JP2016066662A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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- H01L29/0603—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions
- H01L29/0642—Isolation within the component, i.e. internal isolation
- H01L29/0649—Dielectric regions, e.g. SiO2 regions, air gaps
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Abstract
【解決手段】半導体装置の製造方法は、半導体層の上に複数の電極層を積層した電極を形成する積層工程と;電極に対して熱処理を行う熱処理工程とを備え、積層工程は、アルミニウム(Al)から主に成る第1の電極層を、複数の電極層の1つとして形成する工程と;アルミニウム(Al)より高い融点を有するとともに450℃以上の温度でアルミニウム(Al)と反応する導電性材料、から主に成る第2の電極層を、複数の電極層の1つとして、第1の電極層の上に形成する工程と;パラジウム(Pd)から主に成る第3の電極層を、複数の電極層のうち半導体層から最も離れた電極層として、第2の電極層の上に形成する工程とを含む。
【選択図】図2
Description
A−1.半導体装置の構成
図1は、第1実施形態における半導体装置100の構成を模式的に示す断面図である。半導体装置100は、窒化ガリウム(GaN)を用いて形成されたGaN系の半導体装置である。本実施形態では、半導体装置100は、縦型トレンチMOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)である。本実施形態では、半導体装置100は、電力制御に用いられ、パワーデバイスとも呼ばれる。
図3は、第1実施形態における半導体装置100の製造方法を示す工程図である。まず、製造者は、基板110の上に半導体層112,114,116を結晶成長によって形成する(工程P112)。本実施形態では、製造者は、有機金属気相成長法(MOCVD:Metal Organic Chemical Vapor Deposition)を用いて半導体層112,114,116を形成する。
図11は、第1実施形態の変形例におけるソース電極140Bの詳細構造を示す説明図である。変形例のソース電極140Bは、電極層142と電極層144との間に挟まれた電極層143として、2層の電極層143a,143bを備える点を除き、図2のソース電極140と同様である。他の変形例では、ソース電極140Bは、電極層143として3層以上の電極層を備えてもよい。
図12は、第1評価試験におけるオン抵抗に関する評価結果を示すグラフである。第1評価試験では、試験者は、ソース電極の構成が異なる半導体装置として試料A1,A2,A3を作製した。試料A1は、ソース電極における多層構造が異なる点を除き、半導体装置100と同様である。試料A2は、半導体装置100と同様であり、図2の多層構造を有するソース電極140を備える。試料A3は、ソース電極における多層構造が異なる点を除き、半導体装置100と同様であり、図11の多層構造を有するソース電極140Bを備える。各試料におけるソース電極の多層構造は、次のとおりである。
半導体層116側から順に
1層目:チタン(Ti)から主に成る電極層(厚さ30nm)
2層目:アルミニウム(Al)から主に成る電極層(厚さ200nm)
3層目:パラジウム(Pd)から主に成る電極層(厚さ50nm)
半導体層116側から順に
1層目:チタン(Ti)から主に成る電極層(厚さ30nm)
2層目:アルミニウム(Al)から主に成る電極層(厚さ200nm)
3層目:モリブデン(Mo)から主に成る電極層(厚さ50nm)
4層目:パラジウム(Pd)から主に成る電極層(厚さ50nm)
半導体層116側から順に
1層目:チタン(Ti)から主に成る電極層(厚さ30nm)
2層目:アルミニウム(Al)から主に成る電極層(厚さ200nm)
3層目:モリブデン(Mo)から主に成る電極層(厚さ50nm)
4層目:バナジウム(V)から主に成る電極層(厚さ50nm)
5層目:パラジウム(Pd)から主に成る電極層(厚さ50nm)
図13は、第2評価試験における電極に関する評価結果を示す表である。第2評価試験では、試験者は、異なる多層構造を有する電極を有する試料B1〜B10を作製した。
以上説明した第1実施形態によれば、ドライエッチングによる接触抵抗の増大を抑制可能なソース電極140を形成できる。その結果、半導体装置100を製造する工程の自由度を向上できる。
図16は、第2実施形態における半導体装置300の構成を模式的に示す断面図である。半導体装置300は、第1実施形態のソース電極140とは異なるソース電極340Cを備える点を除き、第1実施形態の半導体装置100と同様である。半導体装置300のソース電極340Cは、コンタクトホール136における半導体層116の上からボディ電極170の上にわたって形成されている点を除き、第1実施形態のソース電極140と同様である。
本発明は、上述の実施形態や実施例、変形例に限られるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の構成で実現することができる。例えば、発明の概要の欄に記載した各形態中の技術的特徴に対応する実施形態、実施例、変形例中の技術的特徴は、上述の課題の一部または全部を解決するために、あるいは、上述の効果の一部または全部を達成するために、適宜、差し替えや、組み合わせを行うことが可能である。また、その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除することが可能である。
110…基板
112,114,116…半導体層
122…トレンチ
124…リセス
128…トレンチ
130…絶縁膜
136,138…コンタクトホール
140,140B…ソース電極
141…電極層(他の電極層)
142…電極層(第1の電極層)
143…電極層(第2の電極層)
143a…電極層(第2の電極層)
143b…電極層(第2の電極層)
144…電極層(第3の電極層)
150…ゲート電極
160…ドレイン電極
170…ボディ電極
180…電極層
200…半導体装置
216…半導体層
240…電極
290…フォトレジスト
300…半導体装置
340C…ソース電極
L1,L2,L3,L4…電極層
Claims (19)
- 半導体装置の製造方法であって、
半導体層の上に複数の電極層を積層した電極を形成する積層工程と、
前記電極に対して熱処理を行う熱処理工程と
を備え、
前記積層工程は、
アルミニウム(Al)から主に成る第1の電極層を、前記複数の電極層の1つとして形成する工程と、
アルミニウム(Al)より高い融点を有するとともに450℃以上の温度でアルミニウム(Al)と反応する導電性材料、から主に成る第2の電極層を、前記複数の電極層の1つとして、前記第1の電極層の上に形成する工程と、
パラジウム(Pd)から主に成る第3の電極層を、前記複数の電極層のうち前記半導体層から最も離れた電極層として、前記第2の電極層の上に形成する工程と
を含む、半導体装置の製造方法。 - 前記第2の電極層を形成する工程は、10nm以上の厚さで前記第2の電極層を形成する工程である、請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 請求項1または請求項2に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記第2の電極層を形成する工程は、
モリブデン(Mo)から主に成る電極層と、
バナジウム(V)から主に成る電極層と、
チタン(Ti)から主に成る電極層と、
タンタル(Ta)から主に成る電極層と、
タングステン(W)から主に成る電極層と、
ニオブ(Nb)から主に成る電極層と、
白金(Pt)から主に成る電極層と、
ジルコニウム(Zr)から主に成る電極層と、
ハフニウム(Hf)から主に成る電極層と、
のうち少なくとも1つの電極層を、前記第2の電極層として形成する工程である、半導体装置の製造方法。 - 前記第3の電極層を形成する工程は、10nm以上の厚さで前記第3の電極層を形成する工程である、請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の電極層の厚さAと前記第3の電極層の厚さBとの比A/Bは、0.25以上4.0以下である、請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の電極層の厚さAと前記第3の電極層の厚さBとの比A/Bは、0.33以上3.3以下である、請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記積層工程は、前記半導体層の上から、前記半導体層の上に形成された他の電極の上にわたって、前記電極を形成する工程である、請求項1から請求項6までのいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記積層工程は、窒化ガリウム(GaN)から主に成る前記半導体層の上に、前記電極を形成する工程である、請求項1から請求項7までのいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 請求項1から請求項8までのいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記積層工程は、チタン(Ti)およびバナジウム(V)の少なくとも一方から主に成る他の電極層を、前記複数の電極層の1つとして、前記半導体層の上に形成する工程を更に含み、
前記第1の電極層を形成する工程は、前記他の電極層の上に前記第1の電極層を形成する工程である、半導体装置の製造方法。 - 前記熱処理工程は、1分から10分の間、前記電極に対して前記熱処理を行う工程である、請求項1から請求項9までのいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記熱処理工程は、450℃以上700℃以下の処理温度で、前記電極に対して前記熱処理を行う工程である、請求項1から請求項10までのいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 請求項1から請求項11までのいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法を用いて製造された半導体装置。
- 半導体装置であって、
半導体層と、
前記半導体層の上に形成された電極と
を備え、
前記電極は、
アルミニウム(Al)から主に成る第1の電極層と、
アルミニウム(Al)より高い融点を有するとともに450℃以上の温度でアルミニウム(Al)と反応する導電性材料、から主に成り、前記第1の電極層の上に積層された第2の電極層と、
パラジウム(Pd)から主に成り、前記電極において前記半導体層から最も離れた電極層として、前記第2の電極層の上に積層された第3の電極層と
を含む、半導体装置。 - 前記第2の電極層の厚さは10nm以上である、請求項13に記載の半導体装置。
- 請求項13または請求項14に記載の半導体装置であって、
前記第2の電極層は、
モリブデン(Mo)から主に成る電極層と、
バナジウム(V)から主に成る電極層と、
チタン(Ti)から主に成る電極層と、
タンタル(Ta)から主に成る電極層と、
タングステン(W)から主に成る電極層と、
ニオブ(Nb)から主に成る電極層と、
白金(Pt)から主に成る電極層と、
ジルコニウム(Zr)から主に成る電極層と、
ハフニウム(Hf)から主に成る電極層と、
のうち少なくとも1つの電極層を含む、半導体装置。 - 前記第3の電極層の厚さは10nm以上である、請求項13から請求項15までのいずれか一項に記載の半導体装置。
- 前記電極は、前記半導体層の上に形成された他の電極を覆う、請求項13から請求項16までのいずれか一項に記載の半導体装置。
- 前記半導体層は、窒化ガリウム(GaN)から主に成る、請求項13から請求項17までのいずれか一項に記載の半導体装置
- 請求項13から請求項18までのいずれか一項に記載の半導体装置であって、
前記電極は、チタン(Ti)およびバナジウム(V)の少なくとも一方から主に成り、前記半導体層の上に形成された他の電極層を、更に含み、
前記第1の電極層は、前記他の電極層の上に積層されている、半導体装置。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005057641A1 (ja) * | 2003-12-08 | 2005-06-23 | Nec Corporation | 電極、その製造方法およびそれを用いた半導体素子 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005057641A1 (ja) * | 2003-12-08 | 2005-06-23 | Nec Corporation | 電極、その製造方法およびそれを用いた半導体素子 |
US20080179743A1 (en) * | 2003-12-08 | 2008-07-31 | Nec Corporation | Electrode, method for producing same and semiconductor device using same |
US20140167147A1 (en) * | 2012-12-14 | 2014-06-19 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Semiconductor device |
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