JP2015064855A - Manufacturing method of touch panel film having functional membrane and touch panel manufactured using the manufacturing method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an electrostatic capacitance type touch panel film capable of efficiently forming a functional membrane on a transparent electrode surface side of ITO or metal wiring, and having as a sensor a transparent electrode made of ITO with a higher degree-of-freedom of process at a post-process or metal wiring of mesh arrangement.SOLUTION: A manufacturing method of a touch panel film includes: a formation process of a transparent electrode; a formation process of a connection terminal part 116; and a formation process of a functional membrane 119. In the formation process of a connection terminal part, a connection terminal part is formed so that, in a plurality of panel areas belonging to a same row in a flow direction of a rolled state transparent film 122, the connection terminal part is arranged in the same line along the flow direction with regard to a panel area serving as a single piece of a touch panel film. The formation process of a functional membrane includes a process of printing and forming a stripe functional membrane in an area except for the connection terminal part by a roll-to-roll method, using a printing plate 123 patterned in a stripe shape.

Description

本発明は、静電容量型タッチパネルフィルムの製造方法、及び、その製造方法を用いて製造されたタッチパネルに関する。特には金属配線のメッシュ構造をセンサとする、機能性膜を備えたタッチパネルフィルムをロールツーロール方式で製造する技術に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a capacitive touch panel film and a touch panel manufactured using the manufacturing method. In particular, the present invention relates to a technique for manufacturing a touch panel film having a functional film using a metal wiring mesh structure as a sensor by a roll-to-roll method.

近年、スマートフォンや、タブレット等の携帯情報端末、カーナビゲーションシステムを始め、様々な電子機器の操作部にタッチパネル型入力装置（以下、単にタッチパネルと記す。）が採用されている。タッチパネルは、液晶表示装置、有機ＥＬ装置等の表示用パネルの表示面上に、指先やペン先の接触位置を検出する入力装置として貼り合わせて使用されるものである。タッチパネルの方式としては、抵抗膜式、静電容量式、光学式、超音波式に大別されるが、それぞれメリット／デメリットがあるため、用途に応じて使い分けられている。   2. Description of the Related Art In recent years, touch panel type input devices (hereinafter simply referred to as touch panels) have been adopted in operation units of various electronic devices such as smartphones, portable information terminals such as tablets, and car navigation systems. The touch panel is used as an input device that detects a contact position of a fingertip or a pen tip on a display surface of a display panel such as a liquid crystal display device or an organic EL device. The touch panel system is roughly classified into a resistive film type, a capacitance type, an optical type, and an ultrasonic type, and each has a merit / demerit, and therefore, it is properly used depending on the application.

静電容量式のタッチパネルは、一枚の透明基材上にマトリックス状の透光性導電膜が電極として形成され、電極間部分に指等が接触することによって誘起される静電容量の変化を、微弱な電流変化として検出することで、タッチパネル上の被接触位置を特定するものである。静電容量式には、さらに、表面型と投影型とがある。表面型静電容量式タッチパネルは、仕組みが単純で廉価に作れ、比較的大型化しやすい。一方、投影型静電容量式タッチパネルは、Ｘ方向およびＹ方向にグリッド状に配列された複数の電極を備える必要があるため構造が複雑であるが、マルチタッチが可能であることから、現在急速に普及しつつある。   A capacitive touch panel has a matrix-like translucent conductive film formed as an electrode on a single transparent substrate, and changes in the capacitance induced by the contact of a finger or the like between the electrodes. By detecting as a weak current change, the contacted position on the touch panel is specified. The electrostatic capacitance type further includes a surface type and a projection type. A surface-type capacitive touch panel has a simple mechanism and can be made inexpensively, and is relatively easy to increase in size. On the other hand, a projected capacitive touch panel has a complicated structure because it needs to have a plurality of electrodes arranged in a grid in the X and Y directions, but it is currently rapidly available because it can be multi-touched. It is becoming popular.

投影型静電容量式のタッチパネルセンサには、フィルムタイプとガラスタイプがある。フィルムタイプには、軽量・割れにくい、製造コストが安い、柔軟性があるので他の表示装置やカバーガラスと貼り合せる際に気泡を除去し易く貼り合せ易いという利点がある。一方、ガラスタイプは、透過率がフィルムタイプに比べて高いという利点や、ガラス上に形成された配線パターンの位置精度がフィルムタイプに比べて優れるため、配線を覆う額縁部を小さくできるという利点があり、さらに、表面の平滑性に優れるので、フィルムタイプより見栄えが良いという利点もある。高精細で低消費電力が要求されるスマートフォン等、携帯端末等の小型品では、ガラスタイプが採用されることが多く、安価で貼り合せ易い等の生産性が要求されるタブレットコンピュータやテレビ等の中型、大型品では、フィルムタイプが採用されることが多い。   There are a film type and a glass type in the projected capacitive touch panel sensor. The film type is advantageous in that it is easy to remove bubbles when it is bonded to another display device or a cover glass because it is lightweight, hard to break, inexpensive to manufacture, and flexible. On the other hand, the glass type has the advantage that the transmittance is higher than the film type, and the position accuracy of the wiring pattern formed on the glass is superior to the film type, so that the frame part covering the wiring can be made smaller. In addition, since the surface smoothness is excellent, there is an advantage that it looks better than the film type. For small products such as smart phones that require high definition and low power consumption, such as portable terminals, glass types are often used, such as tablet computers and televisions that require low cost and easy bonding, etc. For medium and large products, film type is often adopted.

フィルムタイプの投影型静電容量式タッチパネルセンサは、一般的に、Ｘ方向用およびＹ方向用の２層の透明電極、２層の透明電極の間の層間絶縁層、及び、２層の透明電極の間の静電容量変化を電気的に検出する外部のコントローラと接続するための取出し配線からなる。また、層間絶縁層を有機膜で形成することによってフィルム基材の片面に２層の透明電極層を形成した片面構造と、フィルム基材を層間絶縁層としても使用し、２層の透明電極層をフィルム基材の両面に分けて形成した両面構造の２つに大別される。   A film-type projected capacitive touch panel sensor generally has two layers of transparent electrodes for X and Y directions, an interlayer insulating layer between two layers of transparent electrodes, and two layers of transparent electrodes. It consists of a lead-out wiring for connecting to an external controller that electrically detects the capacitance change between the two. Also, a single-sided structure in which two transparent electrode layers are formed on one side of a film substrate by forming an interlayer insulating layer with an organic film, and the film substrate is also used as an interlayer insulating layer. Are divided roughly into two types, a double-sided structure formed by dividing the film on both sides of the film substrate.

前述の透明電極には、透明性が高く、実用性に優れる点で、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）が一般的に用いられている。その他、導電性高分子や銀ナノワイヤー等の新しい導電材料も実用化されてきている。さらに、透明電極に、導電性の高い金属の細線パターン（以下、単に金属配線と記す）を格子状に張り巡らせたメッシュ構造の電極を用いることで、低抵抗化と透過性を両立する方法が開示されている（例えば、特許文献１を参照）。携帯端末等の小型品には透明性の高いＩＴＯが広く使用されている。一方、１５インチ以上、特に２０インチ以上のサイズになると、ＩＴＯによる透明電極では電気抵抗が高くなり被接触位置の検出感度が低下するため、より低抵抗なメッシュ構造の金属配線の採用が広まりつつある。   In the above-mentioned transparent electrode, indium tin oxide (ITO) is generally used because of its high transparency and excellent practicality. In addition, new conductive materials such as conductive polymers and silver nanowires have been put into practical use. Furthermore, there is a method for achieving both low resistance and transparency by using a mesh electrode having a highly conductive metal fine line pattern (hereinafter simply referred to as a metal wiring) in a lattice shape as a transparent electrode. It is disclosed (see, for example, Patent Document 1). ITO with high transparency is widely used for small products such as portable terminals. On the other hand, when the size is 15 inches or more, particularly 20 inches or more, the transparent electrode made of ITO has a high electric resistance and the detection sensitivity of the contacted position is lowered, so that the use of metal wiring with a lower resistance mesh structure is becoming widespread. is there.

ここで、図１に、金属配線のメッシュ構造１を示し、図２に、図１の金属配線のメッシュ構造１を使用した、片面構造の投影型静電容量式タッチパネルフィルムを示す。金属配線のメッシュ構造１は、図１に示すように、縦方向に延びるストライプ状の金属配線２と、横方向に延びる金属配線３とを備え、複数の金属配線２と複数の金属配線３により複数の開口部４が形成されている。金属配線のメッシュ構造１は、金属配線２、３が直線でなく波状に曲がった曲線のものであったり、完全な格子状ではなく、雪の結晶のような模様であったりしてもよい。重要なのは、微細な金属配線とそれにより形成される開口部を有することである。図２の（ａ）は、フィルム基材５と、図１のメッシュ構造の金属配線を１単位としてＸ方向（図２の（ａ）における横方向をＸ方向とする）にフィルム基材５上に敷設したＸ電極１７と、Ｘ電極１７と外部との接続を行うための取出し配線６と、図示しない外部のコントローラと接続するための接続端子部１６で構成される投影型静電容量式タッチパネルフィルムを示している。図２の（ｂ）は、図２の（ａ）と同様に図１のメッシュ構造の金属配線を１単位としてＹ方向（図２の（ｂ）における縦方向をＹ方向とする）に敷設したＹ電極１８を示している。Ｘ電極１７が形成されたフィルム基材５と、Ｙ電極１８が形成されたフィルム基材５の２枚を貼り合わせて使用することで、位置検出を行う投影型静電容量式タッチパネルセンサとなる。図２の（ｃ）は、フィルム基材５の片面に、金属配線２と金属配線３の２層の透明電極層が形成された片面構造の投影型静電容量式タッチパネルセンサフィルムを示し、図２の（ｃ）のフィルムは、貼り合せることなく１枚タイプとして用いられる。片面構造の１枚タイプの場合、金属配線２と金属配線３の交差する部分に層間絶縁層を形成することで、金属配線２と金属配線３の電気的絶縁が保たれている。   Here, FIG. 1 shows a metal wiring mesh structure 1, and FIG. 2 shows a single-sided projected capacitive touch panel film using the metal wiring mesh structure 1 of FIG. 1. As shown in FIG. 1, the metal wiring mesh structure 1 includes striped metal wirings 2 extending in the vertical direction and metal wirings 3 extending in the horizontal direction, and includes a plurality of metal wirings 2 and a plurality of metal wirings 3. A plurality of openings 4 are formed. The metal wiring mesh structure 1 may be such that the metal wirings 2 and 3 are not straight but curved in a wavy shape, or are not a perfect lattice shape but a pattern like a snow crystal. What is important is to have a fine metal wiring and an opening formed thereby. 2A shows the film base 5 and the metal wiring having the mesh structure of FIG. 1 as one unit on the film base 5 in the X direction (the horizontal direction in FIG. 2A is the X direction). A projected capacitive touch panel comprising: an X electrode 17 laid on the substrate; a lead-out wiring 6 for connecting the X electrode 17 to the outside; and a connection terminal portion 16 for connecting to an external controller (not shown). The film is shown. 2 (b) is laid in the Y direction (the vertical direction in FIG. 2 (b) is defined as the Y direction) with the metal wiring having the mesh structure of FIG. 1 as one unit, as in FIG. 2 (a). A Y electrode 18 is shown. A projection capacitive touch panel sensor that performs position detection is obtained by bonding and using two pieces of the film substrate 5 on which the X electrode 17 is formed and the film substrate 5 on which the Y electrode 18 is formed. . (C) of FIG. 2 shows the projected capacitive touch panel sensor film having a single-side structure in which two transparent electrode layers of the metal wiring 2 and the metal wiring 3 are formed on one side of the film base 5. The film (2) is used as a single sheet type without being bonded. In the case of a single-sided type, the metal wiring 2 and the metal wiring 3 are kept electrically insulated by forming an interlayer insulating layer at a portion where the metal wiring 2 and the metal wiring 3 intersect.

ＩＴＯや金属配線の透明電極を備える投影型静電容量式タッチパネルセンサフィルムは、通常、光や熱、水分に対する耐久性を高めるために、ＩＴＯや金属配線の透明電極面を光学粘着剤（ＯＣＡ：Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ）で他の部材と貼り合せて密閉構造とすることで、ＩＴＯや金属配線の劣化を防止している。しかしながら、ＯＣＡによる貼り合せ工程の歩留りが悪いため、貼り合せを必要としない、すなわち、空気層で間隙をとるエアギャップ構造を用いる要求が高まっている。この場合、タッチパネルセンサフィルムのＩＴＯや金属配線の透明電極面を保護フィルムで皮膜する、またはＩＴＯや金属配線の透明電極面にオーバーコートやハードコート等の機能性膜を形成し保護する必要がある。さらには、エアギャップ構造とした場合に、空気層との界面での反射による透過光のロスを低減するために、反射防止層等の機能性膜を形成する必要がある。また、エアギャップ構造を採用しない場合でも、ＩＴＯや金属配線の透明電極を備える両面構造の投影型静電容量式タッチパネルセンサフィルムを使用する場合は、タッチパネルセンサフィルム工程以降の後工程での表面の傷付き防止や帯電防止のために、機能性膜を形成する必要があり、これらに対応した技術が開示されている（例えば特許文献２、３を参照）。   A projected capacitive touch panel sensor film having a transparent electrode of ITO or metal wiring usually has an optical adhesive (OCA) for the transparent electrode surface of ITO or metal wiring to enhance durability against light, heat, and moisture. By optically adhering with other members to form a sealed structure, deterioration of ITO and metal wiring is prevented. However, since the yield of the bonding process by OCA is poor, there is a growing demand for using an air gap structure that does not require bonding, that is, has an air layer gap. In this case, it is necessary to coat the transparent electrode surface of the ITO or metal wiring of the touch panel sensor film with a protective film, or to form and protect a functional film such as an overcoat or a hard coat on the transparent electrode surface of the ITO or metal wiring. . Furthermore, in the case of an air gap structure, it is necessary to form a functional film such as an antireflection layer in order to reduce the loss of transmitted light due to reflection at the interface with the air layer. Even when not using an air gap structure, when using a projected capacitive touch panel sensor film with a double-sided structure with transparent electrodes of ITO or metal wiring, It is necessary to form a functional film for preventing scratches and preventing charging, and techniques corresponding to these have been disclosed (for example, see Patent Documents 2 and 3).

しかしながら、これら公知の方法、すなわち、保護フィルムで金属配線の透明電極を被覆する方法では、二つの機能性フィルムを製造し、それぞれを貼り合わせる必要があるため、工数が多く工程も煩雑で異物や気泡を巻き込む等、工程上のトラブルで歩留まりが低下する問題があった。また、感光性溶液をスピンコートして皮膜化してからフォトリソ法でパターニングすることで、オーバーコートやハードコート等の機能性膜を形成し保護する方法では、ロールツーロール方式の塗布装置以外に、少なくともフォトリソ法に対応した製造設備が必要であり、製造コストが安くならないだけでなく、フォトリソ法に対応するために、機能性膜材料の設計自由度が非常に狭くなり、十分な特性が得られない問題が
あった。 However, in these known methods, i.e., the method of covering the transparent electrode of the metal wiring with the protective film, it is necessary to produce two functional films and to bond them together. There was a problem that the yield decreased due to troubles in the process such as entrainment of bubbles. In addition, a method of forming and protecting a functional film such as an overcoat or a hard coat by patterning with a photolithographic method after spin-coating a photosensitive solution to form a film, in addition to a roll-to-roll type coating apparatus, At least manufacturing equipment compatible with the photolithographic method is required, and not only the manufacturing cost is not reduced, but also the design freedom of the functional film material becomes very narrow and sufficient characteristics can be obtained to support the photolithographic method. There was no problem.

特開２０１２−５３６４４号公報JP 2012-53644 A 特開２０１１−１７５９６７号公報JP 2011-175967 A 特許第４８５５５３６号公報Japanese Patent No. 4855536

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、ＩＴＯや金属配線の透明電極面側へのオーバーコートやハードコート、反射防止層等の機能性膜形成を効率的に行え、且つ、後工程での加工自由度を高めたＩＴＯやメッシュ配置の金属配線からなる透明電極をセンサとする静電容量型タッチパネルフィルムの製造方法を提供する。   The present invention has been made in view of the above problems, and can efficiently form a functional film such as an overcoat, a hard coat, an antireflection layer or the like on the transparent electrode surface side of ITO or metal wiring. Provided is a method for manufacturing a capacitive touch panel film using as a sensor a transparent electrode made of ITO or mesh-arranged metal wiring with a high degree of processing freedom in the process.

上記課題を解決するため本発明の一局面は、ロール状透明フィルムの少なくとも一方の面に多面形成される静電容量型タッチパネルフィルムの製造方法において、透明電極を形成する工程と、外部接続用の接続端子部を形成する工程と、透明電極上に機能性膜を形成する工程とを少なくとも有し、接続端子部を形成する工程が、ロール状透明フィルムに多面形成されてそれぞれがタッチパネルフィルムの単一個片となるパネル領域について、ロール状透明フィルムの流れ（ＭＤ）方向の同じ列に属する複数のパネル領域では接続端子部が流れ（ＭＤ）方向に沿って同一線上に位置するように、接続端子部を形成する工程を有し、透明電極上に機能性膜を形成する工程が、ストライプ状にパターン化された印刷版を用いてロールツーロール方式で、接続端子部を除く領域にストライプ状の機能性膜を印刷形成する工程を有する、機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法である。   In order to solve the above-mentioned problems, one aspect of the present invention is a method for producing a capacitive touch panel film formed on multiple surfaces on at least one surface of a roll-shaped transparent film. At least a step of forming a connection terminal portion and a step of forming a functional film on the transparent electrode, and the step of forming the connection terminal portion are formed in multiple directions on the roll-shaped transparent film. About the panel area | region used as a piece, in the several panel area | region which belongs to the same row | line | column of the flow (MD) direction of a roll-shaped transparent film, a connection terminal part is located on the same line along a flow (MD) direction. Roll-to-roll method using a printing plate patterned in stripes, the step of forming a functional film on a transparent electrode , A step of printing a stripe-shaped functional film in a region other than the connection terminal portions, a method of manufacturing a functional film with a touch panel film.

また、本発明の他の局面は、ロール状透明フィルムの少なくとも一方の面に多面形成される静電容量型タッチパネルフィルムの製造方法において、透明電極を形成する工程と、外部接続用の接続端子部を形成する工程と、透明電極上に機能性膜を形成する工程とを少なくとも有し、接続端子部を形成する工程が、ロール状透明フィルムに多面形成されてそれぞれがタッチパネルフィルムの単一個片となるパネル領域について、ロール状透明フィルムの流れ（ＭＤ）方向の同じ列に属する複数のパネル領域では接続端子部が流れ（ＭＤ）方向に沿って同一線上に位置するように、接続端子部を形成する工程を有し、透明電極上に機能性膜を形成する工程が、ダイ塗工方式で、接続端子部を除く領域にストライプ状の機能性膜を印刷形成する工程を有する、機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法。   Another aspect of the present invention is a process for forming a transparent electrode and a connection terminal portion for external connection in a method for producing a capacitive touch panel film formed on at least one surface of a roll-shaped transparent film. At least a step of forming a functional film on the transparent electrode, and a step of forming the connection terminal portion is formed in multiple faces on the roll-shaped transparent film, each of which is a single piece of touch panel film For the panel region to be formed, the connection terminal portions are formed so that the connection terminal portions are located on the same line along the flow (MD) direction in a plurality of panel regions belonging to the same row in the flow (MD) direction of the roll-shaped transparent film. The step of forming the functional film on the transparent electrode is a die coating method, and the step of printing the stripe-shaped functional film in the region excluding the connection terminal portion A method for producing a functional film with a touch panel film.

また、透明電極を形成する工程と、接続端子部を形成する工程とを、ロール状透明フィルムの両面に対して行ってもよい。   Moreover, you may perform the process of forming a transparent electrode, and the process of forming a connection terminal part with respect to both surfaces of a roll-shaped transparent film.

また、透明電極を形成する工程が、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）をスパッタ装置を用いて成膜する工程と、エッチング装置を用いて酸化インジウム錫をエッチングする工程とを有してもよい。   The step of forming the transparent electrode may include a step of forming a film of indium tin oxide (ITO) using a sputtering apparatus and a step of etching the indium tin oxide using an etching apparatus.

また、透明電極を形成する工程が、Ｃｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｚｒの群から選ばれる少なくとも１種類以上の金属材料からなる幅２０μｍ以下の線状パターンをメッシュ配置させた電極を形成する工程を有してもよい。   Further, the step of forming the transparent electrode is an electrode in which a linear pattern having a width of 20 μm or less made of at least one metal material selected from the group consisting of Cu, Ag, Pt, Au, Al, Zn, and Zr is mesh-arranged You may have the process of forming.

また、金属材料がＣｕであってもよい。   The metal material may be Cu.

また、機能性膜を形成する工程が、ハードコート（ＨＣ）膜、反射防止（ＬＲ）膜、帯電防止（ＡＳ）膜、耐指紋付着（ＡＦ）膜、ブロッキング防止（ＡＢ）膜の群から選ばれる少なくとも１種類以上の膜を形成する工程を有してもよい。   The step of forming the functional film is selected from the group consisting of a hard coat (HC) film, an antireflection (LR) film, an antistatic (AS) film, an anti-fingerprint (AF) film, and an antiblocking (AB) film. There may be a step of forming at least one kind of film.

また、本発明の他の局面は、これらの機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法を用いて製造されたタッチパネルである。   Moreover, the other situation of this invention is the touchscreen manufactured using the manufacturing method of these touchscreen films with a functional film.

上記各局面によれば、ロール状透明フィルムに多面形成される複数のパネル領域のうち、ロール状透明フィルムの流れ（ＭＤ）方向の同じ列に属するパネル領域では、接続端子部がロール状透明フィルムの流れ（ＭＤ）方向に沿って同一線上に位置するように接続端子部を形成する工程を有しており、かつ、接続端子部上に機能性膜が印刷されないように複数のパターンがストライプ状に形成された印刷版を用いてロールツーロール方式で、接続端子部を除く領域にストライプ状の機能性膜を印刷形成する工程を有しているため、接続端子部を除く領域に、フォトリソ法や他のフィルムとの貼り合せを必要とすることなく、効率的に機能性膜を形成することが可能となる。   According to each said aspect, in the panel area | region which belongs to the same row | line | column of the flow (MD) direction of a roll-shaped transparent film among the several panel area | regions formed in many faces by a roll-shaped transparent film, a connection terminal part is a roll-shaped transparent film. A step of forming the connection terminal portion so as to be located on the same line along the flow (MD) direction, and a plurality of patterns are striped so that the functional film is not printed on the connection terminal portion Since there is a step of printing and forming a stripe-shaped functional film in the region excluding the connection terminal portion by the roll-to-roll method using the printing plate formed in the photolithographic method In addition, it is possible to efficiently form a functional film without the need for bonding with other films.

また、端子接続部上に機能性膜が印刷されないように開口部を所定の幅にしたダイヘッドを用いて、ロールツーロール方式で、該端子接続部上を除く位置にストライプ状の機能性膜１１９を印刷形成する工程を有しているため、端子接続部を除く位置に、フォトリソ法や他のフィルムとの貼り合せを必要とすることなく、効率的かつ高品質に機能性膜を形成することが可能となる。   Further, a functional film 119 having a stripe shape is formed at a position excluding the terminal connection portion by a roll-to-roll method using a die head having an opening having a predetermined width so that the functional film is not printed on the terminal connection portion. Because it has a process of printing and forming, functional film can be formed efficiently and with high quality at the position excluding the terminal connection part without the need for bonding with the photolithographic method or other films. Is possible.

また、透明電極を形成する工程と、接続端子部を形成する工程をロール状透明フィルムの両面に対して実施しているので、フィルム基材を１枚省略した低コストの両面構造の１枚タイプの機能性膜付きタッチパネルフィルムを効率的に製造することが可能となる。   Moreover, since the process of forming a transparent electrode and the process of forming a connection terminal part are carried out on both sides of a roll-shaped transparent film, one sheet type of a low-cost double-sided structure in which one film substrate is omitted. It becomes possible to manufacture efficiently the touchscreen film with a functional film.

また、透明電極がＩＴＯや金属配線のメッシュ構造からなる機能性膜付きタッチパネルフィルムを効率的に製造することが可能となるので、携帯端末等の小型品から１５インチ以上、特に２０インチ以上のサイズのタッチパネルまで、幅広いサイズに対応した静電容量型タッチパネルフィルムを提供できる。   In addition, since it becomes possible to efficiently manufacture a touch panel film with a functional film in which the transparent electrode is made of ITO or a mesh structure of metal wiring, it is 15 inches or more, particularly 20 inches or more from a small product such as a portable terminal. Capacitance type touch panel films corresponding to a wide range of sizes can be provided.

また、機能性膜の形成がロールツーロール方式の印刷工程で行われる結果、生産性が大幅に向上し、機能性膜形成後のフィルム状タッチパネルが、断裁されたシート形態でなく、ロール状で得られ、後工程の自由度が増すという効果が期待できる。   In addition, as a result of forming the functional film in a roll-to-roll printing process, productivity is greatly improved, and the film-like touch panel after the functional film is formed is not a cut sheet but a roll. As a result, the effect of increasing the degree of freedom in the post-process can be expected.

タッチパネルフィルムにおけるメッシュ構造の金属配線を示す上面図Top view showing metal wiring with mesh structure in touch panel film （ａ）従来の片面構造のタッチパネルフィルムのＸ方向配線を示す上面図、（ｂ）従来の片面構造のタッチパネルフィルムのＹ方向配線を示す上面図、（ｃ）従来の片面構造のタッチパネルフィルムのＸ方向配線及びＹ方向配線を示す上面図(A) Top view showing X direction wiring of conventional single-sided touch panel film, (b) Top view showing Y direction wiring of conventional single-sided touch panel film, (c) X of conventional single-sided touch panel film Top view showing direction wiring and Y direction wiring （ａ）実施形態に係る片面構造のタッチパネルフィルムのＸ方向配線を示す上面図、（ｂ）実施形態に係る片面構造のタッチパネルフィルムのＹ方向配線を示す上面図、（ｃ）実施形態に係る片面構造のタッチパネルフィルムのＸ方向配線及びＹ方向配線を示す上面図(A) Top view showing X direction wiring of touch panel film of single side structure according to embodiment, (b) Top view showing Y direction wiring of touch panel film of single side structure according to embodiment, (c) Single side according to embodiment Top view showing X direction wiring and Y direction wiring of touch panel film of structure （ａ）実施形態に係る片面構造の機能性膜付きタッチパネルフィルムにおいて図３の（ａ）の破線ａ−ａ’位置における層構成を示す断面図、（ｂ）実施形態に係る両面構造の機能性膜付きタッチパネルフィルムの層構成を示す断面図(A) Sectional drawing which shows the layer structure in the broken-line aa 'position of (a) of FIG. 3 in the touchscreen film with a functional film of the single-sided structure which concerns on embodiment, (b) Functionality of the double-sided structure which concerns on embodiment Sectional drawing which shows layer structure of the touchscreen film with a film | membrane 多面形成されたパネル領域の接続端子部がロール状透明フィルムの流れ（ＭＤ）方向に沿って同一線上に連続して配列されたロール状透明フィルムを模式的に示す斜視図The perspective view which shows typically the roll-shaped transparent film in which the connection terminal part of the panel area | region formed in multiple sides was continuously arranged on the same line along the flow (MD) direction of a roll-shaped transparent film 接続端子部が印刷されないようにストライプ状にパターン化された印刷版を用いてロールツーロール方式で、接続端子部を除く領域にストライプ状の機能性膜を印刷形成する工程を模式的に示す斜視図A perspective view schematically showing a process of printing and forming a stripe-shaped functional film in a region excluding the connection terminal portion by a roll-to-roll method using a printing plate patterned in a stripe shape so that the connection terminal portion is not printed. Figure 機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造工程を説明するための工程フロー図（ａ）〜（ｆ）Process flow diagram for explaining manufacturing process of touch panel film with functional film (a) to (f) 機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造工程を説明するための工程フロー図（ｇ）〜（ｈ）Process flow diagrams (g) to (h) for explaining the manufacturing process of the touch panel film with a functional film 接続端子部が印刷されないように開口部を所定の幅にしたダイヘッドを用いてロールツーロール方式で、接続端子部を除く領域にストライプ状の機能性膜を印刷形成する工程を模式的に示す斜視図A perspective view schematically showing a step of printing and forming a stripe-shaped functional film in a region excluding the connection terminal portion by a roll-to-roll method using a die head having an opening having a predetermined width so that the connection terminal portion is not printed. Figure 機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造工程を説明するための工程フロー図（ａ）〜（ｆ）Process flow diagram for explaining manufacturing process of touch panel film with functional film (a) to (f) 機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造工程を説明するための工程フロー図（ｇ）〜（ｈ）Process flow diagrams (g) to (h) for explaining the manufacturing process of the touch panel film with a functional film

＜第１の実施形態＞
以下、本発明の第１の実施形態に係る機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法について図面を用いて説明する。タッチパネルフィルムの製造方法は、透明電極を形成する工程と、外部接続用の接続端子部１１６を形成する工程と、透明電極上に機能性膜１１９を形成する工程とを少なくとも有する。 <First Embodiment>
Hereinafter, the manufacturing method of the touchscreen film with a functional film which concerns on the 1st Embodiment of this invention is demonstrated using drawing. The method for manufacturing a touch panel film includes at least a step of forming a transparent electrode, a step of forming a connection terminal portion 116 for external connection, and a step of forming a functional film 119 on the transparent electrode.

＜機能性膜付きタッチパネルフィルム＞
本発明の第１の本実施形態に係る機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法により製造された片面構造の投影型静電容量式機能性膜付きタッチパネルフィルムの例を図３に示す。図３の（ａ）は、フィルム基材１０５と、ＩＴＯで形成された透明電極をＸ方向（図３における横方向をＸ方向とする）にフィルム基材１０５上に敷設したＸ電極１１７と、Ｘ電極１１７と外部との接続を行うための取出し配線１０６と、Ｘ電極１１７と取出し配線１０６を覆うように形成された機能性膜１１９と、外部のコントローラ（図示省略）と接続するための接続端子部１１６とを有する投影型静電容量式タッチパネルフィルムを示している。機能性膜１１９は、具体的には、Ｘ電極１１７と取出し配線１０６を保護する役割を担うオーバーコート層又はハードコート層、もしくは光学特性を向上させる反射防止層等である。接続端子部１１６は、図示しない外部のコントローラと接続するために、機能性膜１１９で被覆されないことが重要である。図３の（ｂ）は、フィルム基材１０５と、ＩＴＯで形成された透明電極をＹ方向（図３における縦方向をＹ方向とする）に敷設したＹ電極１１８と、Ｙ電極１１８と外部との接続を行うための取出し配線１０６と、Ｙ電極１１８と取出し配線１０６を覆うように形成された機能性膜１１９と、外部のコントローラ（図示省略）と接続するための接続端子部１１６とを有する投影型静電容量式タッチパネルフィルムを示している。接続端子部１１６は、図示しない外部のコントローラと接続できるように、図３の（ａ）と同様に、機能性膜１１９で被覆されていない。Ｘ電極１１７が形成されたフィルム基材１０５と、Ｙ電極１１８が形成されたフィルム基材１０５の２枚を貼り合わせて使用することで、位置検出を行う投影型静電容量式タッチパネルセンサとなる。図３の（ｃ）は、フィルム基材１０５の片面に２層の透明電極層が形成された片面構造の投影型静電容量式タッチパネルセンサフィルムを示し、図３の（ｃ）のフィルムは、貼り合せることなく１枚タイプとして用いられる。図３の（ｃ）においても、接続端子部１１６は機能性膜１１９で被覆されていない。片面構造の１枚タイプの場合、Ｘ電極１１７とＹ電極１１８の交差する部分に図示しない層間絶縁層を形成することで、Ｘ電極１１７とＹ電極１１８の電気的絶縁が保たれている。図４の（ａ）は、機能性膜付きタッチパネルフィルムの構造を説明するための断面図であり、図３の（ａ）の破線ａ−ａ’位置における層構成を示している。図４の（ａ）に示すように、少なくとも接続端子部１１６上には、機能性膜１１９は形成されていない。 <Touch panel film with functional film>
FIG. 3 shows an example of a touch-sensitive film with a projected capacitive functional film having a single-side structure manufactured by the method for manufacturing a touch-sensitive film with a functional film according to the first embodiment of the present invention. 3A shows a film substrate 105, an X electrode 117 in which a transparent electrode formed of ITO is laid on the film substrate 105 in the X direction (the lateral direction in FIG. 3 is the X direction), Extraction wiring 106 for connecting the X electrode 117 to the outside, a functional film 119 formed so as to cover the X electrode 117 and the extraction wiring 106, and a connection for connecting to an external controller (not shown) 2 shows a projected capacitive touch panel film having a terminal portion 116. Specifically, the functional film 119 is an overcoat layer or a hard coat layer that plays a role of protecting the X electrode 117 and the extraction wiring 106, or an antireflection layer that improves optical characteristics. It is important that the connection terminal portion 116 is not covered with the functional film 119 in order to connect to an external controller (not shown). FIG. 3B shows a film base 105, a Y electrode 118 in which transparent electrodes made of ITO are laid in the Y direction (the vertical direction in FIG. 3 is the Y direction), the Y electrode 118, and the outside. And a functional film 119 formed so as to cover the Y electrode 118 and the extraction wiring 106, and a connection terminal portion 116 for connection to an external controller (not shown). A projected capacitive touch panel film is shown. The connection terminal portion 116 is not covered with the functional film 119 as in FIG. 3A so that it can be connected to an external controller (not shown). A projection capacitive touch panel sensor that performs position detection is obtained by bonding and using the film substrate 105 on which the X electrode 117 is formed and the film substrate 105 on which the Y electrode 118 is formed. . FIG. 3C shows a projected capacitive touch panel sensor film having a single-side structure in which two transparent electrode layers are formed on one side of the film substrate 105. The film in FIG. It is used as a single sheet type without bonding. In FIG. 3C as well, the connection terminal portion 116 is not covered with the functional film 119. In the case of the single-sided type, the X electrode 117 and the Y electrode 118 are kept electrically insulated by forming an interlayer insulating layer (not shown) at the intersection of the X electrode 117 and the Y electrode 118. FIG. 4A is a cross-sectional view for explaining the structure of the touch panel film with a functional film, and shows the layer structure at the position of the broken line aa ′ in FIG. As shown in FIG. 4A, the functional film 119 is not formed on at least the connection terminal portion 116.

＜ロール状透明フィルムの流れ（ＭＤ）方向に沿って同一線上に複数の接続端子部が位置するロール状透明フィルム＞
図５は、本発明の第１の実施形態に係る機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法に用いられる、ロール状透明フィルム１２２を模式的に示す斜視図である。図５に示すように、ロール状透明フィルム１２２は、断裁後にタッチパネル用の単一個片（単一のタッチパネルフィルム）となるパネル領域１２０をロール状透明フィルム１２２上に多面形成する際に、ロール状透明フィルム１２２の流れ方向の同じ列に属する複数のパネル領域１２０では、全ての接続端子部１１６がロール状透明フィルムの流れ（ＭＤ）方向（長さ方向）に沿って同一線１２１上に位置していることを特徴とする。具体的に、ロール状透明フィルム１２２の少なくとも一方の面には、複数のパネル領域１２０がロール状透明フィルム１２２の流れ方向に配列されたＭＤ方向列が、ロール状透明フィルム１２２の幅方向に複数列（図５では４列）形成されている。接続端子部１１６を形成する工程では、各ＭＤ方向列において複数のパネル領域１２０の接続端子部１１６がロール状透明フィルム１２２の流れ
方向に沿って同一線上に位置するように、接続端子部１１６を形成する。ロール状透明フィルム１２２の幅方向において、中央の２列のＭＤ方向列では、全ての接続端子部１１６がロール状透明フィルム１２２の内側を向くように各パネル領域１２０が形成され、外側の２列では、全ての接続端子部１１６がロール状透明フィルム１２２の外側を向くように各パネル領域１２０が形成されている。これにより、後述するストライプ状の機能性膜１１９を印刷形成することが可能となる。 <Roll transparent film in which a plurality of connection terminal portions are located on the same line along the flow (MD) direction of the transparent roll film>
FIG. 5 is a perspective view schematically showing a roll-shaped transparent film 122 used in the method for manufacturing a touch panel film with a functional film according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, the roll-shaped transparent film 122 is rolled when the panel region 120 that becomes a single piece for a touch panel (single touch panel film) is formed on the roll-shaped transparent film 122 after cutting. In the plurality of panel regions 120 belonging to the same row in the flow direction of the transparent film 122, all the connection terminal portions 116 are positioned on the same line 121 along the flow (MD) direction (length direction) of the roll-shaped transparent film. It is characterized by. Specifically, at least one surface of the roll-shaped transparent film 122 has a plurality of MD direction rows in which a plurality of panel regions 120 are arranged in the flow direction of the roll-shaped transparent film 122 in the width direction of the roll-shaped transparent film 122. Rows (four rows in FIG. 5) are formed. In the step of forming the connection terminal portion 116, the connection terminal portion 116 is arranged so that the connection terminal portions 116 of the plurality of panel regions 120 are located on the same line along the flow direction of the roll-shaped transparent film 122 in each MD direction row. Form. In the width direction of the roll-shaped transparent film 122, each panel region 120 is formed so that all the connection terminal portions 116 face the inner side of the roll-shaped transparent film 122 in the two MD direction rows at the center, and the outer two rows. Then, each panel area | region 120 is formed so that all the connection terminal parts 116 may face the outer side of the roll-shaped transparent film 122. FIG. As a result, a stripe-shaped functional film 119 described later can be printed.

＜ストライプ状にパターン化された印刷版を用いてストライプ状の機能性膜を印刷形成する工程＞
図６は、本発明の第１の実施形態に係る機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法の一工程を模式的に示す斜視図である。図６は、図５で示したロール状透明フィルム１２２に、接続端子部１１６上に機能性膜１１９が印刷されないようにストライプ状にパターン化された印刷版１２３（つまり、複数の帯状パターン１２３ａがストライプ状に形成された印刷版）を用いて、ロールツーロール方式で、接続端子部１１６上を除く領域（パネル領域１２０の接続端子部１１６側の端部を除く領域）にストライプ状の機能性膜１１９を印刷形成する工程を示している。印刷版１２３において隣り合う帯状パターン１２３ａの間に形成された帯状の未パターン領域１２３ｂが、ロール状透明フィルム１２２の幅方向において、複数の接続端子部１１６がロール状透明フィルム１２２の流れ方向に並ぶ帯状領域に配置されている。本発明を用いることで、パネル領域１２０の接続端子部１１６側の端部だけを除く領域に、フォトリソ法や他のフィルムとの貼り合せを必要とすることなく、効率的に機能性膜１１９を形成することが可能となる。 <Step of Printing and Forming a Striped Functional Film Using a Printing Plate Patterned in Stripes>
FIG. 6 is a perspective view schematically showing one step of the method for manufacturing the touch panel film with a functional film according to the first embodiment of the present invention. FIG. 6 illustrates a printing plate 123 (that is, a plurality of strip-shaped patterns 123a formed on the transparent transparent film 122 illustrated in FIG. 5 in a stripe pattern so that the functional film 119 is not printed on the connection terminal portion 116. In a roll-to-roll method using a printing plate formed in a stripe shape, a stripe-like functionality is provided in a region excluding the connection terminal portion 116 (a region excluding an end portion on the connection terminal portion 116 side of the panel region 120). A process of forming a film 119 by printing is shown. In the printing plate 123, a strip-shaped unpatterned region 123b formed between adjacent strip-shaped patterns 123a is arranged in the width direction of the roll-shaped transparent film 122, and a plurality of connection terminal portions 116 are arranged in the flow direction of the roll-shaped transparent film 122. Arranged in the belt-like region. By using the present invention, the functional film 119 can be efficiently formed in a region excluding only the end portion on the connection terminal portion 116 side of the panel region 120 without requiring photolithography or bonding with another film. It becomes possible to form.

タッチパネルとは、金属配線のような導電体の両端に同じ位相で同じ電圧の交流を加えた場合に、導電体に指や手のような静電的且つ導電性の媒体を近接させると、接地されているとみなされる媒体と導電体間（これも接地されているので）に容量結合が生じて、過剰な交流電流が導電体に流れる現象を利用した電子デバイスである。したがって、導電体に指が直接触れる必要がなく、指が誘電体を介して接触又は近接しても構わない。手がセンサ部の導電体に触れると導電体が汚れるため、通常、導電体は、防汚性のある透明な機能性膜で被覆している。   A touch panel is a grounding device when an electrostatic and conductive medium such as a finger or hand is brought close to a conductor when alternating current with the same phase and voltage is applied to both ends of the conductor such as metal wiring. This is an electronic device that utilizes a phenomenon in which an excessive alternating current flows through a conductor due to capacitive coupling between a medium that is considered to be conductive and the conductor (which is also grounded). Therefore, it is not necessary for the finger to touch the conductor directly, and the finger may be in contact with or in close proximity via the dielectric. Since the conductor is soiled when the hand touches the conductor of the sensor unit, the conductor is usually covered with a transparent functional film having antifouling properties.

以下、本発明の第１の実施形態である機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法について、図７Ａ及び図７Ｂの工程フロー図（ａ）〜（ｈ）を用いて説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the touchscreen film with a functional film which is the 1st Embodiment of this invention is demonstrated using process flowchart (a)-(h) of FIG. 7A and 7B.

図７Ａの（ａ）は、ロール状透明フィルム１２２の表面に、透明電極としてＩＴＯ１１をスパッタ装置を用いて成膜する工程を示す図である。図７Ａ及び図７Ｂでは、左側の図が、ロール状透明フィルム１２２の巻き姿の側面視を示す側面図であり、右側の図が、フィルムの流れ方法の先頭からの正面視を示す正面図であり、フィルム断面の層構成を示している。図７Ａ及び図７Ｂにおいて、図中の矢印は、フィルム基材１０５の移動方向を示している。   FIG. 7A is a diagram illustrating a process of forming a film of ITO 11 as a transparent electrode on the surface of the roll-shaped transparent film 122 using a sputtering apparatus. 7A and 7B, the left side view is a side view showing the side view of the rolled transparent film 122, and the right side view is a front view showing the front view from the beginning of the film flow method. Yes, showing the layer structure of the film cross section. 7A and 7B, the arrows in the drawings indicate the moving direction of the film substrate 105.

本発明の第１の実施形態に係る機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法では、ロール状透明フィルム１２２を用いたロールツーロール方式が用いられる。ロール状透明フィルム１２２（透明なフィルム基材１０５）としては、コスト面からポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）が好ましいが、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート等のセルロース系樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン系樹脂、メタクリル系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−（ポリ）スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂等から製造される厚さが１０〜３００μｍの範囲の熱可塑系樹脂フィルムを使用でき、透明性、加工性、コストの点で厚さが５０〜１８８μｍのＰＥＴが多く用いられる。また、透明なフィルム基材１０５は、一方または両方の面に、易接着処理、プラズマ処理、コロナ処理等の表面処理が施されていてもよい。   In the method for manufacturing a touch panel film with a functional film according to the first embodiment of the present invention, a roll-to-roll method using a roll-shaped transparent film 122 is used. As the roll-shaped transparent film 122 (transparent film substrate 105), polyethylene terephthalate resin (PET) is preferable from the viewpoint of cost, but cellulose resin such as cellulose diacetate and cellulose triacetate, polyethylene resin, polypropylene resin, and methacrylic resin. Resin, cyclic polyolefin resin, polystyrene resin, acrylonitrile- (poly) styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyvinyl chloride resin, poly (meth) acrylic resin A thermoplastic resin film with a thickness in the range of 10-300 μm manufactured from resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, polyamideimide resin, etc. can be used, transparency, workability, cost In thickness PET of 50~188μm is often used. Moreover, the transparent film base material 105 may be subjected to surface treatment such as easy adhesion treatment, plasma treatment, and corona treatment on one or both surfaces.

図７Ａの（ｂ）は、ロールコーター１３を用いて感放射線性組成物１２を、上側のＩＴＯ成膜面に０．５〜１０μｍ程度の厚さで塗布する工程を示す。感放射線性組成物１２としては、汎用のドライフィルムタイプのネガレジストの他に、カゼインレジストも使用することができる。図７Ａの（ｂ）の塗布工程後、９０℃で３０分程度の乾燥工程（図示省略）と、所望の電極用パターン等を備えたフォトマスクを介して１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射する工程（図示省略）と、３％の炭酸ナトリウム水溶液等の現像処理を施す工程（図示省略）を経ることにより、図７Ａの（ｃ）に示すように、Ｘ電極１１７（透明電極パターン）に対応するレジストパターン７以外の部分のレジストが除去され、所望のレジストパターン７が形成される。 FIG. 7A (b) shows a step of applying the radiation-sensitive composition 12 to the upper ITO film-formed surface with a thickness of about 0.5 to 10 μm using the roll coater 13. As the radiation-sensitive composition 12, a casein resist can be used in addition to a general-purpose dry film type negative resist. After the coating process of FIG. 7A (b), irradiation with ultraviolet rays of 10 to 1000 mJ / cm 2 is performed through a drying process (not shown) for about 30 minutes at 90 ° C. and a photomask provided with a desired electrode pattern and the like. As shown in FIG. 7A (c), the X electrode 117 (transparent electrode pattern) is subjected to a step (not shown) and a step (not shown) of developing a 3% sodium carbonate aqueous solution or the like. The resist other than the corresponding resist pattern 7 is removed, and a desired resist pattern 7 is formed.

次に、シュウ酸、リン酸、硝酸、塩酸等の酸性水溶液からなるＩＴＯエッチング液を用いて、レジストパターン７から露出したＩＴＯ１１をエッチング除去し、残ったレジストパターン７を剥離することにより、図７Ａの（ｄ）に示すように、フィルム基材１０５のＩＴＯ成膜面側に、Ｘ電極１１７が形成される。   Next, the ITO 11 exposed from the resist pattern 7 is removed by etching using an ITO etching solution made of an acidic aqueous solution such as oxalic acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, etc., and the remaining resist pattern 7 is peeled off, whereby FIG. As shown in (d) of FIG. 5, the X electrode 117 is formed on the ITO film-forming surface side of the film substrate 105.

次に、図７Ａの（ｅ）に示すように、金属薄膜８をスパッタ・蒸着等の公知の方法で成膜した後、図７Ａの（ｂ）の工程と同様に、ロールコーター１３を用いて感放射線性組成物１２を金属薄膜８上に塗布する。その後、乾燥工程（図示省略）と、所望の接続端子部用パターン等を備えたフォトマスクを介して紫外線を照射する工程（図示省略）と、現像処理を施す工程（図示省略）を経て、接続端子部１１６に対応するレジストパターン（図示省略）を形成する。   Next, as shown in FIG. 7A (e), after the metal thin film 8 is formed by a known method such as sputtering or vapor deposition, the roll coater 13 is used similarly to the step (b) in FIG. 7A. The radiation sensitive composition 12 is applied onto the metal thin film 8. After that, it is connected through a drying step (not shown), a step of irradiating ultraviolet rays through a photomask provided with a desired connection terminal pattern or the like (not shown), and a step of developing (not shown). A resist pattern (not shown) corresponding to the terminal portion 116 is formed.

図７Ａの（ｄ）と同様に、塩化第二鉄水溶液、リン酸、硝酸、塩酸等の酸性水溶液からなる金属箔膜エッチング液を用いて、レジストパターンから露出した金属薄膜８をエッチング除去し、残ったレジストパターンを剥離することにより、図７Ａの（ｆ）に示すように、フィルム基材１０５のＸ電極１１７面側に、接続端子部１１６が形成される。   As in (d) of FIG. 7A, the metal thin film 8 exposed from the resist pattern is removed by etching using a metal foil film etchant composed of an aqueous solution of ferric chloride, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, etc. By peeling off the remaining resist pattern, a connection terminal portion 116 is formed on the X electrode 117 surface side of the film substrate 105 as shown in FIG. 7A (f).

なお、本発明の第１の実施形態に係る機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法は、Ｘ電極１１７と接続端子部１１６を導通するための取出し配線１０６を形成する工程（図示省略）を含むことができる。取出し配線１０６を形成する方法としては、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｔ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｚｎ、等の金属微粉末を含む導電性ペーストをスクリーン印刷又はグラビアオフセット印刷機で印刷形成する方法を用いることができる。他の方法としては、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｔ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｚｎ、等の金属微粉末を含む感光性導電材料を塗布した後、フォトリソ法でパターン形成する方法を用いても良く、従来公知の方法を用いることができる。取出し配線１０６の形成順序としては、前述したＸ電極１１７の形成前の一番初め、Ｘ電極１１７の形成後、又は、接続端子部１１６の形成後等、品質を向上させるのに最も良い順序を適宜選択してよい。さらに、取出し配線１０６と接続端子部１１６を同一材料を用いて同一工程で形成してもよく、その場合には工程数を減らすことができ、より効率的に本発明の機能性膜付きタッチパネルフィルムを製造できる。   In addition, the manufacturing method of the touchscreen film with a functional film which concerns on the 1st Embodiment of this invention includes the process (illustration omitted) of forming the extraction wiring 106 for electrically connecting X electrode 117 and the connection terminal part 116. FIG. Can do. As a method of forming the extraction wiring 106, for example, a method of printing and forming a conductive paste containing fine metal powder such as Cu, Ag, At, Pt, Al, Zn, etc. by screen printing or a gravure offset printing machine is used. Can do. As another method, after applying a photosensitive conductive material containing fine metal powder such as Cu, Ag, At, Pt, Al, Zn, etc., a pattern forming method by photolithography may be used. The method can be used. The extraction wiring 106 is formed in the best order for improving the quality, such as the first before the X electrode 117 is formed, after the X electrode 117 is formed, or after the connection terminal portion 116 is formed. You may select suitably. Furthermore, the extraction wiring 106 and the connection terminal portion 116 may be formed in the same process using the same material. In that case, the number of processes can be reduced, and the touch panel film with a functional film of the present invention can be more efficiently used. Can be manufactured.

図７Ｂの（ｇ）に、Ｘ電極１１７、および取出し配線１０６上に、機能性膜１１９をロールツーロール方式のマイクログラビアコーター等の印刷にて形成する工程を示す。印刷版として、接続端子部１１６上に機能性膜１１９が形成されないようにストライプ状にパターン化された印刷版１２３を使用することで、ロールツーロール方式の印刷のみで機能性膜１１９を形成可能となる。以上の工程を経ることにより、一貫したロールツーロール方式で、片面構造の投影型静電容量式機能性膜付きタッチパネルフィルムを形成できる（図７Ｂの（ｈ））。   FIG. 7B (g) shows a step of forming a functional film 119 on the X electrode 117 and the extraction wiring 106 by printing using a roll-to-roll microgravure coater or the like. By using the printing plate 123 that is patterned in a stripe shape so that the functional film 119 is not formed on the connection terminal portion 116, the functional film 119 can be formed only by roll-to-roll printing. It becomes. By passing through the above process, the projection capacitive type functional touch panel film with a single-sided structure can be formed by a consistent roll-to-roll method ((h) in FIG. 7B).

本実施形態では、図４の（ａ）に示すように、Ｘ電極１１７及び取出し配線１０６の表面が空気と接触しないように、好ましくは酸フリーの有機樹脂からなる機能性膜１１９で、Ｘ電極１１７及び取出し配線１０６を完全に被覆するようにしている。機能性膜１１９は、Ｘ電極１１７間の隙間を埋め且つ表面も覆っている。機能性膜１１９の表面が、図７Ｂの（ｈ）に示すように、概ね面一になるのが好ましい皮膜の形態である。機能性膜１１９の厚さは、Ｘ電極１１７、取出し配線１０６、及び、接続端子部１１６の厚さにもよるが、これらの厚さが０．１〜１０μｍ程度であれば、機能性膜１１９の厚さは２〜４０μｍ程度が最適である。   In this embodiment, as shown in FIG. 4A, a functional film 119 preferably made of an acid-free organic resin is used to prevent the surfaces of the X electrode 117 and the extraction wiring 106 from coming into contact with air. 117 and the extraction wiring 106 are completely covered. The functional film 119 fills the gap between the X electrodes 117 and covers the surface. As shown in FIG. 7B (h), the surface of the functional film 119 is preferably substantially flush with the film. The thickness of the functional film 119 depends on the thicknesses of the X electrode 117, the extraction wiring 106, and the connection terminal portion 116, but if these thicknesses are about 0.1 to 10 μm, the functional film 119 is present. The optimal thickness is about 2 to 40 μm.

機能性膜１１９は、電磁波、紫外線、可視光線、電子線等の電離放射線エネルギーにより架橋硬化させて使用する電離放射線硬化性組成物であって、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能性モノマーを主成分とするものであることが、生産効率、及び生産安定性の点で好ましい。紫外線照射による硬化の場合には、波長が１５０〜４５０ｎｍの範囲の光を含む高圧水銀灯光源を使用する。電子線硬化の場合には、加速電圧が１０〜５００ｋＶ、より好ましくは３０〜２００ｋＶの範囲で、照射量が３〜３００ｋＧｙとなる電子線が必要である。   The functional film 119 is an ionizing radiation curable composition that is used by being cured by crosslinking with ionizing radiation energy such as electromagnetic waves, ultraviolet rays, visible rays, and electron beams, and has two or more (meth) acryloyl groups in one molecule. It is preferable from the viewpoint of production efficiency and production stability that the main component is a polyfunctional monomer containing. In the case of curing by ultraviolet irradiation, a high pressure mercury lamp light source containing light having a wavelength in the range of 150 to 450 nm is used. In the case of electron beam curing, an electron beam having an acceleration voltage of 10 to 500 kV, more preferably 30 to 200 kV and an irradiation dose of 3 to 300 kGy is required.

多官能性モノマーとしては、１，４‐ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ‐（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２，３‐ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリンサンエステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を用いることができる。多官能モノマーは、単独で使用しても良いし、２種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば、単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。   Polyfunctional monomers include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol Di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β- (meth) acryloyloxypropionate, trimethylolethane Tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (2-H Roxyethyl) isocyanate di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 2,3-bis (meth) acryloyloxyethyloxymethyl [2.2.1] heptane, poly 1,2-butadiene di (meth) acrylate 1,2-bis (meth) acryloyloxymethylhexane, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, tetradecane ethylene glycol di (meth) acrylate, 10-decanediol (meth) acrylate, 3,8-bis (meth) acryloyl Oxymethyltricyclo [5.2.10] decane, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) propane, 1,4-bis ((meta ) Acryloyloxymethyl E) Cyclohexane, hydroxypivalin sun ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate, epoxy-modified bisphenol A di (meth) acrylate and the like can be used. A polyfunctional monomer may be used independently and may use 2 or more types together. Further, if necessary, it can be copolymerized in combination with a monofunctional monomer.

また、本発明において好ましい多官能性モノマーとして、ウレタンアクリレートも挙げられ、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に水酸基を有するアクリレートモノマーを反応させ容易に形成されるものを用いることができる。   In addition, urethane acrylate is also exemplified as a preferred polyfunctional monomer in the present invention. Generally, it is easily formed by reacting an isocyanate monomer or a prepolymer with a polyester polyol and an acrylate monomer having a hydroxyl group. Can be used.

具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートト
ルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。また、これらの単量体は、１種または２種以上を混合して使用することができる。また、これらは塗液においてモノマーであってもよいし、一部が重合したオリゴマーであっても構わない。 Specific examples include pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate toluene diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate toluene diisocyanate urethane prepolymer. Pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer, and the like can be used. Moreover, these monomers can be used 1 type or in mixture of 2 or more types. In addition, these may be monomers in the coating liquid or may be oligomers that are partially polymerized.

光重合開始剤としては、例えば、２，２−エトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｐ−クロロベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、２−クロロチオキサントン等を用いることができ、これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。   Examples of the photopolymerization initiator include 2,2-ethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, dibenzoyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, p-chlorobenzophenone, p-methoxybenzophenone, Michler ketone, acetophenone, 2 -Chlorothioxanthone can be used, and these may be used alone or in combination of two or more.

光増感剤としては、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール等の３級アミン、トリフェニルホスフィン等のアルキルフォスフィン系、β−チオジグリコール等のチオエーテル系を用いることができ、これらを１種類、もしくは２種類以上を混合して用いることもできる。   As photosensitizers, tertiary amines such as triethylamine, triethanolamine and 2-dimethylaminoethanol, alkylphosphine such as triphenylphosphine, and thioethers such as β-thiodiglycol can be used. Can be used alone or in combination of two or more.

さらに、性能改良のため、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等を含有することもできる。   Furthermore, an antifoaming agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a polymerization inhibitor and the like can be contained for improving the performance.

機能性膜１１９に添加する微粒子としては、各種金属酸化物、ガラス、プラスティックなどの透明性を有するものを特に制限なく使用することができる。例えば、シリカ、ジルコニア、チタニア、酸化カルシウム等の金属酸化物や、導電性を有するアルミナ、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン等の無機系導電性微粒子や、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル−スチレン共重合体、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋または未架橋の有機系微粒子や、シリコーン系微粒子などを用いることができる。なお、これらの微粒子の形状は、特に制限されず、ビーズ状の球形であってもよいし、粉末等の不定形であってもよいが、球状が好ましく、特に真球状であることが好ましい。これらの微粒子は、１種または２種以上を適宜に選択して用いることができる。   As the fine particles to be added to the functional film 119, those having transparency such as various metal oxides, glass, and plastic can be used without particular limitation. For example, metal oxides such as silica, zirconia, titania, calcium oxide, inorganic conductive fine particles such as conductive alumina, tin oxide, indium oxide, antimony oxide, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyurethane, acrylic Cross-linked or non-cross-linked organic fine particles made of various polymers such as styrene copolymer, melamine, and polycarbonate, and silicone fine particles can be used. The shape of these fine particles is not particularly limited, and may be a bead-shaped sphere or an indefinite shape such as a powder, but a spherical shape is preferable, and a true spherical shape is particularly preferable. One kind or two or more kinds of these fine particles can be appropriately selected and used.

微粒子の平均粒子径は、１０から２００ｎｍであり、好ましくは１０から１００ｎｍである。平均粒子径が、１０ｎｍ未満の場合には、十分な凹凸形状を形成することができず、貼りつきの抑制に十分でない。一方、平均粒子径が２００ｎｍ以上の場合には、機能性膜１１９内での光散乱が発生してしまい、透過率が低下する。微粒子の割合は、微粒子の平均粒子径、機能性膜１１９の厚さ等を考慮して適宜に決定されるが、樹脂１００重量部に対して、０．１から１０重量部とするのが好ましい。   The average particle diameter of the fine particles is 10 to 200 nm, preferably 10 to 100 nm. When the average particle diameter is less than 10 nm, a sufficient uneven shape cannot be formed, which is not sufficient for suppressing sticking. On the other hand, when the average particle diameter is 200 nm or more, light scattering occurs in the functional film 119, and the transmittance decreases. The proportion of the fine particles is appropriately determined in consideration of the average particle diameter of the fine particles, the thickness of the functional film 119, and the like, but is preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin. .

機能性膜１１９に添加する層状粘土鉱物としては、例えば、カオリナイト、タルク、有機処理雲母、ベントナイト、モンモリロナイトを用いることができ、特に有機溶剤への溶解性、分散性が良好な親油性合成スメクタイトが好ましい。具体的には、ルーセンタイトシリーズ（コープケミカル株式会社）などを用いることができる。層状粘土鉱物の配合量は、塗布液の粘度特性などに応じて適宜に決定されるが、一般には塗工性、塗膜平滑性などの点から、樹脂１００重量部に対して、１から３０重量部、特に１から２０重量部とすることが好ましい。   As the layered clay mineral added to the functional film 119, for example, kaolinite, talc, organically treated mica, bentonite, montmorillonite can be used, and in particular, lipophilic synthetic smectite with good solubility and dispersibility in organic solvents. Is preferred. Specifically, Lucentite series (Coop Chemical Co., Ltd.) can be used. The blending amount of the layered clay mineral is appropriately determined according to the viscosity characteristics of the coating solution, etc., but is generally 1 to 30 with respect to 100 parts by weight of the resin from the viewpoints of coating property and coating film smoothness. Part by weight, particularly 1 to 20 parts by weight is preferred.

機能性膜１１９の形成方法としては、前述のストライプ状にパターン化された印刷版１２３を使用可能であれば、どのようなウェットコーティング法を用いてもよく、ロールコ
ーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法等などにより、フィルム基材１０５の少なくとも片面に、塗液を塗布することにより機能性膜１１９を形成することができる。特に薄く、均一に機能性膜１１９を形成する必要性があるため、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。前述のストライプ状にパターン化された印刷版１２３の概念を使用可能であれば、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等のコーティング法も用いてもよい。 As a method for forming the functional film 119, any wet coating method may be used as long as the printing plate 123 patterned in the above-described stripe shape can be used. A roll coating method, a gravure roll coating method, Applying the coating liquid to at least one surface of the film substrate 105 by the air doctor coating method, the blade coating method, the wire doctor coating method, the knife coating method, the reverse coating method, the transfer roll coating method, the micro gravure coating method, etc. Thus, the functional film 119 can be formed. In particular, since it is necessary to form the functional film 119 thinly and uniformly, it is preferable to use a micro gravure coating method. If the above-mentioned concept of the printing plate 123 patterned in a stripe shape can be used, a dip coating method, a spin coating method, a flow coating method, a spray coating method, a kiss coating method, a cast coating method, a slot orifice coating method, A coating method such as a calendar coating method or a die coating method may also be used.

機能性膜１１９を形成する際の硬化方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を用いることができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００ｍＪ／ｃｍ２以上８００ｍＪ／ｃｍ２以下である。 As a curing method for forming the functional film 119, for example, ultraviolet irradiation, heating, or the like can be used. In the case of ultraviolet irradiation, a high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, or the like can be used. The amount of ultraviolet irradiation is usually 100 mJ / cm 2 or more and 800 mJ / cm 2 or less.

また、機能性膜１１９の膜厚は、ハードコート性を求める場合、３μｍ以上あれば十分な強度となるが、塗工精度、及び取扱いを考慮すると、５μｍ以上１０μｍ以下の範囲が好ましい。１０μｍ以上では硬化収縮による基材の反り、ゆがみ、基材折れが発生してしまうためである。さらに、膜厚としては、５μｍ以上７μｍ以下の範囲であれば、ハードコート層として非常に好ましい。   The functional film 119 has a thickness of 3 μm or more when the hard coat property is required. However, in consideration of coating accuracy and handling, a range of 5 μm or more and 10 μm or less is preferable. This is because if the thickness is 10 μm or more, warpage, distortion, and bending of the substrate due to curing shrinkage occur. Furthermore, if it is the range of 5 micrometers or more and 7 micrometers or less as a film thickness, it is very preferable as a hard-coat layer.

機能性膜１１９用の塗液に用いる溶剤としては、セルロース系フィルム表面を溶解または膨潤させる溶剤として、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類を用いることができる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。なお、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも１種類を用いることが好ましい。   As a solvent used in the coating liquid for the functional film 119, as a solvent for dissolving or swelling the cellulose film surface, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1, Ethers such as 3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone Ketones such as ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, propion brewed ethyl, n-pentyl acetate, and γ-ptilo Esters such as lactone, further methyl cellosolve, can be used cellosolve, butyl cellosolve, and cellosolve such as cellosolve acetate. You may use these individually or in combination of 2 or more types. In addition, it is preferable to use at least one of methyl acetate, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, acetylacetone, acetone, and cyclohexanone.

これら溶剤は、樹脂組成物１００重量部に対して、溶剤が５０重量部から１５０重量部の範囲になるように調液することが好ましい。   These solvents are preferably prepared such that the solvent is in the range of 50 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin composition.

溶剤が５０重量部以下であると、塗布液の粘度が高くなり、ウェットコーティング法にて良好な塗布面を形成できなくなる。一方、溶剤が１５０重量部以上であると、所定膜厚の機能性膜１１９を形成できなくなってしまう。   When the solvent is 50 parts by weight or less, the viscosity of the coating solution increases, and a good coating surface cannot be formed by the wet coating method. On the other hand, if the solvent is 150 parts by weight or more, the functional film 119 having a predetermined film thickness cannot be formed.

機能性膜１１９には、反射防止機能等の光学特性を良好なものとするために、低屈折率膜を積層することができる。   The functional film 119 can be laminated with a low refractive index film in order to improve optical properties such as an antireflection function.

低屈折率膜は、ハードコート層等の機能性膜１１９に積層して使用することが好ましく、ハードコート層等の機能性膜１１９よりも低い屈折率を有するものが好ましい。本発明の好ましい形態としては、ハードコート層等の機能性膜１１９の屈折率が１．５以上であり、低屈折率膜の屈折率が１．５未満である。より好ましくは、低屈折率膜の屈折率は１
．４５以下、更に好ましくは１．３５以下である。屈折率が１．５以上であると低屈折率膜とハードコート層等の機能性膜１１９の屈折率差が小さいために、反射が高くなってしまうことから、屈折率は低い方が望ましい。 The low refractive index film is preferably used by being laminated on a functional film 119 such as a hard coat layer, and preferably has a lower refractive index than the functional film 119 such as a hard coat layer. In a preferred embodiment of the present invention, the refractive index of the functional film 119 such as a hard coat layer is 1.5 or more, and the refractive index of the low refractive index film is less than 1.5. More preferably, the refractive index of the low refractive index film is 1
. 45 or less, more preferably 1.35 or less. When the refractive index is 1.5 or more, the difference in refractive index between the low refractive index film and the functional film 119 such as the hard coat layer is small, and the reflection becomes high. Therefore, it is desirable that the refractive index is low.

低屈折率膜における低屈折率粒子として、空隙を有する微粒子を用いることができる。空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子である。   As the low refractive index particles in the low refractive index film, fine particles having voids can be used. The fine particles having voids form a structure in which fine particles are filled with gas and / or a porous structure containing gas, and are in inverse proportion to the gas occupancy ratio in the fine particles compared to the original refractive index of the fine particles. It is a fine particle whose refractive index decreases.

また、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部に、ナノポーラス構造の形成が可能な微粒子を含ませることもできる。この微粒子を使用した低屈折率膜は、屈折率を１．３０以上１．４５以下に調節することが可能である。   In addition, fine particles capable of forming a nanoporous structure may be included in at least a part of the inside and / or the surface depending on the form, structure, aggregated state, and dispersed state of the fine particles inside the coating film. The low refractive index film using these fine particles can adjust the refractive index to 1.30 or more and 1.45 or less.

このような空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、中空シリカ微粒子を挙げることができる。空隙を有する中空シリカ微粒子は、製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率膜を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０以上１．４５以下程度の範囲内に調整することを可能とする。   Examples of inorganic fine particles having such voids include hollow silica fine particles. Since hollow silica fine particles having voids are easy to manufacture and have high hardness themselves, when mixed with a binder to form a low refractive index film, the layer strength is improved and the refractive index is 1.20 or more. It is possible to adjust within a range of about 1.45 or less.

中空シリカ微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、下限が８ｎｍであり上限が１００ｎｍであることがより好ましく、下限が１０ｎｍであり上限が８０ｎｍであることが更に好ましい。   The average particle size of the hollow silica fine particles is preferably 5 nm to 300 nm, the lower limit is 8 nm, the upper limit is more preferably 100 nm, the lower limit is 10 nm, and the upper limit is further preferably 80 nm.

微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率膜として優れた透明性を付与することが可能となる。中空シリカ微粒子は、低屈折率膜中にマトリックス樹脂１００重量部に対して、通常０．１重量部以上５００重量部以下、好ましくは１０重量部以上２００重量部以下とするのが好ましい。   When the average particle diameter of the fine particles is within this range, excellent transparency as a low refractive index film can be imparted. The hollow silica fine particles are usually 0.1 to 500 parts by weight, preferably 10 to 200 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the matrix resin in the low refractive index film.

低屈折率膜の形成にあっては、低屈折率膜形成用樹脂として１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能性モノマー、中空シリカ微粒子、及び必要に応じて添加剤（重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率膜形成用組成物として用い、その組成物による塗膜を形成し、紫外線照射あるいは加熱等により硬化させることで、低屈折率膜を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は、公知のものを使用することができる。   In the formation of a low refractive index film, a polyfunctional monomer containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule as a resin for forming a low refractive index film, hollow silica fine particles, and optionally added A solution or dispersion obtained by dissolving or dispersing an agent (polymerization initiator, antistatic agent, antiglare agent, etc.) in a solvent is used as a composition for forming a low refractive index film, and a coating film is formed from the composition. A low refractive index film can be obtained by curing by ultraviolet irradiation or heating. In addition, well-known things can be used for additives, such as a polymerization initiator, an antistatic agent, and an glare-proof agent.

前述の低屈折率膜形成用樹脂の１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能性モノマーとしては、ハードコート層等の機能性膜１１９の形成時に用いる電離放射線硬化型樹脂として本明細書に記載している樹脂等を使用することができる。   As the polyfunctional monomer containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule of the low refractive index film forming resin, an ionizing radiation curable type used when forming a functional film 119 such as a hard coat layer is used. As the resin, resins described in the present specification can be used.

低屈折率膜は、通常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、組成物の安定性、ハードコート層等の機能性膜１１９に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、へキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。中でも、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、イソ
プロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ＰＧＭＥ、ＰＧＭＥＡが好ましい。また、組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良く、公知の装置を使用して混合分散することができる。 The low refractive index film is usually applied after being diluted in a volatile solvent. In consideration of stability of the composition, wettability to the functional film 119 such as a hard coat layer, volatility, etc., alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, 2-methoxyethanol are used as the dilution solvent. Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl, esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, ethers such as diisopropyl ether, glycols such as ethylene glycol, propylene glycol and hexylene glycol, ethyl cellosolve, Glycol ethers such as butyl cellosolve, ethyl carbitol and butyl carbitol, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, N-methyl Pyrrolidone, dimethylformamide and the like. You may use these individually or in combination of 2 or more types. Of these, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, isopropyl alcohol (IPA), n-butanol, s-butanol, t-butanol, PGME, and PGMEA are preferable. Moreover, the preparation method of a composition should just be able to mix a component uniformly, should just implement according to a well-known method, and can carry out mixing and dispersion | distribution using a well-known apparatus.

低屈折率膜形成用組成物は、前述したストライプ状にパターン化された印刷版を用いてロールツーロール方式で印刷することにより、表面処理を行ったハードコート層等の機能性膜１１９上に塗工され、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、紫外線照射、電子線照射等を行い、塗膜を硬化させる。また、低屈折率膜の形成は、ハードコート層等の機能性膜１１９の形成方法と同様に、マイクログラビア法を用いることが好ましい。   The composition for forming a low refractive index film is printed on the functional film 119 such as a hard coat layer subjected to a surface treatment by printing by a roll-to-roll method using the printing plate patterned in the stripe shape described above. It is applied and the solvent in the coating film is volatilized by heating and drying, and then the coating film is cured by heating, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation and the like. The low refractive index film is preferably formed by a microgravure method, as in the method for forming the functional film 119 such as a hard coat layer.

なお、低屈折率膜を形成する時の膜厚（ｎｍ）ｄＡは、式（１）により表される。
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ） 式（１）
式（１）において、ｎＡは低屈折率膜の屈折率を表し、ｍは正の奇数を表し、λは波長を表す。ｍは、１であることが好ましく、λは、４８０〜５８０ｎｍの範囲の値であることが好ましい。 Note that the film thickness (nm) dA when forming the low refractive index film is expressed by Expression (1).
dA = mλ / (4 nA) Equation (1)
In formula (1), nA represents the refractive index of the low refractive index film, m represents a positive odd number, and λ represents the wavelength. m is preferably 1, and λ is preferably a value in the range of 480 to 580 nm.

＜第２の実施形態＞
図４の（ｂ）に、本発明の第１の実施形態である機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法により製造された、フィルム基材１０５の両面に２層の透明電極層が形成された両面構造の投影型静電容量式タッチパネルセンサフィルムを示す。両面構造のタッチパネルセンサフィルムも、貼り合せることなく１枚タイプとして用いられる。図４の（ｂ）においても、接続端子部１１６は、機能性膜１１９で被覆されておらず、Ｘ電極１１７とＹ電極１１８をフィルム基材１０５の表面と裏面の両面に形成する以外は、第１の実施形態と同様にして製造されるため、重複する部分についての説明は省略し、異なる点のみを以下で記述する。 <Second Embodiment>
FIG. 4B shows a double-sided transparent electrode layer formed on both sides of a film substrate 105 manufactured by the method for manufacturing a touch panel film with a functional film according to the first embodiment of the present invention. 2 shows a projected capacitive touch panel sensor film of structure. A touch panel sensor film having a double-sided structure is also used as a single sheet type without being bonded. Also in FIG. 4B, the connection terminal portion 116 is not covered with the functional film 119, except that the X electrode 117 and the Y electrode 118 are formed on both the front surface and the back surface of the film base 105. Since it is manufactured in the same manner as in the first embodiment, the description of the overlapping parts is omitted, and only different points are described below.

第２の実施形態の機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法としては、第１の実施形態と同様に、図７Ａ及び図７Ｂの（ａ）から（ｈ）に示す工程を経て、まず初めにフィルム基材１０５の一方の面に、Ｘ電極１１７と、取出し配線１０６と、接続端子部１１６と、機能性膜１１９を形成した後、フィルム基材１０５のもう一方の面に、その一方の面と同様の工程を経て、Ｙ電極１１８等を形成する方法を用いることができる。この他、図７Ａの（ａ）のＩＴＯ電極１１をフィルム基材１０５の両面に同時に成膜し、図７Ａの（ｂ）の感放射線性組成物１２をロールコーター１３を用いて、表面と裏面に連続に成膜した後、表面と裏面でそれぞれＸ電極パターン、Ｙ電極パターンに対応した異なるフォトマスクを介して両面同時に紫外線を照射し、両面同時にエッチング、レジスト剥離する方法等を使用できる。この方法によれば、両面同時に紫外線照射、エッチング、レジスト剥離を行うため、工程数を減らすことができ、より効率よく機能性膜付きタッチパネルフィルムを製造できる。   As a manufacturing method of the touch panel film with a functional film of the second embodiment, as in the first embodiment, first, the film is first subjected to the steps shown in FIGS. 7A and 7B (a) to (h). After forming the X electrode 117, the extraction wiring 106, the connection terminal portion 116, and the functional film 119 on one surface of the substrate 105, the other surface of the film substrate 105 has the one surface A method of forming the Y electrode 118 and the like through similar steps can be used. In addition, the ITO electrodes 11 in FIG. 7A (a) are simultaneously formed on both surfaces of the film substrate 105, and the radiation sensitive composition 12 in FIG. For example, a method of simultaneously irradiating ultraviolet rays on both surfaces through different photomasks corresponding to the X electrode pattern and the Y electrode pattern on the front surface and the back surface, respectively, simultaneously etching both surfaces, and stripping the resist can be used. According to this method, since ultraviolet irradiation, etching, and resist peeling are simultaneously performed on both sides, the number of steps can be reduced, and a touch panel film with a functional film can be manufactured more efficiently.

＜第３の実施形態＞
図１は、本発明の第３の実施形態である機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法により製造された、金属配線のメッシュ構造パターンを示す上面図である。 <Third Embodiment>
FIG. 1: is a top view which shows the mesh structure pattern of the metal wiring manufactured by the manufacturing method of the touchscreen film with a functional film which is the 3rd Embodiment of this invention.

前述のとおり、透明電極は、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、導電性高分子や銀ナノワイヤー等の透明導電材料を用いた電極と、導電性の高い金属の細線パターンを格子状に張り巡らせたメッシュ構造の電極の２つに大別される。   As described above, the transparent electrode is a mesh in which indium tin oxide (ITO), an electrode using a transparent conductive material such as a conductive polymer or silver nanowire, and a fine wire pattern of highly conductive metal are stretched around in a lattice pattern. It is roughly divided into two of the structure electrodes.

図１に示すように、金属配線のメッシュ構造１（メッシュ構造の透明電極）は、同じピッチのＸ方向のストライプ状金属配線２と、Ｙ方向のストライプ状金属配線３とを互いに
直交するように配置したものである。金属配線のメッシュ構造１は、上面視で開口部４が概ね正方形のメッシュ構造をなす。タッチパネルのタイプとしては、一方の面（表面）だけにメッシュ構造１を備えた片面構造のタッチパネルフィルムを２枚準備して背面同士を張り合わせて使用する２枚タイプと、一方の面だけにメッシュ構造１を設けた片面構造のタッチパネルフィルム、およびフィルム基材５の表面と裏面の両面の金属配線２、３でメッシュ構造１を形成した両面構造のタッチパネルフィルムの１枚タイプとがあり、いずれの場合に対しても本発明は適用できる。両面構造の場合は、図１の実線が表面のストライプ状金属配線３に相当し、図１の二重線が裏面のストライプ状金属配線２に相当する。この場合、絶縁性のフィルム基材５が金属配線２と金属配線３の間に存在するため、上下の金属配線２、３は、他に絶縁部材を設けなくても絶縁されている。 As shown in FIG. 1, the mesh structure 1 (transparent electrode of the mesh structure) of the metal wiring is such that the stripe-shaped metal wiring 2 in the X direction and the stripe-shaped metal wiring 3 in the Y direction having the same pitch are orthogonal to each other. It is arranged. The mesh structure 1 of the metal wiring has a mesh structure in which the opening 4 is substantially square when viewed from above. As a touch panel type, two single-sided touch panel films with mesh structure 1 only on one surface (front surface) are prepared, and the back surfaces are bonded together, and the mesh structure is only on one surface. 1 type of touch panel film having a single-sided structure provided with 1 and a double-sided touch panel film in which a mesh structure 1 is formed by metal wirings 2 and 3 on both sides of the front and back surfaces of a film substrate 5. The present invention can also be applied to. In the case of the double-sided structure, the solid line in FIG. 1 corresponds to the striped metal wiring 3 on the front surface, and the double line in FIG. 1 corresponds to the striped metal wiring 2 on the back surface. In this case, since the insulating film base 5 exists between the metal wiring 2 and the metal wiring 3, the upper and lower metal wirings 2 and 3 are insulated even if no other insulating member is provided.

金属配線２、３は、遮光性があるので、線幅ｄが太くなれば開口率が低くなって透過率が下がり、ストライプのピッチが長くなれば位置センサーとしての分解能が低くなる。従って、線幅ｄとピッチは、これらを考慮して適切な値に設定される。金属配線２、３の材料としては、アルミニウムや銅が好適であるが、抵抗特性とコストの面から銅が最も好ましい。   Since the metal wirings 2 and 3 are light-shielding, the aperture ratio decreases and the transmittance decreases as the line width d increases, and the position sensor resolution decreases as the stripe pitch increases. Accordingly, the line width d and the pitch are set to appropriate values in consideration of these. The material for the metal wirings 2 and 3 is preferably aluminum or copper, but copper is most preferable in terms of resistance characteristics and cost.

銅配線によって仕切られたメッシュの開口部４の開口幅（一辺の長さ）をｐ、遮光部の配線幅をｄとすると、開口率９０％の場合ｄ／ｐ＝０．０５程度、開口率９８％の場合ｄ／ｐ＝０．０１程度となる。遮光性金属の線幅ｄは、概ね２０μｍ以下であれば視認できないといわれているため、線幅ｄ＝２０μｍの場合は、開口部４の開口幅ｐは、４００〜２０００μｍの範囲となる。より狭い線幅ｄ＝１０μｍの場合は、２００〜１０００μｍの範囲、ｄ＝５μｍの場合は、１００〜５００μｍの範囲とする必要がある。大型ディスプレイ用では、線幅は５０μｍ程度以下が好ましく、開口率９０％の場合に、開口幅ｐは１０００μｍ程度以上となる。   When the opening width (length of one side) of the opening 4 of the mesh partitioned by the copper wiring is p and the wiring width of the light shielding portion is d, the opening ratio is about d / p = 0.05 when the opening ratio is 90%. In the case of 98%, d / p = about 0.01. Since the line width d of the light-shielding metal is said to be invisible if it is approximately 20 μm or less, when the line width d = 20 μm, the opening width p of the opening 4 is in the range of 400 to 2000 μm. When the narrower line width d = 10 μm, it is necessary to be in the range of 200 to 1000 μm, and when d = 5 μm, it is necessary to be in the range of 100 to 500 μm. For large displays, the line width is preferably about 50 μm or less, and when the aperture ratio is 90%, the opening width p is about 1000 μm or more.

タッチパネルの透視可能な部分の大きさは、液晶ディスプレイや有機ＥＬ等の画像表示部に重ねてタッチパネルが使用されるため、少なくともこれらの画像表示部と同じ大きさとなる。但し、画像表示部の全範囲をタッチパネルの入力範囲にしない場合には、透視範囲であっても、メッシュ構造の透明電極（メッシュ電極）を設けなくても構わない。一般に、透視が必要な範囲以外は、加飾領域として、透視できないように枠状に黒塗りされていることが好ましい。   The size of the portion of the touch panel that can be seen through is at least the same size as these image display units because the touch panel is used by being superimposed on an image display unit such as a liquid crystal display or an organic EL. However, when the entire range of the image display unit is not set as the input range of the touch panel, the transparent electrode (mesh electrode) having a mesh structure may not be provided even in the transparent range. In general, it is preferable that the decoration area is blacked out in a frame shape so as not to be seen through, except for a range that requires see-through.

メッシュ電極を構成する個々の金属配線２、３は、全てフィルム基材１０５の外周に取出し配線１０６に導かれて、外部との接続用の接続端子部１１６につながっている。これらの金属配線２、３と、取出し配線１０６と、接続端子部１１６に用いる材料としては、安価で抵抗の低い銅が好ましい。金属配線２、３の線幅は、透視されない領域では、許される範囲で太くすることができ、概ね０．０２〜０．５ｍｍの範囲が好ましい。これらの金属配線２、３と、取出し配線１０６と、接続端子部１１６は、フィルム基材１０５上に成膜形成された銅薄膜から、同一工程に同一材料で一括形成されるため、効率よく機能性膜付きタッチパネルフィルムを製造できる。   The individual metal wires 2 and 3 constituting the mesh electrode are all led to the outer periphery of the film substrate 105 by the take-out wire 106 and connected to the connection terminal portion 116 for connection to the outside. As a material used for the metal wirings 2 and 3, the extraction wiring 106, and the connection terminal portion 116, inexpensive and low resistance copper is preferable. The line width of the metal wirings 2 and 3 can be increased within an allowable range in a region that is not seen through, and is preferably in a range of approximately 0.02 to 0.5 mm. The metal wirings 2 and 3, the extraction wiring 106, and the connection terminal portion 116 are formed from the copper thin film formed on the film base material 105 in the same process and in the same process, and thus function efficiently. A touch panel film with a conductive film can be manufactured.

銅配線の表面抵抗は、３Ω／□程度以下に設定することが好ましい。抵抗が低い方が、センサ感度が高いからである。また、厚さが１００μｍ程度のフィルム基材１０５の両面に、金属配線２、３を形成する両面構造の場合は、金属配線２、３間の静電容量を０．５〜３ｐＦの範囲に設定することが好ましい。   The surface resistance of the copper wiring is preferably set to about 3Ω / □ or less. This is because the sensor sensitivity is higher when the resistance is lower. In addition, in the case of a double-sided structure in which the metal wirings 2 and 3 are formed on both surfaces of the film substrate 105 having a thickness of about 100 μm, the capacitance between the metal wirings 2 and 3 is set in a range of 0.5 to 3 pF. It is preferable to do.

銅配線パターンをエッチングにより厚さ１３μｍ、線幅１０μｍ、ピッチ１０００μｍ、開口率９８％のメッシュ電極とした場合には、表面抵抗は０．３Ω／□（四端子法による）程度になる。銅配線パターンを厚さ１．５μｍ、線幅５μｍ、メッシュピッチ２５０
μｍ（前述のｐにほぼ該当）、開口率９３％とした場合には、表面抵抗は３Ω／□程度になる。製法上の材質差があるが、表面抵抗は３Ω／□以下の範囲で所望の値に制御できる。 When the copper wiring pattern is formed into a mesh electrode having a thickness of 13 μm, a line width of 10 μm, a pitch of 1000 μm, and an aperture ratio of 98%, the surface resistance is about 0.3Ω / □ (by the four-terminal method). Copper wiring pattern with thickness 1.5μm, line width 5μm, mesh pitch 250
In the case of μm (substantially corresponding to the aforementioned p) and an aperture ratio of 93%, the surface resistance is about 3Ω / □. Although there are material differences in manufacturing method, the surface resistance can be controlled to a desired value within a range of 3Ω / □ or less.

フィルム基材１０５上に、銅からなる金属配線２、３を敷設したままでは銅配線の表面と側面が大気に露出しており、空気中の水分や酸素等により銅表面が酸化して次第に抵抗が増加する不具合を生じる。例えば、８５℃９５％ＲＨの加速条件では１０００時間後に抵抗は２０％程度増加することが知られている。抵抗の増加は感度の低下を招くので好ま
しいものではなく抑制する必要がある。これを回避するためにも機能性膜１１９が必要となる。 If the metal wirings 2 and 3 made of copper are laid on the film base 105, the surface and side surfaces of the copper wiring are exposed to the atmosphere, and the copper surface is oxidized by moisture, oxygen, etc. in the air and gradually resists. This causes a problem that increases. For example, it is known that the resistance increases by about 20% after 1000 hours under the acceleration condition of 85 ° C. and 95% RH. Since an increase in resistance causes a decrease in sensitivity, it is not preferable and must be suppressed. In order to avoid this, the functional film 119 is required.

＜第４の実施形態＞
以下、本発明の第４の実施形態に係る機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法について図面を用いて説明する。 <Fourth Embodiment>
Hereinafter, the manufacturing method of the touchscreen film with a functional film which concerns on the 4th Embodiment of this invention is demonstrated using drawing.

＜開口部を所定の幅にしたダイヘッドを用いてストライプ状の機能性膜を印刷形成する工程＞
図８は、本発明の第４の実施形態に係る機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法の一工程を模式的に示す斜視図である。図８では、図５で示したロール状透明フィルム１２２に、端子接続部１１６上に機能性膜１１９が印刷されないように開口部を所定の幅にしたダイヘッド１２４を用いて、ロールツーロール方式で、該端子接続部１１６上を除く位置にストライプ状の機能性膜１１９を印刷形成する工程を示している。本発明を用いることで、端子接続部だけを除く位置に、フォトリソ法や他のフィルムとの貼り合せを必要とすることなく、効率的かつ高品質に機能性膜を形成することが可能となる。 <Step of Printing and Forming a Striped Functional Film Using a Die Head with Openings Predetermined in Width>
FIG. 8: is a perspective view which shows typically 1 process of the manufacturing method of the touchscreen film with a functional film concerning the 4th Embodiment of this invention. In FIG. 8, the roll-shaped transparent film 122 shown in FIG. 5 is rolled in a roll-to-roll manner using a die head 124 having a predetermined width so that the functional film 119 is not printed on the terminal connection portion 116. , A step of printing and forming a stripe-shaped functional film 119 at a position other than on the terminal connection portion 116 is shown. By using the present invention, a functional film can be formed efficiently and with high quality at a position excluding only the terminal connection portion, without requiring photolithography and bonding with other films. .

タッチパネルとは、金属配線のような導電体の両端に同じ位相で同じ電圧の交流を加えた場合に、導電体に指や手のような静電的且つ導電性の媒体を近接させると、接地されているとみなされる媒体と導電体間（これも接地されているので）に容量結合が生じて過剰な交流電流が導電体に流れる現象を利用した電子デバイスである。したがって、導電体に指が直接触れる必要がなく誘電体を介して接触、近接しても構わない。手がセンサ部の導電体に触れると導電体が汚れるので、通常導電体は防汚性のある透明な機能性膜で被覆する必要がある。   A touch panel is a grounding device when an electrostatic and conductive medium such as a finger or hand is brought close to a conductor when alternating current with the same phase and voltage is applied to both ends of the conductor such as metal wiring. This is an electronic device that utilizes the phenomenon that capacitive coupling occurs between a medium that is considered to be conductive and a conductor (which is also grounded) and an excessive alternating current flows through the conductor. Therefore, it is not necessary for the finger to touch the conductor directly, and the conductor may be contacted or approached via the dielectric. Since the conductor is contaminated when the hand touches the conductor of the sensor unit, it is usually necessary to coat the conductor with a transparent functional film having antifouling properties.

以下、本発明の第４の実施形態に係る機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法の実施態様について図９の工程図を用いて説明する。   Hereinafter, the embodiment of the manufacturing method of the touchscreen film with a functional film which concerns on the 4th Embodiment of this invention is demonstrated using process drawing of FIG.

図９Ａの（ａ）は、ロール状透明フィルム１２２の表に透明電極としてＩＴＯ１１をスパッタ装置を用いて成膜する工程を示す工程フロー図である。図９Ａの（ａ）の左側の側面図とは、ロール状透明フィルムの巻き姿の側面視を示し、右側の正面図とは、フィルムの流れ方法の先頭からの正面視を示すもので、フィルム断面の層構成を示している。図中の矢印は、フィルム基材５の移動方向を模式的に示すものである。   FIG. 9A is a process flow diagram showing a process of forming a film of ITO 11 as a transparent electrode on the surface of the roll-shaped transparent film 122 using a sputtering apparatus. The left side view of (a) of FIG. 9A shows a side view of the rolled transparent film, and the right front view shows a front view from the beginning of the film flow method. The layer structure of the cross section is shown. The arrows in the figure schematically indicate the moving direction of the film substrate 5.

本発明の機能性膜付きタッチパネルフィルムでは、ロール状透明フィルムを用いたロールツーロール方式が用いられる。透明なフィルム基材については、コスト面からポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）が好ましいが、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート等のセルロース系樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン系樹脂、メタクリル系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−（ポリ）スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂等から製造される厚さが１０〜３００μｍの範囲の熱可塑系樹脂フィルムが使用でき、透明性、加工性、コストの点で厚さが５０〜１８８μｍのＰＥＴが多く用いられる。また、透明なフィルム基材は、一方または両方の面に、易接着処理、プラズマ処理、コロナ処理等の表面処理がほどこされていてもよい。   In the touch panel film with a functional film of the present invention, a roll-to-roll method using a roll-shaped transparent film is used. For transparent film base materials, polyethylene terephthalate resin (PET) is preferable from the viewpoint of cost, but cellulose resins such as cellulose diacetate and cellulose triacetate, polyethylene resins, polypropylene resins, methacrylic resins, cyclic polyolefin resins, polystyrene Resin, acrylonitrile- (poly) styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyvinyl chloride resin, poly (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, polyester resin A thermoplastic resin film having a thickness in the range of 10 to 300 μm manufactured from a resin, a polyamide resin, a polyamideimide resin, etc. can be used, and a thickness of 50 to 188 μm in terms of transparency, workability, and cost. PET is often used It is done. Moreover, the transparent film base material may be subjected to surface treatment such as easy adhesion treatment, plasma treatment, corona treatment or the like on one or both surfaces.

図９Ａの（ｂ）は、ロールコーター１３を用いて感放射線性組成物１２を、上側のＩＴＯ１１成膜面に０．５〜１０μｍ程度の厚さで塗布する工程を示す。感放射線性組成物１２としては、汎用のドライフィルムタイプのネガレジストの他にカゼインレジストも使用することができる。図９Ａの（ｂ）の塗布工程後、９０℃で３０分程度の図示しない乾燥工程と、所望する電極パターン他を備えたフォトマスクを介して１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射する工程と、３％の炭酸ナトリウム水溶液等の現像処理を施す工程を経ることにより、図９Ａの（ｃ）に示す透明電極パターン１１７に対応するレジストパターン７以外の部分のレジストが除去され、所望するレジストパターン７が形成される。 FIG. 9A (b) shows a step of applying the radiation-sensitive composition 12 to the upper ITO 11 film-forming surface with a thickness of about 0.5 to 10 μm using the roll coater 13. As the radiation sensitive composition 12, a casein resist can be used in addition to a general-purpose dry film type negative resist. After the coating step of FIG. 9A (b), a drying step (not shown) at 90 ° C. for about 30 minutes, a step of irradiating 10 to 1000 mJ / cm 2 of ultraviolet rays through a photomask provided with a desired electrode pattern and the like, Through a process of developing a 3% sodium carbonate aqueous solution or the like, the resist other than the resist pattern 7 corresponding to the transparent electrode pattern 117 shown in FIG. 7 is formed.

次に、シュウ酸、リン酸、硝酸、塩酸等の酸性水溶液からなるＩＴＯエッチング液を用いて、レジストパターン７から露出したＩＴＯをエッチング除去し、残ったレジストパターン７を剥離することにより、フィルム基材１０５のＩＴＯ成膜面側にＸ電極１１７が形成される（図９Ａの（ｄ））。   Next, using an ITO etching solution made of an acidic aqueous solution such as oxalic acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, etc., the ITO exposed from the resist pattern 7 is removed by etching, and the remaining resist pattern 7 is peeled off to remove the film base. An X electrode 117 is formed on the ITO film forming surface side of the material 105 ((d) in FIG. 9A).

次に、図９Ａの（ｅ）に示すように、金属薄膜８をスパッタ・蒸着等の公知の方法で成膜した後、図９Ａの（ｂ）の工程と同様に、ロールコーター１３を用いて感放射線性組成物１２を金属薄膜８上に塗布する。その後、図示しない乾燥工程と、所望する端子接続部パターン他を備えたフォトマスクを介して紫外線を照射する工程と、現像処理を施す工程を経て、端子接続部１１６に対応する図示しないレジストパターンを形成する。   Next, as shown in FIG. 9A (e), after the metal thin film 8 is formed by a known method such as sputtering or vapor deposition, the roll coater 13 is used similarly to the step (b) of FIG. 9A. The radiation sensitive composition 12 is applied onto the metal thin film 8. After that, a resist pattern (not shown) corresponding to the terminal connection portion 116 is obtained through a drying step (not shown), a step of irradiating ultraviolet rays through a photomask provided with a desired terminal connection portion pattern and the like, and a step of performing a development process. Form.

図９Ａの（ｄ）と同様に、塩化第二鉄水溶液、リン酸、硝酸、塩酸等の酸性水溶液からなる金属箔膜エッチング液を用いて、レジストパターンから露出した金属薄膜８をエッチング除去し、残ったレジストパターンを剥離することにより、フィルム基材１０５のＸ電極１１７面側に端子接続部１１６が形成される（図９Ａの（ｆ））。   Similarly to (d) of FIG. 9A, the metal thin film 8 exposed from the resist pattern is removed by etching using a metal foil film etchant composed of an aqueous solution of ferric chloride, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, etc. By peeling off the remaining resist pattern, the terminal connection portion 116 is formed on the X electrode 117 surface side of the film substrate 105 ((f) in FIG. 9A).

なお、本発明の機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法では、Ｘ電極１１７と端子接続部１１６を導通するための図示しない取出し配線１０６を設けることができる。取出し配線１０６の製造方法としては、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｔ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｚｎ、等の金属微粉末を含む導電性ペーストをスクリーン印刷やグラビアオフセット印刷機で印刷形成したり、他の例としては、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｔ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｚｎ、等の金属微粉末を含む感光性導電材料を塗布した後、フォトリソ法でパターン形成したりしても良く、従来公知の方法を適用できる。取出し配線１０６の形成順序としては、前述したＸ電極１１７の形成前の一番初めや、Ｘ電極１１７の形成後、または端子接続部１１６の形成後等、品質が向上する最も良い順序を適宜選択してよい。さらに取出し配線１０６と端子接続部１１６を同一材料を用いて同一工程で形成してもよく、その場合には工程を簡略化でき、より効率的に本発明の機能性膜付きタッチパネルフィルムを製造できる。   In addition, in the manufacturing method of the touchscreen film with a functional film of this invention, the extraction wiring 106 which is not shown in figure for electrically connecting X electrode 117 and the terminal connection part 116 can be provided. As a method for manufacturing the extraction wiring 106, for example, a conductive paste containing fine metal powders such as Cu, Ag, At, Pt, Al, Zn, etc. is formed by screen printing or gravure offset printing, or other examples. For example, a photosensitive conductive material containing fine metal powders such as Cu, Ag, At, Pt, Al, Zn, etc. may be applied, followed by pattern formation by photolithography, and conventionally known methods can be applied. . As the formation order of the extraction wiring 106, the best order in which the quality is improved is selected as appropriate, such as the first before the X electrode 117 is formed, after the X electrode 117 is formed, or after the terminal connection portion 116 is formed. You can do it. Furthermore, the extraction wiring 106 and the terminal connection part 116 may be formed in the same process using the same material. In that case, the process can be simplified and the touch panel film with a functional film of the present invention can be manufactured more efficiently. .

図９Ｂの（ｇ）に、Ｘ電極１１７、および図示しない取出し配線１０６上に、機能性膜１１９をロールツーロール方式のダイ塗工方式による印刷にて形成する工程を示す。ダイヘッド１２４に、端子接続部１１６上に機能性膜１１９が形成されないように開口部を所定の幅にしたダイヘッド１２４を使用することで、ロールツーロール方式の印刷のみで機能性膜１１９を形成可能となる。以上の工程を経ることにより、一貫したロールツーロール方式で片面構造の投影型静電容量式機能性膜付きタッチパネルフィルムを形成できる（図９Ｂの（ｈ））。   FIG. 9B (g) shows a step of forming the functional film 119 on the X electrode 117 and the unillustrated extraction wiring 106 by printing by a roll-to-roll die coating method. By using the die head 124 having an opening having a predetermined width so that the functional film 119 is not formed on the terminal connection portion 116, the functional film 119 can be formed only by roll-to-roll printing. It becomes. By passing through the above process, the touch-sensitive film with a projection type capacitive functional film having a single-sided structure can be formed by a consistent roll-to-roll method ((h) in FIG. 9B).

本実施形態では、図４の（ａ）に示すようにＸ電極１１７、および取出し配線１０６の表面が空気と接触しないように、好ましくは酸フリーの有機樹脂からなる機能性膜１１９で完全に被覆するようにしている。機能性膜１１９がＸ電極１１７間の隙間を埋設し且つ表面も覆い、機能性膜表面が、図９の（ｈ）に示すように概ね面一になるのが好ましい皮膜の形態である。機能性膜１１９の厚さは、該Ｘ電極、取出し配線１０６、および端子接続部１１６の厚さにもよるが、これらの厚さが０．１〜１０μｍ程度であれば機能性膜１１９の厚さは２〜４０μｍ程度が最適である。   In this embodiment, as shown in FIG. 4A, the surface of the X electrode 117 and the extraction wiring 106 is preferably completely covered with a functional film 119 preferably made of an acid-free organic resin so as not to come into contact with air. Like to do. The functional film 119 embeds a gap between the X electrodes 117 and covers the surface, and the surface of the functional film is preferably substantially flush as shown in FIG. The thickness of the functional film 119 depends on the thicknesses of the X electrode, the extraction wiring 106, and the terminal connection portion 116, but if these thicknesses are about 0.1 to 10 μm, the thickness of the functional film 119 The optimum length is about 2 to 40 μm.

機能性膜は、電磁波、紫外線、可視光線、電子線等の電離放射線エネルギーにより架橋硬化させて使用する電離放射線硬化性組成物であって、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とするものであることが生産効率、および生産安定性の点で好ましい。紫外線照射による硬化の場合には、波長が１５０〜４５０ｎｍの範囲の光を含む高圧水銀灯光源を使用する。電子線硬化の場合には、加速電圧が１０〜５００ｋＶ、より好ましくは３０〜２００ｋＶの範囲で照射量が３〜３００ｋＧｙとなる電子線が必要である。   The functional film is an ionizing radiation curable composition that is used after being crosslinked and cured by ionizing radiation energy such as electromagnetic waves, ultraviolet rays, visible light, and electron beams, and has two or more (meth) acryloyl groups in one molecule. It is preferable in terms of production efficiency and production stability that the main component is a polyfunctional monomer contained in the molecule. In the case of curing by ultraviolet irradiation, a high pressure mercury lamp light source containing light having a wavelength in the range of 150 to 450 nm is used. In the case of electron beam curing, an electron beam with an irradiation voltage of 3 to 300 kGy in an acceleration voltage range of 10 to 500 kV, more preferably 30 to 200 kV is required.

多官能性モノマーとしては、１，４‐ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ‐（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２，３‐ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリンサンエステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、単独で使用しても良いし、２種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。   Polyfunctional monomers include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol Di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β- (meth) acryloyloxypropionate, trimethylolethane Tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (2-H Roxyethyl) isocyanate di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 2,3-bis (meth) acryloyloxyethyloxymethyl [2.2.1] heptane, poly 1,2-butadiene di (meth) acrylate 1,2-bis (meth) acryloyloxymethylhexane, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, tetradecane ethylene glycol di (meth) acrylate, 10-decanediol (meth) acrylate, 3,8-bis (meth) acryloyl Oxymethyltricyclo [5.2.10] decane, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) propane, 1,4-bis ((meta ) Acryloyloxymethyl E) Cyclohexane, hydroxypivalin sun ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate, epoxy-modified bisphenol A di (meth) acrylate, and the like. A polyfunctional monomer may be used independently and may use 2 or more types together. Further, if necessary, it can be copolymerized in combination with a monofunctional monomer.

また、本発明にて好ましい多官能性モノマーとしてウレタンアクリレートも挙げられ、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に水酸基を有するアクリレートモノマーを反応させ容易に形成されるものを挙げることができる。   In addition, urethane acrylate is also exemplified as a preferred polyfunctional monomer in the present invention, and it is generally formed easily by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group with a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer. Can be mentioned.

具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。また、これらの単量体は、１種または２種以上を混合して使用することができる。また、これらは塗液においてモノマーであってもよいし、一部が重合したオリゴマーであってもかまわない。   Specific examples include pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate toluene diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate toluene diisocyanate urethane prepolymer. Pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer, and the like can be used. Moreover, these monomers can be used 1 type or in mixture of 2 or more types. Further, these may be monomers in the coating liquid, or may be oligomers that are partially polymerized.

光重合開始剤としては、例えば、２，２−エトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｐ−クロロベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、２−クロロチオキサントン等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。   Examples of the photopolymerization initiator include 2,2-ethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, dibenzoyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, p-chlorobenzophenone, p-methoxybenzophenone, Michler ketone, acetophenone, 2 -Chlorothioxanthone and the like. You may use these individually or in combination of 2 or more types.

光増感剤としては、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール等の３級アミン、トリフェニルホスフィン等のアルキルフォスフィン系、β−チオジグリコール等のチオエーテル系をあげることが出来、これらを１種類あるいは２種類以上を混合して使用することもできる。   Examples of the photosensitizer include tertiary amines such as triethylamine, triethanolamine and 2-dimethylaminoethanol, alkylphosphine such as triphenylphosphine, and thioethers such as β-thiodiglycol. These may be used alone or in combination of two or more.

さらに、性能改良のため、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等を含有することもできる。   Furthermore, an antifoaming agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a polymerization inhibitor and the like can be contained for improving the performance.

本発明の機能性膜にブロッキング耐性を持たせる等の目的で添加する微粒子としては、各種金属酸化物、ガラス、プラスティックなどの透明性を有するものを特に制限なく使用することが出来る。例えば、シリカやジルコニア、チタニア、酸化カルシウム等の金属酸化物や導電性を有するアルミナ、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン等の無機系導電性微粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル−スチレン共重合体、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋または未架橋の有機系微粒子やシリコーン系微粒子などが挙げられる。なお、これらの形状は特に制限されずビーズ状の球形であってもよく、粉末等の不定形のものであってもよいが、球状のものが好ましく、特に真球状のものであることが好ましい。これらの微粒子は１種または２種以上を適宜に選択して用いることが出来る。   As fine particles added for the purpose of imparting blocking resistance to the functional film of the present invention, those having transparency such as various metal oxides, glass and plastic can be used without particular limitation. For example, metal oxides such as silica, zirconia, titania, calcium oxide, inorganic conductive fine particles such as conductive alumina, tin oxide, indium oxide, antimony oxide, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyurethane, acrylic-styrene. Examples include crosslinked or uncrosslinked organic fine particles and silicone fine particles composed of various polymers such as polymers, melamine, and polycarbonate. These shapes are not particularly limited and may be bead-shaped spheres or may be indefinite shapes such as powders, but are preferably spherical, and particularly preferably spherical. . These fine particles can be used by appropriately selecting one kind or two or more kinds.

微粒子の平均粒子径は１０から２００ｎｍであり、好ましくは１０から１００ｎｍである。平均粒子径が１０ｎｍ未満の場合には、十分な凹凸形状を形成することができず、貼りつきの抑制に十分でない。一方、平均粒子径が２００ｎｍ以上の場合には、機能性膜内での光散乱が発生してしまい、透過率が低下する。微粒子の割合は、微粒子の平均粒子径、機能性膜の厚さ等を考慮して適宜に決定されるが、樹脂１００重量部に対して、０．１から１０重量部とするのが好ましい。   The average particle diameter of the fine particles is 10 to 200 nm, preferably 10 to 100 nm. When the average particle diameter is less than 10 nm, a sufficient uneven shape cannot be formed, which is not sufficient for suppressing sticking. On the other hand, when the average particle diameter is 200 nm or more, light scattering occurs in the functional film, and the transmittance decreases. The ratio of the fine particles is appropriately determined in consideration of the average particle diameter of the fine particles, the thickness of the functional film, etc., but is preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin.

機能性膜の形成方法としては、所定の位置を除くストライプ状に機能性膜が印刷できればどの塗工方式を用いてもよく、ダイ塗工方式、マイクログラビア塗工方式、スプレーコーティング塗工方式、キスコーティング塗工方式、等により透明基材の少なくとも片面に塗布することにより形成することができる。特に、薄く、均一に層を形成する必要性があるため、高精度薄膜塗工に適したダイ塗工方式を用いることが好ましい。   As a method of forming the functional film, any coating method may be used as long as the functional film can be printed in a stripe shape excluding a predetermined position, a die coating method, a micro gravure coating method, a spray coating coating method, It can be formed by applying to at least one side of the transparent substrate by a kiss coating method or the like. In particular, since it is necessary to form a thin and uniform layer, it is preferable to use a die coating method suitable for high-precision thin film coating.

機能性膜を形成する際の硬化方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を用いることができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００ｍＪ／ｃｍ２以上８００ｍＪ／ｃｍ２以下である。 As a curing method for forming the functional film, for example, ultraviolet irradiation, heating, or the like can be used. In the case of ultraviolet irradiation, a high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, or the like can be used. The amount of ultraviolet irradiation is usually 100 mJ / cm 2 or more and 800 mJ / cm 2 or less.

また、機能性膜の膜厚はハードコート性を求める場合、３μｍ以上あれば十分な強度となるが、塗工精度、取扱いから５μｍ以上１０μｍ以下の範囲が好ましい。１０μｍ以上では硬化収縮による基材の反り、ゆがみ、基材折れが発生してしまうためである。さらに、膜厚としては、５μｍ以上７μｍ以下の範囲であるとハードコート層としては非常に好ましい。   In addition, when the thickness of the functional film is required for hard coat properties, it is sufficient if it is 3 μm or more, but it is preferably in the range of 5 μm or more and 10 μm or less in view of coating accuracy and handling. This is because if the thickness is 10 μm or more, warpage, distortion, and bending of the substrate due to curing shrinkage occur. Furthermore, it is very preferable for the hard coat layer to have a film thickness in the range of 5 μm to 7 μm.

本発明における溶剤としては、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。また、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも１種類を用いることが好ましい。   Examples of the solvent in the present invention include dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole and phenetole. Ethers, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone, and ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, acetic acid Esters such as methyl, ethyl acetate, methyl propionate, propion brewed ethyl, n-pentyl acetate, and γ-ptyrolactone, methyl cellosolve, cellosolve, butyl cellosol , Cellosolves such as cellosolve acetate. You may use these individually or in combination of 2 or more types. Moreover, it is preferable to use at least one of methyl acetate, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, acetylacetone, acetone, and cyclohexanone.

これら溶剤は、樹脂組成物１００重量部に対して、溶剤は４００重量部から７００重量部となるように調液することが好ましい。   These solvents are preferably prepared such that the solvent is 400 to 700 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin composition.

溶剤が４００重量部以下であると、塗布液の粘度が高くなり、ダイコーティング法にて良好な塗布面を形成できなくなる。一方、溶剤が７００重量部以上であると、所定膜厚の機能性膜を形成できなくなってしまう。   When the solvent is 400 parts by weight or less, the viscosity of the coating solution becomes high, and a good coated surface cannot be formed by the die coating method. On the other hand, if the solvent is 700 parts by weight or more, a functional film having a predetermined film thickness cannot be formed.

本発明の機能性膜は、反射防止機能等の光学特性を良好なものとするものであってもよく、低屈折率膜とすることができる。   The functional film of the present invention may have good optical characteristics such as an antireflection function, and can be a low refractive index film.

低屈折率膜は、ハードコート層等の機能性膜に積層して使用することが好ましく、ハードコート層等の機能性膜よりも低い屈折率を有するものが好ましい。本発明の好ましい形態としては、ハードコート層等の機能性膜の屈折率が１．５以上であり、低屈折率膜の屈折率が１．５未満であり、より好ましくは１．４５以下、更に好ましくは１．３５以下である。屈折率が１．５以上であると低屈折率膜とハードコート層等の機能性膜の屈折率差が小さいために反射が高くなってしまうことから、屈折率は低い方が望ましい。   The low refractive index film is preferably used by being laminated on a functional film such as a hard coat layer, and preferably has a lower refractive index than the functional film such as a hard coat layer. As a preferred form of the present invention, the refractive index of a functional film such as a hard coat layer is 1.5 or more, the refractive index of a low refractive index film is less than 1.5, more preferably 1.45 or less, More preferably, it is 1.35 or less. If the refractive index is 1.5 or more, the refractive index difference between the low refractive index film and the functional film such as the hard coat layer is small, and the reflection becomes high. Therefore, it is desirable that the refractive index is low.

低屈折率膜における低屈折率粒子として、空隙を有する微粒子を利用することが挙げられ、空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子である。   Examples of the low refractive index particles in the low refractive index film include the use of fine particles having voids. The fine particles having voids are a structure in which fine particles are filled with gas and / or a porous structure containing gas. In which the refractive index decreases in inverse proportion to the gas occupancy in the fine particles compared to the original refractive index of the fine particles.

また、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率膜は、屈折率を１．３０以上１．４５以下に調節することが可能である。   Also included are fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least part of the surface depending on the form, structure, aggregated state, and dispersed state of the fine particles inside the coating. The low refractive index film using these fine particles can adjust the refractive index to 1.30 or more and 1.45 or less.

このような空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、中空シリカ微粒子を挙げることができる。空隙を有する中空シリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率膜を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０以上１．４５以下程度の範囲内に調整することを可能とする。   Examples of inorganic fine particles having such voids include hollow silica fine particles. Since hollow silica fine particles having voids are easy to manufacture and have high hardness, when layered with a binder to form a low refractive index film, the layer strength is improved and the refractive index is 1.20 or more and 1 It is possible to adjust within a range of about 45 or less.

中空シリカ微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、下限が８ｎｍであり上限が１００ｎｍであることがより好ましく、下限が１０ｎｍであり上限が８０ｎｍであることが更に好ましい。   The average particle size of the hollow silica fine particles is preferably 5 nm to 300 nm, the lower limit is 8 nm, the upper limit is more preferably 100 nm, the lower limit is 10 nm, and the upper limit is further preferably 80 nm.

微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。中空シリカ微粒子は、低屈折率層中にマトリックス樹脂１００重量部に対して、通常０．１重量部以上５００重量部以下、好ましくは１０重量部以上２００重量部以下とするのが好ましい。   When the average particle diameter of the fine particles is within this range, excellent transparency can be imparted to the low refractive index layer. The hollow silica fine particles are usually 0.1 to 500 parts by weight, preferably 10 to 200 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the matrix resin in the low refractive index layer.

低屈折率膜の形成にあっては、低屈折率膜形成用樹脂として１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマー、中空シリカ微粒子、及び必要に応じて添加剤（重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を低屈折率膜形成用組成物として用い、組成物による塗膜を形成し、紫外線照射あるいは加熱等により硬化させることで低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は公知のものを使用することができる。   In the formation of a low refractive index film, a polyfunctional monomer containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule as a resin for forming a low refractive index film, hollow silica fine particles, and as necessary In response, a solution or dispersion obtained by dissolving or dispersing an additive (polymerization initiator, antistatic agent, antiglare agent, etc.) in a solvent is used as a composition for forming a low refractive index film to form a coating film. And a low refractive index layer can be obtained by making it harden | cure by ultraviolet irradiation or a heating. In addition, well-known things can be used for additives, such as a polymerization initiator, an antistatic agent, and an anti-glare agent.

低屈折率膜形成用樹脂の１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーとしては、ハードコート層等の機能性膜形成時に用いる電離放射線硬化型樹脂にて記載している樹脂等を使用することができる。   As a polyfunctional monomer containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule of a resin for forming a low refractive index film, an ionizing radiation curable resin used for forming a functional film such as a hard coat layer Resin etc. which are described in can be used.

低屈折率膜は、通常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、組成物の安定性、ハードコート層等の機能性膜に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、へキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。中でも、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）が好ましい。また、組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良く、公知の装置を使用して混合分散することができる。   The low refractive index film is usually applied after being diluted in a volatile solvent. In consideration of stability of the composition, wettability to a functional film such as a hard coat layer, volatility, etc., alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, 2-methoxyethanol are used as the dilution solvent. , Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl, esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, ethers such as diisopropyl ether, glycols such as ethylene glycol, propylene glycol and hexylene glycol, ethyl cellosolve and butyl cellosolve Glycol ethers such as ethyl carbitol and butyl carbitol, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, N-methylpyrrole , Dimethylformamide and the like. You may use these individually or in combination of 2 or more types. Among these, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, isopropyl alcohol (IPA), n-butanol, s-butanol, t-butanol, propylene glycol monomethyl ether (PGME), and propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) are preferable. Moreover, the preparation method of a composition should just be able to mix a component uniformly, should just implement according to a well-known method, and can carry out mixing and dispersion | distribution using a well-known apparatus.

低屈折率膜は、ロールツーロール方式で印刷により表面処理を行ったハードコート層等の機能性膜上に塗工され、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させる。また、低屈折率層の形成は、ハードコート層等野機能性膜の形成方法と同様にダイコート法を用いると好ましい。   The low-refractive index film is coated on a functional film such as a hard coat layer that has been surface-treated by printing in a roll-to-roll system, and the solvent in the coating film is volatilized by heating and drying. Then, the coating film is cured by electron beam irradiation or the like. The low refractive index layer is preferably formed by a die coating method in the same manner as the method for forming a functional film such as a hard coat layer.

なお、低屈折率膜を形成する時の膜厚（ｎｍ）ｄＡは、
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ） 式（２）
（式（２）中、ｎＡは低屈折率膜の屈折率を表し、ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）を満たすものが好ましい。 Note that the film thickness (nm) dA when forming the low refractive index film is
dA = mλ / (4 nA) Equation (2)
(In the formula (2), nA represents the refractive index of the low refractive index film, m represents a positive odd number, preferably 1 and λ is a wavelength, preferably a value in the range of 480 to 580 nm. It is preferable to satisfy the above).

＜第５の実施形態＞
図４の（ｂ）に、本発明の第５の実施形態に係る機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法により製造された、フィルム基材の両面に２層の透明電極層が形成された両面構造の投影型静電容量式タッチパネルセンサフィルムを示す。両面構造のタッチパネルセンサフィルムも、貼り合せることなく１枚タイプとして用いられる。図４の（ｂ）においても接続部１１６は機能性膜１１９で被覆されておらず、Ｘ電極１１７とＹ電極１１８がフィルム基材１０５の表面と裏面の両面に形成されていること以外は、第４の実施形態と同様にして製造されるため、重複する部分についての説明は省略し、異なる点のみを以下で記述する。 <Fifth Embodiment>
In FIG. 4B, a double-sided structure in which two transparent electrode layers are formed on both sides of a film substrate, manufactured by the method for manufacturing a touch panel film with a functional film according to the fifth embodiment of the present invention. The projected capacitive touch panel sensor film is shown. A touch panel sensor film having a double-sided structure is also used as a single sheet type without being bonded. In FIG. 4B, the connecting portion 116 is not covered with the functional film 119, and the X electrode 117 and the Y electrode 118 are formed on both the front and back surfaces of the film base 105, Since it is manufactured in the same manner as in the fourth embodiment, description of overlapping parts is omitted, and only different points are described below.

本発明の第５の実施形態に係る機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法としては、第４の実施形態と同様に、図９の（ａ）から（ｈ）に示す工程を経て、まず初めにフィルム基材１０５の一方の面にＸ電極１１７と、取出し配線１０６と、端子接続部１１６と、機能性膜１１９を形成した後、フィルム基材１０５のもう一方の面に同様の工程を経てＹ電極１１８等を形成する方法がある。この他、図９の（ａ）のＩＴＯ電極１１をフィルム基材１０５の両面に同時に成膜し、図９の（ｂ）の感放射線性組成物１２をロールコーター１３を用いて、表面と裏面に連続に成膜した後、表面と裏面でそれぞれＸ電極パターン、Ｙ電極パターンに対応した異なるフォトマスクを介して両面同時に紫外線を照射し、両面同時にエッチング、レジスト剥離する方法等を使用できる。この方法によれば、両面同時に紫外線照射、エッチング、レジスト剥離されるので、工程が簡略化でき、より効率よく機能性膜付きタッチパネルフィルムを製造できる。   As a manufacturing method of the touch panel film with a functional film according to the fifth embodiment of the present invention, as in the fourth embodiment, first through the steps shown in FIGS. After forming the X electrode 117, the extraction wiring 106, the terminal connection portion 116, and the functional film 119 on one surface of the film substrate 105, the same process is performed on the other surface of the film substrate 105. There is a method of forming the electrode 118 and the like. In addition, the ITO electrode 11 of FIG. 9A is simultaneously formed on both surfaces of the film substrate 105, and the radiation sensitive composition 12 of FIG. For example, a method of simultaneously irradiating ultraviolet rays on both surfaces through different photomasks corresponding to the X electrode pattern and the Y electrode pattern on the front surface and the back surface, respectively, simultaneously etching both surfaces, and stripping the resist can be used. According to this method, ultraviolet irradiation, etching, and resist peeling are simultaneously performed on both surfaces, so that the process can be simplified and a touch panel film with a functional film can be manufactured more efficiently.

＜第６の実施形態＞
本発明の第６の実施形態に係る機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法により製造された、金属配線のメッシュ構造パターンを上面視で図１に示す。 <Sixth Embodiment>
The mesh structure pattern of the metal wiring manufactured by the manufacturing method of the touchscreen film with a functional film which concerns on the 6th Embodiment of this invention is shown in FIG.

前述のとおり、透明電極には酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、導電性高分子や銀ナノワイヤー等の透明導電材料と、導電性の高い金属の細線パターンを格子状に張り巡らせたメッシュ構造の電極の２つに大別される。   As described above, the transparent electrode is made of indium tin oxide (ITO), a transparent conductive material such as a conductive polymer or silver nanowire, and a mesh structure electrode in which fine conductive metal fine wire patterns are stretched in a lattice pattern. It is roughly divided into two.

図１に示すように、金属配線のメッシュ配置１とは、同じピッチのＸ方向のストライプ状金属配線２、およびＹ方向のストライプ状金属配線３を直交するように配置したもので、上面視では開口部４が、概ね正方形のメッシュ構造をなすものである。タッチパネルを成す構成としては、一方の面だけにストライプ状金属配線を備えた片面構造のタッチパネルフィルムを２枚準備して背中合わせに張り合わせて使用する２枚タイプと、一方の面だけにメッシュ構造を設けた片面構造のタッチパネルフィルム、およびフィルム基材５の表面と裏面に形成した両面構造のタッチパネルフィルムの１枚タイプとがあり、いずれの場合に対しても本発明は適用できる。両面構造の場合は、実線が表面のストライプ状金属配線３を、二重線が裏面のストライプ状金属配線２に相当し、絶縁性のフィルム基材５が金属配線２と金属配線３の間にあるので、上下の金属配線２、３は自然に絶縁されている。   As shown in FIG. 1, the metal wiring mesh arrangement 1 is an arrangement in which X-direction stripe-shaped metal wiring 2 and Y-direction stripe-shaped metal wiring 3 having the same pitch are arranged so as to be orthogonal to each other. The opening 4 has a generally square mesh structure. The touch panel is composed of two types of touch panel films with a single-sided structure with stripe-shaped metal wiring on one side and a back-to-back type, and a mesh structure only on one side. There is a single-sided touch panel film and a single-sided type touch panel film having a double-sided structure formed on the front and back surfaces of the film substrate 5, and the present invention can be applied to either case. In the case of the double-sided structure, the solid line corresponds to the striped metal wiring 3 on the front surface, the double line corresponds to the striped metal wiring 2 on the back surface, and the insulating film base 5 is interposed between the metal wiring 2 and the metal wiring 3. Therefore, the upper and lower metal wirings 2 and 3 are naturally insulated.

金属配線は遮光性があるので、線幅ｄが太くなれば開口率が低くなって透過率が下がり、ストライプのピッチｐが長くなると位置センサーとしての分解能が低くなるので、線幅ｄとピッチｐは適切な値に設定される。金属材料としては、アルミニウムや銅が好適であるが抵抗とコストの面から銅が最も好ましい。   Since the metal wiring has a light-shielding property, if the line width d is increased, the aperture ratio is decreased and the transmittance is decreased. If the stripe pitch p is increased, the resolution as the position sensor is decreased. Therefore, the line width d and the pitch p are decreased. Is set to an appropriate value. As the metal material, aluminum or copper is preferable, but copper is most preferable in terms of resistance and cost.

銅配線によって仕切られたメッシュの開口部４の幅をｐ、遮光部の配線幅をｄとすると開口率９０％でｄ／ｐ＝０．０５程度、開口率９８％でｄ／ｐ＝０．０１程度である。遮光性金属の線幅ｄは、概ね２０μｍ以下であれば視認できないといわれているので、線幅ｄ＝２０μｍでは、開口の一辺ｐは４００〜２０００μｍの範囲となる。より狭い線幅ｄ＝１０μｍでは２００〜１０００μｍ、ｄ＝５μｍでは１００〜５００μｍの範囲とする必要がある。大型ディスプレイ用では線幅は５０μｍ程度以下が好ましく開口率９０％でｐは１０００μｍ程度以上となる。   Assuming that the width of the opening 4 of the mesh partitioned by the copper wiring is p and the wiring width of the light shielding portion is d, d / p = 0.05 at an opening ratio of 90%, and d / p = 0. It is about 01. Since the line width d of the light-shielding metal is said to be invisible when it is approximately 20 μm or less, the side p of the opening is in the range of 400 to 2000 μm when the line width d = 20 μm. The narrower line width d = 10 μm needs to be in the range of 200 to 1000 μm, and d = 5 μm in the range of 100 to 500 μm. For large displays, the line width is preferably about 50 μm or less, and the aperture ratio is 90%, and p is about 1000 μm or more.

タッチパネルの透視可能な部分の大きさは、液晶ディスプレイや有機ＥＬ等の画像表示部に重ねて使用されるので、少なくともこれらの画像表示部と同じ大きさである。但し、その範囲全てがタッチパネルの入力範囲でない場合には、透視範囲であってもメッシュ電極はなくても構わない。一般に、透視が必要な範囲以外は、見えないように枠状に黒塗りされているのが好ましい（加飾）。   The size of the transparent portion of the touch panel is used so as to overlap with an image display unit such as a liquid crystal display or an organic EL, so that it is at least as large as these image display units. However, if the entire range is not the input range of the touch panel, the mesh electrode may be omitted even if the range is a fluoroscopic range. In general, it is preferable to paint in a frame shape so that it is not visible outside the range that requires fluoroscopy (decoration).

メッシュ電極を構成する個々の金属配線２、３は、全てフィルム基材１０５の外周に取出し配線１０６に導かれて外部との接続用に端子接続部１１６につながっている。これらの金属配線２、３と、取出し配線１０６と、端子接続部１１６に用いる材質としては、安価で抵抗の低い銅が好ましく、透視されない部分では、許される範囲で線幅を太くすることができ、概ね０．０２〜０．５ｍｍの範囲が好ましい。これらの金属配線２、３と、取出し配線１０６と、端子接続部１１６は、フィルム基材１０５上に成膜形成された銅薄膜から同一材料で同一工程で一括形成されるため、効率よく機能性膜付きタッチパネルフィルムを製造できる。   The individual metal wirings 2 and 3 constituting the mesh electrode are all led to the outer periphery of the film base material 105 by the lead-out wiring 106 and connected to the terminal connection portion 116 for connection to the outside. The material used for these metal wirings 2 and 3, the extraction wiring 106 and the terminal connection portion 116 is preferably inexpensive and low resistance copper, and the line width can be increased within an allowable range in a portion that is not seen through. In general, a range of 0.02 to 0.5 mm is preferable. Since these metal wirings 2 and 3, lead-out wiring 106, and terminal connection part 116 are collectively formed in the same process using the same material from the copper thin film formed on the film base material 105, the functionality is efficient. A touch panel film with a film can be manufactured.

銅配線の表面抵抗は３Ω／□程度以下に設定するのが好ましい。抵抗が低い方が、センサ感度が高いからである。また、厚さが１００μｍ程度のフィルム基材１０５の両面に金属配線間２、３を形成する両面構造の場合は、金属配線間２、３間の静電容量を０．５〜３ｐＦの範囲に設定するのが好ましい。   The surface resistance of the copper wiring is preferably set to about 3Ω / □ or less. This is because the sensor sensitivity is higher when the resistance is lower. Moreover, in the case of a double-sided structure in which metal wirings 2 and 3 are formed on both surfaces of a film substrate 105 having a thickness of about 100 μm, the capacitance between the metal wirings 2 and 3 is in the range of 0.5 to 3 pF. It is preferable to set.

銅配線パターンをエッチングにより厚さ１３μｍ、線幅１０μｍ、ピッチ１０００μｍ、開口率９８％のメッシュ構成とした場合には、表面抵抗は０．３Ω／□（四端子法による）程度になる。銅配線パターンを厚さ１．５μｍ、線幅５μｍ、メッシュピッチ２５０μｍ（前述のｐにほぼ該当）、開口率９３％とした場合には、表面抵抗は３Ω／□程度になる。製法上の材質差があるが、表面抵抗は３Ω／□以下の範囲で所望の値に制御できる。   When the copper wiring pattern is formed into a mesh structure having a thickness of 13 μm, a line width of 10 μm, a pitch of 1000 μm, and an aperture ratio of 98% by etching, the surface resistance is about 0.3Ω / □ (by the four-terminal method). When the copper wiring pattern has a thickness of 1.5 μm, a line width of 5 μm, a mesh pitch of 250 μm (substantially corresponding to the aforementioned p), and an aperture ratio of 93%, the surface resistance is about 3Ω / □. Although there are material differences in manufacturing method, the surface resistance can be controlled to a desired value within a range of 3Ω / □ or less.

フィルム基材１０５上に、銅からなる金属配線２、３を敷設したままでは銅配線の表面と側面が大気に露出しており、空気中の水分や酸素等により銅表面が酸化して次第に抵抗が増加する不具合を生じる。例えば、８５℃９５％ＲＨの加速条件では１０００時間後に抵抗は２０％程度増加することが知られている。抵抗の増加は感度の低下を招くので好ましいものではなく抑制する必要がある。これを回避するためにも機能性膜１１９が必要となる。   If the metal wirings 2 and 3 made of copper are laid on the film base 105, the surface and side surfaces of the copper wiring are exposed to the atmosphere, and the copper surface is oxidized by moisture, oxygen, etc. in the air and gradually resists. This causes a problem that increases. For example, it is known that the resistance increases by about 20% after 1000 hours under the acceleration condition of 85 ° C. and 95% RH. Since an increase in resistance causes a decrease in sensitivity, it is not preferable and must be suppressed. In order to avoid this, the functional film 119 is required.

本発明をさらに詳しく説明するために、以下に実施例を列挙するが、本発明は実施例のみに限定されるものではない。なお、以下の実施例では、前述の実施形態で説明した構成についての製造方法について、詳説する。   In order to describe the present invention in more detail, examples are listed below, but the present invention is not limited to the examples. In the following examples, a manufacturing method for the configuration described in the above embodiment will be described in detail.

＜実施例１＞
幅１３３０ｍｍ、厚さ１００μｍ、長さ２０００ｍのロール状ＰＥＴフィルムにスパッタによりＩＴＯを２３０Åの厚さで成膜し、ロールコーターを用いてネガレジストを、ＩＴＯ上に１．５μｍ程度の厚さで塗布し、９０℃で３０分乾燥した。次に、透明電極を構成するパターンを備えたフォトマスクを介してＵＶ光を約１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射し、次いで、３％の炭酸ナトリウム水溶液に浸漬してフォトレジスト層に、現像処理を施した。これにより、透明電極を構成するパターンに対応する部分にレジストパターンが形成され、それ以外の部分のレジストが除去された。 <Example 1>
A film of ITO is formed to a thickness of 230 mm by sputtering on a roll PET film having a width of 1330 mm, a thickness of 100 μm, and a length of 2000 m, and a negative resist is applied on the ITO with a thickness of about 1.5 μm using a roll coater. And dried at 90 ° C. for 30 minutes. Next, UV light is irradiated at an exposure amount of about 100 mJ / cm 2 through a photomask having a pattern constituting a transparent electrode, and then immersed in a 3% aqueous sodium carbonate solution to develop a photoresist layer. Treated. Thereby, a resist pattern was formed in a portion corresponding to the pattern constituting the transparent electrode, and the resist in other portions was removed.

次に、リン酸／硝酸／水が６０／１０／３０の重量比で混合されたエッチング液に、前述のロール状フィルムを４０℃９０秒浸漬して、ＩＴＯの露出部をエッチング除去し、５重量％濃度のＮａＯＨ水溶液に４０℃１２０秒浸漬して、残ったレジストを剥離した。これにより、フィルム基材上に、所望の電極パターンを備えるＩＴＯ電極が形成された。続いて、銀ペーストを用いて、所望のパターンを備えるスクリーン印刷版を用いたスクリーン印刷機で、取出し配線と接続端子部を同時に形成した。   Next, the aforementioned roll film is immersed in an etching solution in which phosphoric acid / nitric acid / water is mixed at a weight ratio of 60/10/30 at 40 ° C. for 90 seconds to remove the exposed portion of ITO by etching. The remaining resist was peeled off by immersion in an aqueous NaOH solution having a concentration of% by weight at 40 ° C. for 120 seconds. Thereby, the ITO electrode provided with a desired electrode pattern was formed on the film base material. Subsequently, an extraction wiring and a connection terminal portion were simultaneously formed using a silver paste by a screen printing machine using a screen printing plate having a desired pattern.

機能性膜として、以下に示す処方１を撹拌混合した塗布液を、有効幅１２２０ｍｍ、線数１２０線のストライプ状にパターン化された印刷版を使用して、マイクログラビアコーティング法により乾燥後の膜厚が６μｍになるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、ハードコート層の機能性膜を形成した。以上により、Ｘ電極を有する第１タッチパネルフィルムを形成した。
＜処方１＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） １００重量部
・微粒子（コロイダルシリカ ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ 平均粒子径４０ｎｍ ３０％ＭＥＫ溶液 日産化学工業社製） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ ＢＡＳＦ社製） ５．０重量部
・溶剤（メチルエチルケトン） １００重量部
・層状粘土鉱物（ルーセンタイトＳＴＮ コープケミカル社製） ２．０重量部 As a functional film, a coating liquid obtained by stirring and mixing the formulation 1 shown below is a film after drying by a microgravure coating method using a printing plate patterned in a stripe shape having an effective width of 1220 mm and a line number of 120 lines. The film was applied and dried so as to have a thickness of 6 μm, and irradiated with 600 mJ / cm 2 of ultraviolet light with a high-pressure mercury lamp to form a functional film of a hard coat layer. Thus, a first touch panel film having an X electrode was formed.
<Prescription 1>
-Urethane acrylate (UV-1700B, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 100 parts by weight-Fine particles (colloidal silica MEK-ST-L, average particle size 40 nm, 30% MEK solution, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 10 parts by weight-Photopolymerization initiator (IRGA) Cure 184 BASF) 5.0 parts by weight Solvent (methyl ethyl ketone) 100 parts by weight Layered clay mineral (Lucentite STN Corp Chemical Co.) 2.0 parts by weight

上記と同様にして、Ｙ電極を有する第２タッチパネルフィルムを形成し、第１タッチパネルフィルムおよび第２タッチパネルフィルムの２枚で構成される実施例１のタッチパネルを得た。次に、タッチパネルについて、接続端子部を介して外部コントローラとの接続の可否を評価した。その結果を表１に示す。   In the same manner as described above, a second touch panel film having a Y electrode was formed, and the touch panel of Example 1 constituted by two sheets of the first touch panel film and the second touch panel film was obtained. Next, the touch panel was evaluated for the possibility of connection with an external controller via the connection terminal portion. The results are shown in Table 1.

＜実施例２＞
フィルム基材を幅１３００ｍｍのロール状ＰＥＴフィルムに、印刷版を有効幅１１９０ｍｍの印刷版に、タッチパネル構造を透明電極が銅メッシュ構造の両面１枚構造に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２のタッチパネルを得た。以下では、銅メッシュ構造の電極の形成方法について説明する。 <Example 2>
Example 1 except that the film substrate was changed to a roll-shaped PET film having a width of 1300 mm, the printing plate was changed to a printing plate having an effective width of 1190 mm, and the touch panel structure was changed to a single-sided double-sided structure with a copper mesh structure as a transparent electrode. Thus, a touch panel of Example 2 was obtained. Below, the formation method of the electrode of a copper mesh structure is demonstrated.

先ず、厚さが１２μｍの銅箔を表裏にラミネートしたロール状ＰＥＴフィルムを用意し、銅箔のパターニングを定法のフォトリソ法を適用して実施した。   First, a roll-shaped PET film in which a copper foil having a thickness of 12 μm was laminated on the front and back surfaces was prepared, and patterning of the copper foil was performed by applying a regular photolithography method.

ＰＥＴフィルムには、厚さが１２μｍの表面が平滑な電解銅箔が６μｍ厚の接着剤を介して表裏に積層されている。銅箔をエッチングして形成する銅線の線幅は、銅箔の厚さよりは細くできないので、所望の線幅から銅箔のタイプや厚さを決める必要がある。線幅が１０μｍ程度以下と細くなる場合には、フィルム上に蒸着した銅薄膜を用いるのが好ましい。電解銅箔以外では圧延銅箔も使用可能である。   On the PET film, an electrolytic copper foil having a thickness of 12 μm and a smooth surface is laminated on the front and back surfaces with an adhesive having a thickness of 6 μm. Since the line width of the copper wire formed by etching the copper foil cannot be made thinner than the thickness of the copper foil, it is necessary to determine the type and thickness of the copper foil from the desired line width. When the line width is as thin as about 10 μm or less, it is preferable to use a copper thin film deposited on the film. Other than the electrolytic copper foil, a rolled copper foil can also be used.

ロールコーターを用いてネガレジストを、上側の銅箔面に６μｍ程度の厚さで塗布し、９０℃で３０分乾燥した。次に、メッシュ部を構成するストライプパターンと取出し配線用パターン等を備えたフォトマスクを介してＵＶ光を約１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射した。他方のフィルム面にも、同じ厚さでレジストを塗布してからフォトマスクを介して露光を行った。次いで、３％の炭酸ナトリウム水溶液にてフォトレジスト層に、現像処理を施した。これにより、銅配線のストライプパターンに対応する部分にレジストパターンが形成され、それ以外の部分のレジストが除去された。 A negative resist was applied to the upper copper foil surface with a thickness of about 6 μm using a roll coater, and dried at 90 ° C. for 30 minutes. Next, UV light was irradiated at an exposure amount of about 100 mJ / cm 2 through a photomask provided with a stripe pattern constituting the mesh portion and a pattern for extraction wiring. The other film surface was coated with a resist having the same thickness and then exposed through a photomask. The photoresist layer was then developed with a 3% aqueous sodium carbonate solution. As a result, a resist pattern was formed in a portion corresponding to the stripe pattern of the copper wiring, and the resist in other portions was removed.

次に、比重１．４５の塩化第二鉄液を用いて、表裏同時に銅箔の露出部をエッチング除去し、残ったレジストを剥離した。これにより、フィルム基材の表裏に、上面視でメッシュ構造をなすストライプ状の金属配線が形成され、同時に外周部には取出し配線および接続端子部も形成された。   Next, using a ferric chloride solution having a specific gravity of 1.45, the exposed portions of the copper foil were etched away at the same time, and the remaining resist was peeled off. As a result, stripe-shaped metal wirings having a mesh structure in a top view were formed on the front and back of the film substrate, and at the same time, lead-out wirings and connection terminal portions were formed on the outer peripheral portion.

＜実施例３＞
フィルム基材を幅１２５０ｍｍ、厚さ１２５μｍのロール状ＰＥＴフィルムに、印刷版を有効幅１１４０ｍｍの印刷版に、タッチパネル構造をＩＴＯの両面１枚構造に、機能性膜を反射防止膜（ＬＲ）に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例３のタッチパネルを得た。以下では、両面１枚構造の電極の形成方法と、反射防止膜の形成方法について説明する。 <Example 3>
The film base is a roll-shaped PET film with a width of 1250 mm and a thickness of 125 μm, the printing plate is a printing plate with an effective width of 1140 mm, the touch panel structure is a double-sided ITO structure, and the functional film is an antireflection film (LR) A touch panel of Example 3 was obtained in the same manner as Example 1 except for the change. Below, the formation method of the electrode of a double-sided 1 sheet structure and the formation method of an antireflection film are demonstrated.

幅１２５０ｍｍ、厚さ１２５μｍ、長さ２０００ｍのロール状ＰＥＴフィルムに、スパッタによりＩＴＯを２３０Åの厚さでロール状ＰＥＴフィルムの両面に同時に成膜し、ロールコーターを用いてネガレジストを、成膜した表裏のＩＴＯ上に順に１．５μｍ程度の厚さで塗布し、９０℃で３０分乾燥した。次に、Ｘ、Ｙ透明電極をそれぞれ構成するパターンを備えたフォトマスクを介してＵＶ光を表裏面それぞれに対して約１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射し、次いで、３％の炭酸ナトリウム水溶液に浸漬して、表裏のフォトレジスト層に同時に現像処理を施した。これにより、Ｘ、Ｙ透明電極をそれぞれ構成するパターンに対応する表裏のそれぞれの部分にレジストパターンが形成され、それ以外の部分のレジストが除去された。 On a roll PET film having a width of 1250 mm, a thickness of 125 μm, and a length of 2000 m, ITO was simultaneously formed on both sides of the roll PET film with a thickness of 230 mm by sputtering, and a negative resist was formed using a roll coater. It apply | coated to thickness of about 1.5 micrometers in order on ITO of front and back, and it dried for 30 minutes at 90 degreeC. Next, UV light is irradiated to each of the front and back surfaces through a photomask having a pattern constituting X and Y transparent electrodes at an exposure amount of about 100 mJ / cm 2 , and then a 3% sodium carbonate aqueous solution Then, the photoresist layers on the front and back were simultaneously developed. As a result, resist patterns were formed on the front and back portions corresponding to the patterns constituting the X and Y transparent electrodes, respectively, and the other portions of the resist were removed.

次に、リン酸／硝酸／水が６０／１０／３０の重量比で混合されたエッチング液に、前述のロール状フィルムを４０℃９０秒浸漬して、表裏のＩＴＯの露出部を同時に一括エッチング除去し、５重量％濃度のＮａＯＨ水溶液に４０℃１２０秒浸漬して、表裏の残ったレジストを同時に一括剥離した。これにより、フィルム基材の両面に、所望の電極パターンを備えるＩＴＯ電極が表裏同時に形成された。続いて、銀ペーストを用いて、所望のパ
ターンを備えるスクリーン印刷版を用いたスクリーン印刷機で、取出し配線と接続端子部を同時に、表裏にそれぞれ印刷形成した。 Next, the above roll film is immersed in an etching solution in which phosphoric acid / nitric acid / water is mixed at a weight ratio of 60/10/30 at 40 ° C. for 90 seconds, and the exposed portions of the ITO on the front and back surfaces are simultaneously etched simultaneously. It was removed and immersed in a 5 wt% NaOH aqueous solution at 40 ° C. for 120 seconds, and the resist remaining on the front and back was simultaneously peeled off. Thereby, the ITO electrode provided with a desired electrode pattern was formed on both surfaces of the film base simultaneously. Subsequently, using a silver paste, the extraction wiring and the connection terminal portion were simultaneously printed on the front and back surfaces of the screen printing machine using a screen printing plate having a desired pattern.

機能性膜として、以下に示す処方２を撹拌混合した塗布液を、有効幅１１４０ｍｍ、線数１２０線のストライプ状にパターン化された印刷版を使用して、マイクログラビアコーティング法により塗布した後、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が３００ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、０．２ｇ／ｃｍ２（乾燥時）の反射防止膜（ＬＲ）を形成した。以上により、実施例３の両面構造のタッチパネルを形成した。
＜処方２＞
・中空シリカ微粒子（シリカ微粒子の固形分は２０重量％溶液；メチルイソブチルケトン、粒子径５０ナノメートル） ７０重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） ３０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１２７ ＢＡＳＦ社製） ３．０重量部
・メチルイソブチルケトン ５０重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ５０重量部 As a functional film, a coating liquid obtained by stirring and mixing the formulation 2 shown below was applied by a microgravure coating method using a printing plate patterned into a stripe shape having an effective width of 1140 mm and a line number of 120 lines, It is dried for 60 seconds in a thermal oven at a temperature of 50 ° C., the solvent in the coating film is evaporated, and the coating film is cured by irradiating ultraviolet rays so that the integrated light quantity becomes 300 mJ, whereby 0.2 g / cm 2 ( An antireflection film (LR) was formed during drying. Thus, the double-sided touch panel of Example 3 was formed.
<Prescription 2>
・ Hollow silica fine particles (Solid content of silica fine particles is 20 wt% solution; methyl isobutyl ketone, particle diameter 50 nanometers) 70 parts by weight ・ Pentaerythritol triacrylate (PETA) 30 parts by weight ・ Photopolymerization initiator (Irgacure 127 BASF 3.0 parts by weight • 50 parts by weight of methyl isobutyl ketone • 50 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME)

＜実施例４＞
フィルム基材を幅１２５０ｍｍのロール状ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）フィルムに、印刷版を有効幅１１４０ｍｍの印刷版に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例４のタッチパネルを得た。 <Example 4>
A touch panel of Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film substrate was changed to a roll-shaped polymethyl methacrylate (PMMA) film having a width of 1250 mm and the printing plate was changed to a printing plate having an effective width of 1140 mm.

＜比較例１＞
印刷版をストライプ状にパターン化されていない印刷版に変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例１のタッチパネルを得た。実施例１から４のタッチパネル及び比較例１のタッチパネルについて、接続端子部を介して外部コントローラとの接続の可否を評価した。その結果を表１に示す。

Figure 2015064855
<Comparative Example 1>
A touch panel of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the printing plate was changed to a printing plate not patterned in a stripe shape. The touch panel of Examples 1 to 4 and the touch panel of Comparative Example 1 were evaluated for the possibility of connection with an external controller via the connection terminal portion. The results are shown in Table 1.
Figure 2015064855

表１に示すように、本発明の製造方法を用いて製造された実施例１から４のタッチパネルでは外部との接続が可能であり、従来の製造方法で製造された比較例１のタッチパネルでは外部との接続が不可能であることが判明した。   As shown in Table 1, the touch panels of Examples 1 to 4 manufactured using the manufacturing method of the present invention can be connected to the outside, and the touch panel of Comparative Example 1 manufactured by the conventional manufacturing method is external. It was found that the connection with was impossible.

＜実施例５＞
幅１３３０ｍｍ、厚さ１００μｍ、長さ２０００ｍのロール状ＰＥＴフィルムにスパッタによりＩＴＯを２３０Åの厚さで成膜し、ロールコーターを用いてネガレジストを、ＩＴＯ上に１．５μｍ程度の厚さで塗布し９０℃で３０分乾燥した。次に、透明電極を構成するパターンを備えたフォトマスクを介してＵＶ光を約１００ｍＪ／ｃｍ２照射し、次いで、３％の炭酸ナトリウム水溶液に浸漬してフォトレジスト層に、現像処理を施した。これにより、透明電極を構成するパターンに対応する部分にレジストパターンが形成され、それ以外の部分のレジストが除去された。 <Example 5>
A film of ITO is formed to a thickness of 230 mm by sputtering on a roll PET film having a width of 1330 mm, a thickness of 100 μm, and a length of 2000 m, and a negative resist is applied on the ITO with a thickness of about 1.5 μm using a roll coater. And dried at 90 ° C. for 30 minutes. Next, UV light was irradiated at about 100 mJ / cm 2 through a photomask having a pattern constituting the transparent electrode, and then the photoresist layer was developed by being immersed in a 3% aqueous sodium carbonate solution. . Thereby, a resist pattern was formed in a portion corresponding to the pattern constituting the transparent electrode, and the resist in other portions was removed.

次に、リン酸／硝酸／水が６０／１０／３０の重量比で混合されたエッチング液に、前記のロール状フィルムを４０℃９０秒浸漬して、ＩＴＯの露出部をエッチング除去し、５重量％濃度のＮａＯＨ水溶液に４０℃１２０秒浸漬して残ったレジストを剥離した。これにより、フィルム基材上に、所望する電極パターンを備えるＩＴＯ電極が形成された。続いて、銀ペーストを所望するパターンを備えるスクリーン印刷版を用いてスクリーン印刷機で取出し配線と幅３０ｍｍの端子接続部を同時に印刷形成した。   Next, the roll film is immersed in an etching solution in which phosphoric acid / nitric acid / water is mixed at a weight ratio of 60/10/30 at 40 ° C. for 90 seconds to remove the exposed portion of ITO by etching. The remaining resist was peeled off by immersion in an aqueous NaOH solution having a concentration of% by weight at 40 ° C. for 120 seconds. Thereby, the ITO electrode provided with the desired electrode pattern was formed on the film base material. Subsequently, using a screen printing plate having a desired pattern for the silver paste, a take-out wiring and a terminal connection portion having a width of 30 mm were simultaneously printed by a screen printing machine.

機能性膜として、以下に示す処方３を撹拌混合した塗布液を、有効幅を１２２０ｍｍ、端子接続部に相当する位置に幅３０ｍｍの未塗工部を設定した開口部を有するダイヘッドを使用して、乾燥後の膜厚が６μｍになるように、端子接続部を除く位置に塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、ハードコート層の機能性膜を形成した。以上により、Ｘ電極に相当するタッチパネルフィルム１を形成した。
＜処方３＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） １００重量部
・微粒子（コロイダルシリカ ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ 平均粒子径４０ｎｍ
３０％ＭＥＫ溶液 日産化学工業社製） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ ＢＡＳＦ社製） ５．０重量部
・溶剤（メチルエチルケトン） ６００重量部
・層状粘土鉱物（ルーセンタイトＳＴＮ コープケミカル社製） ２．０重量部 As a functional film, using a die head having an opening with an effective width of 1220 mm and an uncoated part with a width of 30 mm set at a position corresponding to a terminal connection part, with a coating solution obtained by stirring and mixing the formulation 3 shown below The functional film of the hard coat layer was formed by applying and drying at a position excluding the terminal connection portion so as to have a film thickness after drying of 6 μm and irradiating with 600 mJ / cm 2 of ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp. Thus, the touch panel film 1 corresponding to the X electrode was formed.
<Prescription 3>
・ Urethane acrylate (UV-1700B, Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 100 parts by weight ・ Fine particles (colloidal silica MEK-ST-L, average particle size 40 nm)
30% MEK solution manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 10 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF) 5.0 parts by weight-Solvent (methyl ethyl ketone) 600 parts by weight-Layered clay mineral (Lucentite STN Corp Chemical Co., Ltd.) Made) 2.0 parts by weight

上記と同様にして、Ｙ電極に相当するタッチパネルフィルム２を形成し、タッチパネルフィルム１およびタッチパネルフィルム２の２枚で構成されるタッチパネル５を得た。次に外部コントローラと接続するために、形成した端子接続部との接続を試みた。その結果を表２に示す。   In the same manner as described above, the touch panel film 2 corresponding to the Y electrode was formed, and the touch panel 5 composed of the touch panel film 1 and the touch panel film 2 was obtained. Next, in order to connect with an external controller, connection with the formed terminal connection part was tried. The results are shown in Table 2.

＜実施例６＞
フィルム基材を幅１３３０ｍｍのロール状ＰＥＴフィルムに、タッチパネル構造を透明電極材質として銅メッシュ構造の両面１枚構造に、変更した以外は実施例５と同様にしてタッチパネル６を得た。以下で銅メッシュ構造の電極の形成について示す。 <Example 6>
A touch panel 6 was obtained in the same manner as in Example 5 except that the film substrate was changed to a roll-shaped PET film having a width of 1330 mm, the touch panel structure was changed to a transparent mesh material, and a double-sided single-layer structure having a copper mesh structure. Hereinafter, formation of an electrode having a copper mesh structure will be described.

先ず、厚さが１２μｍの銅箔を表裏にラミネートしたロール状ＰＥＴフィルム５を用意し、銅箔のパターニングを定法のフォトリソ法を適用して実施した。   First, a roll-shaped PET film 5 in which a copper foil having a thickness of 12 μm was laminated on both sides was prepared, and patterning of the copper foil was performed by applying a regular photolithography method.

ＰＥＴフィルムには、厚さが１２μｍの表面が平滑な電解銅箔が６μｍ厚の接着剤を介して表裏に積層されている。銅箔をエッチングして形成する銅線の線幅は銅箔の厚さよりは細くできないので、所望の線幅から銅箔のタイプや厚さを決める必要がある。線幅が１０μｍ程度以下と細くなる場合には、フィルム上に蒸着した銅薄膜を用いるのが好ましい。電解銅箔以外では圧延銅箔も使用可能である。   On the PET film, an electrolytic copper foil having a thickness of 12 μm and a smooth surface is laminated on the front and back surfaces with an adhesive having a thickness of 6 μm. Since the line width of the copper wire formed by etching the copper foil cannot be made thinner than the thickness of the copper foil, it is necessary to determine the type and thickness of the copper foil from the desired line width. When the line width is as thin as about 10 μm or less, it is preferable to use a copper thin film deposited on the film. Other than the electrolytic copper foil, a rolled copper foil can also be used.

ロールコーターを用いてネガレジストを、上側の銅箔１１面に６μｍ程度の厚さで塗布し９０℃で３０分乾燥した。次に、メッシュ部を構成するストライプパターンと引き出し用電極パターン他を備えたフォトマスクを介してＵＶ光を約１００ｍＪ／ｃｍ２照射した。他方のフィルム面にも同じ厚さでレジスト１２を塗布してからフォトマスクを介して露光を行った。次いで、３％の炭酸ナトリウム水溶液にてフォトレジスト層に、現像処理を施した。これにより、銅配線のストライプパターンに対応する部分にレジストパターンが形成され、それ以外の部分のレジストが除去された。 A negative resist was applied to the upper surface of the copper foil 11 with a thickness of about 6 μm using a roll coater and dried at 90 ° C. for 30 minutes. Next, UV light was irradiated at about 100 mJ / cm 2 through a photomask provided with a stripe pattern constituting the mesh portion and an extraction electrode pattern. The other film surface was coated with a resist 12 with the same thickness, and then exposed through a photomask. The photoresist layer was then developed with a 3% aqueous sodium carbonate solution. As a result, a resist pattern was formed in a portion corresponding to the stripe pattern of the copper wiring, and the resist in other portions was removed.

次に、比重１．４５の塩化第二鉄液を用いて、表裏同時に銅箔の露出部をエッチング除去し、残ったレジストを剥離した。これにより、フィルム基材の表裏に、上面視でメッシュ構造をなすストライプ状の金属配線が形成され、同時に外周部には取出し配線および端子接続部も形成された。   Next, using a ferric chloride solution having a specific gravity of 1.45, the exposed portions of the copper foil were etched away at the same time, and the remaining resist was peeled off. As a result, stripe-shaped metal wirings having a mesh structure in a top view were formed on the front and back of the film substrate, and at the same time, lead-out wirings and terminal connection parts were formed on the outer peripheral portion.

＜実施例７＞
フィルム基材を幅１２５０ｍｍ、厚さ１２５μｍのロール状ＰＥＴフィルムに、ダイヘッドを有効幅が１１４０ｍｍ、かつ開口部の設定を端子接続部に相当する位置に幅２０ｍｍの未塗工部を有する設定に、タッチパネル構造をＩＴＯの両面１枚構造に、機能性膜をハードコート膜とその上に積層される反射防止膜に変更した以外は実施例５と同様にしてタッチパネル７を得た。以下で両面１枚構造の電極の形成と、反射防止膜の形成について示す。 <Example 7>
The film base is set to a roll-shaped PET film having a width of 1250 mm and a thickness of 125 μm, the die head has an effective width of 1140 mm, and the setting of the opening has an uncoated part with a width of 20 mm at a position corresponding to the terminal connection part. A touch panel 7 was obtained in the same manner as in Example 5 except that the touch panel structure was changed to a double-sided ITO structure and the functional film was changed to a hard coat film and an antireflection film laminated thereon. Hereinafter, formation of an electrode having a single-sided structure on both sides and formation of an antireflection film will be described.

幅１２５０ｍｍ、厚さ１２５μｍ、長さ２０００ｍのロール状ＰＥＴフィルムにスパッタによりＩＴＯを２３０Åの厚さでフィルム基材の両面に同時に成膜し、ロールコーターを用いてネガレジストを、成膜した表裏のＩＴＯ上に順に１．５μｍ程度の厚さで塗布し９０℃で３０分乾燥した。次に、Ｘ、Ｙ透明電極をそれぞれ構成するパターンを備えたフォトマスクを介してＵＶ光を表裏面それぞれに対して約１００ｍＪ／ｃｍ２照射し、次いで、３％の炭酸ナトリウム水溶液に浸漬して表裏のフォトレジスト層に同時に、現像処理を施した。これにより、Ｘ、Ｙ透明電極をそれぞれ構成するパターンに対応する表裏の部分にレジストパターンが形成され、それ以外の部分のレジストが除去された。 ITO was simultaneously formed on both sides of a film substrate with a thickness of 230 mm by sputtering on a roll-shaped PET film having a width of 1250 mm, a thickness of 125 μm and a length of 2000 m, and a negative resist was formed on both sides of the film by using a roll coater. It apply | coated to thickness of about 1.5 micrometers in order on ITO, and it dried for 30 minutes at 90 degreeC. Next, about 100 mJ / cm 2 of UV light is irradiated to each of the front and back surfaces through a photomask having a pattern constituting each of the X and Y transparent electrodes, and then immersed in a 3% aqueous sodium carbonate solution. The photoresist layers on the front and back were simultaneously developed. As a result, resist patterns were formed on the front and back portions corresponding to the patterns constituting the X and Y transparent electrodes, respectively, and the other portions of the resist were removed.

次に、リン酸／硝酸／水が６０／１０／３０の重量比で混合されたエッチング液に、前記のロール状フィルムを４０℃９０秒浸漬して、表裏のＩＴＯの露出部を同時に一括エッチング除去し、５重量％濃度のＮａＯＨ水溶液に４０℃１２０秒浸漬して表裏の残ったレジストを同時に一括剥離した。これにより、フィルム基材の両面に、所望する電極パターンを備えるＩＴＯ電極が表裏同時に形成された。続いて、銀ペーストを所望するパターンを備えるスクリーン印刷版を用いてスクリーン印刷機で取出し配線と幅２０ｍｍの端子接続部を同時に、表裏にそれぞれ印刷形成した。   Next, the roll film is immersed in an etching solution in which phosphoric acid / nitric acid / water is mixed at a weight ratio of 60/10/30 at 40 ° C. for 90 seconds, and the exposed portions of ITO on the front and back surfaces are simultaneously etched simultaneously. The resist was removed and immersed in a 5 wt% NaOH aqueous solution at 40 ° C. for 120 seconds, and the resist remaining on the front and back surfaces was simultaneously peeled off. Thereby, the ITO electrode provided with the desired electrode pattern was formed simultaneously on both surfaces of the film base material. Subsequently, using a screen printing plate having a desired pattern for silver paste, a take-out wiring and a terminal connection portion having a width of 20 mm were simultaneously printed on the front and back surfaces by a screen printing machine.

機能性膜として、まず以下に示す処方４を攪拌混合した塗布液を、有効幅を１１４０ｍｍ、端子接続部に相当する位置に幅２０ｍｍの未塗工部を設定した開口部を有するダイヘッドを使用して塗布した後、温度６５℃の熱オーブン中で３０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が２００ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、６．０ｇ／ｃｍ２（乾燥時）のハードコート膜を形成した。
＜処方４＞
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート（Ａ−ＤＰＨ 新中村化学工業株式会社製） ２５重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート （Ａ−ＴＭＭＴ、新中村化学工業株式会社製） ２５重量部
・ウレタンアクリレート （ＵＡ−３０６Ｈ 共栄者科学株式会社製） ５０重量部
・光重合開始剤（イルガキュア１８４ ＢＡＳＦ社製） ５．０重量部 As a functional film, first, a die head having an opening in which an uncoated portion having a width of 20 mm is set at a position corresponding to a terminal connection portion is applied to a coating liquid obtained by stirring and mixing the following formulation 4 with an effective width of 1140 mm. After coating, the film is dried for 30 seconds in a heat oven at a temperature of 65 ° C., the solvent in the coating film is evaporated, and the coating film is cured by irradiating ultraviolet rays so that the integrated light quantity becomes 200 mJ. A hard coat film of 0 g / cm 2 (when dried) was formed.
<Prescription 4>
Dipentaerythritol triacrylate (A-DPH, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 25 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate (A-TMMT, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 25 parts by weight Urethane acrylate (UA-306H Kyoei) 50 parts by weight of photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by BASF) 5.0 parts by weight

次に、以下に示す処方５を撹拌混合した塗布液を、有効幅を１１４０ｍｍ、端子接続部に相当する位置に幅２０ｍｍの未塗工部を設定した開口部を有するダイヘッドを使用して塗布した後、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が３００ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、０．２ｇ／ｃｍ２（乾燥時）の反射防止膜（ＬＲ）を形成した。以上により、両面構造のタッチパネル３を形成した。
＜処方５＞
・中空シリカ微粒子（該シリカ微粒子の固形分は２０重量％溶液；メチルイソブチルケトン、粒子径５０ナノメートル） ７０重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ 新中村化学株式会社製） ６．０重量部
・光重合開始剤（イルガキュア１８４ ＢＡＳＦ社製） ０．９重量部
・メチルイソブチルケトン ８０重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） １ ５０重量部 Next, a coating liquid obtained by stirring and mixing the formulation 5 shown below was applied using a die head having an opening in which an effective width was set to 1140 mm and an uncoated portion having a width of 20 mm was set at a position corresponding to the terminal connection portion. Thereafter, the film is dried in a heat oven at a temperature of 50 ° C. for 60 seconds, the solvent in the coating film is evaporated, and the coating film is cured by irradiating ultraviolet rays so that the integrated light quantity becomes 300 mJ. 2 (when dry) antireflection film (LR) was formed. Thus, the touch panel 3 having a double-sided structure was formed.
<Prescription 5>
-Hollow silica fine particles (The solid content of the silica fine particles is a 20 wt% solution; methyl isobutyl ketone, particle size 50 nanometers) 70 parts by weight-Pentaerythritol triacrylate (A-TMM-3LM-N, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 6.0 parts by weight-Photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by BASF) 0.9 parts by weight-Methyl isobutyl ketone 80 parts by weight-Propylene glycol monomethyl ether (PGME) 1 50 parts by weight

＜実施例８＞
フィルム基材を幅１２５０ｍｍ、のロール状ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）フィルムに、ダイヘッドを有効幅が１１４０ｍｍ、かつ開口部の設定を端子接続部に相当する位置に幅３０ｍｍの未塗工部を有する設定に、変更した以外は実施例５と同様にしてタッチパネル８を得た。 <Example 8>
Setting the film substrate as a roll-shaped polymethylmethacrylate (PMMA) film having a width of 1250 mm, the die head having an effective width of 1140 mm, and the opening setting having an uncoated portion with a width of 30 mm at a position corresponding to the terminal connection portion The touch panel 8 was obtained in the same manner as in Example 5 except that the change was made.

＜比較例２＞
機能性膜の塗工方式を一般的なマイクログラビア塗工方式に変更した以外は実施例５と同様にしてタッチパネル９を得た。以上の結果を表２に示す。

Figure 2015064855
<Comparative Example 2>
A touch panel 9 was obtained in the same manner as in Example 5 except that the functional film coating method was changed to a general micro gravure coating method. The results are shown in Table 2.
Figure 2015064855

表２に示すように、本発明の製造方法を用いて製造された実施例５から８のタッチパネルでは外部との接続が可能であり、従来の製造方法で製造された比較例のタッチパネルでは外部との接続が不可能であることが判明した。また本発明のヘッドにおける設定を変えることで、同一のダイヘッドを使用して様々な有効幅及び塗工位置に対応することが可能であることが示された。   As shown in Table 2, the touch panels of Examples 5 to 8 manufactured using the manufacturing method of the present invention can be connected to the outside, and the touch panel of the comparative example manufactured by the conventional manufacturing method can be connected to the outside. Was found impossible to connect. Further, it was shown that by changing the setting in the head of the present invention, it is possible to cope with various effective widths and coating positions using the same die head.

本発明は、静電容量型タッチパネルフィルムの製造方法等に有用である。   The present invention is useful for a method for producing a capacitive touch panel film.

１：金属配線のメッシュ構造
２：Ｘ方向のストライプ状金属配線
３：Ｙ方向のストライプ状金属配線
４：開口部
５、１０５：フィルム基材（絶縁性樹脂）
６、１０６：取出し配線
７：レジストパターン
８：金属薄膜
９：交差部
１１：ＩＴＯ
１２：感放射線性組成物
１３：ロールコーター
１４：グラビアコーター
１５：電離放射線（紫外線）
１６、１１６：接続端子部
１７、１１７：Ｘ電極
１８、１１８：Ｙ電極
１１９：機能性膜
１２０：パネル領域
１２１：ロール状透明フィルムの流れ（ＭＤ）方向に沿った同一線
１２２：ロール状透明フィルム
１２３：ストライプ状にパターン化された印刷版
１２４：ダイヘッド
ｐ：開口幅
ｄ：配線幅 1: Mesh structure of metal wiring 2: Striped metal wiring in X direction 3: Striped metal wiring in Y direction 4: Opening 5, 105: Film substrate (insulating resin)
6, 106: Extraction wiring 7: Resist pattern 8: Metal thin film 9: Intersection 11: ITO
12: Radiation sensitive composition 13: Roll coater 14: Gravure coater 15: Ionizing radiation (ultraviolet light)
16, 116: Connection terminal portion 17, 117: X electrode 18, 118: Y electrode 119: Functional film 120: Panel region 121: Same line along flow (MD) direction of roll transparent film 122: Roll transparent Film 123: Printing plate 124 patterned in stripes: Die head p: Opening width d: Wiring width

Claims (8)

ロール状透明フィルムの少なくとも一方の面に多面形成される静電容量型タッチパネルフィルムの製造方法において、
透明電極を形成する工程と、
外部接続用の接続端子部を形成する工程と、
前記透明電極上に機能性膜を形成する工程とを少なくとも有し、
前記接続端子部を形成する工程が、前記ロール状透明フィルムに多面形成されてそれぞれがタッチパネルフィルムの単一個片となるパネル領域について、前記ロール状透明フィルムの流れ（ＭＤ）方向の同じ列に属する複数のパネル領域では前記接続端子部が前記流れ（ＭＤ）方向に沿って同一線上に位置するように、前記接続端子部を形成する工程を有し、
前記透明電極上に機能性膜を形成する工程が、ストライプ状にパターン化された印刷版を用いてロールツーロール方式で、前記接続端子部を除く領域にストライプ状の機能性膜を印刷形成する工程を有する機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法。 In the method for producing a capacitive touch panel film formed in multiple faces on at least one surface of the roll-shaped transparent film,
Forming a transparent electrode;
Forming a connection terminal portion for external connection;
And at least a step of forming a functional film on the transparent electrode,
The process of forming the said connection terminal part belongs to the same row | line | column of the flow (MD) direction of the said roll-shaped transparent film about the panel area | region which is formed in multiple faces on the said roll-shaped transparent film and each becomes a single piece of a touch panel film. Forming the connection terminal portion so that the connection terminal portion is positioned on the same line along the flow (MD) direction in a plurality of panel regions;
The step of forming a functional film on the transparent electrode is a roll-to-roll method using a printing plate patterned in a stripe shape, and a stripe-shaped functional film is printed and formed in a region excluding the connection terminal portion. The manufacturing method of the touchscreen film with a functional film which has a process. ロール状透明フィルムの少なくとも一方の面に多面形成される静電容量型タッチパネルフィルムの製造方法において、
透明電極を形成する工程と、
外部接続用の接続端子部を形成する工程と、
前記透明電極上に機能性膜を形成する工程とを少なくとも有し、
前記接続端子部を形成する工程が、前記ロール状透明フィルムに多面形成されてそれぞれがタッチパネルフィルムの単一個片となるパネル領域について、前記ロール状透明フィルムの流れ（ＭＤ）方向の同じ列に属する複数のパネル領域では前記接続端子部が前記流れ（ＭＤ）方向に沿って同一線上に位置するように、前記接続端子部を形成する工程を有し、
前記透明電極上に機能性膜を形成する工程が、ダイ塗工方式で、前記接続端子部を除く領域にストライプ状の機能性膜を印刷形成する工程を有する機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法。 In the method for producing a capacitive touch panel film formed in multiple faces on at least one surface of the roll-shaped transparent film,
Forming a transparent electrode;
Forming a connection terminal portion for external connection;
And at least a step of forming a functional film on the transparent electrode,
The process of forming the said connection terminal part belongs to the same row | line | column of the flow (MD) direction of the said roll-shaped transparent film about the panel area | region which is formed in multiple faces on the said roll-shaped transparent film and each becomes a single piece of a touch panel film. Forming the connection terminal portion so that the connection terminal portion is positioned on the same line along the flow (MD) direction in a plurality of panel regions;
The method for producing a touch panel film with a functional film, wherein the step of forming a functional film on the transparent electrode includes a step of printing and forming a stripe-shaped functional film in a region excluding the connection terminal portion by a die coating method. . 前記透明電極を形成する工程と、前記接続端子部を形成する工程とを、前記ロール状透明フィルムの両面に対して行う、請求項１又は２に記載の機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法。   The manufacturing method of the touchscreen film with a functional film of Claim 1 or 2 which performs the process of forming the said transparent electrode, and the process of forming the said connection terminal part with respect to both surfaces of the said roll-shaped transparent film. 前記透明電極を形成する工程が、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）をスパッタ装置を用いて成膜する工程と、エッチング装置を用いて酸化インジウム錫をエッチングする工程とを有する、請求項１乃至３の何れか１つに記載の機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法。   4. The method according to claim 1, wherein the step of forming the transparent electrode includes a step of forming a film of indium tin oxide (ITO) using a sputtering apparatus and a step of etching the indium tin oxide using an etching apparatus. The manufacturing method of the touchscreen film with a functional film as described in any one. 前記透明電極を形成する工程が、Ｃｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｚｒの群から選ばれる少なくとも１種類以上の金属材料からなる幅２０μｍ以下の線状パターンをメッシュ配置させた電極を形成する工程を有する、請求項１乃至４の何れか１つに記載の機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法。   In the step of forming the transparent electrode, an electrode in which a linear pattern having a width of 20 μm or less made of at least one metal material selected from the group consisting of Cu, Ag, Pt, Au, Al, Zn, and Zr is meshed is arranged. The manufacturing method of the touchscreen film with a functional film as described in any one of Claims 1 thru | or 4 which has the process to form. 前記金属材料がＣｕである、請求項５に記載の機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法。   The manufacturing method of the touchscreen film with a functional film of Claim 5 whose said metal material is Cu. 前記機能性膜を形成する工程が、ハードコート（ＨＣ）膜、反射防止（ＬＲ）膜、帯電防止（ＡＳ）膜、耐指紋付着（ＡＦ）膜、ブロッキング防止（ＡＢ）膜の群から選ばれる少なくとも１種類以上の膜を形成する工程を有する、請求項１乃至６の何れか１つに記載の機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法。   The step of forming the functional film is selected from the group consisting of a hard coat (HC) film, an antireflection (LR) film, an antistatic (AS) film, an anti-fingerprint (AF) film, and an antiblocking (AB) film. The manufacturing method of the touchscreen film with a functional film as described in any one of Claims 1 thru | or 6 which has the process of forming at least 1 or more types of film | membrane. 請求項１乃至７の何れか１つに記載の機能性膜付きタッチパネルフィルムの製造方法を用いて製造されたタッチパネル。   The touchscreen manufactured using the manufacturing method of the touchscreen film with a functional film as described in any one of Claims 1 thru | or 7.
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