JP2015515134A - マイクロリソグラフィ装置及びそのような装置において光学波面を変更する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
「光」という用語は、あらゆる電磁放射線、特に、可視光、UV光、DUV光、及びVUV光を表している。
図1は、本発明による投影露光装置10の略斜視図である。装置10は、193nmの中心波長を有する投影光を生成する光源LSを含む照明系12を含む。投影光は、微細な特徴部19のパターン18を含むマスク16上の視野14を照明する。この実施形態において、照明視野14は矩形形状を有する。しかし、他の形状、例えば、リングセグメントの照明視野14、更に他の動作波長、例えば、157nm又は248nmも考えられている。
図3は、図2に示す光学波面マニピュレータ42を通る非常に概略的な拡大子午断面図である。
以下では、光学波面マニピュレータ42を通過する投影光56の光学波面を変更するために、この光学波面マニピュレータをどのように作動させることができるかを説明する。
以下では、波面変形を補正するのに光学波面マニピュレータ42をどのように使用することができるかを説明する。
図7は、別の実施形態による光学波面マニピュレータ42を含む装置10を通る略子午断面図である。空洞50は、ここでもまた、2つの板44、46とハウジング構造48とによって封じ込められる。しかし、この実施形態において、空洞50は、マスク16とマスク台26を含み、ガス噴流86a、86bは、空洞50を封じ込める板44、46の一方の上に向けられず、マスク16の一方の側面の上に向けられる。他の点では、光学波面マニピュレータ42の構成は、図3に示す波面マニピュレータと同一である。
図8は、マイクロリソグラフィ装置の対物系において光学波面を変更する方法の重要な態様を要約する流れ図である。
50 気密空洞
56 投影光
58 ガス入口デバイス
86a、86b ガス噴流
Claims (16)
- 真空ポンプ(60、62)と、投影光(56)を生成するように構成された照明系(12)と、光学波面マニピュレータ(42)と、を備えるマイクロリソグラフィ装置(10)であって、
前記光学波面マニピュレータは、
a)光学要素(44)、
b)前記光学要素(44)によって部分的に封じ込められるか又は該光学要素を収容し、前記投影光(56)の光路に配置された気密空洞(50)、
c)前記光学要素(44)の方向にガス噴流(86a、86b)を向けるように構成され、該ガス噴流が前記空洞を通過した後に該光学要素上に衝突する場所が制御ユニット(84)によって供給される制御信号に応答して可変であるガス入口デバイス(58)、及び
d)前記真空ポンプの作動時に前記ガス噴流(86a、86b)が前記空洞(50)を通過する場合であっても該空洞内の圧力が10mbarよりも低いように、該真空ポンプ(60、62)と流体接続状態にあるガス出口(64、66)、
を含み、
前記空洞(50)の外側に配置され、かつ前記投影光(56)が通過するレンズ(L1からL4)、
を更に含むことを特徴とするマイクロリソグラフィ装置(10)。 - 前記ガス入口デバイスは、ノズル(82a、82b)と、前記制御信号に応答して該ノズル(78a、78b)の位置及び/又は向きを変更するように構成されたアクチュエータ(82a、82b)とを含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記ガス入口デバイス(58)は、複数のノズル(78a、78b)と複数の流量制御デバイス(76a、76b)とを含み、
各流量制御デバイスが、前記ノズルのうちの1つに関連付けられ、かつ該流量制御デバイスを通過するガスの量を制御するように構成される、
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の装置。 - 前記ガス入口デバイス(58)は、少なくとも1つの超音速自由噴流(86a、86b)を放出するように構成されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の装置。
- 前記ガス入口デバイスは、ラバールノズル(78a、78b)を含むことを特徴とする請求項4に記載の装置。
- 前記空洞(50)内の圧力が、前記ガス噴流(86a、86b)が該空洞を通過する場合であっても10−3mbarよりも低いことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の装置。
- 一連の連続光パルスを生成するように構成された光源(LS)を含む投影露光装置であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の装置。
- 前記ガス入口デバイス(58)は、光パルスが前記ガス噴流のいずれにも衝突しないように、前記光源(LS)によって生成された前記一連の光パルスと交互配置された一連の連続ガス噴流(86a、86b)を生成するように構成されることを特徴とする請求項7に記載の装置。
- 前記光学要素は、マスク(16)を面(22)上に結像する装置の対物系に配置された屈折光学要素であることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の装置。
- 前記光学要素は、マスク(16)であり、
装置が、前記マスク(16)を面(22)上に結像する対物系(20)を含む、
ことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の装置。 - マイクロリソグラフィ装置において光学波面を変更する方法であって、
a)光学要素(44)、
前記光学要素(44)によって部分的に封じ込められるか又は該光学要素を収容し、投影光(56)の光路に配置された気密空洞(50)、及び
前記空洞(50)の外側に配置され、かつ投影光(56)が通過するレンズ(L1からL4)、
を提供する段階と、
b)前記空洞(50)に真空を生成する段階と、
c)前記光学要素(44)に向けられるガス噴流(86a、86b)を生成するために前記空洞(50)内にガスを注入する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記ガス噴流(86a、86b)が前記空洞(50)を通過した後に前記光学要素(44)上に衝突する場所を変更する追加の段階を含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記光学要素は、前記装置の対物系に配置された屈折光学要素であることを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の方法。
- 前記光学要素は、対物系(20)によって面(22)上に結像されるマスク(16)であることを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の方法。
- a)光学要素(44)、
b)前記光学要素(44)によって封じ込められるか又は該光学要素を収容する空洞(50)、
c)前記空洞(50)に接続された真空ポンプ(60、62)、
d)前記空洞(50)の外側に配置されたレンズ(L1からL4)、及び
e)前記空洞(50)を通って伝播して前記光学要素(44)上に衝突するガス噴流(86a、86b)を生成し、該ガス噴流が該光学要素(44)上に衝突する場所を変更するように構成されたガス入口デバイス(58)、
を含むことを特徴とするマイクロリソグラフィ装置。 - 請求項2から請求項10のいずれか1項に記載の特徴を含むことを特徴とする請求項15に記載の装置。
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