JP2015099623A5 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、研磨パッド、及び磁気ディスク用基板の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、アルミノシリケートガラスからなる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、研磨パッド、及び磁気ディスク用基板の製造方法に関する。
そこで、本発明は、アルミノシリケートガラスからなる大記録容量の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、サーマルアスペリティ障害の原因となるような微小の凹状の傷等の欠陥が磁気ディスク用ガラス基板の表面に形成されることを抑制することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法を提供し、さらに、研磨パッド、及び磁気ディスク用基板の製造方法を提供することを目的とする。
以上、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、研磨パッド、及び磁気ディスク用基板の製造方法について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態および実施例に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。
Claims (12)
- アルミノシリケートガラスからなるガラス基板の両側の主表面を、研磨パッドで押圧し、ガラス基板と前記研磨パッドとの間にシリカ砥粒を含む研磨スラリを供給しながら、前記主表面と前記研磨パッドとを相対的に移動させることにより、前記主表面を研磨する研磨処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨処理で用いる前記研磨パッドの、少なくとも前記主表面と接触する表面は、ウレア基を含まない発泡ポリウレタン樹脂で構成されている、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記研磨処理は、アルカリ条件下の研磨である、請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記シリカ砥粒は、オルトケイ酸エステルからゾルゲル法にて作製されたものである、請求項１または２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨スラリ中のシリカ砥粒の平均粒径は３０ｎｍ以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記発泡ポリウレタン樹脂の表面の開口径は５〜５０μｍである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法で作製された磁気ディスク用ガラス基板の前記主表面に少なくとも磁性層を形成する、磁気ディスクの製造方法。
- 発泡ポリウレタン樹脂で構成される研磨パッドであって、
前記ポリウレタン樹脂はウレア基を含まない、ことを特徴とする研磨パッド。 - 研磨パッドの表面には開口を有し、少なくとも前記研磨パッドの表面は、ウレア基を含まない発泡ポリウレタン樹脂で構成されている、ことを特徴とする請求項７に記載の研磨パッド。
- 前記研磨パッドの表面に形成される開口の開口径は５〜５０μｍである、ことを特徴とする請求項７または８に記載の研磨パッド。
- 研磨装置の下定盤の上面および上定盤の底面にそれぞれ請求項７〜９のいずれか１項に記載の研磨パッドが貼り付けられ、磁気ディスク用基板の主表面を両側から押圧するとともに、シリカ砥粒を含む研磨スラリを供給しながら前記基板の主表面と前記研磨パッドの表面を相対的に移動させることにより、前記基板の主表面を研磨する研磨処理と、
前記研磨処理後に前記基板を洗浄し、乾燥させる洗浄工程と、を少なくとも有する、ことを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。 - 前記研磨処理は、アルカリ条件下で行う、請求項１０に記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
- 請求項１０または１１に記載の製造方法で作成された磁気ディスク用基板の前記基板の主表面に少なくとも磁性層を形成する、磁気ディスクの製造方法。
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