콜디메틸에틸, 디에틸렌글리콜디메틸에틸, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 초산에틸, 초산부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 클로로포름, 디메틸설폭시드 등을 들 수 있다. 이들 용매는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In addition, when using a solvent in the above process, a solvent used in a normal radical polymerization reaction can be used, and specifically, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ethyl, diethylene glycol dimethyl ethyl, acetone, Methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ethyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methanol, ethanol, propanol, n-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene Glycol monomethyl ether, toluene, xylene, ethylbenzene, chloroform, dimethyl sulfoxide, etc. are mentioned. These solvents can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

또한, 상기의 공정에 사용되는 중합 개시제로는 통상 사용되는 중합 개시제를 첨가할 수 있으며, 특별히 제한되지는 않는다. 구체적으로는 디이소프로필벤젠 히드로퍼옥시드, 디-t-부틸퍼옥시드, 벤조일퍼옥시드, t-부틸퍼옥시이소프로필카르보네이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 등의 유기과산화물; 2,2’-아조비스(이소부티로니트릴), 2,2’-아조비스(2,4-디메틸바레로니토릴), 디메틸 2,2’-아조비스(2-메틸프로피오네이트) 등의 질소 화합물을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In addition, as the polymerization initiator used in the above process, a polymerization initiator commonly used may be added, and there is no particular limitation. Specifically, diisopropylbenzene hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butylperoxyisopropyl carbonate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butyl organic peroxides such as peroxy-2-ethylhexanoate; 2,2'-azobis(isobutyronitrile), 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), dimethyl 2,2'-azobis(2-methylpropionate), etc. of nitrogen compounds. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

또한, 분자량이나 분자량 분포를 제어하기 위해 예를 들면, n-도데실머캅토, 머캅토초산, 머캅토초산메틸 등의 머캅토계 연쇄 이동제, α-메틸스티렌 다이머 등을 연쇄 이동제로서 사용할 수도 있다. 상기 α-메틸스티렌 다이머 또는 머캅토 화합물의 사용량은 (a1), (a2) 및 (a3)의 합계 량에 대하여 0.005 내지 5 질량%이다.In addition, in order to control molecular weight or molecular weight distribution, for example, a mercapto-based chain transfer agent such as n-dodecyl mercapto, mercapto acetic acid, or methyl mercapto acetate, and α-methyl styrene dimer may be used as the chain transfer agent. The amount of the ?-methylstyrene dimer or mercapto compound used is 0.005 to 5 mass% based on the total amount of (a1), (a2) and (a3).

또한, 상기의 중합 조건은 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수도 있다.In addition, as for the polymerization conditions, the input method and the reaction temperature may be appropriately adjusted in consideration of the production equipment, the amount of heat generated by polymerization, and the like.

본 발명의 한 실시형태의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 알칼리 가용성 수지(A-2)는 (a1), (a2) 및 (a3)을 공중합하여 얻어지는 공중합체에 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(a4)를 더 반응시킴으로써 얻을 수 있다.Alkali-soluble resin (A-2) contained in the colored photosensitive resin composition of one embodiment of the present invention is a copolymer obtained by copolymerizing (a1), (a2) and (a3) having an unsaturated bond and an epoxy group in one molecule It can obtain by further reacting compound (a4).

상기의 공중합체에 (a4)를 부가함으로써 결합제 수지에 광/열경화성을 부여할 수 있다.By adding (a4) to the above copolymer, photo/thermosetting properties can be imparted to the binder resin.

본 발명의 상기 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(a4)의 구체적인 예로서는 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서 글리시딜(메타)아크릴레이트가 보다 바람직하게 사용된다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the compound (a4) having an unsaturated bond and an epoxy group in one molecule of the present invention include glycidyl (meth)acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth)acrylate, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate, methyl glycidyl (meth)acrylate, etc. are mentioned. Among these, glycidyl (meth)acrylate is used more preferably. These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

또한, 상기 알칼리 가용성 수지(A-2) 내의 (a4)로부터 유도되는 구성 단위의 비율은 상기 알칼리 가용성 수지(A-2) 내의 (a3)로부터 유도되는 구성 성분의 몰수에 대하여 5 내지 80몰%인 것이 바람직하며, 10 내지 70몰%가 보다 바람직하다. (a4)의 조성비가 상기 범위 내에 있으면 충분한 광경화성이나 열경화성이 얻어져 감도와 연필 경도가 양립되고 신뢰성이 우수하기 때문에 바람직하다.In addition, the ratio of the structural unit derived from (a4) in the alkali-soluble resin (A-2) is 5 to 80 mol% with respect to the number of moles of the structural unit derived from (a3) in the alkali-soluble resin (A-2) It is preferable that it is, and 10-70 mol% is more preferable. When the composition ratio of (a4) exists in the said range, since sufficient photocurability and thermosetting property are obtained, a sensitivity and pencil hardness are compatible, and it is excellent in reliability, it is preferable.

본 발명에서 알칼리 가용성 수지(A-2)의 중량평균분자량은 특별히 제한되지는 않으나, 3,000 내지 100,000의 범위에 있는 것이 바람직하고, 5,000 내지 50,000의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 상기 알칼리 가용성 수지(A-2)의 중량평균분자량이 상기 범위에 있으면 현상 시 막 감소가 생기기 어렵고, 비화소 부분의 누락성이 양호한 경향이 있기 때문에 바람직하다.In the present invention, the weight average molecular weight of the alkali-soluble resin (A-2) is not particularly limited, but is preferably in the range of 3,000 to 100,000, and more preferably in the range of 5,000 to 50,000. When the weight average molecular weight of the alkali-soluble resin (A-2) is within the above range, it is preferable that the film decrease during development tends to occur and the omission property of the non-pixel portion tends to be good.

상기 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1) 대 상기 알칼리 가용성 수지(A-2)의 함량비는 2:8 내지 8:2의 범위인 것이 바람직하다. 상기 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1) 대 상기 알칼리 가용성 수지(A-2)의 함량비가 상기 범위를 만족하는 경우 식각 공정 및 약품 처리시 요구되는 내화학성이 향상되고, 컨택트홀 내의 잔사를 방지할 수 있는 이점이 있다. The content ratio of the alkali-soluble resin (A-1) represented by the formula (1) to the alkali-soluble resin (A-2) is preferably in the range of 2:8 to 8:2. When the content ratio of the alkali-soluble resin (A-1) represented by the formula (1) to the alkali-soluble resin (A-2) satisfies the above range, the chemical resistance required during the etching process and chemical treatment is improved, and the There is an advantage in that residues can be prevented.

상기 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1) 및 상기 알칼리 가용성 수지(A-2)를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물의 경우, 현상 공정 중 미세 패턴의 유실을 막고, 열처리 공정에서 알칼리 가용성 바인더의 흐름성을 개선하여 패턴 형성시 안정성을 확보할 수 있다. 또한, COA(Color Filter on Array)구조의 액정표시장치에 있어서 RGB 수지막에 얼라이먼트 정밀도가 우수한 컨택트홀을 형성할 수 있으며, 상기 수지막, 즉 픽셀 전극과 능동소자(TFT)의 전기적 통로를 형성함에 있어서, 건칙 식각에 의한 컨택트 홀 형성 및 픽셀전극으로 사용될 IZO 증착 시의 RGB 수지막의 패턴 안정성을 확보함에 있어, 고개구율 확보를 위한 RGB 단선에 의한 화소불량을 개선할 수 있는 효과가 있다. In the case of the colored photosensitive resin composition comprising the alkali-soluble resin (A-1) and the alkali-soluble resin (A-2) represented by Formula 1, the loss of the fine pattern during the development process is prevented, and the alkali-soluble binder in the heat treatment process It is possible to secure stability during pattern formation by improving the flowability of In addition, in a liquid crystal display device having a color filter on array (COA) structure, a contact hole with excellent alignment accuracy can be formed in the RGB resin film, and an electrical path between the resin film, that is, the pixel electrode and the active element (TFT), is formed. In doing so, there is an effect that can improve pixel defects due to RGB disconnection for securing high aperture ratio in forming contact holes by general etching and securing pattern stability of the RGB resin film during IZO deposition to be used as a pixel electrode.

상기 알칼리 가용성 수지(A)의 함유랑은 상기 착색 감광성 수지 조성물 전체 고형분에 대하여 10 내지 80 중량%, 구체적으로 10 내지 70 중량%로 포함될 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지(A)의 함유량이 상기 범위를 만족하는 경우 현상액에서의 용해성이 충분하여 패턴형성이 용이하고, 현상 시 노광부의 화소 부분의 막 감소가 방지되어 비화소 부분의 누락성이 양호해지는 이점이 있다.The content of the alkali-soluble resin (A) may be 10 to 80% by weight, specifically 10 to 70% by weight based on the total solid content of the colored photosensitive resin composition. When the content of the alkali-soluble resin (A) satisfies the above range, the solubility in the developer is sufficient to facilitate pattern formation, and the film reduction of the pixel portion of the exposed portion is prevented during development, thereby improving the omission of the non-pixel portion. There is an advantage.

광중합성 화합물(B)Photopolymerizable compound (B)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 광중합성 화합물(B)을 더 포함할 수 있다. The colored photosensitive resin composition of the present invention may further contain a photopolymerizable compound (B).

본 발명의 광중합성 화합물(B)은 후술할 광중합 개시제(C)의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로, 단관능 단량체, 2관능 단량체 또는 다관능 단량체를 사용할 수 있으며, 구체적으로 2관능 이상의 다관능 단량체를 사용할 수 있다.The photopolymerizable compound (B) of the present invention is a compound that can be polymerized by the action of a photopolymerization initiator (C), which will be described later, and may be a monofunctional monomer, a bifunctional monomer or a polyfunctional monomer, and specifically, a polyfunctional or more than bifunctional monomer. Monomers may be used.

상기 단관능 단량체의 구체적인 예로는, 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 또는 N-비닐피롤리돈 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the monofunctional monomer include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate or N-vinylpi Rollidone, and the like, but is not limited thereto.

상기 2관능 단량체는 이에 한정되는 것은 아니나, 예컨대 1,6-헥산디올디(메타) 아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르 또는 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등이 있다.The bifunctional monomer is not limited thereto, for example, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) ) acrylate, bis(acryloyloxyethyl)ether of bisphenol A, or 3-methylpentanediol di(meth)acrylate.

상기 다관능 단량체는 구체적으로, 트리메틸올 프로판트리(메타) 아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리 (메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스 리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴 레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 또는 디펜타 에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The polyfunctional monomer is specifically, trimethylol propane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylol propane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylol propane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri ( meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate or dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, but is not limited thereto.

상기 광중합성 화합물(B)은 상기 착색 감광성 수지 조성물의 전체고형분 100중량%에 대하여 5 내지 45 중량%, 구체적으로 7 내지 45 중량%로 포함될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 광중합성 화합물(B)이 상기 착색 감광성 수지 조성물의 전체고형분 총 함량에 대하여 상기 범위 내로 포함되는 경우 화소부의 강도나 평활성이 양호하게 되는 이점이 있다.The photopolymerizable compound (B) may be included in an amount of 5 to 45 wt%, specifically 7 to 45 wt%, based on 100 wt% of the total solid content of the colored photosensitive resin composition, but is not limited thereto. When the photopolymerizable compound (B) is included within the above range with respect to the total solid content of the colored photosensitive resin composition, there is an advantage in that the strength or smoothness of the pixel portion is improved.

광중합light curing 개시제initiator (C)(C)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 광중합 개시제(C)를 더 포함할 수 있다.The colored photosensitive resin composition of the present invention may further contain a photoinitiator (C).

상기 광중합 개시제(C)는 상기 광중합성 화합물(B)을 중합시킬 수 있는 것이라면 그 종류를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다. 구체적으로 상기 광중합 개시제(C)는 중합특성, 개시효율, 흡수파장, 입수성, 가격 등의 관점에서 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 옥심 화합물 및 티오크산톤계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The photopolymerization initiator (C) may be used without particularly limiting its type as long as it can polymerize the photopolymerizable compound (B). Specifically, the photopolymerization initiator (C) is an acetophenone-based compound, a benzophenone-based compound, a triazine-based compound, a biimidazole-based compound, an oxime compound, and thi At least one compound selected from the group consisting of oxanthone-based compounds may be used, but is not limited thereto.

상기 아세토페논계 화합물의 구체적인 예로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다. Specific examples of the acetophenone-based compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-1-[4-(2-hydroxyl) oxyethoxy)phenyl]-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one; 2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propane-1 -one, 2-(4-methylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, etc. are mentioned.

상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등이 있다. Examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl 0-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3',4,4'-tetra( tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone and 2,4,6-trimethylbenzophenone.

상기 트리아진계 화합물의 구체적인 예로는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. Specific examples of the triazine-based compound include 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6 -(4-Methoxynaphthyl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(5-methylfuran-2- yl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine , 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(4-diethylamino-2-methylphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl )-6-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine etc. are mentioned.

상기 비이미다졸 화합물의 구체적인 예로는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4'5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 또는 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4'5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하게 사용된다.Specific examples of the biimidazole compound include 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2,3-dichloro Phenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(alkoxyphenyl)biimidazole , 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(trialkoxyphenyl)biimidazole, 2,2-bis(2,6-dichlorophenyl)-4, 4'5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole or the imidazole compound in which the phenyl group at the 4,4',5,5'-position is substituted by the carboalkoxy group, etc. are mentioned. Among them, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2,3-dichlorophenyl)-4,4' ,5,5'-tetraphenylbiimidazole and 2,2-bis(2,6-dichlorophenyl)-4,4'5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole are preferably used do.

상기 옥심 화합물의 구체적인 예로는 o-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온등을 들 수 있으며, 시판품으로 바스프사의 OXE01, OXE02가 대표적이다.Specific examples of the oxime compound include o-ethoxycarbonyl-α-oxyimino-1-phenylpropan-1-one, and commercial products such as OXE01 and OXE02 from BASF are representative.

상기 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등이 있다.Examples of the thioxanthone-based compound include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and the like. There is this.

상기 광중합 개시제(C)는 상기 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 총 중량을 기준으로 상기 알칼리 가용성 수지(A)와 상기 광중합성 화합물(B)의 함량에 대하여 0.1 내지 40 중량%, 구체적으로 1 내지 30 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시제(C)가 상기 범위내일 경우 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 노광 시간이 단축되므로, 생산성이 향상되며 높은 해상도를 유지할 수 있다. 또한, 상기 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도와 상기 화소부의 표면에서의 평활성이 양호해지는 이점이 있다.The photopolymerization initiator (C) is 0.1 to 40% by weight, specifically 1 to 30% by weight, based on the total solids weight of the colored photosensitive resin composition, based on the content of the alkali-soluble resin (A) and the photopolymerizable compound (B) % may be included. When the photopolymerization initiator (C) is within the above range, the colored photosensitive resin composition is highly sensitive and the exposure time is shortened, so that productivity is improved and high resolution can be maintained. Moreover, there exists an advantage that the intensity|strength of the pixel part formed using the said coloring photosensitive resin composition and the smoothness in the surface of the said pixel part become favorable.

상기 광중합 개시제(C)는 상기 착색 감광성 수지 조성물의 감도를 향상시키기 위하여 광중합 개시 보조제를 더 포함할 수 있다. 상기 착색 감광성 수지 조성물이 상기 광중합 개시 보조제를 더 포함하는 경우 감도가 더욱 높아져 생산성을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.The photoinitiator (C) may further include a photopolymerization initiator adjuvant to improve the sensitivity of the colored photosensitive resin composition. When the colored photosensitive resin composition further includes the photopolymerization initiation adjuvant, there is an advantage in that the sensitivity is further increased and productivity can be improved.

상기 광중합 개시 보조제는 아민 화합물, 카르복실산 화합물 및 티올기를 가지는 유기 황화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 포함할 수 있으나 이에 한정되지는 않는다.The photopolymerization initiation adjuvant may include at least one compound selected from the group consisting of an amine compound, a carboxylic acid compound, and an organic sulfur compound having a thiol group, but is not limited thereto.

상기 아민 화합물로는 방향족 아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하며, 구체적으로 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭: 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 사용할 수 있다.It is preferable to use an aromatic amine compound as the amine compound, and specifically, an aliphatic amine compound such as triethanolamine, methyldiethanolamine, and triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4- Dimethylaminobenzoic acid isoamyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, benzoic acid 2-dimethylaminoethyl, N,N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone (common name: Michler ketone) ), 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, and the like can be used.

상기 카르복실산 화합물은 방향족 헤테로아세트산류인 것이 바람직하며, 구체적으로 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.The carboxylic acid compound is preferably aromatic heteroacetic acid, specifically phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthio Acetic acid, chlorophenylthioacetic acid, dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, naphthoxyacetic acid, etc. are mentioned.

상기 티올기를 가지는 유기 황화합물의 구체적인 예로서는 2-머캅토벤조티아졸, 1,4-비스(3-머캅토부티릴옥시)부탄, 1,3,5-트리스(3-머캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 트리메틸올프로판트리스(3-머갑토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트), 테트라에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트) 등을 들 수 있다.Specific examples of the organic sulfur compound having a thiol group include 2-mercaptobenzothiazole, 1,4-bis(3-mercaptobutyryloxy)butane, 1,3,5-tris(3-mercaptobutyloxyethyl)- 1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, trimethylolpropanetris(3-mercaptopropionate), pentaerythritoltetrakis(3-mercaptobutyl rate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate), tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), and the like. can

상기 광중합 개시 보조제를 더 사용하는 경우, 상기 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 총 중량을 기준으로 상기 알칼리 가용성 수지(A)와 상기 광중합성 화합물(B)의 함량에 대하여 0.1 내지 40 중량%, 구체적으로 1 내지 30 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시 보조제의 함량이 상기 범위내일 경우 상기 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아지고, 상기 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성되는 컬러필터의 생산성이 향상되는 효과의 부여가 가능하다.When the photopolymerization initiation adjuvant is further used, based on the total solid weight of the colored photosensitive resin composition, 0.1 to 40% by weight based on the content of the alkali-soluble resin (A) and the photopolymerizable compound (B), specifically 1 to 30% by weight. When the content of the photopolymerization initiation adjuvant is within the above range, the sensitivity of the colored photosensitive resin composition is higher, and productivity of a color filter formed using the colored photosensitive resin composition is improved.

착색제(D)Colorant (D)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 착색제(D)를 더 포함할 수 있다.The colored photosensitive resin composition of the present invention may further contain a colorant (D).

본 발명에 있어서 상기 착색제(D)는 안료 및 염료 중 적어도 1 이상을 포함할 수 있다.In the present invention, the colorant (D) may include at least one of a pigment and a dye.

상기 착색제(D)는 상기 착색 감광성 수지 조성물의 전체고형분에 대하여 5 내지 60 중량부, 구체적으로 10 내지 45 중량부로 포함될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 상기 착색제(D)가 상기 범위내로 포함되는 경우 박막을 형성하여도 화소의 색 농도가 충분하고, 현상시 비화소부의 누락성이 저하되지 않기 때문에 잔사의 발생을 방지할 수 있는 이점이 있다.The colorant (D) may be included in an amount of 5 to 60 parts by weight, specifically 10 to 45 parts by weight, based on the total solid content of the colored photosensitive resin composition, but is not limited thereto. When the colorant (D) is included within the above range, the color density of the pixel is sufficient even when a thin film is formed, and the omission property of the non-pixel portion is not reduced during development, thereby preventing the occurrence of residues.

상기 안료는 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 유기 안료 또는 무기 안료를 사용할 수 있다. As the pigment, organic or inorganic pigments generally used in the art may be used.

상기 유기 안료로는 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크 등에 사용되는 각종의 안료를 사용할 수 있으며, 구체적으로는 수용성 아조 안료, 불용성 아조 안료, 프타로시아닌안료, 퀴나크리돈 안료, 이소인돌리논 안료, 이소인돌린 안료, 페리렌 안료, 페리논 안료, 디옥사진 안료, 안트라퀴논 안료, 디안트라퀴노닐 안료, 안트라피리미딘 안료, 안탄트론(anthanthrone) 안료, 인단트론(indanthrone) 안료, 프라반트론 안료, 피란트론(pyranthrone) 안료, 디케토피로로피롤 안료 등을 들 수 있다.As the organic pigment, various pigments used in printing inks, inkjet inks, etc. can be used, and specifically, water-soluble azo pigments, insoluble azo pigments, phthalocyanine pigments, quinacridone pigments, isoindolinone pigments, iso indoline pigments, perylene pigments, perinone pigments, dioxazine pigments, anthraquinone pigments, dianthraquinonyl pigments, anthrapyrimidine pigments, anthanthrone pigments, indanthrone pigments, pravanthrone pigments, A pyranthrone pigment, a diketopyrroropyrrole pigment, etc. are mentioned.

상기 무기 안료로는 금속 산화물이나 금속 착염 등의 금속 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬, 카본블랙 등의 금속의 산화물 또는 복합 금속 산화물 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic pigment include metal compounds such as metal oxides and metal complex salts, and specifically, metals such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, antimony, and carbon black. oxides or composite metal oxides; and the like.

특히, 상기 유기 안료 및 무기 안료로는 구체적으로 색지수(The society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 이하와 같은 색지수(C.I.) 번호의 안료를 들 수 있지만, 반드시 이들로 한정되는 것은 아니다.In particular, the organic and inorganic pigments include compounds classified as pigments in the color index (published by The Society of Dyers and Colorists), and more specifically, the color index (CI) number of pigments, but are not necessarily limited thereto.

C.I. 피그먼트 옐로우 13, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 및 185;C.I. Pigment Yellow 13, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 and 185;

C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 및 71;C.I. Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, and 71;

C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 208, 215, 216, 224, 242, 254, 255 및 264;C.I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 208, 215, 216, 224, 242, 254, 255 and 264;

C.I. 피그먼트 바이올렛 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 및 38;C.I. Pigment Violet 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 and 38;

C.I. 피그먼트 블루 15(15:3, 15:4, 15:6등), 21, 28, 60, 64 및 76;C.I. Pigment Blue 15 (15:3, 15:4, 15:6, etc.), 21, 28, 60, 64 and 76;

C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36, 47 및 58;C.I. Pigment Green 7, 10, 15, 25, 36, 47 and 58;

C.I 피그먼트 브라운 28;C.I Pigment Brown 28;

C.I 피그먼트 블랙 1 및 7 등C.I Pigment Black 1 and 7 etc.

상기 안료는 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 유기 안료 또는 무기 안료를 사용할 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the pigment, organic or inorganic pigments generally used in the art may be used, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 예시된 C.I. 피그먼트 안료 중에서도 C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 185, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 208, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 255, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 블루 15:3, 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 58 에서 선택되는 안료가 바람직하게 사용될 수 있다.The above exemplified C.I. Among the pigment pigments, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 185, C.I. Pigment Orange 38, C.I. Pigment Red 122, C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 208, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 255, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Blue 15:3, Pigment Blue 15:6, C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigments selected from Pigment Green 58 can be preferably used.

상기 안료의 함량은 상기 착색 감광성 수지 조성물 중의 전체 고형분에 대하여 중량분율로 3 내지 60중량%, 구체적으로 5 내지 55중량%로 포함될 수 있다. 상기 안료의 함량이 상기 범위를 만족하는 경우, 박막 형성 시 화소의 색농도가 충분하고, 현상 시 비화소부의 누락성이 저하되지 않아 잔사 발생을 방지할 수 있는 이점이 있어 바람직하다. The content of the pigment may be included in an amount of 3 to 60% by weight, specifically 5 to 55% by weight based on the total solid content in the colored photosensitive resin composition. When the content of the pigment satisfies the above range, it is preferable that the color concentration of the pixel is sufficient when forming the thin film, and the omission property of the non-pixel portion does not decrease during development, thereby preventing the generation of residues.

상기 안료는 그 입경이 균일하게 분산된 안료 분산액을 사용하는 것이 바람직하다. 안료의 입경을 균일하게 분산시키기 위한 방법의 일 예로 안료 분산제를 함유시켜 분산 처리하는 방법 등을 들 수 있으며, 이 방법에 따르면 안료가 용액 중에 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액을 얻을 수 있다.As the pigment, it is preferable to use a pigment dispersion in which the particle size is uniformly dispersed. As an example of a method for uniformly dispersing the particle diameter of the pigment, a method of dispersing treatment by containing a pigment dispersant may be mentioned. According to this method, a pigment dispersion in a state in which the pigment is uniformly dispersed in a solution can be obtained.

상기의 안료 분산제의 구체적인 예로는 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성계, 폴리에스테르계, 폴리아민계 등의 계면활성제 등을 들 수 있고, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the pigment dispersant include cationic, anionic, nonionic, amphoteric, polyester, and polyamine surfactants, and these may be used alone or in combination of two or more. have.

상기 안료 분산제는 안료의 탈응집 및 안정성 유지를 위해 첨가되는 것으로서 당해분야에서 일반적으로 사용되는 것을 제한 없이 사용할 수 있다. 구체적으로 BMA(부틸메타아크릴레이트) 또는 DMAEMA(N,N-디메틸아미노에틸메타아크릴레이트)를 포함하는 아크릴레이트계 분산제를 사용할 수 있다. 이때, 상기 아크릴레이트계 분산제는 한국 공개특허 2004-0014311호에서 제시된 바와 같이 리빙 제어밥벙에 의해 제조된 것을 적용하는 것이 바람직한데, 상기 리빙 제어방법을 통해 제조된 아크릴레이트게 분산제의 시판품으로는 DISPER BYK-2000, DISPER BYK-2001, DISPER BYK-2070, DISPER BYK-2150 등을 들 수 있다.The pigment dispersant is added for deagglomeration and stability of the pigment, and those generally used in the art may be used without limitation. Specifically, an acrylate-based dispersant including BMA (butyl methacrylate) or DMAEMA (N,N-dimethylaminoethyl methacrylate) may be used. At this time, it is preferable to apply the acrylate-based dispersant prepared by a living control method as suggested in Korean Patent Application Laid-Open No. 2004-0014311. BYK-2000, DISPER BYK-2001, DISPER BYK-2070, DISPER BYK-2150, etc. are mentioned.

상기 예시된 아크릴레이트계 분산제는 각각 단독으로 또는 2종이상을 조합하여 사용할 수 있다.The acrylate-based dispersants exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

상기 안료 분산제는 상기한 아크릴레이트계 분산제 이외에 다른 수지 타입의 안료 분산제를 사용할 수도 있다. 상기 다른 수지 타입의 안료 분산제로는 공지된 수지 타입의 안료 분산제, 특히 폴리우레탄, 폴리아크릴레이트로 대표되는 폴리카르복실산 에스테르, 불포화 폴리아미드, 폴리카르복실산, 폴리카르복실산의 (부분적)아민 염, 폴리카르복실산의 암모늄 염, 폴리카르복실산의 알킬아민 염, 폴리실록산, 장쇄 폴리아미노아미드 포스페이트 염, 히드록실기-함 폴리카르복실산의 에스테르 및 이들의 개질 생성물, 또는 프리(free) 카르복실기를 갖는 폴리에스테르와 폴리(저급 알킬렌이민)의 반응에 의해 형성된 아미드 또는 이들의 염과 같은 유질의 분산제; (메트)아크릴산-스티렌 코폴리머, (메트)아크릴산-(메트)아크릴레이트 에스테르 코폴리머, 스티렌-말레산 코폴리머, 폴리비닐 알코올 또는 폴리비닐 피롤리돈과 같은 수용성 수지 또는 수용성 폴리머 화합물; 폴리에스테르; 개질 폴리아크릴레이트; 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드의 부가생성물 및 포스페이트 에스테르 등을 들 수 있다. 상기한 수지형 분산제의 시판품으로는 양이온계 수지 분산제로서는, 예를 들면, BYK(빅) 케미사의 상품명: DISPER BYK-160, DISPER BYK-161, DISPER BYK-162,DISPER BYK-163, DISPER BYK-164, DISPER BYK-166, DISPER BYK-171, DISPER BYK-182,DISPER BYK-184; BASF사의 상품명: EFKA-44, EFKA-46, EFKA-47, EFKA-48,EFKA-4010, EFKA-4050, EFKA-4055, EFKA-4020, EFKA-4015, EFKA-4060, EFKA-4300, EFKA-4330, EFKA-4400, EFKA-4406, EFKA-4510, EFKA-4800 ; Lubirzol사의 상품명:SOLSPERS-24000, SOLSPERS-32550, NBZ-4204 /10; 카와켄 파인 케미컬사의 상품명: 히노액트(HINOACT) T-6000, 히노액트 T-7000, 히노액트 T-8000; 아지노모토사의 상품명: 아지스퍼(AJISPUR) PB-821, 아지스퍼 PB-822, 아지스퍼 PB-823; 쿄에이샤 화학사의 상품명: 플로렌 (FLORENE) DOPA-17HF, 플로렌 DOPA-15BHF, 플로렌 DOPA-33, 플로렌 DOPA-44 등을 들 수 있다. 상기한 아크릴레이트계 분산제 이외에 다른 수지 타입의 안료 분산제는 각각 단독으로 또는 2종이상을 조합하여 사용할 수 있으며, 아크릴레이트계 분산제와 병용하여 사용할 수도 있다.As the pigment dispersant, a pigment dispersant of a resin type other than the acrylate-based dispersant may be used. The pigment dispersants of the other resin types include known resin type pigment dispersants, in particular polyurethane, polycarboxylic acid esters typified by polyacrylates, unsaturated polyamides, polycarboxylic acids, polycarboxylic acids (partially) amine salts, ammonium salts of polycarboxylic acids, alkylamine salts of polycarboxylic acids, polysiloxanes, long-chain polyaminoamide phosphate salts, esters of hydroxyl-containing polycarboxylic acids and modified products thereof, or free ) oily dispersants such as amides or salts thereof formed by the reaction of a polyester having a carboxyl group with a poly(lower alkyleneimine); water-soluble resins or water-soluble polymer compounds such as (meth)acrylic acid-styrene copolymer, (meth)acrylic acid-(meth)acrylate ester copolymer, styrene-maleic acid copolymer, polyvinyl alcohol or polyvinyl pyrrolidone; Polyester; modified polyacrylates; adducts of ethylene oxide/propylene oxide and phosphate esters; and the like. As a commercially available product of the above-mentioned resin type dispersant, as a cationic resin dispersant, for example, BYK (Big) Chemi Corporation's trade names: DISPER BYK-160, DISPER BYK-161, DISPER BYK-162, DISPER BYK-163, DISPER BYK- 164, DISPER BYK-166, DISPER BYK-171, DISPER BYK-182, DISPER BYK-184; BASF trade names: EFKA-44, EFKA-46, EFKA-47, EFKA-48, EFKA-4010, EFKA-4050, EFKA-4055, EFKA-4020, EFKA-4015, EFKA-4060, EFKA-4300, EFKA- 4330, EFKA-4400, EFKA-4406, EFKA-4510, EFKA-4800; Trade names from Lubirzol: SOLSPERS-24000, SOLSPERS-32550, NBZ-4204/10; Trade names of Kawaken Fine Chemicals: HINOACT T-6000, HINOACT T-7000, HINOACT T-8000; Trade names of Ajinomoto Corporation: AJISPUR PB-821, AJISPUR PB-822, AJISPUR PB-823; Trade names of Kyoeisha Chemical Corporation: FLORENE DOPA-17HF, fluorene DOPA-15BHF, fluorene DOPA-33, fluorene DOPA-44, etc. are mentioned. In addition to the acrylate-based dispersant, other resin-type pigment dispersants may be used alone or in combination of two or more, or may be used in combination with an acrylate-based dispersant.

상기 안료 분산제의 사용량은 사용되는 상기 안료 고형분 전체 100중량%에 대하여 5 내지 60 중량%, 구체적으로 15 내지 50 중량%로 포함될 수 있으며, 상기 안료 분산제의 함량이 상기 범위를 만족하는 경우 점도가 높아지는 현상을 방지하고, 안료의 미립화가 용이하며, 분산 후 겔화 등의 문제를 방지할 수 있는 이점이 있다.The amount of the pigment dispersant used may be 5 to 60% by weight, specifically 15 to 50% by weight based on 100% by weight of the total solid content of the pigment used, and when the content of the pigment dispersant satisfies the above range, the viscosity increases There are advantages in that it prevents development, facilitates atomization of the pigment, and prevents problems such as gelation after dispersion.

상기 염료는 유기용제에 대한 용해성을 가지는 것이라면 제한 없이 사용할 수 있다. 바람직하게는 유기용제에 대한 용해성을 가지면서 알칼리 현상액에 대한 용해성 및 내용제성, 경시안정성 등의 신뢰성을 확보할 수 있는 염료를 사용하는 것이 바람직하다. The dye may be used without limitation as long as it has solubility in organic solvents. Preferably, it is preferable to use a dye that has solubility in organic solvents and can secure reliability such as solubility in alkali developer, solvent resistance, and stability over time.

상기 염료로는 설폰산이나 카복실산 등의 산성기를 갖는 산성 염료, 산성 염료와 질소 함유 화합물의 염, 산성 염료의 설폰아미드체 등과 이들의 유도체에서 선택된 것을 사용할 수 있으며, 이외에도 아조계, 크산텐계, 프탈로시아닌계의 산성염료 및 이들의 유도체도 선택할 수 있다.As the dye, an acid dye having an acidic group such as sulfonic acid or carboxylic acid, a salt of an acid dye and a nitrogen-containing compound, a sulfonamide compound of an acid dye, and derivatives thereof may be used. In addition, azo-based, xanthene-based, phthalocyanine Acid dyes and derivatives thereof can also be selected.

바람직하게 상기 염료는 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)내에 염료로 분류되어 있는 화합물이나, 염색 노트(색염사)에 기재되어 있는 공지의 염료를 들 수 있다.Preferably, the dye is a compound classified as a dye in the Color Index (published by The Society of Dyers and Colorists), or a known dye described in a dyeing note (color dye).

상기 염료의 구체적인 예로는, C.I. 솔벤트 염료로서,Specific examples of the dye include C.I. As a solvent dye,

C.I. 솔벤트 옐로우 4, 14, 15, 16, 21, 23, 24, 38, 56, 62, 63, 68, 79, 82, 93, 94, 98, 99, 151, 162, 163 등의 황색 염료; C.I. yellow dyes such as solvent yellow 4, 14, 15, 16, 21, 23, 24, 38, 56, 62, 63, 68, 79, 82, 93, 94, 98, 99, 151, 162, 163;

C.I. 솔벤트 레드 8, 45, 49, 89, 111, 122, 125, 130, 132, 146, 179 등의 적색 염료;C.I. red dyes such as solvent red 8, 45, 49, 89, 111, 122, 125, 130, 132, 146, 179;

C.I. 솔벤트 오렌지 2, 7, 11, 15, 26, 41, 45, 56, 62 등의 오렌지색 염료;C.I. orange dyes such as solvent orange 2, 7, 11, 15, 26, 41, 45, 56, 62;

C.I. 솔벤트 블루 5, 35, 36, 37, 44, 59, 67, 70 등의 청색 염료;C.I. blue dyes such as solvent blue 5, 35, 36, 37, 44, 59, 67, and 70;

C.I. 솔벤트 바이올렛 8, 9, 13, 14, 36, 37, 47, 49 등의 바이올렛 염료;C.I. violet dyes such as solvent violet 8, 9, 13, 14, 36, 37, 47, 49;

C.I. 솔벤트 그린 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, 35 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다. C.I. Green dyes, such as solvent green 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, 35, etc. are mentioned.

상기 C.I. 솔벤트 염료중 유기용매에 대한 용해성이 우수한 C.I. 솔벤트 옐로우 14, 16, 21, 56, 151, 79, 93; C.I. 솔벤트 레드 8, 49, 89, 111, 122, 132, 146, 179; C.I. 솔벤트 오렌지 41, 45, 62; C.I. 솔벤트 블루 35, 36, 44, 45, 70; C.I. 솔벤트 바이올렛 13 이 바람직하고 이중 C.I. 솔벤트 옐로우 21, 79; C.I. 솔벤트 레드 8, 122, 132; 가 좀더 바람직하다.The C.I. Among solvent dyes, C.I. Solvent Yellow 14, 16, 21, 56, 151, 79, 93; C.I. Solvent Red 8, 49, 89, 111, 122, 132, 146, 179; C.I. Solvent Orange 41, 45, 62; C.I. Solvent Blue 35, 36, 44, 45, 70; C.I. Solvent Violet 13 is preferred and dual C.I. Solvent Yellow 21, 79; C.I. Solvent Red 8, 122, 132; is more preferable

또한, C.I. 애시드 염료로서,Also, C.I. As an acid dye,

C.I.애시드 옐로우 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251 등의 황색 염료;CI Acid Yellow 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112 , 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184 , 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251, etc. ;

C.I.애시드 레드 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 198, 206, 211, 215, 216, 217, 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 195, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426 등의 적색 염료;CI Acid Red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88 , 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 198, 206, 211, 215, 216, 217 , 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 195, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349 , 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426 red dyes;

C.I.애시드 오렌지 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173 등의 오렌지색 염료;orange dyes such as C.I. Acid Orange 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173;

C.I.애시드 블루 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 96, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324:1, 335, 340 등의 청색 염료;CI Acid Blue 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 96, 103 , 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324:1 blue dyes such as , 335 and 340;

C.I.애시드 바이올렛 6B, 7, 9, 17, 19, 66 등의 바이올렛색 염료;Violet dyes such as C.I. Acid Violet 6B, 7, 9, 17, 19, 66;

C.I.애시드 그린 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109등의 녹색 염료 등을 들 수 있다. Green dyes, such as C.I. acid green 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109, etc. are mentioned.

상기 애시드 염료중 유기용매에 대한 용해도가 우수한 C.I.애시드 옐로우 42; C.I.애시드 레드 92; C.I.애시드 블루 80, 90; C.I.애시드 바이올렛 66; C.I.애시드 그린 27 이 바람직하다. C.I. Acid Yellow 42, which has excellent solubility in organic solvents among the acid dyes; C.I. Acid Red 92; C.I. Acid Blue 80, 90; C.I. Acid Violet 66; C.I. Acid Green 27 is preferred.

또한 C.I.다이렉트 염료로서,Also as a C.I. direct dye,

C.I.다이렉트 옐로우 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 136, 138, 141 등의 황색 염료; CI Direct Yellow 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129 , 136, 138, 141 and other yellow dyes;

C.I.다이렉트 레드 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211, 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250 등의 적색 염료;CI Direct Red 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211 , 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250 and other red dyes;

C.I.다이렉트 오렌지 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107 등의 오렌지색 염료;orange dyes such as C.I. direct orange 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107;

C.I.다이렉트 블루 38, 44, 57, 70, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 196, 198, 199, 200, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 228, 229, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 247, 248, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293 등의 청색 염료;CI Direct Blue 38, 44, 57, 70, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113 , 114, 115, 117, 119, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 172, 173, 188, 189 , 190, 192, 193, 194, 196, 198, 199, 200, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 228, 229, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 247, 248 , 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293 blue dye;

C.I.다이렉트 바이올렛 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104 등의 바이올렛색 염료;Violet dyes, such as C.I. direct violet 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104;

C.I.다이렉트 그린 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.Green dyes, such as C.I. direct green 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82, etc. are mentioned.

또한, C.I. 모단토 염료로서 Also, C.I. as modanto dye

C.I.모단토 옐로우 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65 등의 황색 염료;yellow dyes such as C.I. modanto yellow 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65;

C.I.모단토 레드1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, 41, 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95 등의 적색 염료;CI Modanto Red 1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, red dyes such as 41, 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95;

C.I.모단토 오렌지 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48 등의 오렌지색 염료; CI Modanto Orange 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48, etc. dyes;

C.I.모단토 블루 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84 등의 청색 염료;CI Modanto Blue 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, blue dyes such as 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84;

C.I.모단토 바이올렛 1, 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53, 58 등의 바이올렛색 염료;Violet dyes such as C.I. modanto violet 1, 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53, 58;

C.I.모단토 그린 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.Green dyes, such as C.I. modanto green 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53, etc. are mentioned.

이들 염료는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These dyes can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

상기 착색제(D) 중의 염료의 함량은 상기 착색제(D) 중의 고형분에 대하여 0.5 내지 80 중량%, 구체적으로 0.5 내지 60 중량%, 더욱 구체적으로 1 내지 50 중량%로 포함될 수 있다. 상기 착색제(D) 중 염료의 함량이 상기 범위내일 경우 패턴 형성 후 유기용매에 의해 염료가 용출되는 신뢰성의 저하문제를 방지할 수 있으며, 감도가 우수한 이점이 있다.The content of the dye in the colorant (D) may be 0.5 to 80% by weight, specifically 0.5 to 60% by weight, more specifically 1 to 50% by weight based on the solid content in the colorant (D). When the content of the dye in the colorant (D) is within the above range, it is possible to prevent a problem of a decrease in reliability in which the dye is eluted by an organic solvent after pattern formation, and there is an advantage of excellent sensitivity.

용제(E)Solvent (E)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 용제(E)를 더 포함할 수 있다.The coloring photosensitive resin composition of this invention can contain a solvent (E) further.

본 발명의 용제(E)는 상기 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 다른 성분들을 용해시키는데 효과적인 것이면, 통상의 착색 감광성 수지 조성물에서 사용되는 용제를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다. 구체적으로, 에테르류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알코올류, 에스테르류 및 아미드류로 이루어진 군 중 1 이상을 사용할 수 있다.As long as the solvent (E) of the present invention is effective in dissolving other components contained in the colored photosensitive resin composition, a solvent used in a conventional colored photosensitive resin composition may be used without particular limitation. Specifically, one or more of the group consisting of ethers, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols, esters and amides may be used.

상기 용제(E)는 더욱 구체적으로 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸 에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류, 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류, ?-부티롤락톤 등의 환상 에스테르류 등을 사용할 수 있다.The solvent (E) is more specifically ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate, propylene glycol mono alkylene glycol alkyl ether acetates such as methyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate, and methoxypentyl acetate; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and mesitylene , methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as cyclohexanone, alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin, 3-ethoxypropionic acid Esters, such as ethyl and 3-methoxy methyl propionate, cyclic esters, such as -butyrolactone, etc. can be used.

상기 용제(E)는 도포성 및 건조성면에서 비점이 100℃ 내지 200℃인 유용제를 사용할 수 있으며, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 에틸락테이트, 부탈락테이트, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등을 이용할 수 있다.The solvent (E) may use an oil agent having a boiling point of 100°C to 200°C in terms of applicability and dryness, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, ethyl lactate, talate, 3-ethoxy ethyl propionate, 3-methoxy methyl propionate, etc. can be used.

상기 용제(E)는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 상기 착색 감광성 수지 조성물 전체 100중량%에 대하여 60 내지 90 중량%, 바람직하게는 70 내지 85 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용제가 상기 범위내로 포함될 경우 롤 코터, 스킨 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿코터(다이코터), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지는 효과가 있다.The solvent (E) may be used alone or in mixture of two or more, and may be included in an amount of 60 to 90% by weight, preferably 70 to 85% by weight, based on 100% by weight of the total amount of the colored photosensitive resin composition. When the solvent is included within the above range, there is an effect of improving the applicability when applied with an application device such as a roll coater, a skin coater, a slit and spin coater, a slit coater (die coater), or an inkjet.

첨가제(F)Additive (F)

본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 첨가제(F)를 더 포함할 수 있다. The colored photosensitive resin composition according to the present invention may further include an additive (F) if necessary.

구체적으로, 상기 착색 감광성 수지 조성물은 분산제, 습윤제, 실란 커플링제 및 응집 방지제로 이루어진 군으로부터 선택되는 첨가제(F)를 적어도 하나 이상 더 포함할 수 있다.Specifically, the colored photosensitive resin composition may further include at least one additive (F) selected from the group consisting of a dispersant, a wetting agent, a silane coupling agent, and an anti-aggregation agent.

상기 분산제로는 시판되고 있는 계면활성제를 사용할 수 있으며, 상기 계면 활성제로는 실리콘계 계면 활성제, 불소계 계면 활성제, 불소 원자를 가지는 실리콘계 계면활성제 및 이들의 혼합물 등을 들 수 있다.A commercially available surfactant may be used as the dispersant, and the surfactant may include a silicone-based surfactant, a fluorine-based surfactant, a silicone-based surfactant having a fluorine atom, and mixtures thereof.

상기 실리콘계 계면활성제로는 실록산 결합을 갖는 계면 활성제 등을 예로 들 수 있다.　시판품으로는, 토레이실 리콘 DC3PA, 토레이실리콘 SH7PA, 토레이실리콘 DC11PA, 토레이실리콘 SH21PA, 토 레이실리콘 SH28PA, 토레이실리콘 29SHPA, 토레이실리콘 SH30PA, 폴리에테르 변성 실리콘 오일 SH8400(토레이실리콘(주) 제조), KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341(신에쯔실리콘 제조), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460(GE도시바실리콘(주) 제조) 등을 들 수 있으나 이에 한정되지 않는다.Examples of the silicone-based surfactant include a surfactant having a siloxane bond. Commercially available products include Toray Silicone DC3PA, Toray Silicone SH7PA, Toray Silicone DC11PA, Toray Silicone SH21PA, Toray Silicone SH28PA, Toray Silicone 29SHPA, Toray Silicone SH30PA, polyether-modified silicone oil SH8400 (manufactured by Toray Silicone Co., Ltd.), KP321 , KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 (manufactured by Shin-Etsu Silicon), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicon), etc. , but is not limited thereto.

상기 불소계 계면 활성제로는 플루오로카본 사슬을 갖는 계면 활성제 등을 예로 들 수 있다. 구체적으로는, 프로리네이트(상품명) FC430, 프로리네이트 FC431(스미또 모 3M(주) 제조), 메가팩(상품명) F142D, 메가팩 F171, 메가팩 F172, 메가팩 F173, 메가팩 F177, 메가팩 F183, 메가팩 R30(다이니폰잉크카가꾸코교(주) 제조), 에프톱 (상품명) EF301, 에프톱 EF303, 에프톱 EF351, 에프톱 EF352(신아끼따카세이(주) 제조), 서프론(상품명) S381, 서프론 S382, 서프론 SC101, 서프론 SC105(아사히가 라스(주) 제조), E5844((주)다이킨파인케미컬겐큐쇼 제조), BM-1000, BM-1100(상품 명: BMChemie사 제조) 등을 예로 들 수 있다.　상기 불소 원자를 가지는 실리콘계 계면 활성제로는 실록산 결합 및 플루오로카본 사슬을 가지는 계면 활성제 등을 예로 들 수 있다. 구체적으로는, 메가팩(상품명) R08, 메가팩 BL20, 메가팩 F475, 메 가팩 F477, 메가팩 F443(다이니폰잉크카가꾸코교(주) 제조) 등을 예로 들 수 있다. Examples of the fluorine-based surfactant include a surfactant having a fluorocarbon chain. Specifically, ProLinate (trade name) FC430, ProLinate FC431 (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Megapack (brand name) F142D, Megapack F171, Megapack F172, Megapack F173, Megapack F177, Megapack F183, Megapack R30 (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), ftop (brand name) EF301, ftop EF303, ftop EF351, ftop EF352 (manufactured by Shin-Akitakasei Co., Ltd.), Seo Pron (brand name) S381, Suflon S382, Suflon SC101, Suflon SC105 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), E5844 (manufactured by Daikin Fine Chemicals, Inc.), BM-1000, BM-1100 (product) Name: manufactured by BMChemie) and the like. Examples of the silicone-based surfactant having a fluorine atom include a surfactant having a siloxane bond and a fluorocarbon chain. Specifically, megapack (brand name) R08, megapack BL20, megapack F475, megapack F477, megapack F443 (manufactured by Dainippon Ink Chemicals Co., Ltd.) and the like can be exemplified.

상기 습윤제로는 예컨대 글리세린, 디에틸렌글리콜 및 에틸렌글리콜 등을 들 수 있으며, 이 중에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다. The wetting agent may include, for example, glycerin, diethylene glycol and ethylene glycol, and may include one or more selected from among them.

상기 실란 커플링제로는 예컨대 아미노프로필트리에톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란 및 γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 시판품으로는 SH6062, SZ6030(Toray-Dow Corning Silicon co.,Ltd. 제조), KBE903, KBM803(Shin-Etsu silicone co.,Ltd. 제조) 등이 있다. Examples of the silane coupling agent include aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane. Commercially available products include SH6062 and SZ6030 (Toray-Dow). Corning Silicon co., Ltd.), KBE903, KBM803 (manufactured by Shin-Etsu silicone co., Ltd.), etc.

상기 응집 방지제에는 예컨대 폴리아크릴산나트륨을 들 수 있으나 이에 한정되지 않으며, 당업계에서 통상적으로 사용하는 응집 방지제를 적용할 수 있다.The anti-aggregation agent may include, for example, sodium polyacrylate, but is not limited thereto, and an anti-aggregation agent commonly used in the art may be applied.

상기 첨가제(F)는 상기 착색 감광성 수지 조성물 전체 100중량%에 대하여 0.001 내지 10 중량%, 구체적으로 0.001 내지 5 중량%, 더욱 구체적으로 0.001 내지 1 중량%로 포함될 수 있다. 상기 첨가제(F)가 상기 착색 감광성 수지 조성물에 대하여 상기 범위 내로 포함될 경우 상기 착색 감광성 수지 조성물로 제조되는 컬러필터의 성능을 저하시키지 않으면서도, 첨가제 각각의 목적하는 성능의 부여가 가능한 이점이 있다.The additive (F) may be included in an amount of 0.001 to 10% by weight, specifically 0.001 to 5% by weight, and more specifically 0.001 to 1% by weight based on 100% by weight of the total weight of the colored photosensitive resin composition. When the additive (F) is included within the above range with respect to the colored photosensitive resin composition, the desired performance of each additive can be imparted without degrading the performance of the color filter made of the colored photosensitive resin composition.

<컬러필터><Color filter>

본 발명의 다른 양태는 상기 착색 감광성 수지 조성물을 포함하는 컬러필터이다. Another aspect of the present invention is a color filter comprising the colored photosensitive resin composition.

컬러필터는 전술한 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 기재 상에 도포하고, 광경화 및 현상하여 패턴을 형성함으로써 제조할 수 있다.The color filter may be prepared by coating the above-described colored photosensitive resin composition of the present invention on a substrate, photocuring and developing to form a pattern.

먼저, 착색 감광성 수지 조성물을 기재에 도포한 후 가열 건조함으로써 용매 등의 휘발 성분을 제거하여 평활한 도막을 얻는다.First, after apply|coating a coloring photosensitive resin composition to a base material, volatile components, such as a solvent, are removed by heat-drying, and a smooth coating film is obtained.

도포 방법으로는, 예를 들어 스핀 코트, 유연 도포법, 롤 도포법, 슬릿 앤드 스핀 코트 또는 슬릿 코트법 등에 의해 실시될 수 있다. 도포 후 가열건조 (프리베이크), 또는 감압 건조 후에 가열하여 용매 등의 휘발 성분을 휘발시킨다. 여기에서, 가열 온도는 통상 70 내지 200℃, 바람직하게는 80 내지 130℃이다. 가열건조 후의 도막 두께는 통상 1 내지 8㎛ 정도이다. 이렇게 하여 얻어진 도막에, 목적으로 하는 패턴을 형성하기 위한 마스크를 통해 자외선을 조사한다. 이 때, 노광부 전체에 균일하게 평행 광선이 조사되고, 또한 마스크와 기판의 정확한 위치 맞춤이 실시되도록, 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다. 자외선을 조사하면, 자외선이 조사된 부위의 경화가 이루어진다.As a coating method, it can carry out, for example by the spin coating method, the cast coating method, the roll coating method, the slit-and-spin coating method, or the slit coating method. After application, heat drying (pre-baking), or drying under reduced pressure is heated to volatilize volatile components such as solvents. Here, the heating temperature is usually 70 to 200°C, preferably 80 to 130°C. The thickness of the coating film after heat drying is usually about 1 to 8 µm. In this way, the obtained coating film is irradiated with an ultraviolet-ray through the mask for forming the target pattern. At this time, it is preferable to use a device such as a mask aligner or a stepper so that parallel rays are uniformly irradiated to the entire exposed portion and the mask and the substrate are accurately aligned. When irradiated with ultraviolet rays, the portion irradiated with ultraviolet rays is cured.

상기 자외선으로는 g선(파장: 436㎚), h선, i선(파장: 365㎚) 등을 사용할 수 있다. 자외선의 조사량은 필요에 따라 적절히 선택될 수 있는 것이며, 본 발명에서 이를 한정하지는 않는다. 경화가 종료된 도막을 현상액에 접촉시켜 비노광부를 용해시켜 현상하면 목적으로 하는 패턴 형상을 형성할 수 있다.As the ultraviolet rays, g-line (wavelength: 436 nm), h-line, i-line (wavelength: 365 nm), etc. may be used. The irradiation amount of ultraviolet rays may be appropriately selected according to need, and the present invention is not limited thereto. When the cured coating film is brought into contact with a developer to dissolve the unexposed portion and developed, a desired pattern shape can be formed.

상기 현상 방법은, 액첨가법, 디핑법, 스프레이법 등 어느 것을 사용하여도 무방하다. 또한 현상시에 기판을 임의의 각도로 기울여도 된다. 상기 현상액은 통상 알칼리성 화합물과 계면 활성제를 함유하는 수용액이다. 상기 알칼리성 화합물은, 무기 및 유기 알칼리성 화합물의 어느 것이어도 된다. 무기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 인산수소 2나트륨, 인산2수소나트륨, 인산수소 2암모늄, 인산2수소암모늄, 인산 2수소칼륨, 규산 나트륨, 규산 칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 탄산 수소나트륨, 탄산 수소 칼륨, 붕산 나트륨, 붕산 칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 또한, 유기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 테트라메틸암모늄히드록사이드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록사이드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다.As the developing method, any of a liquid addition method, a dipping method, and a spray method may be used. Moreover, you may incline a board|substrate at an arbitrary angle at the time of development. The developer is usually an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant. Any of an inorganic and organic alkaline compound may be sufficient as the said alkaline compound. Specific examples of the inorganic alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate , sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia, and the like. Further, specific examples of the organic alkaline compound include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, Monoisopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine, etc. are mentioned.

이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은, 각각 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 알칼리 현상액 중의 알칼리성 화합물의 농도는, 바람직하게는 0.01 내지 10 질량%이고, 보다 바람직하게는 0.03 내지 5 질량%이다.These inorganic and organic alkaline compounds can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively. The concentration of the alkaline compound in the alkaline developer is preferably 0.01 to 10 mass%, more preferably 0.03 to 5 mass%.

상기 알칼리 현상액 중의 계면 활성제는 비이온계 계면 활성제, 음이온계 계면 활성제 또는 양이온계 계면 활성제로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 사용할 수 있다.The surfactant in the alkaline developer may be at least one selected from the group consisting of nonionic surfactants, anionic surfactants, and cationic surfactants.

상기 비이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다.Specific examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene aryl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene/oxypropylene block copolymer, sorbitan fatty acid ester, Polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerol fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine, etc. are mentioned.

상기 음이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 라우릴알코올황산에 스테르나트륨이나 올레일알코올황산에스테르나트륨 등의 고급 알코올 황산에스테르염류, 라우릴황산나트륨이나 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산염류, 도데실벤젠술폰산나트륨이나 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다.Specific examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, dodecylbenzenesulfonic acid Alkylaryl sulfonates, such as sodium and sodium dodecyl naphthalene sulfonate, etc. are mentioned.

상기 양이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 스테아릴아민염산염이나 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 이들 계면 활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the cationic surfactant include amine salts such as stearylamine hydrochloride and lauryl trimethylammonium chloride, or quaternary ammonium salts. These surfactants can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

상기 현상액 중의 계면 활성제의 농도는, 통상 0.01 내지 10 질량%, 바람직하게는 0.05 내지 8 질량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5 질량%이다. 현상 후, 수세하고, 또한 필요에 따라 150 내지 230 에서 10 내지 60 분의 포스트베이크를 실시할 수도 있다.The concentration of the surfactant in the developer is usually 0.01 to 10 mass%, preferably 0.05 to 8 mass%, and more preferably 0.1 to 5 mass%. After image development, it washes with water and can also perform post-baking for 10 to 60 minutes at 150-230 as needed.

<화상표시장치><Image display device>

본 발명의 또 다른 양태는 상술한 컬러필터가 구비되는 화상표시장치이다.Another aspect of the present invention is an image display device provided with the above-described color filter.

본 발명의 화상표시장치는 상기 컬러필터를 구비한 것으로서, 구체적인 예를 들면, 액정디스플레이, OLED, 플렉서블디스플레이 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The image display device of the present invention includes the color filter, and specific examples thereof include, but are not limited to, a liquid crystal display, an OLED, a flexible display, and the like.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다. 이하의 실시예 및 비교예에서 함량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 중량 기준이다.Hereinafter, preferred examples are presented to aid the understanding of the present invention, but the following examples are merely illustrative of the present invention and it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications are possible within the scope and spirit of the present invention, It goes without saying that such variations and modifications fall within the scope of the appended claims. In the following Examples and Comparative Examples, "%" and "part" indicating the content are by weight unless otherwise specified.

제조예 1: 안료분산 조성물의 제조Preparation Example 1: Preparation of pigment dispersion composition

안료로서 11.3 질량부의 C.I. 피그먼트 Blue 15:6, 안료 분산제로서 7.5 질량부의 DISPERBYK-2001(BYK사 제조) 및 1.2 질량부의 Acid Red 52, 용매로서 72 질량부의 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 및 8 질량부의 프로필렌글리콜모노메틸에테르를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합/분산하여 안료분산액 M1을 제조하였다.As a pigment, 11.3 parts by mass of C.I. Pigment Blue 15:6, 7.5 parts by mass of DISPERBYK-2001 (manufactured by BYK) and 1.2 parts by mass of Acid Red 52 as a pigment dispersant, 72 parts by mass of propylene glycol methyl ether acetate and 8 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether as a solvent are beads The pigment dispersion M1 was prepared by mixing/dispersing by a mill for 12 hours.

제조예 2 및 3: 알칼리 가용성 수지의 제조Preparation Examples 2 and 3: Preparation of alkali-soluble resin

제조예 2: 알칼리 가용성 수지(A-1)의 제조Preparation Example 2: Preparation of alkali-soluble resin (A-1)

step 1: 2-하이드록시-3-(비닐옥시카르보닐옥시)프로필메타크릴레이트의 제조Step 1: Preparation of 2-hydroxy-3- (vinyloxycarbonyloxy) propyl methacrylate

Figure 112016030487137-pat00011
Figure 112016030487137-pat00011

반응기에 비닐 하이드로겐카보네이트 10.0g (0.113mole)을 에틸 아세테이트 100mL에 가한다. 글리시딜메타크릴레이트 14.66g (0.103mole)과 FeCl3 0.83g (0.005mole)을 가한 후 상온에서 3시간 교반하였다. 정제수 100mL 를 가하고 30분간 교반한 후 유기 층을 회수하였다. 무수 황산마그네슘 3g을 가한 후 30분간 교반하고 여과한 후 여액을 감압 하에서 농축하였다. 농축 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피 (에틸 아세테이트 : n-헥산 = 1 : 4)로 정제하여 2-하이드록시-3-(비닐옥시카르보닐옥시)프로필 메타크릴레이트 11.57g (55.3% yield)를 얻었다.10.0 g (0.113 mole) of vinyl hydrogen carbonate was added to 100 mL of ethyl acetate in the reactor. After adding 14.66 g (0.103 mole) of glycidyl methacrylate and 0.83 g (0.005 mole) of FeCl 3 , the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. After adding 100 mL of purified water and stirring for 30 minutes, the organic layer was recovered. After adding 3 g of anhydrous magnesium sulfate, the mixture was stirred for 30 minutes, filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: n-hexane = 1: 4) to give 11.57 g (55.3% yield) of 2-hydroxy-3- (vinyloxycarbonyloxy) propyl methacrylate got it

H NMR: 1.90 (3H, s), 4.43~4.48 (4H, m), 4.46 (1H, dd), 4.96 (1H, dd), 5.58 (1H, dd), 6.20 (1H, dd), 7.15 (1H, m)H NMR: 1.90 (3H, s), 4.43-4.48 (4H, m), 4.46 (1H, dd), 4.96 (1H, dd), 5.58 (1H, dd), 6.20 (1H, dd), 7.15 (1H) , m)

m/z: 230m/z: 230

step 2: 2-에틸헥실 아크릴레이트의 제조Step 2: Preparation of 2-ethylhexyl acrylate

Figure 112016030487137-pat00012
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반응기에 아크릴산 20.0g (0.277mole)을 에틸 아세테이트 200mL에 가하였다. 트리에틸아민 33.7g (0.333mole)을 가하고 30분간 교반하였다. 3-브로모옥탄 80.3g (0.416mole)을 가한 후 70℃까지 승온한 후 6시간 동안 교반하였다. 상온으로 냉각한 후 정제수 200mL를 가한 후 30분간 교반하고 여과한 후 여액을 감압 하에서 농축하였다. 농축 잔류물을 실리카 겔 컬럼크로마토그래피 (에틸 아세테이트: n-헥산 = 1 : 4)로 정제하여 2-에틸 헥실아크릴레이트 30.8g (60.3% yield)를 얻었다.20.0 g (0.277 mole) of acrylic acid was added to 200 mL of ethyl acetate in the reactor. 33.7 g (0.333 mole) of triethylamine was added and stirred for 30 minutes. After adding 80.3 g (0.416 mole) of 3-bromooctane, the temperature was raised to 70° C. and stirred for 6 hours. After cooling to room temperature, 200 mL of purified water was added, stirred for 30 minutes, filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: n-hexane = 1: 4) to obtain 30.8 g (60.3% yield) of 2-ethyl hexyl acrylate.

1H NMR: 0.97 (6H, t), 1.29~1.33 (6H, m), 1.53~1.57 (4H, m), 3.95 (1H, m), 5.85 (1H, dd), 6.20 (1H, dd), 6.55 (1H, m)1H NMR: 0.97 (6H, t), 1.29-1.33 (6H, m), 1.53-1.57 (4H, m), 3.95 (1H, m), 5.85 (1H, dd), 6.20 (1H, dd), 6.55 (1H, m)

m/z: 184m/z: 184

step 3: 알칼리 가용성 수지(A-1) 의 제조Step 3: Preparation of alkali-soluble resin (A-1)

Figure 112016030487137-pat00013
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50 질량부의 글리시딜메타크릴레이트와 100 질량부의 2-하이드록시-3-(비닐옥시카르보닐옥시)프로필 메타크릴레이트, 100 질량부의 2-에틸 헥실아크릴레이트를 클로로폼(전체 모노머 질량 대비 20배 부피)에 가한다. AIBN 5부를 가하고 60℃에서 3시간 교반한 후 다시 80℃에서 2시간 교반하였다. 반응물을 상온으로 냉각 후 2시간 동안 추가 교반하였다. 50 parts by mass of glycidyl methacrylate, 100 parts by mass of 2-hydroxy-3-(vinyloxycarbonyloxy)propyl methacrylate, and 100 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate were mixed with chloroform (20 parts by mass relative to the total monomer mass). to the volume of the vessel). 5 parts of AIBN was added and stirred at 60° C. for 3 hours, followed by stirring at 80° C. for 2 hours. The reaction was further stirred for 2 hours after cooling to room temperature.

이렇게 합성된 알칼리 가용성 수지(A-1)를 GPC로 측정한 중량평균분자량 Mw는 약 12,630이었으며, 시차주사열량계로 측정한 유리전이 온도는 -7℃였다. 또한, x, y, z의 몰비는 40:20:40였다.The weight average molecular weight Mw of the thus synthesized alkali-soluble resin (A-1) measured by GPC was about 12,630, and the glass transition temperature measured by differential scanning calorimetry was -7°C. In addition, the molar ratio of x, y, and z was 40:20:40.

[A-1][A-1]

Figure 112016030487137-pat00014
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(R1: 메틸기, R2: 메틸기, R3: 수소(R1: methyl group, R2: methyl group, R3: hydrogen

x: 40, y: 20, z: 40x: 40, y: 20, z: 40

n: 1)n: 1)

제조예 3: 알칼리 가용성 수지(A-2)의 제조Preparation Example 3: Preparation of alkali-soluble resin (A-2)

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비함에있어서, 모노머 적하로트로서 52g의 2-페닐티오에틸아크릴레이트(0.25mole), 44g의 벤질메타크릴레이트(0.25mole), 12.9g의 메타크릴산(0.15mole), 41.3g의 비닐톨루엔(0.35mole), 4g의 t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 40g의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)를 투입한 후 교반/혼합하여 준비하고, 연쇄 이동제 적하조로서 6g의 n-도데칸티올, 24g의 PGMEA를 넣고 교반/혼합한 것을 준비하였다. 이 후 플라스크에 PGMEA 395g을 도입하고 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 치환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온하였다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하로트로부터 적하를 개시하였다. 적하는, 90℃를 유지하면서 각각 2시간 동안 진행하였고 1시간 후에 110℃까지 승온하여 8시간 동안 반응을 진행하여 고형분 산가가 70mgKOH/g인 알칼리 가용성 수지(A-2)를 얻었다. GPC로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 23,000이었으며, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.4였다. In preparing a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux cooling tube, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, 52 g of 2-phenylthioethyl acrylate (0.25 mole) and 44 g of benzyl methacrylate (0.25 mole) as a monomer dropping lot ), 12.9 g of methacrylic acid (0.15 mole), 41.3 g of vinyltoluene (0.35 mole), 4 g of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 40 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) After the addition, it was prepared by stirring/mixing, and as a chain transfer agent dropping tank, 6 g of n-dodecanthiol and 24 g of PGMEA were added and stirred/mixed. Thereafter, 395 g of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and the temperature of the flask was raised to 90° C. while stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were started dripping from the dropping lot. The dropping was carried out for 2 hours while maintaining 90° C., and after 1 hour, the temperature was raised to 110° C. and the reaction proceeded for 8 hours to obtain an alkali-soluble resin (A-2) having a solid content acid value of 70 mgKOH/g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 23,000, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 2.4.

상기 알칼리 가용성 수지의 중량평균분자량(Mw) 및 수평균분자량(Mn)의 측정에 대해서는 GPC법을 이용하여 하기의 조건으로 실시하였다.The measurement of the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the alkali-soluble resin was performed under the following conditions using the GPC method.

장치: HLC-8120GPC(도소(주) 제조)Device: HLC-8120GPC (manufactured by Tosoh Corporation)

칼럼: TSK-GELG4000HXL + TSK-GELG2000HXL(직렬 접속)Column: TSK-GELG4000HXL + TSK-GELG2000HXL (serial connection)

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40°C

이동상 용매: 테트라히드로퓨란Mobile phase solvent: tetrahydrofuran

유속: 1.0 ml/분Flow rate: 1.0 ml/min

주입량: 50 μlInjection volume: 50 μl

검출기: RIDetector: RI

측정 시료 농도: 0.6 질량%(용매 = 테트라히드로퓨란)Measurement sample concentration: 0.6 mass % (solvent = tetrahydrofuran)

교정용 표준 물질: TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500(도소(주) 제조)Standard materials for calibration: TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (manufactured by Tosoh Corporation)

실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 5Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 5

하기 표 1의 성분 및 함량을 사용하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A colored photosensitive resin composition was prepared using the components and contents of Table 1 below.

구분(중량부)Classification (parts by weight) 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 비교예 5Comparative Example 5 알칼리
가용성
수지(A)alkali
availability
Resin (A) A-1A-1 1.921.92 2.502.50 3.083.08 3.853.85 -- 3.463.46 0.390.39 -- A-2A-2 1.921.92 1.351.35 0.380.38 -- 3.863.86 0.380.38 3.463.46 -- A-3A-3 -- -- -- -- -- -- -- 3.853.85 광중합성 화합물
(B)photopolymerizable compound
(B) BB 4.934.93 광중합 개시제
(C)photopolymerization initiator
(C) CC 0.990.99 착색제
(D)coloring agent
(D) M1M1 27.1527.15 용매(E)Solvent (E) E-1E-1 8.508.50 E-2E-2 54.4954.49 첨가제
(F)additive
(F) FF 0.100.10 [A-1] 제조예 2의 알칼리 가용성 수지
[A-2] 제조예 3의 알칼리 가용성 수지
[A-3] 글리시딜 메타크릴레이트와 2-히드록시-3-(비닐옥시카보닐옥시)프로필 메타크릴레이트, 옥탄-3-일 아크릴레이트 단위와의 비는 몰비로 20:40:20, 평균분자량은 12,600
[B] KAYARAD DPHA(닛본가야꾸 제조)
[C] PBG-305(트론리사 제조)
[D] 안료분산조성물 M1
[E-1] 3-에톡시프로피오네이트
[E-2] 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트
[F] 산화방지제 F, 페놀계 산화방지제로 펜타에리트리톨 테트라키스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시히드로신남메이트)(알드리치사 제조)[A-1] Alkali-soluble resin of Preparation Example 2
[A-2] Alkali-soluble resin of Preparation Example 3
[A-3] The ratio of glycidyl methacrylate to 2-hydroxy-3-(vinyloxycarbonyloxy)propyl methacrylate and octan-3-yl acrylate units is 20:40:20 in molar ratio. , the average molecular weight is 12,600
[B] KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku)
[C] PBG-305 (manufactured by Tronley)
[D] Pigment dispersion composition M1
[E-1] 3-ethoxypropionate
[E-2] Propylene glycol monomethyl ether acetate
[F] Antioxidant F, phenolic antioxidant pentaerythritol tetrakis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate) (manufactured by Aldrich)

컬러필터의 제조Manufacture of color filters

상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5에 따라 제조된 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 컬러필터를 제조하였다.Color filters were prepared using the colored photosensitive resin compositions prepared according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5.

상기 실시예 1 내지 3과 비교예 1 내지 5의 착색 감광성 수지 조성물을 스핀코팅법으로 유리기판 위에 도포한 다음, 가열판 위에 놓고 100℃의 온도에서 3분간 유지하여 박막을 형성시켰다. 이어서, 상기 박막 위에 투과율을 1 내지 100%의 범위에서 계단상으로 변화시키는 패턴과 1㎛에서 50㎛까지의 라인/스페이스 패턴을 갖는 시험 포토마스크를 올려놓고 시험 포토 마스크와의 간격을 100㎛로 하여 자외선을 조사하였다. 이때, 자외선 광원은 G, H, I 선을 모두 함유하는 1kw 고압 수은등을 사용하여 100mJ/cm2의 조도로 조사하였으며, 특별한 광학 필터는 사용하지 않았다. 상기에서 자외선이 조사된 박막을 pH 10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 2분 동안 담구어서 현상하였다. 그 후, 박막이 입혀진 유리판을 증류수를 사용하여 씻어준 다음, 질소 가스를 불어서 건조하고, 200℃의 가열 오븐에서 30분 동안 가열하였다. 컬러필터의 패턴 형상(필름) 두께는 통상 1~5㎛, 구체적으로 2~4㎛ 를 만족하는 것이 좋으며, 이를 통해 얻어진 본원의 실시예에 따른 컬러필터의 패턴 형상(필름) 두께는 모두 상기 기준을 만족하였다.The colored photosensitive resin compositions of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 were coated on a glass substrate by spin coating, placed on a heating plate, and maintained at a temperature of 100° C. for 3 minutes to form a thin film. Then, a test photomask having a pattern for changing the transmittance in a range of 1 to 100% and a line/space pattern from 1 μm to 50 μm is placed on the thin film, and the distance from the test photo mask is set to 100 μm. and irradiated with ultraviolet rays. At this time, the ultraviolet light source was irradiated with an illuminance of 100mJ/cm 2 using a 1kw high-pressure mercury lamp containing all of the G, H, and I lines, and no special optical filter was used. The thin film irradiated with ultraviolet light was developed by immersing it in a developing solution of an aqueous KOH solution having a pH of 10.5 for 2 minutes. Thereafter, the glass plate coated with the thin film was washed with distilled water, dried by blowing nitrogen gas, and heated in a heating oven at 200° C. for 30 minutes. The thickness of the pattern shape (film) of the color filter is generally 1 to 5 μm, specifically 2 to 4 μm. was satisfied.

실험예Experimental example

상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5의 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 만들어진 컬러필터에 대한 다양한 실험을 아래와 같은 방법으로 실시하고, 그 결과를 하기 표 2에 기재하였다. 본 발명에서 이용한 측정법 및 평가방법은 다음과 같다. Various experiments on color filters made using the colored photosensitive resin compositions of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 were performed in the following manner, and the results are shown in Table 2 below. The measuring method and evaluation method used in the present invention are as follows.

실험예 1: 컬러필터의 현상 속도 실험Experimental Example 1: Color filter development speed test

상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5의 착색 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터를 대상으로 현상 속도 실험을 실시하였으며, 현상 속도 실험에 대한 검토 기준은 현상 <Spray Developer HPMJ 방식>시 비노광부가 현상액에 최초로 용해되는데 걸리는 시간으로 하였고, 그 결과를 표 2에 나타내었다. A developing speed test was performed on the color filters prepared with the colored photosensitive resin compositions of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5, and the review criteria for the developing speed test were the unexposed part during development <Spray Developer HPMJ method> It was taken as the time it takes to dissolve in the developer for the first time, and the results are shown in Table 2.

실험예 2: 컬러필터의 내용제성 실험Experimental Example 2: Solvent resistance test of color filter

상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5에 따른 착색 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터를 대상으로 내용제성 측정 실험을 하였으며, 상기 실험을 통하여 컬러필터 제조시 혹은 액정표시장치를 제작시 사용하게 되는 용제에 대한 안정성을 평가하였고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다. A solvent resistance measurement experiment was performed on the color filters prepared with the colored photosensitive resin compositions according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5, and through the above experiment, the color filter was used when manufacturing a color filter or a liquid crystal display device. The stability of the solvent was evaluated, and the results are shown in Table 2 below.

상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5에 따른 착색 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터를 각각의 용제(NMP; 1-메틸-2-파이롤리디논)에 30분간 침지시켜, 평가전후의 색변화를 계산하여 비교 평가하였으며, 이 때 사용되는 식은 L*, a*, b*로 정의되는 3차원 색도계에서의 색변화를 나타내는 하기 수학식 1에 의해 계산되었다. The color filters prepared from the colored photosensitive resin compositions according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 were immersed in each solvent (NMP; 1-methyl-2-pyrrolidinone) for 30 minutes, and the color before and after evaluation The change was calculated and evaluated for comparison, and the equation used at this time was calculated by Equation 1 below, which represents the color change in a three-dimensional colorimeter defined by L*, a*, and b*.

[수학식 1] [Equation 1]

△Eab*= (L*)2+ (a*)2+(b*)2]1/2 △Eab*= (L*) 2 + (a*) 2 +(b*) 2 ] 1/2

○: △Eab = 1 미만,○: △Eab = less than 1,

△: △Eab = 1 ~ 3,△: △Eab = 1 to 3,

×: Eab = 3 초과×: Eab = greater than 3

상기 실험예 1 및 2는 일반적인 컬러필터 제조시 필요한 물성치에 대한 실험 방법 및 평가 기준을 기술한 것으로서, COA 방식에 의한 각 공정 단계 상에서 필요한 물성치에 대한 실험 방법 및 평가 기준을 하기 실험예 3 및 4에 나타내었다.The Experimental Examples 1 and 2 describe the experimental methods and evaluation criteria for the physical properties required for manufacturing a general color filter, and the experimental methods and evaluation criteria for the physical properties required in each process step by the COA method are described in Experimental Examples 3 and 4 below. shown in

실험예Experimental example 3: 컬러필터의 3: of color filter 스트리퍼액stripper fluid 내성 및 tolerance and IZOIZO 에천트액etchant 내성 실험 immunity test

상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5의 착색 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터를 이용하여 스트리퍼액에 대한 내성 및 IZO(공통전극)막의 식각 공정 시 사용되는 에천트액에 대한 내성평가를 진행하였고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다. Resistance to the stripper solution and the etchant solution used in the etching process of the IZO (common electrode) film were evaluated using the color filter prepared with the colored photosensitive resin composition of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5. and the results are shown in Table 2 below.

스트리퍼액(PRS-2000, 동우화인켐사) 및 IZO 에천트액(MA-S03/MASZ02 - 동우화인켐사)을 상기 현상시 사용되었던 Spray Developer(HPMJ방식) 방식과 동일하게 진행하였다. 스트립 및 IZO 에칭조건에 대해서는 IZO 에칭조건은 35℃에서 2분동안 침지 후 수세하여 IZO 에천트액에 의한 도막의 안정성을 확인하였으며, 스트리퍼액에 대한 조건은 70~80℃에서 3~5분 정도 평가를 실시하였다. 스트리퍼액에 대한 평가 역시 도막의 안정성을 확인하였다.Stripper solution (PRS-2000, Dongwoo Fine-Chem) and IZO etchant (MA-S03/MASZ02 - Dongwoo Fine-Chem) were carried out in the same manner as in the Spray Developer (HPMJ method) method used during the development. For strip and IZO etching conditions, IZO etching conditions were immersed at 35°C for 2 minutes and then washed with water to confirm the stability of the coating film by IZO etchant, and the conditions for stripper solution were evaluated at 70-80°C for 3-5 minutes. was carried out. Evaluation of the stripper solution also confirmed the stability of the coating film.

먼저 포지티브 PR < Clariant 사 : HKT-601>을 R/G/B 패턴 도막 위에 도포를 한 다음 가열판 위에 놓고 90의 온도에서 1분간 유지하여 박막을 형성시켰다. 이어서, 상기 박막 위에 투과율을 1 내지 100%의 범위에서 계단상으로 변화시키는 패턴과 1㎛에서 50㎛까지의 라인/스페이스 패턴을 갖는 시험 포토마스크를 올려놓고 시험 포토 마스크와의 간격을 100㎛로 하여 자외선을 조사하였다. 이때 자외선광원은 g, h, i 선을 모두 함유하는 1kW 고압 수은등을 사용하여 100mJ/㎠의 조도로 조사하였으며, 특별한 광학필터는 사용하지 않았다. 상기에서 자외선이 조사된 박막을 추가로 가열판 위에 놓고 110의 온도에서 1분간 유지하여 박막을 한번 더 큐어링하였다. 상기에서 자외선이 조사된 박막을 TMAH 2.38% 수용액 현상 용액에 30초동안 담구어서 현상하였다. 그 후, 박막이 입혀진 유리판을 증류수를 사용하여 씻어준 다음, 질소 가스를 불어서 건조하고, 130의 가열 오븐에서 2분 동안 가열하였다. 통상적인 포지티브 PR 패턴 형상(필름) 두께는 1~5㎛이고 더욱 바람직하게는 2~4㎛ 정도이며, 제조된 포지티브 PR 패턴 형상(필름)의 두께는 상기 범위를 모두 만족하였다. IZO 박막의 증착조건은 스퍼터(Sputter)를 이용해 500~2000Å이적합하며, 더욱 바람직하게는 500~1000Å 정도이며, IZO 박막의 증착은 상기 범위 내에서 적절히 수행하였다. 각 실험에 대한 검토 기준은 다음과 같다.First, positive PR <Clariant Corporation: HKT-601> was applied on the R/G/B pattern coating film, then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 90° C. for 1 minute to form a thin film. Next, a test photomask having a pattern for changing the transmittance in a range of 1 to 100% stepwise and a line/space pattern from 1 μm to 50 μm is placed on the thin film, and the distance from the test photo mask is set to 100 μm. and irradiated with ultraviolet rays. At this time, the ultraviolet light source was irradiated with an illuminance of 100mJ/cm2 using a 1kW high-pressure mercury lamp containing all of the g, h, and i lines, and no special optical filter was used. The thin film irradiated with ultraviolet rays was additionally placed on a heating plate and maintained at a temperature of 110 for 1 minute to cure the thin film once more. The thin film irradiated with ultraviolet light was developed by immersing it in a developing solution of 2.38% TMAH aqueous solution for 30 seconds. Thereafter, the glass plate coated with the thin film was washed with distilled water, dried by blowing nitrogen gas, and heated in a heating oven at 130 for 2 minutes. A typical positive PR pattern shape (film) thickness is 1 to 5 μm, more preferably about 2 to 4 μm, and the thickness of the prepared positive PR pattern shape (film) satisfies all of the above ranges. The deposition condition of the IZO thin film is 500 ~ 2000 Å using sputter, more preferably about 500 ~ 1000 Å, and the deposition of the IZO thin film was appropriately performed within the above range. The review criteria for each experiment are as follows.

C/H 크기(㎛): 컨택트 홀 마스크(Contact Hole Mask)의 40㎛ 패턴의 노광후 선폭의 크기.C/H size (㎛): The size of the line width after exposure of the 40㎛ pattern of the contact hole mask.

C/H 형태: C/H 마스크의 40㎛ 스퀘어 패턴의 노광후, SEM 이미지상 40㎛ 마스크 패턴의 구현 정도.C/H shape: the degree of realization of the 40 μm mask pattern on the SEM image after exposure of the 40 μm square pattern of the C/H mask.

스트리퍼 내성: 패턴 마스크의 100㎛ 패턴의 노광후의 패턴 벗겨짐정도Stripper resistance: degree of pattern peeling after exposure of 100 μm pattern of pattern mask

IZO 에칭액 내성: 패턴 마스크의 100㎛ 패턴의 노광후의 패턴 안정성을 나타내는 것으로 패턴침식 정도.IZO etchant resistance: The degree of pattern erosion as indicating the pattern stability after exposure of a 100 μm pattern of a pattern mask.

상기 스트리퍼 내성 및 IZO 에칭액 내성은 3차원 표면 형상기의 광학현미경을 통한 확인 결과.The stripper resistance and IZO etchant resistance were confirmed through an optical microscope of a three-dimensional surface shaper.

○: 패턴상 벗겨짐 1~3개○: 1-3 pieces peeled off on a pattern

×: 패턴상 벗겨짐 3개 초과 및 패턴 박리로 내성 정도 평가 불가함.x: The tolerance degree cannot be evaluated by more than three peeling patterns and pattern peeling.

실험예Experimental example 4: 컬러필터의 4: of color filter 잔사residue 실험 Experiment

패턴된 BM Glass를 사용하여 상기 컬러필터 제조 공정에서 현상 공정까지 수행한 후, 기판상에 현상 잔사가 유무를 육안으로 관찰하여 하기 표 2에 나타내었다. After performing the color filter manufacturing process to the developing process using the patterned BM Glass, the presence or absence of the developing residue on the substrate was visually observed and shown in Table 2 below.

○: 기판상에 현상 잔사 없음○: No development residue on the substrate

×: 기판상에 현상 잔사 있음x: there is a development residue on the substrate

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 비교예 5Comparative Example 5 현상속도(sec)Development speed (sec) 1818 2020 2323 2828 1414 2626 1515 1212 NMP내용제성NMP solvent resistance ○○ ○○ ○○ ○○ ×× ○○ ×× ×× 스트리퍼 내성stripper resistant ○○ ○○ ○○ ○○ ×× ○○ ×× ×× IZO 에칭액 내성IZO etchant resistance ○○ ○○ ○○ ○○ ×× ○○ ×× ×× 잔사residue ○○ ○○ ○○ ×× ○○ ×× ○○ ××

상기 표 2를 참조하면, 본 발명에서의 알칼리 가용성 수지(A-1 및 A-2)를 모두 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 사용할 경우(실시예 1 내지 3), 본 발명에서의 알칼리 가용성 수지(A-1 및 A-2) 중 하나를 사용할 경우(비교예 1 및 2)나 본 발명에서의 알칼리 가용성 수지를 사용하지 않는 경우(비교예 5)보다 현상속도 및 내용제성이 우수하고, 컬러필터 제조 공정 시 기판상의 잔사 발생을 방지하는 효과가 우수함을 확인하였다. Referring to Table 2 above, when using the colored photosensitive resin composition containing both alkali-soluble resins (A-1 and A-2) in the present invention (Examples 1 to 3), the alkali-soluble resin in the present invention ( When one of A-1 and A-2) is used (Comparative Examples 1 and 2) or when the alkali-soluble resin in the present invention is not used (Comparative Example 5), the development speed and solvent resistance are superior, and the color filter It was confirmed that the effect of preventing the generation of residues on the substrate during the manufacturing process was excellent.

또한, 본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 함량비 즉, [A-1] 대 [A-2]의 함량비가 본 발명에서의 함량비인 2:8 내지 8:2를 만족하는 경우(실시예 1 내지 3), 상기 함량비를 만족하지 못하는 경우(비교예 3 및 4)보다 내용제성이 우수하고, 컬러필터 제조 공정 시 기판상의 잔사 발생을 방지하는 효과가 우수함을 확인하였다.In addition, when the content ratio of the alkali-soluble resin in the present invention, that is, the content ratio of [A-1] to [A-2] satisfies the content ratio of 2:8 to 8:2 in the present invention (Examples 1 to 3), it was confirmed that the solvent resistance was superior to the case where the content ratio was not satisfied (Comparative Examples 3 and 4), and the effect of preventing the residue on the substrate during the color filter manufacturing process was excellent.

Claims (7)

하기 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1); 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물(a1) 유래의 반복단위, (a1) 및 (a3)와 공중합 가능한 불포화 결합을 포함하는 화합물(a2) 유래의 반복단위, 불포화 카르복실산(a3) 유래의 반복단위를 포함하는 알칼리 가용성 수지(A-2)를 2:8 내지 8:2의 중량비로 함유하는 알칼리 가용성 수지(A)를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]
Figure 112016030487137-pat00015

(상기 화학식 1에서,
R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 H 또는 C1~C5의 알킬기이고,
n은 1 내지 4의 정수이며,
x, y, z는 각 반복단위의 공중합체 내 몰%로서,
x + y + z = 70 내지 100 몰%이다)

[화학식 2]
Figure 112016030487137-pat00016

(상기 화학식 2에서,
R4은 수소 또는 메틸기이고,
R5는 치환 또는 비치환된 2가 탄소수 1 내지 6의 알킬렌기 또는 알케닐렌기이며,
A는 치환 또는 비치환된 페닐기, 시클로헥실기, 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 알케닐기이고,
이 때, R5 및 A의 치환체는 각각 독립적으로 불소, 염소, 브롬, 요오드, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 3의 퍼할로겐화 알킬기, 히드록시기, 탄소수 1 내지 6의 케톤기, 탄소수 1 내지 6의 에스테르기, N,N-(C1-C3) 알킬 치환된 아미드기로 이루어진 군으로부터 선택된다).Alkali-soluble resin (A-1) represented by the following formula (1); and a repeating unit derived from compound (a1) represented by the following formula (2), a repeating unit derived from compound (a2) containing an unsaturated bond copolymerizable with (a1) and (a3), and a repeating unit derived from an unsaturated carboxylic acid (a3) A colored photosensitive resin composition comprising an alkali-soluble resin (A) containing an alkali-soluble resin (A-2) containing units in a weight ratio of 2:8 to 8:2:
[Formula 1]
Figure 112016030487137-pat00015

(In Formula 1,
R1, R2 and R3 are each independently H or a C1-C5 alkyl group,
n is an integer from 1 to 4,
x, y, z are mole % in the copolymer of each repeating unit,
x + y + z = 70 to 100 mol%)

[Formula 2]
Figure 112016030487137-pat00016

(In Formula 2,
R4 is hydrogen or a methyl group,
R5 is a substituted or unsubstituted divalent alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or an alkenylene group,
A is a substituted or unsubstituted phenyl group, a cyclohexyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkenyl group,
In this case, the substituents of R5 and A are each independently fluorine, chlorine, bromine, iodine, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a perhalogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydroxyl group, a ketone group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 6 carbon atoms. ester groups of, N,N-(C1-C3) alkyl-substituted amide groups). 제1항에 있어서,
상기 x로 표시되는 반복단위는 상기 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1)를 구성하는 반복 단위들의 총 함량에 대하여 15 내지 50몰%로 포함되는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.According to claim 1,
The repeating unit represented by x is 15 to 50 mol% based on the total content of the repeating units constituting the alkali-soluble resin (A-1) represented by the formula (1) Colored photosensitive resin composition, characterized in that it is included. 제1항에 있어서,
상기 y로 표시되는 반복단위 및 상기 z로 표시되는 반복단위의 합은 상기 화학식 1로 표시되는 알칼리 가용성 수지(A-1)를 구성하는 반복 단위들의 총 함량에 대하여 50 내지 85몰%로 포함되는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.According to claim 1,
The sum of the repeating unit represented by y and the repeating unit represented by z is included in an amount of 50 to 85 mol% based on the total content of the repeating units constituting the alkali-soluble resin (A-1) represented by Formula 1 The colored photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지(A)는 상기 착색 감광성 수지 조성물 전체 고형분에 대하여 10 내지 80 중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.According to claim 1,
The alkali-soluble resin (A) is a colored photosensitive resin composition, characterized in that it is contained in an amount of 10 to 80% by weight based on the total solid content of the colored photosensitive resin composition. 제1항에 있어서,
상기 착색 감광성 수지 조성물은 광중합성 화합물(B), 광중합 개시제(C), 착색제(D) 및 용제(E)로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 성분을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.According to claim 1,
The colored photosensitive resin composition further comprises one or more components selected from the group consisting of a photopolymerizable compound (B), a photoinitiator (C), a colorant (D) and a solvent (E). 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 착색 감광성 수지 조성물로부터 형성되는 컬러필터.A color filter formed from the colored photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 5. 제6항의 컬러필터를 포함하는 화상표시장치.An image display device comprising the color filter of claim 6.
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KR20120021752A (en) * 2010-08-16 2012-03-09 동우 화인켐 주식회사 A colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device having the same
KR20130048072A (en) * 2011-11-01 2013-05-09 동우 화인켐 주식회사 A colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device having the same
KR20130060826A (en) * 2011-11-30 2013-06-10 동우 화인켐 주식회사 A colored photosensitive resin composition
KR101985769B1 (en) * 2013-03-15 2019-06-04 동우 화인켐 주식회사 Method of manufacturing color filter using maskless digital exposure

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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