JP2015501820A5 - - Google Patents

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  1. 式(I)で示されるイミダゾリジンジオン系化合物、またはその結晶形、薬学的に許容される塩、水和物もしくは溶媒和物。
    (ただし、
    R1およびR2は、それぞれ独立に水素、重水素、メチル基、あるいは一回か複数回重水素化された、または全重水素化されたC1-C4アルキル基から選ばれる。
    R3は、水素、重水素、あるいはハロゲンである。
    R4、R5、R6、R9、R10、R12は、水素、重水素、あるいはハロゲンである。
    R7およびR8は、それぞれ独立にメチル基、あるいは一回か複数回重水素化された、または全重水素化されたC1-C4アルキル基から選ばれ、あるいはR7とR8が連結してC3-C6シクロアルキル基を形成している。
    R11は無重水素化の、一回か複数回重水素化された、または全重水素化されたC1-C4アルキル基、或いは一部または全部がハロゲンで置換されたC1-C4アルキル基である。
    Xは、SあるいはOである。
    付加条件は、(1)R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12のうち少なくとも一つが重水素化されたものまたは重水素で、あるいは(2)R1とR2が同時にメチル基である場合、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12のうちいずれかが重水素または重水素化されたものでもよく、水素または無重水素化のものでもよいことである。)
  2. R1およびR2は、それぞれ独立に水素、重水素化されたメチル基、又は重水素化されたエチル基から選ばれることを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  3. R1が水素である場合、R2は、モノデューテロメチル基、ジデューテロメチル基、トリデューテロメチル基、モノデューテロエチル基、ジデューテロエチル基、トリデューテロエチル基、テトラデューテロエチル基、およびペンタデューテロエチル基からなる群から選ばれることを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  4. R1が水素である場合、R2は、トリデューテロメチル基であることを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  5. 前述化合物は、
    からなる群から選ばれる、ことを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  6. 前述化合物は、
    からなる群から選ばれる、ことを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  7. 請求項1-6のいずれか一項に記載の化合物、またはその結晶形、薬学的に許容される塩、水和物もしくは溶媒和物と、薬学的に許容される担体とを混合し、医薬品組成物を形成する、ことを特徴とする医薬品組成物の製造方法。
  8. (1)請求項1-6のいずれか一項に記載の化合物、またはその結晶形、薬学的に許容される塩、水和物もしくは溶媒和物と、(2)薬学的に許容される担体とを含む、ことを特徴とする医薬品組成物。
  9. さらに別の治療薬を含ことを特徴とする請求項8に記載の医薬品組成物。
  10. アンドロゲン受容体拮抗薬とする、またはアンドロゲン受容体活性関連疾患を治療・予防する医薬品の製造に用いられる、ことを特徴とする請求項1-6のいずれか一項に記載の化合物、またはその結晶形、薬学的に許容される塩、水和物もしくは溶媒和物の使用
  11. 前述疾患は、脱毛、毛髪再生、ざ瘡、ニキビ、または前立腺癌からなる群から選ばれる、ことを特徴とする請求項10に記載の使用
  12. (1) 酸性溶媒において、TMSCN、シアン化ナトリウムまたはシアン化カリウムであるシアン化物の存在下で、化合物5aとR7C(O)R8を反応させることで、化合物6aを形成する工程と、
    (2) 非プロトン性溶媒において、酸性条件下で、化合物2aと化合物6aを反応させることで、式(I)の化合物を形成する工程と、
    (上述各式において、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12またはXの定義は請求項1と同様である。)
    を含む、ことを特徴とする請求項1に記載の式(I)の化合物の製造方法。
  13. 前述工程(1)の前に、さらに、
    (1−1) 不活性溶媒において、化合物3aとNHR1R2を反応させることで、化合物4aを形成する工程、および
    (1−2) 不活性溶媒において、化合物4aを化合物5aに還元する工程、
    (上述各式において、R1、R2、R3、R4、R5、R6の定義は請求項1と同様である。)
    を含むことを特徴とする請求項12に記載の製造方法。
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