JP6328052B2 - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法および研磨パッド - Google Patents
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Description
他の形態においては、上記定盤から研磨後の上記ガラス基板を取り出す工程において、上記液体状研磨剤の濃度は、上記研磨装置により、上記ガラス基板の表面を研磨する工程における上記液体状研磨剤の濃度と比較して、1.5倍以上である。
本発明に基づいた情報記録媒体の製造方法は、上述のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られた情報記録媒体用ガラス基板の表面に、少なくとも磁性膜を形成することを特徴とする。
本発明に基づいた研磨パッドは、研磨装置の定盤に装着して研磨処理に用いられる研磨パッドであって、上記研磨パッドは、複数の発泡孔と、隣接する上記発泡孔を連通する複数の連通孔とを有し、上記研磨パッドの法線方向に沿った断面において、断面積が0.01mm2以上の上記連通孔が、上記断面において25mm2あたり30個以上の密度で存在することを特徴とする。
図1および図2を参照して、まず、本実施の形態に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板1、およびガラス基板1を備えた磁気ディスク10について説明する。図1は、磁気ディスク10(図2参照)に用いられるガラス基板1を示す斜視図である。図2は、情報記録媒体として、ガラス基板1を備えた磁気ディスク10を示す斜視図である。
次に、図3に示すフローチャートを用いて、本実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板(以下、単にガラス基板と称する。)の製造方法について説明する。図3は、実施の形態におけるガラス基板1の製造方法を示すフローチャートである。
ガラスブランク材準備工程(ステップS10)においては、ガラス基板を構成するガラス素材が溶融される(ステップS11)。ガラス素材は、たとえば一般的なアルミノシリケートガラスが用いられる。アルミノシリケートガラスは、58質量%〜75質量%のSiO2と、5質量%〜23質量%のAl2O3と、3質量%〜10質量%のLi2Oと、4質量%〜13質量%のNa2Oと、を主成分として含有する。溶融したガラス素材は、下型上に流し込まれた後、上型および下型によってプレス成形される(ステップS12)。プレス成形によって、円盤状のガラスブランク材(ガラス母材)が形成される。
次に、ガラス基板形成/研削工程(ステップS20)においては、プレス成形されたガラスブランク材の両方の主表面に対して、寸法精度および形状精度の向上を目的として、第1ラップ工程が施される(ステップS21)。ガラスブランク材の両方の主表面とは、後述する各処理を経ることによって、図1における表主表面1Aとなる主表面および裏主表面1Bとなる主表面のことである(以下、両主表面ともいう)。たとえば、粒度#400のアルミナ砥粒(粒径約40〜60μm)を用い、表面粗さRmaxで6μm程度に仕上げる。
次に、研磨工程(ステップS30)においては、第1ポリッシュ工程(粗研磨)として、上記第2ラップ工程(ステップS23)においてガラス基板の両主表面に残留したキズを除去しつつ、ガラス基板の反りを矯正する(ステップS31)。第1ポリッシュ工程においては、遊星歯車機構を利用した両面研磨装置が使用される。たとえば、硬質ベロア、発泡ポリウレタン、またはピッチ含浸スウェードなどの研磨パッドを用いて研磨が行なわれる。研磨剤としては、一般的な酸化セリウム砥粒を主成分とする液体状研磨剤としてのスラリーが用いられる。第1ポリッシュ工程で研磨された基板は、第1ポリッシュ取り出し工程で回収される。
ガラス基板1が洗浄された後、化学強化処理液にガラス基板1を浸漬することによって、ガラス基板1の両主表面に化学強化層を形成する(ステップS40)。ガラス基板1が洗浄された後、300℃に加熱された硝酸カリウム(70%)と硝酸ナトリウム(30%)との混合用液などの化学強化処理液中に、ガラス基板1を30分間程度浸漬することによって、化学強化を行なう。
次に、ガラス基板は洗浄される(ステップS50)。ガラス基板1の両主表面が洗剤、純水、オゾン、IPA(イソプロピルアルコール)、またはUV(ultraviolet)オゾンなどによって洗浄されることによって、ガラス基板1の両主表面に付着した付着物が除去される。
化学強化処理が完了したガラス基板(図1に示すガラス基板1に相当)の両主表面(またはいずれか一方の主表面)に対し、磁性膜が形成されることにより、磁気薄膜層2が形成される。磁気薄膜層2は、Cr合金からなる密着層、CoFeZr合金からなる軟磁性層、Ruからなる配向制御下地層、CoCrPt合金からなる垂直磁気記録層、C系からなる保護層、およびF系からなる潤滑層が順次成膜されることによって形成される。磁気薄膜層2の形成によって、図2に示す磁気ディスク10に相当する垂直磁気記録ディスクを得ることができる。
ここで、図5から図7を参照して、第2ポリッシュ工程S33の詳細について説明する。図5は、第2ポリッシュ工程S33の内訳を示すフローチャート、図6は、背景技術における下側研磨パッド410の拡大縦断面図、図7は、実施の形態における下側研磨パッド410の拡大縦断面図である。以下、主として、下側研磨パッドおよび下側定盤について説明するが、上側研磨パッドおよび上側定盤についていても同様である。
以下、図8を参照しながら、本実施の形態に基づいた実施例について説明する。図8は、実施例1から実施例5および比較例1から比較例3におけるディフェクト検査結果およびリードライト試験結果を示す図である。実施例1から実施例5および比較例1から比較例3においては、すべて第1ポリッシュ工程(S31)までは、図3に示す工程を採用している。
実施例1のガラス基板では、吸着力は15.0g/cm2、研磨パッドの連通孔の数は35、ガラス基板取出工程(S334)における研磨パッド上のスラリーの蓄積状態は蓄積有であり、その際のスラリーの濃度は、15wt%であった。研磨工程(S333)終了後、ガラス基板取出工程(S334)の前に、洗浄工程を行なった。この実施例1においては、ディフェクト検査の評価は「B」、リードライト試験の評価は、「B」であった。研磨パッドの連通孔の数とは、下定盤400の法線方向に沿った下側研磨パッド410および上側研磨パッド310の縦断面において、断面積Sが0.01mm2以上の連通孔が、25mm2あたりの存在する数を意味する。以下、同様である。
実施例1のガラス基板では、吸着力は14.5g/cm2、研磨パッドの連通孔の数は35、ガラス基板取出工程(S334)における研磨パッド上のスラリーの蓄積状態は蓄積有であり、その際のスラリーの濃度は、20wt%であった。研磨工程(S333)終了後、ガラス基板取出工程(S334)の前に、洗浄工程は行なっていない。この実施例2では、研磨工程(S333)終了後、ガラス基板取出工程(S334)の前に、研磨パッド上に濃度の高いスラリーを散布した。この実施例2においては、ディフェクト検査の評価は「B」、リードライト試験の評価は、「B」であった。
実施例3のガラス基板では、吸着力は13.0g/cm2、研磨パッドの連通孔の数は35、ガラス基板取出工程(S334)における研磨パッド上のスラリーの蓄積状態は蓄積有であり、その際のスラリーの濃度は、25wt%であった。研磨工程(S333)終了後、ガラス基板取出工程(S334)の前に、洗浄工程は行なっていない。この実施例3では、研磨工程(S333)終了後、ガラス基板取出工程(S334)の前に、研磨パッド上に濃度の高いスラリーを散布した。この実施例3においては、ディフェクト検査の評価は「A」、リードライト試験の評価は、「A」であった。
実施例4のガラス基板では、吸着力は14.0g/cm2、研磨パッドの連通孔の数は63、ガラス基板取出工程(S334)における研磨パッド上のスラリーの蓄積状態は蓄積有であり、その際のスラリーの濃度は、15wt%であった。研磨工程(S333)終了後、ガラス基板取出工程(S334)の前に、洗浄工程は行なっていない。この実施例4においては、ディフェクト検査の評価は「B」、リードライト試験の評価は、「B」であった。
実施例5のガラス基板では、吸着力は13.0g/cm2、研磨パッドの連通孔の数は88、ガラス基板取出工程(S334)における研磨パッド上のスラリーの蓄積状態は蓄積有であり、その際のスラリーの濃度は、15wt%であった。研磨工程(S333)終了後、ガラス基板取出工程(S334)の前に、洗浄工程は行なっていない。この実施例3においては、ディフェクト検査の評価は「A」、リードライト試験の評価は、「A」であった。
比較例1のガラス基板では、吸着力は17.5g/cm2、研磨パッドの連通孔の数は24、ガラス基板取出工程(S334)における研磨パッド上のスラリーの蓄積状態は蓄積無であった。研磨工程(S333)終了後、ガラス基板取出工程(S334)の前に、洗浄工程を行なった。この比較例1においては、ディフェクト検査の評価は「D」、リードライト試験の評価は、「D」であった。
比較例2のガラス基板では、吸着力は17.0g/cm2、研磨パッドの連通孔の数は24、ガラス基板取出工程(S334)における研磨パッド上のスラリーの蓄積状態は蓄積有であり、その際のスラリーの濃度は、15wt%であった。研磨工程(S333)終了後、ガラス基板取出工程(S334)の前に、洗浄工程は行なっていない。この比較例2においては、ディフェクト検査の評価は「D」、リードライト試験の評価は、「D」であった。
比較例3のガラス基板では、吸着力は16.0g/cm2、研磨パッドの連通孔の数は35、ガラス基板取出工程(S334)における研磨パッド上のスラリーの蓄積状態は蓄積無であった。研磨工程(S333)終了後、ガラス基板取出工程(S334)の前に、洗浄工程は行なっていない。この比較例3においては、ディフェクト検査の評価は「C」、リードライト試験の評価は、「C」であった。
Claims (8)
- 複数の発泡孔を含む部材からなる研磨パッドを定盤上に装着し、前記研磨パッドを用いてガラス基板の表面を研磨する研磨装置を用いる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板を前記定盤上に載置する工程と、
前記研磨装置により、液体状研磨剤を前記ガラス基板に供給しながら、前記ガラス基板の表面を研磨する工程と、
前記定盤から研磨後の前記ガラス基板を取り出す工程と、
を備え、
前記研磨パッドに前記液体状研磨剤を供給した状態において、前記研磨パッドのうち少なくとも下側研磨パッドの前記ガラス基板への吸着力は、0.50g/cm2以上、15g/cm2以下である、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 複数の発泡孔を含む部材からなる研磨パッドを定盤上に装着し、前記研磨パッドを用いてガラス基板の表面を研磨する研磨装置を用いる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板を前記定盤上に載置する工程と、
前記研磨装置により、液体状研磨剤を前記ガラス基板に供給しながら、前記ガラス基板の表面を研磨する工程と、
前記定盤から研磨後の前記ガラス基板を取り出す工程と、
を備え、
前記研磨パッドのうち少なくとも下側研磨パッドは、
隣接する前記発泡孔を連通する複数の連通孔が形成された連続発泡構造を有し、
前記定盤の法線方向に沿った前記研磨パッドの断面において、断面積が0.01mm2以上の前記連通孔が、25mm2あたり30個以上の密度で存在し、
前記研磨パッドに前記液体状研磨剤を供給した状態において、前記研磨パッドの前記ガラス基板への吸着力は、0.50g/cm2以上、15g/cm2以下である、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 複数の発泡孔を含む部材からなる研磨パッドを定盤上に装着し、前記研磨パッドを用いてガラス基板の表面を研磨する研磨装置を用いる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板を前記定盤上に載置する工程と、
前記研磨装置により、液体状研磨剤を前記ガラス基板に供給しながら、前記ガラス基板の表面を研磨する工程と、
前記定盤から研磨後の前記ガラス基板を取り出す工程と、
を備え、
前記研磨パッドのうち少なくとも下側研磨パッドは、
隣接する前記発泡孔を連通する複数の連通孔が形成された連続発泡構造を有し、
前記定盤の法線方向に沿った前記研磨パッドの縦断面において、断面積が0.01mm2以上の前記連通孔が、25mm2あたり30個以上の密度で存在する、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記定盤の法線方向に沿った前記研磨パッドの断面において、断面積が0.01mm2以上の前記連通孔が、25mm2あたり80個以上の密度で存在する、請求項2または請求項3に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記定盤から研磨後の前記ガラス基板を取り出す工程において、
前記研磨パッドが前記液体状研磨剤を含んだ状態のまま、前記定盤から研磨後の前記ガラス基板を取り出す、請求項1から4のいずれか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記定盤から研磨後の前記ガラス基板を取り出す工程において、
前記液体状研磨剤の濃度は、前記研磨装置により、前記ガラス基板の表面を研磨する工程における前記液体状研磨剤の濃度と比較して、1.5倍以上である、請求項5に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られた情報記録媒体用ガラス基板の表面に、少なくとも磁性膜を形成することを特徴とする、情報記録媒体の製造方法。
- 研磨装置の定盤に装着して研磨処理に用いられる研磨パッドであって、
前記研磨パッドは、複数の発泡孔と、隣接する前記発泡孔を連通する複数の連通孔とを有し、
前記研磨パッドの法線方向に沿った断面において、断面積が0.01mm2以上の前記連通孔が、前記断面において25mm2あたり30個以上の密度で存在することを特徴とする、研磨パッド。
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