JP2015529839A - セグメント化ミラーを有するリソグラフィー装置 - Google Patents
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Abstract
Description
102 ビーム形成系
104 照明系
106 投影系
108 EUV光源
110 コリメーター
112 モノクロメーター
114 EUV放射
116 第一ミラー
118 第二ミラー
120 フォトマスク
122 ウェハー
124 第三ミラー
126 第四ミラー
200 ミラー機構
210-1〜210-4 ミラーセグメント
212 連結表面
214 空間
220 センサー
222,224 測定電極
226 容量測定装置
228 シールド電極
240 センサー溝
242 溝
250 ガス供給装置
252 ガス供給管
254 ガスノズル
260 ガス抽気装置
262 ガス排気管
264 ガス吸引コネクター
300 圧力センサー
305 熱酸化物
310 下蓋プレート
311、341 第一電極
312、342 メッキ貫通孔
313、343 導電要素
320 下側チップ平面
321、331 チップフレーム
322、332 第一バネ要素
323、333 ベース要素
324、334 第二バネ要素
325、335 振動要素
326、336 第二電極
330 上側チップ平面
340 上蓋プレート
350 音叉
352 振動ギャップ
Claims (19)
- 間に空間(214)が形成されるように連結されている少なくとも二つのミラーセグメント(210)を有するミラー(200)と、
前記ミラーセグメント(210)の相対位置を検出するためのセンサー(220、300)と、を備え、
前記センサー(220、300)は、前記ミラーセグメント(210)の間の前記空間(214)内に配置されていることを特徴とする、
リソグラフィー装置(100)。 - 前記ミラーセグメント(210)は、少なくとも一つの連結表面(212)をそれぞれ有し、前記ミラーセグメント(210)は前記連結表面(212)に沿って連結され、さらに、前記連結表面(212)の少なくとも一つには切り欠きが設けられており、前記センサー(220、300)は前記切り欠き内に配置されていることと特徴とする、請求項1に記載のリソグラフィー装置(100)。
- 前記センサー(220、300)は、前記ミラーセグメント(210)間の距離に応じたセンサー信号を生成する容量センサー又は光学センサーであることを特徴とする、請求項1又は2に記載のリソグラフィー装置(100)。
- 前記光学センサーは光学エンコーダー、特に、干渉ベースのインクリメンタルエンコーダーであることを特徴とする、請求項3に記載のリソグラフィー装置(100)。
- 前記センサーを駆動し、及び/又は、センサー信号を評価するためのセンサーコントローラーをさらに備え、前記センサーコントローラーと前記センサーとの間の少なくとも一部の区間で信号を無線送信することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載のリソグラフィー装置(100)。
- 前記空間(214)は、前記ミラーセグメント(210)の相対的な移動が前記空間(214)内で圧力変化をもたらすように構成されており、前記センサー(220、300)は前記空間(214)内の圧力に応じたセンサー信号を生成する圧力センサーであることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載のリソグラフィー装置(100)。
- 前記空間(214)にガスを供給するためのガス供給装置(250)と、
前記空間(214)からガスを抽気するためのガス抽気装置(260)と、をさらに備える、請求項6に記載のリソグラフィー装置(100)。 - 前記圧力センサー(300)は、
励振により振動可能な二つの振動要素(325、335)を有する音叉(350)であって、該音叉(350)のレゾナント周波数及び/又はレゾナント周波数における振幅は前記空間(214)内の圧力に依存することを特徴とする音叉と、
前記音叉(350)のレゾナント周波数及び/又はレゾナント周波数における振幅を検出するための機構と、
を備えることを特徴とする、請求項6又は7に従うリソグラフィー装置(100)。 - 前記振動要素(325、335)は構造を有する半導体材料又は石英で作られていることを特徴とする、請求項8に記載のリソグフラフィー装置(100)。
- 前記圧力センサー(300)は、前記振動要素(325、335)を振動させ、さらに、前記音叉(350)のレゾナント周波数及び/又はレゾナント周波数における振幅を検出するために用いることができる電極(311、341)をさらに備えることを特徴とする、請求項8又は9に記載のリソグラフィー装置(100)。
- 前記空間(214)は、前記ミラーセグメント(210)間のギャップであることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載のリソグラフィー装置(100)。
- 前記空間(214)は、前記センサー(220、300)が配置される溝(240)を備えることを特徴とする、請求項1〜11のいずれか一項に記載のリソグラフィー装置(100)。
- 前記溝(240)は、前記ミラーセグメント(210)の一つの少なくとも一つの連結表面(212)内の、特に、矩形である溝(242)により形成されたことを特徴とする、請求項11に記載のリソグラフィー装置(100)。
- 前記溝(242)は、前記連結表面(212)の長さ方向の全体にわたって延在していることを特徴とする、請求項13に記載のリソグラフィー装置(100)。
- 前記センサー(220、300)は、真空に適していることを特徴とする、請求項1〜14のいずれか一項に記載のリソグラフィー装置(100)。
- 前記空間(214)内に、複数自由度に関する前記ミラーセグメント(210)の相対位置を検出するための複数のセンサー(220、300)を備えることを特徴とする請求項1〜15のいずれか一項に記載のリソグラフィー装置(100)。
- 前記空間(214)内に配置された前記センサー(220、300)は、並進3自由度及び回転3自由度に関する前記ミラーセグメント(210)の位置を検出することを特徴とする、請求項16に記載のリソグラフィー装置(100)。
- 前記各ミラーセグメント(210)を分離して作動させるための少なくとも2つのアクチュエータをさらに備えることを特徴とする、請求項1〜17のいずれか一項に記載のリソグラフィー装置(100)
- 前記ミラーセグメント(210)は、相互に非接触の態様で配置されていることを特徴とする請求項1〜18のいずれか一項に記載のリソグラフィー装置(100)。
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---|---|---|---|---|
DE102014206589A1 (de) | 2014-04-04 | 2015-10-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Justieren eines Spiegels einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
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DE102016214785A1 (de) * | 2016-08-09 | 2018-02-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Modul mit einer Antikollisionseinrichtung für Modulkomponenten |
CN109061916A (zh) * | 2018-08-22 | 2018-12-21 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种液晶面板对位检测装置及方法 |
US11391820B2 (en) | 2019-04-26 | 2022-07-19 | Waymo L LC | Mirrors to extend sensor field of view in self-driving vehicles |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4816759A (en) * | 1987-10-28 | 1989-03-28 | Kaman Corporation | Inductive sensor for detecting displacement of adjacent surfaces |
US4825062A (en) * | 1987-10-29 | 1989-04-25 | Kaman Aerospace Corporation | Extendable large aperture phased array mirror system |
JPH03226708A (ja) * | 1990-01-23 | 1991-10-07 | Kaman Aerospace Corp | セグメントミラーとその制御法 |
WO2002004911A1 (de) * | 2000-07-07 | 2002-01-17 | U-Sen Mikrosystemtechnik Gmbh | Druckmessung mit zwei schwigenden platten |
JP2004266264A (ja) * | 2003-02-13 | 2004-09-24 | Canon Inc | 光学系、露光装置、デバイス製造方法 |
JP2005244238A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ機器及びデバイスの製造方法 |
US7050161B1 (en) * | 2003-08-06 | 2006-05-23 | The United States Of America As Represented By The Administration Of The National Aeronautics And Space Administration | Global radius of curvature estimation and control system for segmented mirrors |
JP2011512659A (ja) * | 2008-02-15 | 2011-04-21 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィのための投影露光装置に使用するファセットミラー |
WO2012059537A1 (en) * | 2010-11-05 | 2012-05-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection objective of a microlithographic exposure apparatus |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10154654A (ja) * | 1996-11-25 | 1998-06-09 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
US7126671B2 (en) * | 2003-04-04 | 2006-10-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2008053618A (ja) | 2006-08-28 | 2008-03-06 | Canon Inc | 露光装置及び方法並びに該露光装置を用いたデバイス製造方法 |
JP2009033048A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
DE102009000099A1 (de) * | 2009-01-09 | 2010-07-22 | Carl Zeiss Smt Ag | Mikrospiegelarray mit Doppelbiegebalken Anordnung und elektronischer Aktorik |
US8235536B2 (en) * | 2008-11-06 | 2012-08-07 | Projectiondesign As | High intensity image projector using sectional mirror |
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2014
- 2014-12-17 US US14/573,058 patent/US9846375B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4816759A (en) * | 1987-10-28 | 1989-03-28 | Kaman Corporation | Inductive sensor for detecting displacement of adjacent surfaces |
US4825062A (en) * | 1987-10-29 | 1989-04-25 | Kaman Aerospace Corporation | Extendable large aperture phased array mirror system |
JPH03226708A (ja) * | 1990-01-23 | 1991-10-07 | Kaman Aerospace Corp | セグメントミラーとその制御法 |
WO2002004911A1 (de) * | 2000-07-07 | 2002-01-17 | U-Sen Mikrosystemtechnik Gmbh | Druckmessung mit zwei schwigenden platten |
JP2004266264A (ja) * | 2003-02-13 | 2004-09-24 | Canon Inc | 光学系、露光装置、デバイス製造方法 |
US7050161B1 (en) * | 2003-08-06 | 2006-05-23 | The United States Of America As Represented By The Administration Of The National Aeronautics And Space Administration | Global radius of curvature estimation and control system for segmented mirrors |
JP2005244238A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ機器及びデバイスの製造方法 |
JP2011512659A (ja) * | 2008-02-15 | 2011-04-21 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィのための投影露光装置に使用するファセットミラー |
WO2012059537A1 (en) * | 2010-11-05 | 2012-05-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection objective of a microlithographic exposure apparatus |
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