JP2016002668A - インプリント装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板ステージ7と、その位置を計測する第1計測部と、前記基板ステージ7の前記基板1の保持面に対して前記第1計測部よりも近い位置で、前記基板ステージ7の位置を計測する第2計測部と、前記モールド18と前記基板1とのアライメント計測を行う第3計測部12と、前記第1計測部の計測結果に基づいて前記基板ステージ7の位置を制御する第1モード、又は、前記第2計測部の計測結果に基づいて前記基板ステージ7の位置を制御する第2モードで前記ステージ7の位置を制御する制御部400と、前記インプリント処理を行っている間に、前記第3計測部による前記アライメント計測の結果が計測基準を満たしたことを検知する検知部と、を有し、前記制御部400は、前記検知部が検知した結果に基づき前記第2モードで前記基板ステージ7の位置を制御する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の第1の実施形態におけるインプリント装置100の構成を示す概略図である。インプリント装置100は、基板上のインプリント材をモールドで成形して基板上にパターンを形成するインプリント処理を行うリソグラフィ装置である。インプリント装置100は、本実施形態では、インプリント材として樹脂を使用し、樹脂の硬化法として、紫外線(UV光)の照射によって樹脂を硬化させる光硬化法を採用する。従って、インプリント装置100は、基板に樹脂を供給し、かかる樹脂とモールド(のパターン面)とを接触させた状態で樹脂を硬化させることによって基板にパターンを形成する。但し、インプリント装置100は、その他の波長域の光の照射によって樹脂を硬化させてもよいし、その他のエネルギー、例えば、熱によって樹脂を硬化させる熱硬化法を採用してもよい。また、以下では、基板上の樹脂に対して照射する紫外線の光軸に平行な方向をZ軸とし、Z軸に垂直な平面内で互いに直交する方向をX軸及びY軸とする。
図4は、本発明の第2の実施形態におけるインプリント装置100の構成を示す概略図である。本実施形態におけるインプリント装置100の構成は、第1の実施形態と同様である。第1の施形態では、基板ステージ7の基板1の保持面に対して計測器4及び6よりも近い位置において、基板ステージ7の位置を計測する第2計測部として干渉計で構成された計測器9を用いていた。一方、本実施形態では、基板ステージ7の基板1の保持面に対して計測器4及び6よりも近い位置において、基板ステージ7の位置を計測する第2計測部としてエンコーダで構成された計測器28を用いている。
物品としてのデバイス(半導体デバイス、磁気記憶媒体、液晶表示素子等)の製造方法について説明する。かかる製造方法は、インプリント装置100を用いてパターンを基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板等)に形成する工程を含む。かかる製造方法は、パターンを形成された基板を処理する工程を更に含む。当該処理ステップは、当該パターンの残膜を除去するステップを含みうる。また、当該パターンをマスクとして基板をエッチングするステップなどの周知の他のステップを含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (11)
- 基板上のインプリント材をモールドで成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
前記基板を保持して移動する基板ステージと、
前記基板ステージの位置を計測する第1計測部と、
前記基板ステージの前記基板の保持面に対して前記第1計測部よりも近い位置において、前記基板ステージの位置を計測する第2計測部と、
前記モールドと前記基板との位置合わせのためのアライメント計測を行う第3計測部と、
前記第1計測部の計測結果に基づいて前記基板ステージの位置を制御する第1モード、又は、前記第2計測部の計測結果に基づいて前記基板ステージの位置を制御する第2モードで前記ステージの位置を制御する制御部と、
前記インプリント処理を行っている間において、前記第3計測部による前記アライメント計測の結果が計測基準を満たしたことを検知する検知部と、を有し、
前記制御部は、前記検知部が検知した結果に基づき前記第2モードで前記基板ステージの位置を制御することを特徴とするインプリント装置。 - 前記制御部は、前記第3計測部による前記アライメント計測の結果が前記計測基準を満たしたことを前記検知部が検知するまでは前記第1モードで前記基板ステージの位置を制御することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記検知部は、
前記モールドと前記インプリント材との接触状態を検出するセンサを含み、
前記モールドと前記インプリント材とが接触したことを前記センサが検出したタイミングで、前記第3計測部による前記アライメント計測の結果が前記計測基準を満たしたと検知することを特徴とする請求項1又は2に記載のインプリント装置。 - 前記センサは、前記モールドを保持するモールドヘッド及び前記基板ステージの少なくとも一方に設けられた圧力センサを含むことを特徴とする請求項3に記載のインプリント装置。
- 前記第3計測部は、前記モールドに設けられたマーク及び前記基板ステージに設けられたマークを検出してアライメント信号を生成するアライメント検出系を含み、
前記検知部は、前記アライメント検出系によって生成された前記アライメント信号の指標が閾値を満たしたタイミングで、前記第3計測部による前記アライメント計測の結果が前記計測基準を満たしたと検知することを特徴とする請求項1又は2に記載のインプリント装置。 - 前記指標は、前記アライメント信号の強度、コントラスト及びパターンマッチングの相関度のうちの少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項5に記載のインプリント装置。
- 前記第1計測部は、エンコーダを含み、
前記第2計測部は、干渉計を含むことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記第1計測部及び前記第2計測部のそれぞれは、エンコーダを含むことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記モールドと前記基板との間の空間に前記インプリント材の前記モールドのパターンへの充填を促進させるガスを供給する供給部を更に有することを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記ガスは、前記成形中に前記モールドを透過する透過性ガス及び前記成形中に液化する凝縮性ガスの少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項9に記載のインプリント装置。
- 請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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