JP2017084153A - Sensor electrode substrate for touch panel integrated type organic electroluminescent display device, touch panel integrated type organic electroluminescent display device and manufacturing method of touch panel integrated type organic electroluminescent display device - Google Patents

Sensor electrode substrate for touch panel integrated type organic electroluminescent display device, touch panel integrated type organic electroluminescent display device and manufacturing method of touch panel integrated type organic electroluminescent display device Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sensor electrode substrate using a mesh-like sensor electrode, the sensor electrode substrate capable of preventing transparency from lowering by the sensor electrode while making the sensor electrode low resistant.SOLUTION: A sensor electrode substrate for a touch panel integrated type organic EL display device is to be used in an organic EL display device, and includes a transparent substrate and a sensor electrode arranged on one surface of the transparent substrate. The sensor electrode is arranged in a region overlapping in plane view a non-pixel region of the organic EL display device. The sensor electrode includes a mesh-like first mesh electrode and a mesh-like second mesh electrode.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、メッシュ状の第1メッシュ電極および第2メッシュ電極を有するセンサ電極を備えたタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、および有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a sensor electrode substrate for a touch panel integrated organic electroluminescence display device including a sensor electrode having a mesh-shaped first mesh electrode and a second mesh electrode, an organic electroluminescence display device, and an organic electroluminescence display device It relates to a manufacturing method.

近年、表示装置の発達に伴って、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等のフラットパネル表示装置の需要が増加している。最近では、テレビやパーソナルコンピューターの他にも、スマートフォン、タブレット端末等の多機能端末の普及が盛んになっており、益々フラットパネル表示装置の市場は拡大する状況にある。このような状況において、フラットパネル表示装置を構成する各部材に関する研究が盛んに行われている。   In recent years, with the development of display devices, demand for flat panel display devices such as liquid crystal display devices and organic electroluminescence display devices has increased. Recently, in addition to televisions and personal computers, multifunctional terminals such as smartphones and tablet terminals are widely used, and the market for flat panel display devices is increasing. In such a situation, research on each member constituting the flat panel display device has been actively conducted.

このような現在の表示装置としては、タッチパネル機能を備えたタッチパネル一体型表示装置が注目されている。タッチパネル一体型表示装置は、例えば、スマートフォン等の携帯電話やタブレット等にも多く使用されている。タッチパネル方式には、静電容量方式、電気抵抗膜方式、電磁誘導方式、赤外線方式等、様々な方式のものがあるが、中でも、静電容量方式である投影型静電容量方式のタッチパネルの場合には、多点同時入力が可能であり、指先で直感的な操作が可能であり、さらに、耐久性に優れるという点で、急速に普及している。   As such a current display device, a touch panel integrated display device having a touch panel function has attracted attention. The touch panel integrated display device is often used in, for example, mobile phones such as smartphones and tablets. There are various types of touch panel methods, such as a capacitance method, an electric resistance film method, an electromagnetic induction method, an infrared method, etc. Among them, in the case of a projected capacitive touch panel that is a capacitive method. Is rapidly becoming popular because it allows simultaneous input at multiple points, allows intuitive operation with a fingertip, and has excellent durability.

投影型静電容量方式のタッチパネルとしては、X方向(縦)およびY方向(横)に延設されたセンサ電極を有するセンサ電極基材が用いられる。例えば、特許文献1には、透明樹脂シートと、透明樹脂シートの一方の側の面上の第1検出電極と、透明樹脂シートの他方の側の面上の第2検出電極とを有し、第1検出電極および第2検出電極がメッシュ状の電極であるセンサ電極基材が開示されている。   As the projected capacitive touch panel, a sensor electrode substrate having sensor electrodes extending in the X direction (vertical) and the Y direction (horizontal) is used. For example, Patent Document 1 includes a transparent resin sheet, a first detection electrode on one side of the transparent resin sheet, and a second detection electrode on the other side of the transparent resin sheet, A sensor electrode substrate is disclosed in which the first detection electrode and the second detection electrode are mesh electrodes.

ここで、「延設される」とは、センサ電極基材を全体的かつ大局的に見た場合に、その方向に延伸して形成されることを示す。したがって、センサ電極がX方向(縦)およびY方向(横)に延設されるとは、センサ電極が、X方向およびY方向にそれぞれ導通可能に形成されていることを示す。   Here, “extended” indicates that the sensor electrode substrate is formed by extending in that direction when viewed as a whole and globally. Therefore, the sensor electrode extending in the X direction (vertical) and the Y direction (horizontal) indicates that the sensor electrode is formed to be conductive in the X direction and the Y direction, respectively.

特許文献1のように、メッシュ状のセンサ電極を用いたセンサ電極基材の場合、透明導電膜を用いたセンサ電極基材に比べてフレキシブル表示装置に好適であるという利点を有する。また、メッシュ状のセンサ電極の場合、金属材料を用いることができるため、酸化インジウム錫(ITO)等の透明導電性材料を用いる透明導電膜に比べて、コストを低減することができる。   As in Patent Document 1, in the case of a sensor electrode substrate using a mesh-shaped sensor electrode, it has an advantage that it is suitable for a flexible display device as compared with a sensor electrode substrate using a transparent conductive film. Further, in the case of a mesh-shaped sensor electrode, a metal material can be used, so that the cost can be reduced compared to a transparent conductive film using a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO).

特開2015−172953号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-172953

しかしながら、メッシュ状のセンサ電極を用いたセンサ電極基材の場合、センサ電極を構成する材料が金属等の不透明な材料であることから、表示領域に配置されたメッシュ状のセンサ電極により透明性が低下し、当該センサ電極基材を用いた表示装置の視認性が低下してしまうという問題がある。また、メッシュ状のセンサ電極は不透明であるため、表示領域から視認されるセンサ電極にモアレが発生してしまうという問題がある。そこで、センサ電極の線幅を細くして、表示領域から視認されるセンサ電極を目立たなくすることも可能であるが、この場合、センサ電極の抵抗を低くすることが困難になるという問題がある。   However, in the case of a sensor electrode substrate using a mesh sensor electrode, since the material constituting the sensor electrode is an opaque material such as metal, the mesh sensor electrode arranged in the display region provides transparency. There exists a problem that it will fall and the visibility of the display apparatus using the said sensor electrode base material will fall. Further, since the mesh-shaped sensor electrode is opaque, there is a problem that moire occurs in the sensor electrode viewed from the display area. Therefore, it is possible to reduce the line width of the sensor electrode so that the sensor electrode visually recognized from the display area is not conspicuous. However, in this case, it is difficult to reduce the resistance of the sensor electrode. .

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、メッシュ状のセンサ電極を用いたセンサ電極基材において、センサ電極による透明性の低下を抑制し、かつセンサ電極を低抵抗化することが可能なセンサ電極基材を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and in a sensor electrode substrate using a mesh-shaped sensor electrode, it is possible to suppress a decrease in transparency due to the sensor electrode and to reduce the resistance of the sensor electrode. The main object is to provide a possible sensor electrode substrate.

上記課題を解決するために鋭意研究を行った結果、本発明の発明者等は、まず、有機エレクトロルミネッセンス表示装置においては、着色部の製造上の都合により、各画素間の距離が比較的広くなるという点に着目した。その結果、各画素間の距離が広くなると、各画素を画定するブラックマトリクスの線幅が広がるため、当該ブラックマトリクス上にセンサ電極を配置した場合に、センサ電極が表示領域から視認されることを抑制することができ、さらにセンサ電極の線幅を細くすることによる抵抗の増加を抑制することができることを見出した。本発明の発明者等は、このようにして、本発明を完成させるに至った。
なお、以下、有機エレクトロルミネッセンスを有機ELと略して説明する場合がある。
As a result of diligent research to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention, first, in the organic electroluminescence display device, the distance between the pixels is relatively wide due to the production of the colored portion. We focused on the point that As a result, as the distance between the pixels increases, the line width of the black matrix that defines each pixel increases, so that when the sensor electrodes are arranged on the black matrix, the sensor electrodes are visible from the display area. It has been found that the increase in resistance due to the reduction in the line width of the sensor electrode can be suppressed. The inventors of the present invention have thus completed the present invention.
Hereinafter, organic electroluminescence may be abbreviated as organic EL.

すなわち、本発明は、有機EL表示装置に用いられるタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材であって、透明基材と、上記透明基材の一方の表面側に配置されたセンサ電極とを有し、上記センサ電極は、上記有機EL表示装置の非画素領域と平面視上重なる領域に配置され、上記センサ電極は、メッシュ状の第1メッシュ電極、およびメッシュ状の第2メッシュ電極を有することを特徴とするタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材を提供する。   That is, the present invention is a sensor electrode substrate for a touch panel integrated organic EL display device used in an organic EL display device, the transparent substrate, and a sensor electrode disposed on one surface side of the transparent substrate. The sensor electrode is disposed in a region overlapping the non-pixel region of the organic EL display device in plan view, and the sensor electrode includes a mesh-shaped first mesh electrode and a mesh-shaped second mesh electrode. Provided is a sensor electrode substrate for a touch panel-integrated organic EL display device.

本発明によれば、センサ電極が第1メッシュ電極および第2メッシュ電極を有し、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極がメッシュ状であることにより、有機EL表示装置における非画素領域に平面視上重なるように、センサ電極を配置することができる。よって、センサ電極による透明性の低下を抑制することが可能なセンサ電極基材とすることができる。また、センサ電極基材が有機EL表示装置に用いられる部材であることから、画素間の距離を比較的広く形成することができる。そのため、センサ電極を非画素領域に平面視上重なるように配置した場合に、センサ電極の線幅を十分に確保することができ、低抵抗化を図ることが可能なセンサ電極基材とすることができる。   According to the present invention, the sensor electrode includes the first mesh electrode and the second mesh electrode, and the first mesh electrode and the second mesh electrode are in a mesh shape, so that the non-pixel region in the organic EL display device is planarly viewed. Sensor electrodes can be arranged to overlap. Therefore, it can be set as the sensor electrode base material which can suppress the transparency fall by a sensor electrode. In addition, since the sensor electrode base material is a member used in the organic EL display device, the distance between the pixels can be formed relatively wide. Therefore, when the sensor electrode is arranged so as to overlap the non-pixel region in plan view, a sensor electrode base material that can sufficiently secure the line width of the sensor electrode and can reduce resistance is provided. Can do.

本発明においては、上記透明基材上に、複数の開口部を有するブラックマトリクスが配置され、上記センサ電極が、上記ブラックマトリクスに平面視上重なるように、上記ブラックマトリクス上に配置されていることが好ましい。センサ電極がブラックマトリクスに平面視上重なるように配置されていることにより、ブラックマトリクスによりセンサ電極が視認されることを抑制することができ、センサ電極による透明性の低下を効果的に抑制することができるからである。   In the present invention, a black matrix having a plurality of openings is disposed on the transparent substrate, and the sensor electrode is disposed on the black matrix so as to overlap the black matrix in plan view. Is preferred. By arranging the sensor electrode so as to overlap the black matrix in plan view, the sensor electrode can be suppressed from being visually recognized by the black matrix, and the decrease in transparency due to the sensor electrode can be effectively suppressed. Because you can.

本発明においては、透明基材が、フレキシブル性を有することが好ましい。本発明のセンサ電極基材を、フレキシブル性を有する有機EL表示装置に用いることができ、用途の幅が広がるからである。   In the present invention, the transparent substrate preferably has flexibility. This is because the sensor electrode base material of the present invention can be used for an organic EL display device having flexibility, and the range of applications is widened.

本発明においては、上記第1メッシュ電極上には絶縁層が配置され、上記絶縁層上に、上記第2メッシュ電極が配置されていても良い。   In the present invention, an insulating layer may be disposed on the first mesh electrode, and the second mesh electrode may be disposed on the insulating layer.

本発明においては、上記第1メッシュ電極および上記第2メッシュ電極は、それぞれが交差する交差領域およびそれ以外の領域である非交差領域を有しており、上記交差領域では、上記第1メッシュ電極および上記第2メッシュ電極は、絶縁層を介して積層されており、上記非交差領域では、上記第1メッシュ電極および上記第2メッシュ電極は、同一平面上に配置されていても良い。   In the present invention, each of the first mesh electrode and the second mesh electrode has an intersecting region where the first mesh electrode and the second mesh electrode intersect with each other, and a non-intersecting region which is a region other than the intersecting region. And the said 2nd mesh electrode is laminated | stacked through the insulating layer, and the said 1st mesh electrode and the said 2nd mesh electrode may be arrange | positioned on the same plane in the said non-cross | intersecting area | region.

本発明においては、上記第1メッシュ電極および上記第2メッシュ電極は、同一平面上に配置され、上記第1メッシュ電極はストライプ状に配置され、上記第2メッシュ電極は、上記第1メッシュ電極のストライプの間に非連続に複数個が配置されていても良い。   In the present invention, the first mesh electrode and the second mesh electrode are arranged on the same plane, the first mesh electrode is arranged in a stripe shape, and the second mesh electrode is the same as the first mesh electrode. A plurality may be arranged discontinuously between the stripes.

本発明においては、上記センサ電極が配置された表示領域の外周となる非表示領域に、上記ブラックマトリクスと同一材料により構成された加飾部を有することが好ましい。加飾部を有することにより、非表示領域に配置された配線や制御回路等を隠して、外観の向上を図ることができ、センサ電極基材の透明基材側に設けられる前面板保護基材に、別途加飾部を設ける必要がなくなる。また、加飾部が、ブラックマトリクスと同一材料により構成されることにより、加飾部およびブラックマトリクスを同時に形成することができる。   In the present invention, it is preferable that a non-display area, which is an outer periphery of the display area where the sensor electrode is disposed, has a decorative portion made of the same material as the black matrix. By having a decoration part, it is possible to conceal the wiring and control circuit arranged in the non-display area and improve the appearance, and the front plate protection base material provided on the transparent base side of the sensor electrode base material In addition, it is not necessary to provide a separate decorating part. Moreover, a decoration part and a black matrix can be formed simultaneously because a decoration part is comprised with the same material as a black matrix.

本発明においては、上記センサ電極により画素領域が画定され、上記画素領域に、着色部を有することが好ましい。本発明のセンサ電極基材とカラーフィルタとを一体とすることができるため、センサ電極基材とカラーフィルタとを別体として設ける場合に比べて、有機EL表示装置の厚みを薄くすることができる。   In the present invention, it is preferable that a pixel region is defined by the sensor electrode, and the pixel region has a colored portion. Since the sensor electrode base material and the color filter of the present invention can be integrated, the thickness of the organic EL display device can be reduced as compared with the case where the sensor electrode base material and the color filter are provided separately. .

本発明においては、上記透明基材に円偏光板有し、上記円偏光板上に、上記センサ電極を有することが好ましい。本発明のセンサ電極基材が円偏光板を有することにより、高性能な有機EL表示装置とすることができる。   In this invention, it is preferable to have a circularly-polarizing plate in the said transparent base material, and to have the said sensor electrode on the said circularly-polarizing plate. When the sensor electrode substrate of the present invention has a circularly polarizing plate, a high-performance organic EL display device can be obtained.

また、本発明は、上述したタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材と、有機ELパネルとを有することを特徴とするタッチパネル一体型有機EL表示装置を提供する。   The present invention also provides a touch panel integrated organic EL display device comprising the above-described sensor electrode base material for a touch panel integrated organic EL display device and an organic EL panel.

本発明によれば、タッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材が、センサ電極が第1メッシュ電極および第2メッシュ電極を有し、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極がブラックマトリクス上に配置されていることにより、センサ電極による透明性の低下を抑制することが可能なタッチパネル一体型有機EL表示装置とすることができる。また、タッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材が有機EL表示装置に用いられる部材であることから、ブラックマトリクスを比較的広く形成することができるため、センサ電極の線幅を十分に確保することができ、低抵抗化を図ることができ、高性能なタッチパネル一体型有機EL表示装置とすることができる。   According to the present invention, the sensor electrode base material for the touch panel integrated organic EL display device has the sensor electrode having the first mesh electrode and the second mesh electrode, and the first mesh electrode and the second mesh electrode are on the black matrix. By being arranged, it is possible to provide a touch panel integrated organic EL display device capable of suppressing a decrease in transparency due to the sensor electrode. In addition, since the sensor electrode base material for the touch panel integrated organic EL display device is a member used in the organic EL display device, the black matrix can be formed relatively wide, so that the sensor electrode has a sufficient line width. Thus, the resistance can be reduced, and a high-performance touch panel integrated organic EL display device can be obtained.

さらに、本発明は、第1のガラス基材上に貼着され、第1の透明基材上にセンサ電極が形成されたタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材を準備するタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材準備工程と、第2のガラス基材上に貼着された有機EL基材を準備する有機EL基材準備工程と、上記タッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材、および上記有機EL基材を貼り合わせる貼合工程とを有し、上記タッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材が、上述した上記タッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材であることを特徴とするタッチパネル一体型有機EL表示装置の製造方法を提供する。   Furthermore, the present invention provides a touch panel integrated type that prepares a sensor electrode base material for a touch panel integrated organic EL display device in which a sensor electrode is formed on a first transparent base material, which is adhered to the first glass base material. Sensor electrode base material preparing step for organic EL display device, organic EL base material preparing step for preparing organic EL base material stuck on the second glass base material, and sensor for touch panel integrated organic EL display device An electrode substrate, and a bonding step of bonding the organic EL substrate, wherein the sensor electrode substrate for the touch panel integrated organic EL display device is the sensor electrode base for the touch panel integrated organic EL display device described above. Provided is a method for manufacturing a touch panel integrated organic EL display device characterized by being a material.

本発明によれば、第1のガラス基材上に貼着されたセンサ電極基材と、第2のガラス基材上に貼着された有機EL基材とを貼り合わせる貼合工程を有することにより、熱等による各基材の収縮を抑制することができ、精度の高い位置合わせを行うことができる。また、各部材を第1のガラス基材および第2のガラス基材上にそれぞれ積層していくことにより、各部材を支持基材上に個別に形成する場合に比べて、タッチパネル一体型有機EL表示装置の厚みを薄くすることが可能となる。   According to this invention, it has the bonding process which bonds the sensor electrode base material affixed on the 1st glass base material, and the organic EL base material affixed on the 2nd glass base material. Thus, shrinkage of each substrate due to heat or the like can be suppressed, and highly accurate alignment can be performed. Further, by laminating each member on the first glass substrate and the second glass substrate, compared with the case where each member is individually formed on the support substrate, the touch panel integrated organic EL The thickness of the display device can be reduced.

本発明は、メッシュ状のセンサ電極を用いたセンサ電極基材において、センサ電極による透明性の低下を抑制し、かつセンサ電極を低抵抗化することが可能なセンサ電極基材とすることができるという効果を奏する。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can provide a sensor electrode base material using a mesh-like sensor electrode, which can suppress a decrease in transparency due to the sensor electrode and can reduce the resistance of the sensor electrode. There is an effect.

本発明のセンサ電極基材の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the sensor electrode base material of this invention. 本発明のセンサ電極基材の他の例を示す概略平面図および概略断面図である。It is the schematic plan view and schematic sectional drawing which show the other example of the sensor electrode base material of this invention. 本発明のセンサ電極基材の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the sensor electrode base material of this invention. 本発明のセンサ電極基材の他の例を示す概略平面図および概略断面図である。It is the schematic plan view and schematic sectional drawing which show the other example of the sensor electrode base material of this invention. 本発明のセンサ電極基材の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the sensor electrode base material of this invention. 本発明のセンサ電極基材の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the sensor electrode base material of this invention. 本発明のセンサ電極基材の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the sensor electrode base material of this invention. 本発明のセンサ電極基材の他の例を示す概略平面図、拡大図および概略断面図である。It is the schematic plan view which shows the other example of the sensor electrode base material of this invention, an enlarged view, and a schematic sectional drawing. 本発明のセンサ電極基材の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the sensor electrode base material of this invention. 本発明のセンサ電極基材の他の例を示す概略平面図および概略断面図である。It is the schematic plan view and schematic sectional drawing which show the other example of the sensor electrode base material of this invention. 本発明のセンサ電極基材の他の例を示す概略平面図および概略断面図である。It is the schematic plan view and schematic sectional drawing which show the other example of the sensor electrode base material of this invention. 本発明のセンサ電極を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the sensor electrode of this invention. 本発明のセンサ電極基材の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the sensor electrode base material of this invention. 本発明のセンサ電極基材の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the sensor electrode base material of this invention. 本発明のセンサ電極基材の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the sensor electrode base material of this invention. 本発明のセンサ電極基材の製造方法の一例を示す概略工程図である。It is a schematic process drawing which shows an example of the manufacturing method of the sensor electrode base material of this invention. 本発明の有機EL表示装置の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the organic electroluminescent display apparatus of this invention. 本発明の有機EL表示装置の製造方法の一例を示す概略工程図である。It is a schematic process drawing which shows an example of the manufacturing method of the organic electroluminescence display of this invention. 比較例1におけるセンサ電極の一例を示す概略平面図である。6 is a schematic plan view showing an example of a sensor electrode in Comparative Example 1. FIG.

以下、本発明のタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材、タッチパネル一体型有機EL表示装置、およびタッチパネル一体型有機EL表示装置の製造方法について説明する。   Hereinafter, the sensor electrode base material for a touch panel integrated organic EL display device, the touch panel integrated organic EL display device, and the manufacturing method of the touch panel integrated organic EL display device of the present invention will be described.

A.タッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材
本発明のタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材は、有機EL表示装置に用いられるタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材であって、透明基材と、上記透明基材の一方の表面側に配置されたセンサ電極とを有し、上記センサ電極は、上記有機EL表示装置の非画素領域と平面視上重なる領域に配置され、上記センサ電極は、メッシュ状の第1メッシュ電極、およびメッシュ状の第2メッシュ電極を有することを特徴とする部材である。
なお、以下、タッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材をセンサ電極基材と略して説明する場合がある。
A. Sensor electrode base material for touch panel integrated organic EL display device The sensor electrode base material for touch panel integrated organic EL display device of the present invention is a sensor electrode base material for touch panel integrated organic EL display device used in an organic EL display device. And a sensor electrode disposed on one surface side of the transparent substrate, and the sensor electrode is disposed in a region overlapping the non-pixel region of the organic EL display device in plan view. The sensor electrode is a member having a mesh-shaped first mesh electrode and a mesh-shaped second mesh electrode.
Hereinafter, the sensor electrode base material for a touch panel integrated organic EL display device may be abbreviated as a sensor electrode base material.

本発明のセンサ電極基材について、図を参照しながら説明する。図1(a)、(b)は、本発明のセンサ電極基材の一例を示す概略断面図である。本発明のセンサ電極基材1は、図1(a)に示すように、透明基材2と、透明基材2上に配置されたセンサ電極4とを有していても良く、図1(b)に示すように、透明基材2と、透明基材2上に配置され、複数の開口部を有するブラックマトリクス3と、ブラックマトリクス3上に配置されたセンサ電極4とを有していても良い。また、本発明のセンサ電極基材1におけるセンサ電極4は、メッシュ状の第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bを有する。   The sensor electrode substrate of the present invention will be described with reference to the drawings. 1A and 1B are schematic cross-sectional views showing an example of the sensor electrode base material of the present invention. The sensor electrode substrate 1 of the present invention may have a transparent substrate 2 and a sensor electrode 4 arranged on the transparent substrate 2 as shown in FIG. As shown in b), it has a transparent substrate 2, a black matrix 3 disposed on the transparent substrate 2 and having a plurality of openings, and a sensor electrode 4 disposed on the black matrix 3. Also good. In addition, the sensor electrode 4 in the sensor electrode substrate 1 of the present invention includes a mesh-shaped first mesh electrode 4a and a second mesh electrode 4b.

ここで、有機EL表示装置の非画素領域と平面視上重なる領域とは、本発明のセンサ電極基材を有機EL表示装置に用いた際に、有機EL表示パネルにおいて有機EL画素が配置されていない非画素領域と、平面視上重なる領域をいう。例えば、図18(c)に示すように、有機EL画素13が配置されていない非画素領域(ここでは、符号12で示されるTFTおよびTFTに接続される信号配線が配置された領域)と、平面視上重なるようにセンサ電極4が配置される。なお、図18の詳しい説明については後述するため、ここでの記載は省略する。   Here, the area overlapping the non-pixel area of the organic EL display device in a plan view is that when the sensor electrode substrate of the present invention is used in the organic EL display apparatus, the organic EL pixels are arranged in the organic EL display panel. An area that overlaps a non-pixel area in plan view. For example, as shown in FIG. 18C, a non-pixel region where the organic EL pixel 13 is not disposed (here, a region where a TFT indicated by reference numeral 12 and a signal wiring connected to the TFT are disposed), The sensor electrodes 4 are arranged so as to overlap in plan view. Since the detailed description of FIG. 18 will be described later, description thereof is omitted here.

本発明によれば、センサ電極が第1メッシュ電極および第2メッシュ電極を有し、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極がメッシュ状であることにより、有機EL表示装置における非画素領域に平面視上重なるように、センサ電極を配置することができる。これにより、センサ電極による透明性の低下を抑制することが可能なセンサ電極基材とすることができる。
また、本発明のセンサ電極基材は、有機EL表示装置に用いられる部材である。ここで、有機EL表示装置に用いられる有機EL画素は、通常、メタルマスクを用いてパターンすることにより形成されるため、各画素領域の間の間隔が比較的広いという特徴を有する。本発明の発明者等は、このような特徴に着目した。その結果、有機EL表示装置に用いられるセンサ電極基材の場合、非画素領域を比較的広く形成することができるため、センサ電極の線幅を十分に確保することができ、低抵抗化を図ることが可能なセンサ電極基材とすることができるということを発見した。
さらに、本発明のセンサ電極基材は、メッシュ状の第1メッシュ電極および第2メッシュ電極により構成されるため、例えば、フレキシブル性を有する有機EL表示装置にも好適であるという効果を奏する。
According to the present invention, the sensor electrode includes the first mesh electrode and the second mesh electrode, and the first mesh electrode and the second mesh electrode are in a mesh shape, so that the non-pixel region in the organic EL display device is planarly viewed. Sensor electrodes can be arranged to overlap. Thereby, it can be set as the sensor electrode base material which can suppress the transparency fall by a sensor electrode.
The sensor electrode substrate of the present invention is a member used for an organic EL display device. Here, since the organic EL pixel used in the organic EL display device is usually formed by patterning using a metal mask, it has a feature that the interval between the pixel regions is relatively wide. The inventors of the present invention focused on such a feature. As a result, in the case of a sensor electrode substrate used in an organic EL display device, the non-pixel region can be formed relatively wide, so that the line width of the sensor electrode can be sufficiently ensured and the resistance is reduced. It has been discovered that a possible sensor electrode substrate can be obtained.
Furthermore, since the sensor electrode base material of the present invention is composed of the mesh-shaped first mesh electrode and second mesh electrode, for example, there is an effect that it is suitable for an organic EL display device having flexibility.

以下、本発明のセンサ電極基材を構成するセンサ電極、ブラックマトリクスおよび透明基材について説明する。   Hereinafter, the sensor electrode, the black matrix, and the transparent substrate constituting the sensor electrode substrate of the present invention will be described.

1.センサ電極
本発明におけるセンサ電極は、後述する透明基材上に配置される部材であり、メッシュ状の第1メッシュ電極および第2メッシュ電極を有する部材である。
1. Sensor electrode The sensor electrode in this invention is a member arrange | positioned on the transparent base material mentioned later, and is a member which has a mesh-form 1st mesh electrode and 2nd mesh electrode.

本発明におけるセンサ電極は、メッシュ状の第1メッシュ電極、およびメッシュ状の第2メッシュ電極を有する。すなわち、本発明におけるセンサ電極は、X方向に接続され駆動電極として機能するメッシュ状の第1メッシュ電極、およびX方向と交差するY方向に接続され検出電極として機能するメッシュ状の第2メッシュ電極を有する。
例えば、後述する第1態様において、第1メッシュ電極が透明基材上に形成され、第2メッシュ電極が絶縁層を介して積層された場合は、タッチパネルの操作は透明基材側から操作するものであるので、第1メッシュ電極が検出電極となり、第2メッシュ電極が駆動電極となる。
センサ電極による位置検知が行われる原理は、次の通りである。すなわち、複数の第1メッシュ電極が、各行毎にX方向に接続され、複数の第2メッシュ電極が、各列毎にY方向に接続されているセンサ電極基材において、例えば、第1メッシュ電極に駆動電圧が印加されることにより、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の間に静電容量が形成される。このようにして静電容量が形成された面に指等が接触すると、指と接触した面との間に静電容量が形成されることになり、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極間に形成された静電容量が大きく変化する。この変化を検出することにより、指が接触した位置検知を行うことが可能となる。
The sensor electrode in the present invention has a mesh-shaped first mesh electrode and a mesh-shaped second mesh electrode. That is, the sensor electrode in the present invention is a mesh-shaped first mesh electrode connected in the X direction and functioning as a drive electrode, and a mesh-shaped second mesh electrode connected in the Y direction intersecting the X direction and functioning as a detection electrode. Have
For example, in the first aspect to be described later, when the first mesh electrode is formed on the transparent substrate and the second mesh electrode is laminated via the insulating layer, the touch panel is operated from the transparent substrate side. Therefore, the first mesh electrode serves as a detection electrode, and the second mesh electrode serves as a drive electrode.
The principle of position detection by the sensor electrode is as follows. That is, in the sensor electrode substrate in which a plurality of first mesh electrodes are connected in the X direction for each row and the plurality of second mesh electrodes are connected in the Y direction for each column, for example, the first mesh electrodes When a drive voltage is applied to the capacitor, a capacitance is formed between the first mesh electrode and the second mesh electrode. When a finger or the like comes into contact with the surface on which the capacitance is formed in this way, capacitance is formed between the surface in contact with the finger and between the first mesh electrode and the second mesh electrode. The formed capacitance changes greatly. By detecting this change, it is possible to detect the position where the finger contacts.

本発明におけるセンサ電極は、通常、ブラックマトリクスと平面視上重なるように配置される部材である。したがって、図1(a)に示すように、センサ電極4が透明基材2上に配置される場合には、通常、ブラックマトリクスを有する基材を別途設けるか、あるいは、センサ電極がブラックマトリクスとしての機能を兼ね備えていることが好ましい。ここで、センサ電極がブラックマトリクスとしての機能を兼ね備えるとは、例えば、センサ電極が、ブラックマトリクスと同様の遮光性を有することをいう。
なお、本発明のセンサ電極基材としては、通常は、図1(b)に示すように、透明基材2上に、ブラックマトリクス3を有し、ブラックマトリクス3上にセンサ電極4を有する構成をなす。
したがって、以下、センサ電極基材が、透明基材、ブラックマトリクスおよびセンサ電極を有する場合を中心に説明する。
The sensor electrode in the present invention is usually a member arranged so as to overlap the black matrix in plan view. Therefore, as shown in FIG. 1 (a), when the sensor electrode 4 is disposed on the transparent substrate 2, a substrate having a black matrix is usually provided separately, or the sensor electrode is used as a black matrix. It is preferable to have these functions. Here, the sensor electrode also has a function as a black matrix means that the sensor electrode has the same light shielding property as the black matrix, for example.
In addition, as a sensor electrode base material of this invention, normally, as shown in FIG.1 (b), it has the black matrix 3 on the transparent base material 2, and the structure which has the sensor electrode 4 on the black matrix 3 Make.
Therefore, hereinafter, the case where the sensor electrode substrate has a transparent substrate, a black matrix, and a sensor electrode will be mainly described.

(1)配置
第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の配置は、透明基材上であって、有機EL表示装置に用いる際の非画素領域に相当する領域に配置されることが好ましく、それぞれがタッチパネルの位置検知を行うことが可能な位置に配置されることが好ましい。
以下、本発明における第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の配置について、具体例を挙げて説明する。
(1) Arrangement The arrangement of the first mesh electrode and the second mesh electrode is preferably arranged in a region corresponding to a non-pixel region when used in an organic EL display device on a transparent substrate. It is preferable that the touch panel is disposed at a position where position detection can be performed.
Hereinafter, the arrangement of the first mesh electrode and the second mesh electrode in the present invention will be described with specific examples.

(a)第1態様
本態様においては、第1メッシュ電極上には絶縁層が配置され、絶縁層上に、第2メッシュ電極が配置されていても良い。
(A) 1st aspect In this aspect, the insulating layer may be arrange | positioned on the 1st mesh electrode and the 2nd mesh electrode may be arrange | positioned on the insulating layer.

本態様における第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の配置について、図を参照しながら説明する。図2(a)は、本態様における第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bを示す概略平面図であり、図2(b)は、図2(a)のA−A線断面図である。図2(a)に示すように、本態様における第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bは、センサ電極基材の厚み方向に重なるように配置することができる。このとき、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bは、図2(b)に示すように、ブラックマトリクス3上に配置され、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bの間には、絶縁層5が配置される。なお、図2(a)、(b)に示す例は、開口部を介して隣接するブラックマトリクス3上に、第1メッシュ電極4aを構成する線状の電極と第2メッシュ電極4bを構成する線状の電極とが、交互に配置された例である。
なお、図2(a)では、図を簡略化するために、透明基材、ブラックマトリクス、絶縁層を省略している。
The arrangement of the first mesh electrode and the second mesh electrode in this aspect will be described with reference to the drawings. Fig.2 (a) is a schematic plan view which shows the 1st mesh electrode 4a and the 2nd mesh electrode 4b in this aspect, FIG.2 (b) is the sectional view on the AA line of Fig.2 (a). . As shown to Fig.2 (a), the 1st mesh electrode 4a and the 2nd mesh electrode 4b in this aspect can be arrange | positioned so that it may overlap in the thickness direction of a sensor electrode base material. At this time, as shown in FIG. 2B, the first mesh electrode 4a and the second mesh electrode 4b are arranged on the black matrix 3, and between the first mesh electrode 4a and the second mesh electrode 4b, An insulating layer 5 is disposed. In the example shown in FIGS. 2A and 2B, a linear electrode and a second mesh electrode 4b constituting the first mesh electrode 4a are formed on the black matrix 3 adjacent to each other through the opening. This is an example in which linear electrodes are alternately arranged.
In FIG. 2A, the transparent base material, the black matrix, and the insulating layer are omitted in order to simplify the drawing.

本態様は、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極が厚み方向に重なるように配置された態様であり、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の形状は特に限定されない。そのため、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の形状は、上述した図2(a)に示すような形状の他にも、例えば、図3に示すような形状とすることができる。   In this aspect, the first mesh electrode and the second mesh electrode are arranged so as to overlap in the thickness direction, and the shapes of the first mesh electrode and the second mesh electrode are not particularly limited. Therefore, the shape of the first mesh electrode and the second mesh electrode can be, for example, the shape shown in FIG. 3 in addition to the shape shown in FIG.

図2および図3に示す本態様によれば、第1メッシュ電極を構成する線状の電極および第2メッシュ電極を構成する線状の電極が、ブラックマトリクス上に交互に配置されるため、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極が全体的に重ならない配置とすることができる。したがって、電界が局在化することを抑制して、センサ感度の低下を抑制することが可能である。具体的には、タッチパネルに触れた指等の導体とセンサ電極とが電気的に接続されやすくなるため、位置検知の感度の低下を抑制することが可能である。
また、通常は、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極が配置された領域と、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極のいずれも配置されない領域とで、視認性に差異が生じるという理由から、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極のいずれも配置されない領域にダミーメッシュ電極が配置される場合がある。しかしながら、図2、3に示す本態様によれば、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極のいずれもが、ブラックマトリクスに平面視上重なるように配置されているため、上述のような理由によりダミーメッシュ電極を配置する必要がないという効果を奏する。
According to this aspect shown in FIG. 2 and FIG. 3, the linear electrodes constituting the first mesh electrode and the linear electrodes constituting the second mesh electrode are alternately arranged on the black matrix. The first mesh electrode and the second mesh electrode can be arranged so as not to overlap with each other. Therefore, it is possible to suppress a decrease in sensor sensitivity by suppressing the localization of the electric field. Specifically, since a conductor such as a finger touching the touch panel and the sensor electrode are easily connected to each other, it is possible to suppress a decrease in position detection sensitivity.
In addition, since the visibility is generally different between the region where the first mesh electrode and the second mesh electrode are disposed and the region where neither the first mesh electrode nor the second mesh electrode is disposed, In some cases, a dummy mesh electrode is disposed in a region where neither the 1 mesh electrode nor the second mesh electrode is disposed. However, according to this aspect shown in FIGS. 2 and 3, since both the first mesh electrode and the second mesh electrode are arranged so as to overlap the black matrix in plan view, the dummy is formed for the reason described above. There is an effect that it is not necessary to arrange a mesh electrode.

また、本態様は、図2、3に示すように、センサ電極基材を縦断面から観察した際に、開口部を介して隣接するブラックマトリクス3上に、第1メッシュ電極4aを構成する線状の電極と第2メッシュ電極4bを構成する線状の電極とが、交互に配置されていても良く、あるいは、図4(a)、(b)に示すように、一のブラックマトリクス3上に、第1メッシュ電極4aを構成する線状の電極と第2メッシュ電極4bを構成する線状の電極とが、平面視上重なるように配置されていても良い。なお、図4(a)は、本態様に第1
メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bを示す概略平面図であり、図4(b)は、図4(a)のB−B線断面図である。また、図4(a)では、図を簡略化するために、透明基材、ブラックマトリクス、絶縁層を省略している。
2 and 3, when the sensor electrode substrate is observed from a longitudinal section, the line constituting the first mesh electrode 4a on the black matrix 3 adjacent through the opening is used. 4 and the linear electrodes constituting the second mesh electrode 4b may be arranged alternately, or, as shown in FIGS. 4A and 4B, on one black matrix 3. In addition, the linear electrode constituting the first mesh electrode 4a and the linear electrode constituting the second mesh electrode 4b may be arranged so as to overlap in plan view. FIG. 4A shows the first aspect.
It is a schematic plan view which shows the mesh electrode 4a and the 2nd mesh electrode 4b, FIG.4 (b) is a BB sectional drawing of Fig.4 (a). In FIG. 4A, the transparent base material, the black matrix, and the insulating layer are omitted in order to simplify the drawing.

本態様によれば、例えば、図4(a)、(b)に示すように、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極が、平面視上重なるように配置されていることにより、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極のメッシュピッチを小さく設計することができる。そのため、センサ電極の低抵抗化を図ることが可能となる。また、センサ電極の低抵抗化により、高周波信号での駆動が可能となり、相対的にディスプレイからのノイズに対する性能を向上させることができる。
なお、ここでいうメッシュピッチとは、センサ電極において、隣接する線状の電極の間の距離をいい、例えば、図4(a)における符号Pで示す距離をいう。
According to this aspect, for example, as shown in FIGS. 4A and 4B, the first mesh electrode and the second mesh electrode are arranged so as to overlap each other in plan view. In addition, the mesh pitch of the second mesh electrode can be designed to be small. For this reason, it is possible to reduce the resistance of the sensor electrode. In addition, since the resistance of the sensor electrode is reduced, driving with a high-frequency signal is possible, and the performance against noise from the display can be relatively improved.
The mesh pitch here refers to the distance between adjacent linear electrodes in the sensor electrode, for example, the distance indicated by the symbol P in FIG.

(b)第2態様
本態様においては、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極は、それぞれが交差する交差領域およびそれ以外の領域である非交差領域を有しており、交差領域では、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極は、絶縁層を介して積層されており、非交差領域では、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極は、同一平面上に配置されていても良い。
(B) Second Aspect In this aspect, the first mesh electrode and the second mesh electrode each have an intersecting region where they intersect and a non-intersecting region that is other than the intersecting region. The mesh electrode and the second mesh electrode are stacked via an insulating layer, and the first mesh electrode and the second mesh electrode may be arranged on the same plane in the non-intersecting region.

ここで、「第1メッシュ電極および第2メッシュ電極は、同一平面上に配置される」とは、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極が、共に同一の平面上に配置されていることを指す。したがって、例えば、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極が、透明基材の表面上に配置されている場合や、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極が、絶縁層の表面上に配置されている場合を含む。   Here, “the first mesh electrode and the second mesh electrode are arranged on the same plane” means that the first mesh electrode and the second mesh electrode are both arranged on the same plane. . Therefore, for example, when the first mesh electrode and the second mesh electrode are disposed on the surface of the transparent substrate, or the first mesh electrode and the second mesh electrode are disposed on the surface of the insulating layer. Including cases.

本態様における第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の配置について、図を参照しながら説明する。図5は、本態様における第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bを示す概略平面図である。図5に示すように、本態様における第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bは、それぞれ交差するように延設され、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bが交差する交差領域では、ブラックマトリクス3上に、絶縁層5を介して第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bが重なるように配置することができる。また、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bは、ブラックマトリクス3上に配置することができる。
なお、図5では、図を簡略化するために、透明基材、ブラックマトリクス、絶縁層を省略している。
The arrangement of the first mesh electrode and the second mesh electrode in this aspect will be described with reference to the drawings. FIG. 5 is a schematic plan view showing the first mesh electrode 4a and the second mesh electrode 4b in this embodiment. As shown in FIG. 5, the first mesh electrode 4a and the second mesh electrode 4b in the present embodiment extend so as to intersect with each other, and in the intersecting region where the first mesh electrode 4a and the second mesh electrode 4b intersect, On the black matrix 3, it can arrange | position so that the 1st mesh electrode 4a and the 2nd mesh electrode 4b may overlap via the insulating layer 5. FIG. The first mesh electrode 4 a and the second mesh electrode 4 b can be disposed on the black matrix 3.
In FIG. 5, the transparent base material, the black matrix, and the insulating layer are omitted in order to simplify the drawing.

本態様においては、少なくとも第1メッシュ電極および第2メッシュ電極が交差する交差領域において、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極が絶縁層を介して厚み方向に重なるように配置されていれば良い。
以下、図を参照しながら説明する。
In this aspect, at least in the intersecting region where the first mesh electrode and the second mesh electrode intersect, the first mesh electrode and the second mesh electrode may be disposed so as to overlap in the thickness direction via the insulating layer.
Hereinafter, description will be given with reference to the drawings.

図6(a)は、センサ電極基材を、例えば、図5のC−C線断面から観察した概略断面図に相当し、図6(b)は、例えば、図5のD−D線断面から観察した概略断面図に相当する。本態様においては、図6(a)、(b)に示すように、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bが交差する交差領域のみに、島状に絶縁層5が配置されていても良い。   6A corresponds to a schematic cross-sectional view of the sensor electrode substrate observed from, for example, the CC cross section of FIG. 5, and FIG. 6B shows, for example, a cross-sectional view taken along the DD line of FIG. This corresponds to the schematic cross-sectional view observed from the above. In this embodiment, as shown in FIGS. 6A and 6B, even if the insulating layer 5 is arranged in an island shape only in the intersecting region where the first mesh electrode 4a and the second mesh electrode 4b intersect, good.

また、図7(a)は、センサ電極基材を、例えば、図5のC−C線断面から観察した概略断面図に相当し、図7(b)は、例えば、図5のD−D線断面から観察した概略断面図に相当する。本態様においては、図7(a)、(b)に示すように、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bが交差する交差領域以外の領域を非交差領域としたとき、非交差領域では、絶縁層5上に、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bが配置され、交差領域では、ブラックマトリクス3上に配置された絶縁層5を介して、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bが厚み方向に重なるように配置されていても良い。この場合、交差領域でブラックマトリクス3および絶縁層5の間に配置された第1メッシュ電極4aは、非交差領域において絶縁層5上に配置された第1メッシュ電極4aと、絶縁層5に設けられたスルーホールを介して導通する。   7A corresponds to a schematic cross-sectional view of the sensor electrode base material observed from, for example, a cross-section taken along the line CC of FIG. 5, and FIG. 7B illustrates, for example, DD of FIG. It corresponds to a schematic cross-sectional view observed from a line cross section. In this embodiment, as shown in FIGS. 7A and 7B, when a region other than the intersecting region where the first mesh electrode 4a and the second mesh electrode 4b intersect is defined as a non-intersecting region, The first mesh electrode 4a and the second mesh electrode 4b are disposed on the insulating layer 5, and in the intersecting region, the first mesh electrode 4a and the second mesh electrode are disposed via the insulating layer 5 disposed on the black matrix 3. The electrodes 4b may be arranged so as to overlap in the thickness direction. In this case, the first mesh electrode 4a disposed between the black matrix 3 and the insulating layer 5 in the intersecting region is provided on the insulating layer 5 with the first mesh electrode 4a disposed on the insulating layer 5 in the non-intersecting region. Conducted through the formed through hole.

本態様によれば、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の配置が、例えば、図6(a)、(b)や図7(a)、(b)のような配置である場合には、センサ電極基材の初期容量値を、ダミーメッシュ電極の挿入や、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の間の距離や形状等に応じて適宜調整することができる。すなわち、初期容量値の調整幅が向上するという効果を有する。
また、通常は、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極が配置された領域と、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極のいずれも配置されない領域とで、可視光の反射率差や透過率差が生じ、視認性に差異が生じるという理由から、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極のいずれも配置されない領域にダミーメッシュ電極が配置される場合がある。しかしながら、図6(a)、(b)および図7(a)、(b)に示す本態様によれば、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極のいずれもが、ブラックマトリクスに平面視上重なるように配置されているため、上述のような理由によりダミーメッシュ電極を配置する必要がないという効果を奏する。
According to this aspect, when the arrangement of the first mesh electrode and the second mesh electrode is, for example, an arrangement as shown in FIGS. 6A, 6B, 7A, 7B, The initial capacitance value of the sensor electrode base material can be appropriately adjusted according to the insertion of the dummy mesh electrode, the distance between the first mesh electrode and the second mesh electrode, the shape, and the like. That is, there is an effect that the adjustment range of the initial capacitance value is improved.
Also, normally, there is a difference in visible light reflectance and transmittance between a region where the first mesh electrode and the second mesh electrode are arranged and a region where neither the first mesh electrode nor the second mesh electrode is arranged. In some cases, the dummy mesh electrode is arranged in a region where neither the first mesh electrode nor the second mesh electrode is arranged because the visibility is different. However, according to this aspect shown in FIGS. 6A, 6B, 7A, and 7B, both the first mesh electrode and the second mesh electrode overlap the black matrix in plan view. Therefore, there is an effect that it is not necessary to arrange the dummy mesh electrode for the reason described above.

さらに、本態様によれば、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の配置が、例えば、図6(a)、(b)のような配置である場合には、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極によるコンタクト面積を大きくとることができるため、コンタクト性の高いセンサ電極基材とすることができる。さらに、本態様によれば、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の配置が、例えば、図7(a)、(b)のような配置である場合には、島状の絶縁層を必要とせず、スルーホールを小さくすることができるため、このような設計による視認性の低下を抑制することができる。   Furthermore, according to this aspect, when the arrangement of the first mesh electrode and the second mesh electrode is, for example, the arrangement as shown in FIGS. 6A and 6B, the first mesh electrode and the second mesh electrode. Since the contact area by an electrode can be taken large, it can be set as a sensor electrode base material with high contact property. Furthermore, according to this aspect, when the arrangement of the first mesh electrode and the second mesh electrode is, for example, as shown in FIGS. 7A and 7B, the island-like insulating layer is required. In addition, since the through hole can be made small, it is possible to suppress a decrease in visibility due to such a design.

(c)第3態様
本態様においては、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極は、同一平面上に配置され、第1メッシュ電極はストライプ状に配置され、第2メッシュ電極は、第1メッシュ電極のストライプの間に非連続に複数個が配置されていても良い。
(C) Third Aspect In this aspect, the first mesh electrode and the second mesh electrode are arranged on the same plane, the first mesh electrode is arranged in a stripe shape, and the second mesh electrode is the first mesh electrode. A plurality of them may be discontinuously arranged between the stripes.

ここで、「センサ電極がストライプ状に配置される」とは、センサ電極を全体的かつ大局的に見た場合に、センサ電極がストライプ状に延伸して形成されることを示す。したがって、第1メッシュ電極がストライプ状に配置されるとは、第1メッシュ電極が、ストライプ状に導通可能に形成されていることを示す。
また、「第2メッシュ電極は、第1メッシュ電極のストライプの間に非連続に複数個が配置される」とは、上述のようにストライプ状に配置された第1メッシュ電極が、所定の間隔を空けて並列に配置されている場合に、隣接するストライプ状の第1メッシュ電極の間に、第1メッシュ電極のストライプの延伸方向に直交する方向に延びた第2メッシュ電極が複数個配置されることを示す。具体的には、例えば、図8(a)に示すように、ストライプ状の第1メッシュ電極4aの間に、複数個の第2メッシュ電極4bが非連続に配置されていることを指す。なお、図8について、以下詳細に説明する。
Here, “the sensor electrodes are arranged in a stripe shape” indicates that the sensor electrodes are formed by extending in a stripe shape when the sensor electrodes are viewed as a whole and globally. Therefore, the arrangement of the first mesh electrodes in a stripe shape means that the first mesh electrodes are formed in a stripe shape so as to be conductive.
Further, “a plurality of second mesh electrodes are discontinuously arranged between the stripes of the first mesh electrode” means that the first mesh electrodes arranged in a stripe shape as described above have a predetermined interval. Are arranged in parallel with each other, a plurality of second mesh electrodes extending in the direction perpendicular to the stripe extending direction of the first mesh electrode are arranged between the adjacent first mesh electrodes in the stripe shape. Indicates that Specifically, for example, as shown in FIG. 8A, it indicates that a plurality of second mesh electrodes 4b are discontinuously arranged between the striped first mesh electrodes 4a. FIG. 8 will be described in detail below.

本態様における第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の配置について、図を参照しながら説明する。図8(a)は、本態様における第1メッシュ電極4a、第2メッシュ電極4bおよび配線Wを示す概略平面図であり、図8(b)は図8(a)における領域Rの拡大図であり、図8(c)は、図8(b)のE−E線断面図である。図8(a)〜(c)に示すように、本態様における第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bは、同一平面上、すなわちブラックマトリクス3上に、並列に配置することができる。また、第1メッシュ電極4aはストライプ状に配置され、第1メッシュ電極4aのストライプの間には、第2メッシュ電極4bを、非連続に複数個配置することができる。また、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bが、図8(a)〜(c)に示すように配置されている場合、第2メッシュ電極4bは、配線Wにより接続され、このとき、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bのいずれもが配置されていない領域には、ダミーメッシュ電極4cが配置されていても良い。
なお、ダミーメッシュ電極については後述するため、ここでの詳しい説明は省略する。また、図8(a)では、図を簡略化するために、ダミーメッシュ電極を省略しており、図8(b)では、透明基材およびブラックマトリクスを省略している。
The arrangement of the first mesh electrode and the second mesh electrode in this aspect will be described with reference to the drawings. FIG. 8A is a schematic plan view showing the first mesh electrode 4a, the second mesh electrode 4b, and the wiring W in this embodiment, and FIG. 8B is an enlarged view of the region R in FIG. 8A. FIG. 8C is a cross-sectional view taken along the line EE of FIG. As shown in FIGS. 8A to 8C, the first mesh electrode 4 a and the second mesh electrode 4 b in this aspect can be arranged in parallel on the same plane, that is, on the black matrix 3. The first mesh electrodes 4a are arranged in a stripe shape, and a plurality of second mesh electrodes 4b can be arranged discontinuously between the stripes of the first mesh electrode 4a. Moreover, when the 1st mesh electrode 4a and the 2nd mesh electrode 4b are arrange | positioned as shown to Fig.8 (a)-(c), the 2nd mesh electrode 4b is connected by the wiring W, At this time, A dummy mesh electrode 4c may be disposed in a region where neither the first mesh electrode 4a nor the second mesh electrode 4b is disposed.
Since the dummy mesh electrode will be described later, a detailed description thereof is omitted here. Further, in FIG. 8A, the dummy mesh electrode is omitted to simplify the drawing, and in FIG. 8B, the transparent base material and the black matrix are omitted.

本態様によれば、例えば、図8(a)〜(c)に示すように、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極が、同一平面上に配置されることにより、製造工程において、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極を同時に形成することが可能となる。そのため、製造工程の削減し、コスト削減を図ることが可能となる。また、本態様においては、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極が、同一平面上に配置されていることにより、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極のメッシュピッチを小さく設計することができる。そのため、センサ電極の低抵抗化を図ることが可能となる。また、センサ電極の低抵抗化により、高周波信号での駆動が可能となり、相対的にディスプレイからのノイズに対する性能を向上させることができる。   According to this aspect, for example, as shown in FIGS. 8A to 8C, the first mesh electrode and the second mesh electrode are arranged on the same plane, whereby the first mesh electrode is formed in the manufacturing process. The electrode and the second mesh electrode can be formed simultaneously. Therefore, it is possible to reduce manufacturing steps and reduce costs. Moreover, in this aspect, since the 1st mesh electrode and the 2nd mesh electrode are arrange | positioned on the same plane, the mesh pitch of a 1st mesh electrode and a 2nd mesh electrode can be designed small. For this reason, it is possible to reduce the resistance of the sensor electrode. In addition, since the resistance of the sensor electrode is reduced, driving with a high-frequency signal is possible, and the performance against noise from the display can be relatively improved.

また、本態様においては、第1メッシュ電極を全体的または大局的に見た場合の形状をストライプ状とすることができるが、その際、例えば図9に示すように、第1メッシュ電極4aが、凹凸形状を有するストライプ状に配置されていても良い。この場合、第1メッシュ電極4aの凸部を、第2メッシュ電極4bが囲うような形状で配置されていることが好ましい。また、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bのいずれもが配置されていない領域には、ダミーメッシュ電極が配置されていても良い。
なお、図9では、図を簡略化するために、ダミーメッシュ電極を省略している。
Further, in this aspect, the shape when the first mesh electrode is viewed as a whole or globally can be a stripe shape. In this case, for example, as shown in FIG. The stripes may be arranged in a concavo-convex shape. In this case, it is preferable that the convex portions of the first mesh electrode 4a are arranged in a shape that the second mesh electrode 4b surrounds. A dummy mesh electrode may be disposed in a region where neither the first mesh electrode 4a nor the second mesh electrode 4b is disposed.
In FIG. 9, dummy mesh electrodes are omitted for the sake of simplicity.

(d)第4態様
本態様においては、第1メッシュ電極を構成する複数の線状の電極および第2メッシュ電極を構成する複数の線状の電極の少なくとも一方を、ストライプ状に配置することができる。
(D) Fourth Aspect In this aspect, at least one of the plurality of linear electrodes constituting the first mesh electrode and the plurality of linear electrodes constituting the second mesh electrode may be arranged in a stripe shape. it can.

ここでの「センサ電極を構成する複数の線状の電極をストライプ状に配置する」とは、センサ電極を構成する複数の線状の電極を、互いに交差した網目状ではなく、並列に配列したストライプ状に配置することを指す。具体的には、図10(a)に示す第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bのような形状を指す。   Here, “arranging the plurality of linear electrodes constituting the sensor electrode in a stripe” means that the plurality of linear electrodes constituting the sensor electrode are arranged in parallel rather than in a mesh shape intersecting each other. Refers to arranging in stripes. Specifically, it refers to shapes such as the first mesh electrode 4a and the second mesh electrode 4b shown in FIG.

本態様における第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の配置について、図を参照しながら説明する。図10(a)は、本態様における第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bを示す概略平面図であり、図10(b)は、図10(a)のF−F線断面図である。図10(a)、(b)に示すように、第1メッシュ電極4aを構成する複数の線状の電極が、X方向にストライプ状に並列に配列され、第2メッシュ電極4bを構成する複数の線状の電極が、X方向に直交するY方向にストライプ状に並列に配列されるように配置されていても良い。このとき、図10(b)に示すように、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bは、ブラックマトリクス3と平面視上重なるように配置される。
なお、図10(a)では、図を簡略化するために、透明基材、ブラックマトリクス、絶縁層を省略している。
The arrangement of the first mesh electrode and the second mesh electrode in this aspect will be described with reference to the drawings. FIG. 10A is a schematic plan view showing the first mesh electrode 4a and the second mesh electrode 4b in this embodiment, and FIG. 10B is a cross-sectional view taken along the line FF of FIG. . As shown in FIGS. 10A and 10B, a plurality of linear electrodes constituting the first mesh electrode 4a are arranged in parallel in a stripe shape in the X direction, and a plurality of the second mesh electrode 4b are constituted. These linear electrodes may be arranged in parallel in a stripe shape in the Y direction perpendicular to the X direction. At this time, as shown in FIG. 10B, the first mesh electrode 4a and the second mesh electrode 4b are arranged so as to overlap the black matrix 3 in plan view.
In FIG. 10A, the transparent base material, the black matrix, and the insulating layer are omitted in order to simplify the drawing.

また、図11(a)は、本態様における第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bを示す概略平面図であり、図11(b)は、図11(a)のG−G線断面図である。図11(a)、(b)に示すように、第1メッシュ電極4aを構成する複数の線状の電極が、X方向にストライプ状に並列に配列され、第2メッシュ電極4bを構成する複数の線状の電極が、X方向に直交するY方向に梯子状に延設されるように配置されていても良い。このとき、図11(b)に示すように、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bは、ブラックマトリクス3と平面視上重なるように配置される。
なお、図11(a)では、図を簡略化するために、透明基材、ブラックマトリクス、絶縁層を省略している。
Moreover, Fig.11 (a) is a schematic plan view which shows the 1st mesh electrode 4a and the 2nd mesh electrode 4b in this aspect, FIG.11 (b) is the GG sectional view taken on the line of Fig.11 (a). It is. As shown in FIGS. 11 (a) and 11 (b), a plurality of linear electrodes constituting the first mesh electrode 4a are arranged in parallel in a stripe shape in the X direction to constitute a second mesh electrode 4b. These linear electrodes may be arranged so as to extend in a ladder shape in the Y direction orthogonal to the X direction. At this time, as shown in FIG. 11B, the first mesh electrode 4a and the second mesh electrode 4b are arranged so as to overlap the black matrix 3 in plan view.
In FIG. 11A, the transparent base material, the black matrix, and the insulating layer are omitted in order to simplify the drawing.

(2)構成
本発明におけるセンサ電極は、上述のような態様に応じて様々な形状に設計することができ、特に限定されない。例えば、センサ電極を構成する線状の電極が、本発明のセンサ電極基材の長さ方向に対して、図2、3等に示されるように、斜め方向(ダイヤ方向)に延伸していても良く、図10、11に示されるように、縦方向および横方向に延伸していても良い。
(2) Configuration The sensor electrode in the present invention can be designed in various shapes according to the above-described aspect, and is not particularly limited. For example, the linear electrode constituting the sensor electrode extends in an oblique direction (diamond direction) as shown in FIGS. 2 and 3 with respect to the length direction of the sensor electrode base material of the present invention. Alternatively, as shown in FIGS. 10 and 11, the film may be stretched in the vertical direction and the horizontal direction.

本発明におけるセンサ電極の線幅は、センサ電極を有機EL表示装置における非画素領域に配置して、表示領域からセンサ電極が視認されることを抑制することができるとともに、センサ電極の低抵抗を図ることができる程度であることが好ましい。このようなセンサ電極の線幅は、上述のような態様に応じて適宜調整することができるが、例えば、1μm〜15μmの範囲内であることが好ましく、中でも2μm〜7μmの範囲内であることが好ましく、特に2μm〜5μmの範囲内であることが好ましい。本発明におけるセンサ電極の線幅が上述のような範囲内であることにより、センサ電極をブラックマトリクス上に配置して、センサ電極による透明性の低下を抑制することが可能となる。また、センサ電極の線幅が上述した範囲を満たすことにより、センサ電極の低抵抗化を図ることが可能となる。
なお、ここでの線幅とは、センサ電極の延伸方向に直交する方向の幅をいう。したがって、例えば、図12における符号Wで示す距離をいう。
The line width of the sensor electrode in the present invention can suppress the sensor electrode from being visually recognized from the display region by arranging the sensor electrode in the non-pixel region in the organic EL display device, and reduce the low resistance of the sensor electrode. It is preferable that it can be achieved. The line width of such a sensor electrode can be appropriately adjusted according to the above-described aspect, but is preferably in the range of 1 μm to 15 μm, for example, and in particular in the range of 2 μm to 7 μm. Is preferable, and it is particularly preferable to be in the range of 2 μm to 5 μm. When the line width of the sensor electrode in the present invention is within the above-described range, it is possible to arrange the sensor electrode on the black matrix and suppress a decrease in transparency due to the sensor electrode. In addition, when the line width of the sensor electrode satisfies the above-described range, the resistance of the sensor electrode can be reduced.
Here, the line width means a width in a direction orthogonal to the extending direction of the sensor electrode. Therefore, for example, the distance indicated by the symbol W in FIG.

本発明におけるセンサ電極の厚みは、上述したセンサ電極の態様等に応じて適宜調整することができるが、例えば、0.1μm〜0.5μmの範囲内であることが好ましく、中でも0.15μm〜0.35μmの範囲内であることが好ましく、特に0.2μm〜0.3μmの範囲内であることが好ましい。センサ電極の厚みが上記範囲内であることにより、本発明のセンサ電極基材に所定のフレキシブル性を付与することが可能となる。具体的には、本発明のセンサ電極基材を屈曲させた際に、センサ電極が透明基材から剥がれたり、または割れが発生することを抑制することができる。   The thickness of the sensor electrode in the present invention can be adjusted as appropriate according to the above-described aspect of the sensor electrode, but is preferably in the range of 0.1 μm to 0.5 μm, for example, 0.15 μm to It is preferably within the range of 0.35 μm, and particularly preferably within the range of 0.2 μm to 0.3 μm. When the thickness of the sensor electrode is within the above range, predetermined flexibility can be imparted to the sensor electrode substrate of the present invention. Specifically, when the sensor electrode substrate of the present invention is bent, the sensor electrode can be prevented from peeling off from the transparent substrate or cracking.

本発明におけるセンサ電極のピッチは、センサ電極をブラックマトリクス上に配置して、表示領域からセンサ電極が視認されることを抑制することができる程度であることが好ましい。したがって、本発明におけるセンサ電極のピッチは、本発明のセンサ電極基材を用いる有機EL表示装置の画素の大きさ等に応じて適宜調整することができる。例えば、図2(a)や図3(a)に示すように、第1メッシュ電極4aを構成する線状の電極および第2メッシュ電極4bを構成する線状の電極の組み合わせで囲われる領域が、1つの画素領域となる設計の場合、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極のピッチは、例えば、30μm〜500μmの範囲内であることが好ましく、中でも30μm〜90μmの範囲内であることが好ましく、特に60μm〜90μmの範囲内であることが好ましい。また、例えば、図4(a)、図5および図8(a)に示すように、第1メッシュ電極4aを構成する線状の電極および第2メッシュ電極4bを構成する線状の電極で囲われる領域が、1つの画素領域となる設計の場合、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極のピッチは、例えば、30μm〜500μmの範囲内であることが好ましく、中でも30μm〜150μmの範囲内であることが好ましく、特に30μm〜90μmの範囲内であることが好ましい。本発明におけるセンサ電極のピッチが上記範囲内であることにより、センサ電極をブラックマトリクス上に配置して、センサ電極による透明性の低下を抑制することが可能となる。また、センサ電極のピッチが上述した範囲を満たすことにより、センサ電極の低抵抗化を図ることが可能となる。
なお、ここでのピッチとは、隣接するセンサ電極の中心線の間の距離をいう。したがって、例えば、図12における符号Pで示す距離をいう。
The pitch of the sensor electrodes in the present invention is preferably such that the sensor electrodes can be arranged on the black matrix so that the sensor electrodes can be prevented from being visually recognized from the display area. Therefore, the pitch of the sensor electrodes in the present invention can be appropriately adjusted according to the size of the pixel of the organic EL display device using the sensor electrode substrate of the present invention. For example, as shown in FIGS. 2A and 3A, a region surrounded by a combination of a linear electrode constituting the first mesh electrode 4a and a linear electrode constituting the second mesh electrode 4b is formed. In the case of a design that forms one pixel region, the pitch of the first mesh electrode and the second mesh electrode is preferably in the range of 30 μm to 500 μm, for example, and more preferably in the range of 30 μm to 90 μm. In particular, it is preferably in the range of 60 μm to 90 μm. Further, for example, as shown in FIGS. 4 (a), 5 and 8 (a), a linear electrode constituting the first mesh electrode 4a and a linear electrode constituting the second mesh electrode 4b are surrounded. In the case of a design in which the region to be formed is one pixel region, the pitch of the first mesh electrode and the second mesh electrode is preferably in the range of 30 μm to 500 μm, for example, and in particular in the range of 30 μm to 150 μm. It is particularly preferable that the thickness is in the range of 30 μm to 90 μm. When the pitch of the sensor electrodes in the present invention is within the above range, it is possible to arrange the sensor electrodes on the black matrix and suppress the decrease in transparency due to the sensor electrodes. In addition, when the pitch of the sensor electrodes satisfies the above-described range, the resistance of the sensor electrodes can be reduced.
The pitch here refers to the distance between the center lines of adjacent sensor electrodes. Therefore, for example, the distance indicated by the symbol P in FIG.

本発明においては、センサ電極をメッシュ状とすることにより、ITO等の透明導電膜に比べてシート抵抗を低くすることができる。具体的なセンサ電極のシート抵抗は、上述のようなセンサ電極の態様に応じて適宜変化するため、特に限定されないが、例えば、0.5Ω/□〜10Ω/□の範囲内であることが好ましく、中でも0.5Ω/□〜7Ω/□の範囲内であることが好ましく、特に、0.5Ω/□〜3Ω/□の範囲内であることが好ましい。センサ電極のシート抵抗が上記範囲内であることにより、タッチパネルの位置検知の感度を向上させることが可能となる。   In this invention, sheet resistance can be made low by making a sensor electrode into mesh shape compared with transparent conductive films, such as ITO. The sheet resistance of the specific sensor electrode is not particularly limited because it appropriately changes depending on the aspect of the sensor electrode as described above, but is preferably in the range of 0.5Ω / □ to 10Ω / □, for example. Of these, the range of 0.5Ω / □ to 7Ω / □ is preferable, and the range of 0.5Ω / □ to 3Ω / □ is particularly preferable. When the sheet resistance of the sensor electrode is within the above range, the sensitivity for detecting the position of the touch panel can be improved.

本発明におけるセンサ電極に用いられる材料としては、例えば、銀、金、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体、あるいはこれらのいずれかを主体とする合金等が挙げられる。金属合金としては、APCと称される銀、パラジウム、銅の合金が汎用される。また、金属の複合体としては、MAMと称されるモリブデン、アルミニウム、モリブデンの3層構造体等も適用可能である。さらに、例えばPEDOT等の樹脂材料に上記金属を加えた導電性高分子を用いることもできる。   Examples of the material used for the sensor electrode in the present invention include silver, gold, chromium, platinum, aluminum alone, or an alloy mainly composed of any of these. As the metal alloy, an alloy of silver, palladium and copper called APC is widely used. As the metal composite, a three-layer structure of molybdenum, aluminum, and molybdenum called MAM is also applicable. Furthermore, for example, a conductive polymer obtained by adding the above metal to a resin material such as PEDOT can be used.

また、本発明におけるセンサ電極は、後述するブラックマトリクスとしての機能を兼ね備えていても良い。具体的には、図1(a)に示すように、透明基材2上にセンサ電極4が配置され、ブラックマトリクスを有しない場合には、センサ電極がブラックマトリクスとしての機能、すなわち、所定の遮光性を有することが好ましい。センサ電極に所定の遮光性を付与することが可能な材料としては、例えば、銀、金、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体、あるいはこれらのいずれかを主体とする合金等が挙げられる。金属合金としては、APCと称される銀、パラジウム、銅の合金等が挙げられる。また、本発明におけるセンサ電極は、センサ電極基材における透明基材側の面、またはセンサ電極基材における透明基材とは反対側の面を黒化処理しても良い。黒化処理したセンサ電極の表面において、所望の遮光性を得ることができ、さらに光の反射を抑制することが可能となる。
なお、上述した所定の遮光性については、後述するブラックマトリクスの項に記載する内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
In addition, the sensor electrode in the present invention may have a function as a black matrix described later. Specifically, as shown in FIG. 1A, when the sensor electrode 4 is disposed on the transparent substrate 2 and does not have a black matrix, the sensor electrode functions as a black matrix, that is, a predetermined It preferably has light shielding properties. Examples of the material capable of imparting a predetermined light shielding property to the sensor electrode include silver, gold, chromium, platinum, aluminum alone, or an alloy mainly composed of any of these. Examples of the metal alloy include an alloy of silver, palladium, and copper called APC. Moreover, the sensor electrode in this invention may blacken the surface at the side of the transparent base material in a sensor electrode base material, or the surface on the opposite side to the transparent base material in a sensor electrode base material. A desired light shielding property can be obtained on the surface of the sensor electrode subjected to blackening treatment, and reflection of light can be further suppressed.
Note that the predetermined light-shielding property described above can be the same as the content described in the section of the black matrix described later, and thus description thereof is omitted here.

センサ電極の形成方法としては、例えば、メッシュ状の第1メッシュ電極および第2メッシュ電極を形成することが可能な方法であれば特に限定されない。具体的には、センサ電極を構成する導電性材料を用いて導電層を形成し、次に、導電層上にレジストパターンを形成して、当該レジストパターンをマスクとして導電層をエッチングする方法が挙げられる。このとき、導電層を形成する方法には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。   The method for forming the sensor electrode is not particularly limited as long as it is a method capable of forming a mesh-shaped first mesh electrode and second mesh electrode, for example. Specifically, there is a method of forming a conductive layer using a conductive material constituting the sensor electrode, then forming a resist pattern on the conductive layer, and etching the conductive layer using the resist pattern as a mask. It is done. At this time, as a method for forming the conductive layer, for example, a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, or an ion plating method can be used.

(3)ダミーメッシュ電極
本発明においては、センサ電極が、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の他に、必要に応じてダミーメッシュ電極を有していても良い。
(3) Dummy Mesh Electrode In the present invention, the sensor electrode may have a dummy mesh electrode as necessary in addition to the first mesh electrode and the second mesh electrode.

本発明におけるダミーメッシュ電極は、通常、センサ電極と電気的に接続されていない。   The dummy mesh electrode in the present invention is usually not electrically connected to the sensor electrode.

例えば図5、図8(a)に示すように、ダミーメッシュ電極4cは、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bの少なくともいずれかが形成されていない領域に配置することができる。ダミーメッシュ電極が配置されることにより、センサ電極が配置された領域とそうでない領域とでの可視光の反射率差や透過率差を最小限に抑え、両領域での視認性の差異を抑えることができる。また、ダミーメッシュ電極を設けることにより、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の間の初期容量値の調整幅を向上することができる。   For example, as shown in FIGS. 5 and 8A, the dummy mesh electrode 4c can be disposed in a region where at least one of the first mesh electrode 4a and the second mesh electrode 4b is not formed. By disposing the dummy mesh electrode, the difference in the visible light reflectance and transmittance between the area where the sensor electrode is disposed and the area where the sensor electrode is not disposed is minimized, and the difference in visibility between both areas is suppressed. be able to. Further, by providing the dummy mesh electrode, the adjustment range of the initial capacitance value between the first mesh electrode and the second mesh electrode can be improved.

ダミーメッシュ電極の構成等については、上述した第1メッシュ電極および第2メッシュ電極と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   The configuration and the like of the dummy mesh electrode can be the same as those of the first mesh electrode and the second mesh electrode described above, and thus description thereof is omitted here.

2.ブラックマトリクス
本発明におけるブラックマトリクスは、後述する透明基材上に配置されることができ、複数の開口部を有する部材である。
2. Black matrix The black matrix in this invention is a member which can be arrange | positioned on the transparent base material mentioned later, and has a some opening part.

本発明におけるブラックマトリクスは、本発明のセンサ電極基材を有機EL表示装置に用いる際に、画素領域が配置された表示領域以外の非表示領域に相当する領域に配置される部材である。また、本発明におけるブラックマトリクス上には、上述したセンサ電極が配置されるため、ブラックマトリクスは所定の遮光性を有し、センサ電極を隠すことができることが好ましい。   The black matrix in the present invention is a member disposed in a region corresponding to a non-display region other than the display region in which the pixel region is disposed when the sensor electrode substrate of the present invention is used in an organic EL display device. In addition, since the above-described sensor electrode is arranged on the black matrix in the present invention, it is preferable that the black matrix has a predetermined light shielding property and can hide the sensor electrode.

ここで、所定の遮光性とは、本発明のセンサ電極基材を有機EL表示装置に用いた際に、装置の外観からブラックマトリクス上に配置されたセンサ電極を隠すことができる程度の遮光性であることが好ましい。具体的には、ブラックマトリクスの厚みが1.5μmのときの光学濃度が、4以上であることが好ましく、中でも4.5以上であることが好ましく、特に7.5以上であることが好ましい。なお、ここでの光学濃度とはOptical Density(OD)値をいう。また、光学濃度にて表わされるOD値は、垂直入射した入射光の強度Iinと垂直に透過した透過光の強度Ioutとを用いた「log10(Iin/Iout)」によって特定される。本発明においては、大塚電子株式会社製 顕微分光光度計LCF7000を用いて基本レファレンスおよびODレファレンスから分光透過率を測定し、得られた測定値を光学濃度に換算することにより算出した。 また、本発明におけるブラックマトリクスの上記OD値は、ブラックマトリクスの構成材料の組成を調整することにより達成することができる。 Here, the predetermined light-shielding property means that the sensor electrode disposed on the black matrix can be hidden from the appearance of the device when the sensor electrode substrate of the present invention is used in an organic EL display device. It is preferable that Specifically, the optical density when the thickness of the black matrix is 1.5 μm is preferably 4 or more, more preferably 4.5 or more, and particularly preferably 7.5 or more. Here, the optical density refers to an optical density (OD) value. Further, the OD value represented by the optical density is specified by “log 10 (I in / I out )” using the intensity I in of the incident light incident vertically and the intensity I out of the transmitted light transmitted vertically. The In the present invention, the spectral transmittance was measured from the basic reference and the OD reference using a microspectrophotometer LCF7000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., and the obtained measured value was calculated by converting it into an optical density. Further, the OD value of the black matrix in the present invention can be achieved by adjusting the composition of the constituent material of the black matrix.

本発明におけるブラックマトリクスの線幅は、上述したセンサ電極を配置することができる程度であれば良く、本発明のセンサ電極基材が用いられる有機EL表示装置の画素領域の大きさ等に応じて適宜調整される。例えば、ブラックマトリクスの線幅が、センサ電極の線幅と同等またはそれ以上であることが好ましい。具体的には、5μm〜15μmの範囲内であることが好ましく、中でも5μm〜12μmの範囲内であることが好ましく、特に5μm〜9μmの範囲内であることが好ましい。ブラックマトリクスの線幅が上記範囲内であることにより、センサ電極をブラックマトリクス上に良好に配置することができ、また、その際のセンサ電極も所定の線幅とすることが可能となる。   The line width of the black matrix in the present invention only needs to be such that the above-described sensor electrode can be disposed, and depends on the size of the pixel region of the organic EL display device in which the sensor electrode substrate of the present invention is used. Adjust as appropriate. For example, the line width of the black matrix is preferably equal to or greater than the line width of the sensor electrode. Specifically, it is preferably within a range of 5 μm to 15 μm, more preferably within a range of 5 μm to 12 μm, and particularly preferably within a range of 5 μm to 9 μm. When the line width of the black matrix is within the above range, the sensor electrode can be favorably arranged on the black matrix, and the sensor electrode at that time can also have a predetermined line width.

本発明におけるブラックマトリクスの厚みは、上述した遮光性を実現することができる程度であれば良く、特に限定されない。具体的には、ブラックマトリクスの厚みは、0.8μm〜3μmの範囲内であることが好ましく、中でも1μm〜2μmの範囲内であることが好ましく、特に1μm〜1.5μmの範囲内であることが好ましい。ブラックマトリクスの厚みが上記範囲内であることにより、ブラックマトリクスが所定の遮光性を実現することができ、センサ電極を十分に隠すことが可能となる。   The thickness of the black matrix in the present invention is not particularly limited as long as it can achieve the above-described light shielding property. Specifically, the thickness of the black matrix is preferably within a range of 0.8 μm to 3 μm, more preferably within a range of 1 μm to 2 μm, and particularly within a range of 1 μm to 1.5 μm. Is preferred. When the thickness of the black matrix is within the above range, the black matrix can achieve a predetermined light shielding property, and the sensor electrode can be sufficiently hidden.

本発明におけるブラックマトリクスは、複数の開口部を有する。開口部の形状は、本発明のセンサ電極基材が用いられる有機EL表示装置の画素領域の形状等に応じて適宜調整することができるが、例えば、三角形状、四角形状、菱形形状、六角形状等が挙げられる。なお、開口部の具体的な大きさやピッチ等については、本発明のセンサ電極基材が用いられる有機EL表示装置の画素領域の形状等に応じて適宜調整されるため、ここでの記載は省略する。   The black matrix in the present invention has a plurality of openings. The shape of the opening can be appropriately adjusted according to the shape of the pixel region of the organic EL display device in which the sensor electrode substrate of the present invention is used. For example, the shape of the opening is triangular, quadrangular, rhomboid, hexagonal Etc. The specific size, pitch, etc. of the openings are appropriately adjusted according to the shape of the pixel region of the organic EL display device in which the sensor electrode substrate of the present invention is used. To do.

本発明におけるブラックマトリクスは、複数の開口部を有するが、その開口率が、30%以上であることが好ましく、中でも40%以上であることが好ましく、特に50%以上であることが好ましい。ここで、ブラックマトリクスの開口率とは、ブラックマトリクスの形成面積から、遮光材料により形成されたブラックマトリクス部分を除いた領域が全体に占める割合をいう。   The black matrix in the present invention has a plurality of openings, and the opening ratio is preferably 30% or more, more preferably 40% or more, and particularly preferably 50% or more. Here, the aperture ratio of the black matrix refers to the ratio of the area excluding the black matrix portion formed of the light shielding material to the entire area from the black matrix formation area.

本発明におけるブラックマトリクスは、所定の遮光性を実現するために、黒色を呈することが好ましい。すなわち、ブラックマトリクスは、黒色を呈する顔料を有することが好ましい。ここでいう「黒色」とは、色味のない黒色以外に、例えば、青色がかった黒色、緑色がかった黒色、赤色がかった黒色、茶色がかった黒色、橙色がかった黒色、または白色がかった黒色等の色でも良い。このような黒色顔料としては、例えば、チタンブラック(低次酸化チタン、酸窒化チタン等)、カーボンブラック等が挙げられる。チタンブラックは、カーボンブラックに比べて同濃度、同膜厚で、可視光に対するより高い遮光性が得られる。したがって、チタンブラックを用いた場合には、カーボンブラックを用いた場合に比べて、同じ遮光性であればブラックマトリクスの厚みを薄くすることができる。ここで、本発明においては、ブラックマトリクスと接触するようにセンサ配線を配置することができるため、黒色顔料が導電性を有する場合には、当該黒色顔料を後述するような絶縁性の樹脂バインダ中に分散させ、樹脂バインダで被覆した被覆顔料として用いることが好ましい。なお、本発明における黒色顔料には、1種の黒色顔料のみを用いても良く、2種以上の黒色顔料を混合して用いても良い。また、黒色顔料に、その他の有色顔料を混合して用いても良い。   The black matrix in the present invention preferably exhibits a black color in order to achieve a predetermined light shielding property. That is, the black matrix preferably has a black pigment. The term “black” as used herein means other than black with no color, for example, bluish black, greenish black, reddish black, brownish black, orangeish black, whited black, etc. The color of Examples of such black pigments include titanium black (low-order titanium oxide, titanium oxynitride, etc.), carbon black, and the like. Titanium black has the same concentration and the same film thickness as carbon black, and can provide a higher light-shielding property for visible light. Therefore, when titanium black is used, the thickness of the black matrix can be reduced as long as the light shielding property is the same as when carbon black is used. Here, in the present invention, since the sensor wiring can be arranged so as to be in contact with the black matrix, when the black pigment has conductivity, the black pigment is contained in an insulating resin binder as described later. It is preferable to use as a coating pigment dispersed in and coated with a resin binder. In addition, only 1 type of black pigments may be used for the black pigment in this invention, and 2 or more types of black pigments may be mixed and used for it. Moreover, you may mix and use another colored pigment for a black pigment.

また、本発明におけるブラックマトリクスの主成分には、上述した黒色顔料を分散することが可能な樹脂バインダを用いることができる。樹脂バインダは、感光性樹脂を含有することが好ましい。感光性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ桂皮酸ビニル系樹脂、環化ゴム、等の反応性ビニル基等の光反応性基を有する感光性樹脂を1種以上用いることができる。アクリル系樹脂では、例えば、アルカリ可溶性樹脂、多官能アクリレート系モノマー、光重合開始剤、その他添加剤等からなる感光性樹脂を樹脂バインダの樹脂成分として用いることができる。   Moreover, the resin binder which can disperse | distribute the black pigment mentioned above can be used for the main component of the black matrix in this invention. The resin binder preferably contains a photosensitive resin. Examples of the photosensitive resin include 1 photosensitive resin having a photoreactive group such as a reactive vinyl group such as an acrylic resin, an epoxy resin, a polyimide resin, a polyvinyl cinnamate resin, and a cyclized rubber. More than one species can be used. In the acrylic resin, for example, a photosensitive resin composed of an alkali-soluble resin, a polyfunctional acrylate monomer, a photopolymerization initiator, other additives, and the like can be used as the resin component of the resin binder.

アルカリ可溶性樹脂には、ベンジルメタクリレート−メタクリル酸共重合体等のメタクリル酸エステル共重合体、ビスフェノールフルオレン構造を有するエポキシアクリレート等のカルド樹脂、等を1種以上用いることができる。多官能アクリレート系モノマーには、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等を1種以上用いることができる。
なお、本発明において、(メタ)アクリレートとは、メタクリレート、または、アクリレートのいずれかであることを意味する。
As the alkali-soluble resin, at least one kind of methacrylic acid ester copolymer such as benzyl methacrylate-methacrylic acid copolymer, cardo resin such as epoxy acrylate having a bisphenolfluorene structure, and the like can be used. As the polyfunctional acrylate monomer, for example, one or more of trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and the like are used. be able to.
In the present invention, (meth) acrylate means either methacrylate or acrylate.

光重合開始剤には、アルキルフェノン系、オキシムエステル系、トリアジン系、チタネート系等、公知のものを1種以上用いることができる。例えば、アルキルフェノン系では、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリフォリノプロパン−1−オン(イルガキュア(登録商標)907、BASFジャパン株式会社製)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モノフォリオフェニル)ブタノン−1(イルガキュア(登録商標)369、BASFジャパン株式会社製)、オキシムエステル系では、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−,2−(O−ベンゾイルオキシム)(イルガキュア(登録商標)OXE01、BASFジャパン株式会社製)等を用いることができる。   As the photopolymerization initiator, one or more known ones such as alkylphenone series, oxime ester series, triazine series and titanate series can be used. For example, in the alkylphenone series, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one (Irgacure (registered trademark) 907, manufactured by BASF Japan Ltd.), 2-benzyl- In 2-dimethylamino-1- (4-monofoliophenyl) butanone-1 (Irgacure (registered trademark) 369, manufactured by BASF Japan Ltd.), an oxime ester system, 1,2-octanedione, 1- [4- ( Phenylthio) phenyl]-, 2- (O-benzoyloxime) (Irgacure (registered trademark) OXE01, manufactured by BASF Japan Ltd.) and the like can be used.

本発明における樹脂バインダは、上述した材料の他にも、光増感剤、分散剤、界面活性剤、安定剤、レベリング剤などの、公知の各種添加剤を含むことができる。   The resin binder in the present invention can contain various known additives such as a photosensitizer, a dispersant, a surfactant, a stabilizer, and a leveling agent in addition to the materials described above.

ブラックマトリクスの形成方法は、一般的な表示装置に用いられるブラックマトリクスと同様の形成方法を用いることができる。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、塗布法等によりブラックマトリクス層を形成し、フォトリソグラフィ法によりブラックマトリクス層をパターニングする方法が挙げられる。   As a black matrix formation method, the same formation method as that of a black matrix used in a general display device can be used. For example, a method of forming a black matrix layer by a sputtering method, a vacuum evaporation method, a coating method, or the like and patterning the black matrix layer by a photolithography method can be used.

3.透明基材
本発明における透明基材は、ブラックマトリクスおよびセンサ電極を支持する部材である。
3. Transparent base material The transparent base material in this invention is a member which supports a black matrix and a sensor electrode.

ここで、「透明」とは、特段の断りがない限り、本発明のセンサ電極基材が用いられた有機EL表示装置の操作者が、操作面からの視認を妨げない程度に透明であることをいう。したがって、「透明」は、無色透明、および視認性を妨げない程度の有色透明を含み、また厳密が透過率で定義されず、本発明のセンサ電極基材の用途等に応じて透過性の度合いを決定することができる。   Here, “transparent” means that the operator of the organic EL display device using the sensor electrode base material of the present invention is transparent to the extent that it does not hinder visual recognition from the operation surface unless otherwise specified. Say. Therefore, “transparent” includes colorless and transparent, and colored transparency that does not hinder visibility, and is not strictly defined by transmittance, and the degree of transparency according to the application of the sensor electrode substrate of the present invention, etc. Can be determined.

本発明における透明基材は、フレキシブル性を有する部材であることが好ましい。ここで、フレキシブル性を有するとは、本発明により得られる積層体に対して耐屈曲性試験を行うことにより確認することができる。例えば、ユアサシステム株式会社製 DLDMLH−FU 面状体U字繰り返し試験機を用いて下記条件により測定することにより確認することができる。
・測定条件
曲げ半径R=3mm、回転数120rpm、ストローク20mm
・判定条件
20万回の耐屈曲性試験を実施した後のセンサ電極の抵抗値変化が20%以下であり、センサ電極の剥がれや割れ等の外観上の異常がない場合に、合格の判定とする。
The transparent substrate in the present invention is preferably a flexible member. Here, having flexibility can be confirmed by performing a bending resistance test on the laminate obtained by the present invention. For example, it can be confirmed by measuring under the following conditions using a DLDMMLH-FU planar body U-shaped repeat tester manufactured by Yuasa System Co., Ltd.
Measurement conditions Bending radius R = 3mm, rotation speed 120rpm, stroke 20mm
-Judgment conditions When the change in resistance value of the sensor electrode after 20 thousand times of bending resistance test is 20% or less and there is no abnormality in appearance such as peeling or cracking of the sensor electrode, To do.

本発明における透明基材を構成する材料としては、所定のフレキシブル性を付与することができる材料であることが好ましい。例えば、ポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、またはアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィン樹脂等が挙げられる。また、厚みによってはガラス基材を用いることもできる。本発明においては、屈曲性や耐熱性等の観点から、PIを用いることが好ましい。   As a material which comprises the transparent base material in this invention, it is preferable that it is a material which can provide predetermined | prescribed flexibility. Examples thereof include polyester resins such as polyimide (PI), polyethylene terephthalate (PET), and polyethylene naphthalate (PEN), or acrylic resins, polycarbonate resins, and cycloolefin resins. Depending on the thickness, a glass substrate can be used. In the present invention, PI is preferably used from the viewpoints of flexibility and heat resistance.

本発明における透明基材の厚みは、所定のフレキシブル性を有し、ブラックマトリクスおよびセンサ電極を支持することができる程度の自己支持性を有する厚みであることが好ましい。透明基材の具体的な厚みは、5μm〜100μmの範囲内であることが好ましく、中でも5μm〜50μmの範囲内であることが好ましく、特に5μm〜20μmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the transparent substrate in the present invention is preferably a thickness having predetermined flexibility and a self-supporting property that can support the black matrix and the sensor electrode. The specific thickness of the transparent substrate is preferably in the range of 5 μm to 100 μm, more preferably in the range of 5 μm to 50 μm, and particularly preferably in the range of 5 μm to 20 μm.

本発明における透明基材は、市販のものを準備しても良いが、例えば、ガラス基材上に、所定の樹脂組成物を塗布して所望の透明基材を形成しても良い。樹脂組成物を、ガラス基材上に塗布する塗布法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ビードコート法等の公知の方法が挙げられる。   As the transparent substrate in the present invention, a commercially available one may be prepared. For example, a desired transparent substrate may be formed by applying a predetermined resin composition on a glass substrate. Examples of the coating method for applying the resin composition onto the glass substrate include known methods such as spin coating, roll coating, die coating, spray coating, and bead coating.

4.絶縁層
本発明における絶縁層は、例えば、図1の符号5で示すように、第1メッシュ電極4aおよび第2メッシュ電極4bを電気的に絶縁する際に用いることができる。
4). Insulating layer The insulating layer in this invention can be used when electrically insulating the 1st mesh electrode 4a and the 2nd mesh electrode 4b, for example, as shown by the code | symbol 5 of FIG.

本発明における絶縁層の材料は、所望の絶縁性を有する材料であることが好ましく、タッチパネルに一般的に用いられるものを使用することができる。具体的には、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、カルド樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等の絶縁性樹脂材料等や、ガラス等の無機材料等が挙げられる。本発明においては、センサ電極基材にフレキシブル性を付与するという観点から、絶縁性樹脂材料であることが好ましい。なお、絶縁層に用いられる材料は、1種を単独で用いても良く、2種以上を組み合わせて用いても良い。また、絶縁層の層構造は、1層であっても良く、2層以上を含む多層であっても良い。   The material of the insulating layer in the present invention is preferably a material having a desired insulating property, and materials generally used for touch panels can be used. Specifically, insulating resin materials such as polyimide resin, acrylic resin, cardo resin, epoxy resin, and melamine resin, inorganic materials such as glass, and the like can be given. In the present invention, an insulating resin material is preferable from the viewpoint of imparting flexibility to the sensor electrode substrate. In addition, the material used for an insulating layer may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. Further, the insulating layer may have a single layer structure or a multilayer structure including two or more layers.

絶縁層の厚みは、例えば、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極間を電気的に絶縁し、短絡を防止することができる程度の厚みであることが好ましく、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の電極間距離を考慮した上で適宜調整することができる。例えば、0.5μm〜3μmの範囲内とすることができる。   The thickness of the insulating layer is preferably such that the first mesh electrode and the second mesh electrode can be electrically insulated from each other and the short circuit can be prevented, for example. The distance between the electrodes can be adjusted as appropriate. For example, it can be in the range of 0.5 μm to 3 μm.

本発明における絶縁層の形成方法は、一般的な表示装置に用いられる絶縁層の形成方法と同様とすることができる。例えば、絶縁層を構成する構成材料を用いて層を形成し、次に、フォトリソグラフィ法により当該層をパターニングすることにより、所定の領域に絶縁層を形成することができる。   The method for forming an insulating layer in the present invention can be the same as the method for forming an insulating layer used in a general display device. For example, an insulating layer can be formed in a predetermined region by forming a layer using a constituent material that forms the insulating layer and then patterning the layer by a photolithography method.

5.加飾部
本発明においては、センサ電極が配置された表示領域の外周となる非表示領域に、加飾部を有することが好ましい。中でも、透明基材上にブラックマトリクスを有し、ブラックマトリクス上にセンサ電極を有するセンサ電極基材において、ブラックマトリクスと同一平面上であって、ブラックマトリクスおよびセンサ電極が配置された表示領域の外周となる非表示領域に、ブラックマトリクスと同一材料により構成された加飾部を有することが好ましい。
5. Decoration part In this invention, it is preferable to have a decoration part in the non-display area | region used as the outer periphery of the display area where the sensor electrode is arrange | positioned. Above all, in a sensor electrode substrate having a black matrix on a transparent substrate and a sensor electrode on the black matrix, the outer periphery of the display area on the same plane as the black matrix and where the black matrix and the sensor electrode are arranged It is preferable that the non-display area to be provided has a decorative portion made of the same material as the black matrix.

本発明においては、加飾部を有することにより、非表示領域に配置された配線や制御回路等を隠すことができる。したがって、本発明のセンサ電極基材を有機EL表示装置に用いた際に、配線や制御回路等が見えることによる外観の損失を抑制することができる。   In the present invention, by having the decoration portion, it is possible to hide the wiring, the control circuit, and the like arranged in the non-display area. Therefore, when the sensor electrode substrate of the present invention is used in an organic EL display device, it is possible to suppress the appearance loss due to the visibility of the wiring, the control circuit, and the like.

また、本発明における加飾部が、ブラックマトリクスと同一平面上に配置され、同一材料により構成されることにより、例えば、前面板保護基材に加飾部を設ける必要がなくなる。したがって、有機EL表示装置を作成した際に、前面板保護基材の厚みに相当する分だけ有機EL表示装置の厚みを薄くすることができ、よりフレキシブル性に優れた有機EL表示装置とすることが可能となる。また、加飾部およびブラックマトリクスが、同一平面上に配置され、同一材料により構成されることにより、加飾部およびブラックマトリクスを同時に形成することができ、少ない製造工程数によりセンサ電極基材を得ることが可能となる。
以下、本発明における加飾部について、図を参照しながら説明する。
Moreover, since the decoration part in this invention is arrange | positioned on the same plane as a black matrix, and is comprised with the same material, it becomes unnecessary to provide a decoration part in a front-plate protection base material, for example. Therefore, when an organic EL display device is created, the thickness of the organic EL display device can be reduced by an amount corresponding to the thickness of the front plate protection base material, and the organic EL display device is more flexible. Is possible. In addition, the decoration part and the black matrix are arranged on the same plane and are made of the same material, so that the decoration part and the black matrix can be formed at the same time. Can be obtained.
Hereinafter, the decoration part in this invention is demonstrated, referring a figure.

本発明においては、図13に示すように、本発明のセンサ電極基材1において、ブラックマトリクス3と同一平面上であって、ブラックマトリクス3およびセンサ電極4が配置された表示領域の外周となる非表示領域に、加飾部6を有しても良い。   In the present invention, as shown in FIG. 13, in the sensor electrode substrate 1 of the present invention, it is on the same plane as the black matrix 3 and is the outer periphery of the display area where the black matrix 3 and the sensor electrode 4 are arranged. You may have the decoration part 6 in a non-display area | region.

本発明においては、加飾部がブラックマトリクスと同一の材料であることが好ましい。ブラックマトリクスを形成する際に、同時に加飾部を形成することができるため、加飾部を形成するための形成工程を別途設ける必要がなくなるからである。すなわち、工程数を増やすことなく、加飾部を形成することが可能となる。
また、加飾部は、ブラックマトリクスと同様に、フォトリソグラフィ法により形成することができるといった点からも、加飾部とブラックマトリクスとを同時に形成することが好ましい。
なお、加飾部の具体的な材料、厚みおよび形成方法については、上述したブラックマトリクスと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
In this invention, it is preferable that a decorating part is the same material as a black matrix. This is because, when the black matrix is formed, the decoration portion can be formed at the same time, so that it is not necessary to separately provide a forming step for forming the decoration portion. That is, it is possible to form a decorative portion without increasing the number of steps.
Moreover, it is preferable to form a decoration part and a black matrix simultaneously from the point that a decoration part can be formed by the photolithographic method similarly to a black matrix.
In addition, about the specific material of a decorating part, thickness, and a formation method, since it can be the same as that of the black matrix mentioned above, description here is abbreviate | omitted.

また、表示装置の加飾部として白色を呈する白色加飾部を用いる場合、白色加飾部の遮光性を向上させるために、本発明のセンサ電極基材を表示装置に用いた際に表示パネル側となる白色加飾部の背面に、黒色を呈する黒色加飾部を設けることが好ましい。したがって、本発明のセンサ電極基材を用いた表示装置に、白色加飾部を用いる場合には、本発明のセンサ電極基材に設けた加飾部を、白色加飾部の背面に配置される黒色加飾部として用いることができる。   Moreover, when using the white decoration part which exhibits white as a decoration part of a display apparatus, in order to improve the light-shielding property of a white decoration part, when using the sensor electrode base material of this invention for a display apparatus, a display panel It is preferable to provide a black decorative portion that exhibits black on the back of the white decorative portion that is the side. Therefore, when using a white decoration part for the display device using the sensor electrode base material of the present invention, the decoration part provided on the sensor electrode base material of the present invention is arranged on the back of the white decoration part. It can be used as a black decorative part.

6.着色部
本発明においては、センサ電極により画素領域が画定され、上記画素領域に、着色部を有していても良い。すなわち、着色部は、ブラックマトリクスの開口部に配置されたパターン状の部材である。具体的には、図14に示すように、ブラックマトリクス3の開口部に着色部8(ここでは、赤色着色部8R、緑色着色部8G、青色着色部8B)を有していても良い。このように、着色部を有することにより、本発明のセンサ電極基材に、カラーフィルタとしての機能を付与することが可能となる。
6). Colored portion In the present invention, a pixel region may be defined by the sensor electrode, and the pixel region may have a colored portion. That is, the coloring part is a pattern-like member arranged in the opening of the black matrix. Specifically, as shown in FIG. 14, a colored portion 8 (here, a red colored portion 8R, a green colored portion 8G, and a blue colored portion 8B) may be provided in the opening of the black matrix 3. Thus, by having a coloring part, it becomes possible to provide the function as a color filter to the sensor electrode base material of this invention.

本発明においては、着色部が開口部毎に塗り分けされていることが好ましい。着色部を開口部毎に塗り分けする場合には、通常、開口部を画定するブラックマトリクスの幅が比較的広めに設計されることが傾向にある。そのため、本発明においては、ブラックマトリクスの幅が広がるに伴い、ブラックマトリクス上に配置されるセンサ電極の線幅も十分に確保することが可能となり、センサ電極の低抵抗化をより効果的に図ることが可能となる。   In the present invention, it is preferable that the colored portion is painted separately for each opening. In the case where the colored portion is applied separately for each opening, the width of the black matrix that defines the opening usually tends to be designed to be relatively wide. Therefore, in the present invention, as the width of the black matrix increases, the line width of the sensor electrode arranged on the black matrix can be sufficiently secured, and the resistance of the sensor electrode can be reduced more effectively. It becomes possible.

着色部は、例えば赤、緑、青の3色の着色部を有する。着色部の色としては、赤、緑、青の3色を少なくとも含むものであればよく、例えば、赤、緑、青の3色、赤、緑、青、黄の4色、または、赤、緑、青、黄、シアンの5色等とすることもできる。   The colored part has, for example, three colored parts of red, green, and blue. The color of the colored portion may be any color as long as it contains at least three colors of red, green, and blue. For example, three colors of red, green, and blue, four colors of red, green, blue, and yellow, or red, Five colors such as green, blue, yellow, and cyan may be used.

着色部としては、例えば色材をバインダ樹脂中に分散させたものを用いることができる。
着色部に用いられる色材としては、各色の顔料や染料等が挙げられる。例えば、赤色着色層に用いられる色材としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。また、緑色着色層に用いられる色材としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。さらに、青色着色層に用いられる色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料や染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。着色部に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が挙げられる。
As a coloring part, what disperse | distributed the coloring material in binder resin can be used, for example.
Examples of the color material used in the colored portion include pigments and dyes of each color. For example, examples of the color material used in the red colored layer include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. Examples of the colorant used for the green colored layer include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, and isoindoline pigments. Examples include linone pigments. Furthermore, examples of the color material used in the blue colored layer include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments, and the like. These pigments and dyes may be used alone or in combination of two or more. Examples of the binder resin used for the colored portion include photosensitive resins having reactive vinyl groups such as acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber.

着色部には、上述した材料の他にも、必要に応じて、光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を含有させることができる。   In addition to the above-described materials, the colored portion may contain a photopolymerization initiator, a sensitizer, a coatability improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, etc. It can be included.

また、着色部が形成されている同一平面上には、上述した色材を含有せず、バインダ樹脂を含有する白色層が形成されていてもよい。   In addition, a white layer containing a binder resin may be formed on the same plane where the colored portion is formed, without containing the above-described color material.

着色部の配列は特に限定されるものではなく、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、4画素配置型等の公知の配列とすることができる。   The arrangement of the colored portions is not particularly limited, and may be a known arrangement such as a stripe type, a mosaic type, a triangle type, or a four-pixel arrangement type.

着色部の厚さとしては、カラーフィルタにおける一般的な着色部の膜厚と同様とすることができ、例えば1μm〜5μmの範囲内で設定することができる。   The thickness of the colored portion can be the same as the thickness of a general colored portion in a color filter, and can be set within a range of 1 μm to 5 μm, for example.

ブラックマトリクスの開口部に、パターン状の着色部を形成する形成方法としては、例えば、フォトリソグラフィ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。   Examples of the forming method for forming the patterned colored portion in the opening of the black matrix include a photolithography method, an ink jet method, and a printing method.

7.円偏光板
本発明においては、透明基材に円偏光板有し、円偏光板上に、センサ電極を有していても良い。
7). Circularly polarizing plate In the present invention, the transparent base material may have a circularly polarizing plate, and the circularly polarizing plate may have a sensor electrode.

本発明においては、例えば、図15に示すように、透明基材2上の表示領域に円偏光板9が配置され、円偏光板9上にブラックマトリクス3およびセンサ電極4が配置されていても良い。円偏光板を有することにより、本発明のセンサ電極基材への外光の反射を抑制することが可能となる。   In the present invention, for example, as shown in FIG. 15, the circularly polarizing plate 9 is disposed in the display area on the transparent substrate 2, and the black matrix 3 and the sensor electrode 4 are disposed on the circularly polarizing plate 9. good. By having the circularly polarizing plate, reflection of external light to the sensor electrode base material of the present invention can be suppressed.

本発明における円偏光板は、一般的な表示装置に用いられるものと同様とすることができ、例えば、偏光板、各種位相差層を有していても良い。   The circularly polarizing plate in the present invention may be the same as that used in a general display device, and may have, for example, a polarizing plate and various retardation layers.

円偏光板に用いられる偏光板は、例えば、透過光を直交する二つの偏光成分に分解し、一方の方向(透過軸と平行な方向)の偏光成分を透過させ、上記一方の方向に直交する他方の方向(吸収軸と平行な方向)の偏光成分を吸収することができる。このような偏光板は、ポリビニルアルコール(PVA)によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させることにより形成することができる。   The polarizing plate used for the circularly polarizing plate, for example, decomposes the transmitted light into two orthogonally polarized components, transmits the polarized component in one direction (a direction parallel to the transmission axis), and is orthogonal to the one direction. The polarized component in the other direction (direction parallel to the absorption axis) can be absorbed. Such a polarizing plate can be formed by adsorbing and orienting iodine compound molecules on a film material made of polyvinyl alcohol (PVA).

また、位相差層としては、例えば、面内レターデーション値がλ/4に相当する位相差層、面内レターデーション値がλ/2に相当する位相差層、および正のCプレート(+Cプレート)を含む位相差層等が挙げられる。位相差層の組み合わせや構成については、本発明のセンサ電極基材の用途等に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。   Examples of the retardation layer include a retardation layer having an in-plane retardation value corresponding to λ / 4, a retardation layer having an in-plane retardation value corresponding to λ / 2, and a positive C plate (+ C plate). ) And the like. The combination and configuration of the retardation layer can be appropriately adjusted according to the application of the sensor electrode substrate of the present invention, and are not particularly limited.

本発明に用いられる円偏光板は、上述のような偏光板および位相差層を組み合わせて用いることができる。具体的な組み合わせについては、本発明のセンサ電極基材の用途等に応じて適宜調整することができ、特に限定されないが、例えば、直線偏光板と面内レターデーション値がλ/4に相当する位相差層との組み合わせが挙げられる。   The circularly polarizing plate used in the present invention can be used in combination with the above polarizing plate and retardation layer. The specific combination can be appropriately adjusted according to the application of the sensor electrode substrate of the present invention and is not particularly limited. For example, the linear polarizing plate and the in-plane retardation value correspond to λ / 4. The combination with a phase difference layer is mentioned.

8.その他の部材
本発明のセンサ電極基材は、上述したセンサ電極、ブラックマトリクスおよび透明基材を有していれば良く、必要に応じてその他の部材を有していても良い。その他の部材としては、例えば、保護層、粘着層、反射防止層等が挙げられる。
8). Other Member The sensor electrode substrate of the present invention may have the above-described sensor electrode, black matrix, and transparent substrate, and may have other members as necessary. Examples of other members include a protective layer, an adhesive layer, and an antireflection layer.

(1)保護層
本発明における保護層は、本発明のセンサ電極基材の表面に、ブラックマトリクスやセンサ電極を覆うように配置することができる。保護層が配置されていることにより、本発明のセンサ電極基材の保護機能を高めることが可能となる。
(1) Protective layer The protective layer in this invention can be arrange | positioned so that a black matrix and a sensor electrode may be covered on the surface of the sensor electrode base material of this invention. By providing the protective layer, the protection function of the sensor electrode substrate of the present invention can be enhanced.

本発明における保護層を構成する材料には、所定の光透過性を有し、また所定のフレキシブル性を有する材料を用いることが好ましい。例えば、一般的な保護層に用いることができる樹脂材料が挙げられ、中でも耐熱性や耐擦傷性を有する樹脂材料であることが好ましい。具体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。   As the material constituting the protective layer in the present invention, it is preferable to use a material having a predetermined light transmittance and a predetermined flexibility. For example, the resin material which can be used for a general protective layer is mentioned, It is preferable that it is a resin material which has heat resistance and abrasion resistance especially. Specifically, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin, etc. are mentioned.

保護層の厚みは、例えば保護層としての保護機能を発揮することができる程度の厚みであることが好ましく、中でも本発明のセンサ電極基材がフレキシブル性を有する場合には、フレキシブル性を損なわない程度の厚みであることが好ましい。例えば、1μm〜5μmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the protective layer is preferably such that it can exhibit a protective function as a protective layer, for example, and when the sensor electrode substrate of the present invention has flexibility, the flexibility is not impaired. It is preferable that the thickness is of the order. For example, it is preferably in the range of 1 μm to 5 μm.

(2)粘着層
本発明における粘着層は、各部材を積層する際に、部材間の接着性を高めるために用いることができる。例えば、本発明のセンサ電極基材の表面に配置することができる。本発明のセンサ電極基材を、有機EL表示装置に用いられる有機ELパネルと貼り合わせる際に、好適である。
(2) Adhesive layer The adhesive layer in this invention can be used in order to improve the adhesiveness between members, when each member is laminated | stacked. For example, it can arrange | position to the surface of the sensor electrode base material of this invention. It is suitable when the sensor electrode substrate of the present invention is bonded to an organic EL panel used in an organic EL display device.

本発明における粘着層を構成する材料には、所定の光透過性を有することが好ましい。中でも、所定のフレキシブル性を有することが好ましい。このような粘着層の材料としては、例えば、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等の一般的な材料が挙げられる。   The material constituting the pressure-sensitive adhesive layer in the present invention preferably has a predetermined light transmittance. Among them, it is preferable to have predetermined flexibility. Examples of such a material for the pressure-sensitive adhesive layer include general materials such as a photocurable resin and a thermosetting resin.

粘着層の厚みは、粘着層としての粘着力を発揮することができる程度の厚みであることが好ましく、粘着層の材料等に応じて適宜調整することができる。なお、具体的な粘着層の厚みについては、一般的な表示装置に用いられる粘着層と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably such a thickness that can exert the adhesive force as the pressure-sensitive adhesive layer, and can be appropriately adjusted according to the material of the pressure-sensitive adhesive layer. In addition, about the thickness of a specific adhesion layer, since it can be made to be the same as that of the adhesion layer used for a general display apparatus, description here is abbreviate | omitted.

(3)反射防止層
本発明における反射防止層は、本発明のセンサ電極基材における透明基材側の表面に配置することができる。反射防止層が配置されていることにより、本発明のセンサ電極基材表面への外光の反射を抑制することができ、視認性を高めることが可能となる。
(3) Antireflection layer The antireflection layer in this invention can be arrange | positioned on the surface by the side of the transparent base material in the sensor electrode base material of this invention. By disposing the antireflection layer, reflection of external light to the surface of the sensor electrode substrate of the present invention can be suppressed, and visibility can be improved.

本発明の反射防止層を構成する材料には、所定の光透過性を有し、また所定のフレキシブル性を有する材料を用いることが好ましい。具体的には、一般的な反射防止層に用いることができる材料が挙げられるため、ここでの記載は省略する。   As the material constituting the antireflection layer of the present invention, it is preferable to use a material having a predetermined light transmittance and a predetermined flexibility. Specifically, since materials that can be used for a general antireflection layer can be given, description thereof is omitted here.

反射防止層の厚みは、例えば反射防止層としての反射防止機能を発揮することができ、また本発明の前面板保護基材が有するフレキシブル性を損なわない程度の厚みであることが好ましい。なお、具体的な反射防止層の厚みについては、反射防止層を構成する材料等に応じて適宜調整することができるため、ここでの記載は省略する。   The thickness of the antireflection layer is preferably such that it can exhibit an antireflection function as an antireflection layer, for example, and does not impair the flexibility of the front plate protective substrate of the present invention. Note that the specific thickness of the antireflection layer can be appropriately adjusted according to the material constituting the antireflection layer, and thus the description thereof is omitted here.

9.センサ電極基材の製造方法
本発明のセンサ電極基材の製造方法は、所望のセンサ電極基材を得ることができる方法であれば特に限定されない。
以下、図を参照しながら説明する。
9. The manufacturing method of a sensor electrode base material The manufacturing method of the sensor electrode base material of this invention will not be specifically limited if it is a method which can obtain a desired sensor electrode base material.
Hereinafter, description will be given with reference to the drawings.

図16(a)〜(f)は、本発明のセンサ電極基材1の製造方法の一例を示す概略工程図である。図16(a)に示すように、キャリアガラス基材10を準備し、次に図16(b)に示すように、キャリアガラス基材10上に、塗布法により透明基材2を塗布して形成し、次に、図16(c)に示すように、透明基材2上に、フォトリソグラフィ法により複数の開口部を有するブラックマトリクス3を形成し、次いで、第1メッシュ電極の材料から構成された導電層を形成し、レジストパターンをマスクとして当該導電層をエッチングすることにより、図16(d)に示すように、ブラックマトリクス3上に第1メッシュ電極4aを形成し、続いて、図16(e)に示すように、第1メッシュ電極4aを覆うように絶縁層5を形成して、最後に、第1メッシュ電極と同様の方法により第2メッシュ電極4bを形成して、図16(f)に示すように、センサ電極基材1を形成することができる。   FIGS. 16A to 16F are schematic process diagrams illustrating an example of a method for producing the sensor electrode substrate 1 of the present invention. As shown in FIG. 16A, a carrier glass substrate 10 is prepared, and then, as shown in FIG. 16B, the transparent substrate 2 is applied on the carrier glass substrate 10 by a coating method. Next, as shown in FIG. 16 (c), a black matrix 3 having a plurality of openings is formed on the transparent substrate 2 by a photolithography method, and then composed of the material of the first mesh electrode. As shown in FIG. 16D, the first mesh electrode 4a is formed on the black matrix 3 by etching the conductive layer using the resist pattern as a mask. 16 (e), the insulating layer 5 is formed so as to cover the first mesh electrode 4a, and finally the second mesh electrode 4b is formed by the same method as the first mesh electrode. Shown in (f) It is possible to form urchin, a sensor electrode substrate 1.

本発明においては、図16に示すように、キャリアガラス基材10上に、各部材を積層していくことによりセンサ電極基材を形成することができるが、その他の方法として、予め透明基材を準備し、キャリアガラス基材10上に透明基材を配置しても良い。なお、後者である場合には、キャリアガラス基材および透明基材の間に粘着層を用いることができる。ここで用いられる粘着層は、初期粘着力および再剥離性の観点からアクリル系粘着剤を用いることが好ましい。なお、アクリル系粘着剤の組成については、特に限定されない。   In the present invention, as shown in FIG. 16, the sensor electrode substrate can be formed by laminating each member on the carrier glass substrate 10. And a transparent substrate may be disposed on the carrier glass substrate 10. In the latter case, an adhesive layer can be used between the carrier glass substrate and the transparent substrate. The pressure-sensitive adhesive layer used here is preferably an acrylic pressure-sensitive adhesive from the viewpoint of initial adhesive strength and removability. The composition of the acrylic pressure-sensitive adhesive is not particularly limited.

本発明においては、センサ電極基材がキャリアガラス基材上に形成されることにより、センサ電極基材が、製造過程における加熱により収縮してしまう等の不具合を抑制することができる。したがって、センサ電極基材を有機ELパネルと貼り合わせて有機EL表示装置を形成する際に、精度の高い位置合わせを行うことが可能となる。   In the present invention, by forming the sensor electrode base material on the carrier glass base material, it is possible to suppress problems such as the sensor electrode base material shrinking due to heating in the manufacturing process. Therefore, when the sensor electrode substrate is bonded to the organic EL panel to form the organic EL display device, highly accurate alignment can be performed.

なお、各部材の詳しい形成方法については、各部材についての項で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。   In addition, about the detailed formation method of each member, since it is the same as that of the content demonstrated in the item about each member, description here is abbreviate | omitted.

B.タッチパネル一体型有機EL表示装置
本発明のタッチパネル一体型有機EL表示装置は、上述したセンサ電極基材と、有機ELパネルとを有することを特徴とする装置である。
なお、以下、タッチパネル一体型有機EL表示装置を有機EL表示装置と略して説明する場合がある。
B. Touch Panel Integrated Organic EL Display Device A touch panel integrated organic EL display device of the present invention is a device having the above-described sensor electrode base material and an organic EL panel.
Hereinafter, the touch panel integrated organic EL display device may be abbreviated as an organic EL display device.

図17は、本発明の有機EL表示装置の一例を示す概略平面図である。図17に示すように、本発明においては、センサ電極基材1および有機ELパネル30を有していれば良い。なお、図17は、センサ電極基材1の表面に、加飾部を有する前面板保護基材20を有する例を示している。   FIG. 17 is a schematic plan view showing an example of the organic EL display device of the present invention. As shown in FIG. 17, in this invention, what is necessary is just to have the sensor electrode base material 1 and the organic electroluminescent panel 30. FIG. FIG. 17 shows an example in which a front plate protection base material 20 having a decorative portion is provided on the surface of the sensor electrode base material 1.

なお、本発明の有機EL表示装置の具体的な構成については、例えば、特開2015−052718号公報と同様とすることができるため、ここでの詳しい記載は省略する。   Note that the specific configuration of the organic EL display device of the present invention can be the same as that of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-052718, for example, and detailed description thereof is omitted here.

本発明によれば、タッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材が、センサ電極が第1メッシュ電極および第2メッシュ電極を有し、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極がメッシュ状であることにより、センサ電極を有機EL表示装置の非画素領域に配置することが可能となり、センサ電極による透明性の低下を抑制することが可能なタッチパネル一体型有機EL表示装置とすることができる。また、タッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材が有機EL表示装置に用いられる部材であることから、非画素領域を比較的広く形成することができるため、非画素領域に配置されるセンサ電極の線幅を十分に確保することができ、低抵抗化を図ることができ、高性能なタッチパネル一体型有機EL表示装置とすることができる。
なお、具体的な効果については、上記「A.センサ電極基材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
According to the present invention, the sensor electrode base material for a touch panel integrated organic EL display device has a sensor electrode having a first mesh electrode and a second mesh electrode, and the first mesh electrode and the second mesh electrode are mesh-shaped. Thus, the sensor electrode can be disposed in the non-pixel region of the organic EL display device, and a touch panel integrated organic EL display device capable of suppressing a decrease in transparency due to the sensor electrode can be obtained. In addition, since the sensor electrode base material for the touch panel integrated organic EL display device is a member used in the organic EL display device, the non-pixel region can be formed relatively wide, and therefore the sensor disposed in the non-pixel region. The line width of the electrode can be sufficiently secured, the resistance can be reduced, and a high-performance touch panel integrated organic EL display device can be obtained.
In addition, about a specific effect, since it can be made to be the same as that of the content described in the term of the said "A. sensor electrode base material", description here is abbreviate | omitted.

以下、本発明の有機EL表示装置を構成するセンサ電極基材および有機ELパネルについて説明する。   Hereinafter, the sensor electrode substrate and the organic EL panel constituting the organic EL display device of the present invention will be described.

1.センサ電極基材
本発明におけるセンサ電極基材は、透明基材と、透明基材上に配置されたセンサ電極とを有し、センサ電極は、メッシュ状の第1メッシュ電極および第2メッシュ電極を有する部材である。
なお、センサ電極基材については、上記「A.センサ電極基材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
1. Sensor electrode base material The sensor electrode base material in this invention has a transparent base material and the sensor electrode arrange | positioned on a transparent base material, and a sensor electrode has a mesh-form 1st mesh electrode and a 2nd mesh electrode. It is a member having.
The sensor electrode base material can be the same as the content described in the section “A. Sensor electrode base material”, and the description is omitted here.

2.有機ELパネル
本発明における有機ELパネルは、有機EL表示装置に用いられる部材であり、画像表示を行うための部材である。
2. Organic EL Panel The organic EL panel in the present invention is a member used for an organic EL display device and a member for performing image display.

本発明における有機ELパネルは、例えば、透明基材上に複数の有機EL画素がパターン状に配置された構成を有する。本発明に用いられる有機ELパネルは、一般的な有機EL表示装置に用いられる有機ELパネルと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。   The organic EL panel in the present invention has, for example, a configuration in which a plurality of organic EL pixels are arranged in a pattern on a transparent substrate. Since the organic EL panel used in the present invention can be the same as the organic EL panel used in a general organic EL display device, description thereof is omitted here.

3.用途
本発明の有機EL表示装置の用途としては、例えば、スマートフォン等の携帯電話、タブレットPC等の携帯情報端末、パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション、デジタルカメラ、電子手帳、ゲーム機器、自動販売機、ATM端末、POS端末等が挙げられる。
3. Applications Examples of the use of the organic EL display device of the present invention include, for example, mobile phones such as smartphones, portable information terminals such as tablet PCs, personal computers, car navigation systems, digital cameras, electronic notebooks, game machines, vending machines, ATM terminals. And POS terminals.

C.タッチパネル一体型有機EL表示装置の製造方法
本発明のタッチパネル一体型有機EL表示装置の製造方法は、第1のガラス基材上に貼着され、第1の透明基材上にセンサ電極が形成されたタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材を準備するタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材準備工程と、第2のガラス基材上に貼着された有機EL基材を準備する有機EL基材準備工程と、タッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材、および前記有機EL基材を貼り合わせる貼合工程とを有し、タッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材が、上述したタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材であることを特徴とする製造方法である。
なお、以下、タッチパネル一体型有機EL表示装置の製造方法を、有機EL表示装置の製造方法と略して説明する場合がある。
C. Method for Manufacturing Touch Panel-Integrated Organic EL Display Device In the method for manufacturing a touch-panel-integrated organic EL display device of the present invention, a sensor electrode is formed on a first transparent substrate, which is adhered to a first glass substrate. Preparing a sensor electrode base material for a touch panel integrated organic EL display device, and preparing an organic EL base material adhered on a second glass base material An organic EL base material preparing step, a sensor electrode base material for a touch panel integrated organic EL display device, and a bonding step for bonding the organic EL base material, and a sensor electrode base for a touch panel integrated organic EL display device The manufacturing method is characterized in that the material is the above-described sensor electrode base material for a touch panel integrated organic EL display device.
Hereinafter, a method for manufacturing a touch panel integrated organic EL display device may be abbreviated as a method for manufacturing an organic EL display device.

本発明の有機EL表示装置の製造方法について、図を参照しながら説明する。本発明の有機EL表示装置の製造方法は、例えば、図18(a)に示すように、第1のキャリアガラス基材10上に、センサ電極基材1を準備するセンサ電極基材準備工程を有する。センサ電極基材1は、第1の透明基材2上に、複数の開口部を有するブラックマトリクス3と、ブラックマトリクス3上に配置された第1メッシュ電極4aと、第1メッシュ電極4aを覆うように配置された絶縁層5と、絶縁層5上に配置された第2メッシュ電極4bと、第2メッシュ電極4bを覆うように配置された保護層11とを有する。また、図18(a)では、センサ電極基材1が、着色部8および保護層15を備えたカラーフィルタを有する例について示している。次に、図18(b)に示すように、第2のキャリアガラス基材10上に、有機EL基材40を準備する有機EL基材準備工程を有する。有機EL基材40は、第2の透明基材2、有機EL画素13(ここでは、赤色画素13R、緑色画素13G、青色画素13B)、符号12で示される薄膜トランジスタ(TFT)ならびにTFTに接続される信号配線、および保護層14を有する。次いで、図18(c)に示すように、センサ電極基材1および有機EL基材40を貼り合わせる貼合工程を有する。最後に、図示はしないが、第1のキャリアガラス基材10および第2のキャリアガラス基材10を剥離することにより、有機EL表示装置を得ることができる。なお、センサ電極基材1および有機EL基材40の間には、粘着層を用いても良い。   The manufacturing method of the organic EL display device of the present invention will be described with reference to the drawings. The organic EL display device manufacturing method of the present invention includes, for example, a sensor electrode base material preparation step of preparing a sensor electrode base material 1 on a first carrier glass base material 10 as shown in FIG. Have. The sensor electrode substrate 1 covers a black matrix 3 having a plurality of openings on the first transparent substrate 2, a first mesh electrode 4a disposed on the black matrix 3, and the first mesh electrode 4a. The insulating layer 5 arranged in this manner, the second mesh electrode 4b arranged on the insulating layer 5, and the protective layer 11 arranged so as to cover the second mesh electrode 4b. FIG. 18A shows an example in which the sensor electrode substrate 1 has a color filter including the colored portion 8 and the protective layer 15. Next, as shown in FIG. 18 (b), an organic EL substrate preparation step of preparing an organic EL substrate 40 on the second carrier glass substrate 10 is included. The organic EL substrate 40 is connected to the second transparent substrate 2, the organic EL pixel 13 (here, the red pixel 13R, the green pixel 13G, and the blue pixel 13B), the thin film transistor (TFT) indicated by reference numeral 12, and the TFT. Signal wiring and a protective layer 14. Then, as shown in FIG.18 (c), it has the bonding process which bonds the sensor electrode base material 1 and the organic EL base material 40 together. Finally, although not shown, an organic EL display device can be obtained by peeling the first carrier glass substrate 10 and the second carrier glass substrate 10. An adhesive layer may be used between the sensor electrode substrate 1 and the organic EL substrate 40.

ここで、「貼着」とは、塗布法を用いて積層した状態や粘着層等を介して積層された状態を含む。したがって、「第1のガラス基材上に貼着され、第1の透明基材上にセンサ電極が形成されたタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材」とは、第1のガラス基材上に、塗布法を用いて第1の透明基材を積層し、当該第1の透明基材上にセンサ電極を形成したタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材、および第1のガラス基材上に、粘着層等を介して第1の透明基材を積層し、当該第1の透明基材上にセンサ電極を形成したタッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材を含む。   Here, “adhesion” includes a state in which the layers are laminated by using a coating method or a state in which the layers are laminated through an adhesive layer or the like. Therefore, the “sensor electrode base material for a touch panel integrated organic EL display device in which a sensor electrode is formed on a first transparent base material, which is adhered to the first glass base material” means the first glass base. A sensor electrode substrate for a touch panel integrated organic EL display device in which a first transparent substrate is laminated on a material using a coating method, and a sensor electrode is formed on the first transparent substrate, and the first It includes a sensor electrode substrate for a touch panel integrated organic EL display device in which a first transparent substrate is laminated on a glass substrate via an adhesive layer or the like, and a sensor electrode is formed on the first transparent substrate. .

本発明によれば、第1のガラス基材上に貼着されたセンサ電極基材と、第2のガラス基材上に貼着された有機EL基材とを貼り合わせる貼合工程を有することにより、熱等による各基材の収縮を抑制することができ、精度の高い位置合わせを行うことができる。また、各部材を第1のガラス基材および第2のガラス基材上にそれぞれ積層していくことにより、各部材を支持基材上に個別に形成する場合に比べて、タッチパネル一体型有機EL表示装置の厚みを薄くすることが可能となる。
なお、具体的な効果については、上記「A.センサ電極基材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
According to this invention, it has the bonding process which bonds the sensor electrode base material affixed on the 1st glass base material, and the organic EL base material affixed on the 2nd glass base material. Thus, shrinkage of each substrate due to heat or the like can be suppressed, and highly accurate alignment can be performed. Further, by laminating each member on the first glass substrate and the second glass substrate, compared with the case where each member is individually formed on the support substrate, the touch panel integrated organic EL The thickness of the display device can be reduced.
In addition, about a specific effect, since it can be made to be the same as that of the content described in the term of the said "A. sensor electrode base material", description here is abbreviate | omitted.

以下、本発明の有機EL表示装置の製造方法における、センサ電極基材準備工程、有機EL基材準備工程および貼合工程について説明する。   Hereinafter, the sensor electrode base material preparation step, the organic EL base material preparation step, and the bonding step in the method for manufacturing the organic EL display device of the present invention will be described.

1.センサ電極基材準備工程
本発明におけるセンサ電極基材準備工程は、第1のガラス基材上に貼着され、第1の透明基材上にセンサ電極が形成されたセンサ電極基材を準備する工程である。
1. Sensor electrode base material preparatory process The sensor electrode base material preparatory process in this invention prepares the sensor electrode base material which was affixed on the 1st glass base material and the sensor electrode was formed on the 1st transparent base material. It is a process.

本工程において用いられる第1のガラス基材は、一般的な表示装置の製造工程において用いられるガラス基材と同様のものを用いることができる。また、ここで用いられる第1のガラス基材は、本発明の製造方法の最後に剥離することができる部材であるため、その厚みや大きさについては、特に限定されない。   The 1st glass base material used in this process can use the thing similar to the glass base material used in the manufacturing process of a general display apparatus. Moreover, since the 1st glass base material used here is a member which can be peeled at the end of the manufacturing method of this invention, it does not specifically limit about the thickness or magnitude | size.

なお、本工程において形成されるセンサ電極基材については、上記「A.センサ電極基材」の項で記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   In addition, about the sensor electrode base material formed in this process, since it can be made to be the same as that of the content described in the term of the said "A. sensor electrode base material", description here is abbreviate | omitted.

2.有機EL基材準備工程
本発明における有機EL基材準備工程は、第2のガラス基材上に貼着された有機EL基材を準備する工程である。
2. Organic EL base material preparation step The organic EL base material preparation step in the present invention is a step of preparing an organic EL base material adhered on the second glass base material.

本工程において形成される有機EL基材は、一般的な有機EL基材であれば特に限定されるものではなく、製造方法も公知の方法を採用することができる。なお、有機EL基材については、例えば、特開2015−162588号公報、特開2015−072827号公報等と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   If the organic EL base material formed in this process is a general organic EL base material, it will not specifically limit, A manufacturing method can also employ | adopt a well-known method. The organic EL base material can be the same as, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-162588, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-072827, and the like, and will not be described here.

3.貼合工程
本発明における貼合工程は、センサ電極基材、および有機EL基材を貼り合わせる工程である。
3. Bonding process The bonding process in this invention is a process of bonding a sensor electrode base material and an organic EL base material.

本工程における貼り合わせは、センサ電極基材および有機EL基材の間に粘着層等を設けることにより行うことができる。具体的には、センサ電極基材または有機EL基材の表面に粘着層を配置して圧着することにより貼り合わせることができる。   Bonding in this step can be performed by providing an adhesive layer or the like between the sensor electrode substrate and the organic EL substrate. Specifically, it can be bonded by placing an adhesive layer on the surface of the sensor electrode substrate or the organic EL substrate and press-bonding it.

本工程において用いられる粘着層は、一般的な有機EL表示装置の形成工程において用いることができるものと同様のものを用いることができるため、ここでの記載は省略する。   Since the adhesive layer used in this step can be the same as that used in a general organic EL display device forming step, description thereof is omitted here.

4.その他の工程
本発明においては、上述したセンサ電極基材準備工程、有機EL基材準備工程、および貼合工程を有していれば良く、必要に応じてその他の工程を有していても良い。
例えば、センサ電極基材が加飾部や着色部、円偏光板等を有する場合には、それらの部材を形成する工程を有していても良い。
4). Other Steps In the present invention, it is sufficient if the sensor electrode base material preparation step, the organic EL base material preparation step, and the bonding step described above are included, and other steps may be included as necessary. .
For example, when a sensor electrode base material has a decoration part, a coloring part, a circularly-polarizing plate, etc., you may have the process of forming those members.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

[実施例1]
キャリアガラス基材上に、透明基材形成用組成物としてポリイミド前駆体を塗布し、透明基材(ポリイミド基材)(厚み:10μm)を形成した。
得られたポリイミド基材上に、ダイコート法を用いてアクリル系樹脂から構成されたアンカー層(厚み:0.5μm)を形成した。
次に、得られたアンカー層上に、スパッタリング法を用いて銀合金から構成された導電層を形成し、その後、レジストパターンをマスクとして導電層をエッチングした。これにより、メッシュ状の第1メッシュ電極(線幅:3μm、厚み:0.2μm)を形成した。
次に、第1メッシュ電極を覆うように、ダイコート法を用いてアクリル系樹脂から構成された絶縁層(厚み:1.5μm)を形成した。
次いで、絶縁層上に、第1メッシュ電極と同様に第2メッシュ電極(線幅:3μm、厚み:0.2μm)を形成した。
最後に、第2メッシュ電極を覆うように、ダイコート法を用いてアクリル系樹脂から構成された保護層(厚み:1.5μm)を形成した。
これにより、本発明のセンサ電極基材を得た。なお、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の配置は、例えば、図2、3に示すような配置とした。
[Example 1]
On the carrier glass substrate, a polyimide precursor was applied as a transparent substrate forming composition to form a transparent substrate (polyimide substrate) (thickness: 10 μm).
An anchor layer (thickness: 0.5 μm) composed of an acrylic resin was formed on the obtained polyimide substrate using a die coating method.
Next, a conductive layer made of a silver alloy was formed on the obtained anchor layer using a sputtering method, and then the conductive layer was etched using the resist pattern as a mask. Thereby, a mesh-shaped first mesh electrode (line width: 3 μm, thickness: 0.2 μm) was formed.
Next, an insulating layer (thickness: 1.5 μm) made of an acrylic resin was formed using a die coating method so as to cover the first mesh electrode.
Next, a second mesh electrode (line width: 3 μm, thickness: 0.2 μm) was formed on the insulating layer in the same manner as the first mesh electrode.
Finally, a protective layer (thickness: 1.5 μm) made of an acrylic resin was formed using a die coating method so as to cover the second mesh electrode.
Thereby, the sensor electrode substrate of the present invention was obtained. The arrangement of the first mesh electrode and the second mesh electrode is, for example, as shown in FIGS.

[実施例2]
アンカー層上に、ダイコート法を用いて被覆カーボンを顔料とするアクリル系樹脂から構成されたブラックマトリクス層(厚み:1.5μm)を形成した。その後、得られたブラックマトリクス層を、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、同一材料から構成されるブラックマトリクス(線幅:5μm)および加飾部を形成したこと以外は、実施例1と同様の方法によりセンサ電極基材を得た。
なお、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極は、ブラックマトリクスおよび加飾部と平面視上重なるような配置とした。
[Example 2]
On the anchor layer, a black matrix layer (thickness: 1.5 μm) composed of an acrylic resin using coated carbon as a pigment was formed using a die coating method. Thereafter, the obtained black matrix layer was patterned using a photolithography method, and the same as in Example 1 except that a black matrix (line width: 5 μm) composed of the same material and a decorative portion were formed. A sensor electrode substrate was obtained by the method.
Note that the first mesh electrode and the second mesh electrode were arranged so as to overlap the black matrix and the decorative portion in plan view.

[実施例3]
アンカー層上に形成されたブラックマトリクスの開口部に、図14に示すように赤色着色部、緑色着色部および青色着色部を形成し、加飾部を形成しなかったこと以外は、実施例2と同様の方法によりセンサ電極基材を得た。
なお、着色部の厚みは2.0μmであった。
[Example 3]
Example 2 except that a red colored portion, a green colored portion, and a blue colored portion are formed in the opening portion of the black matrix formed on the anchor layer as shown in FIG. 14 and the decorative portion is not formed. A sensor electrode substrate was obtained by the same method as described above.
The colored portion had a thickness of 2.0 μm.

[実施例4]
アンカー層上に形成されたブラックマトリクスの開口部に、図14に示すように赤色着色部、緑色着色部および青色着色部を形成したこと以外は、実施例2と同様の方法によりセンサ電極基材を得た。
なお、着色部の厚みは2.0μmであった。
[Example 4]
A sensor electrode base material was prepared in the same manner as in Example 2 except that a red colored portion, a green colored portion, and a blue colored portion were formed in the black matrix opening formed on the anchor layer as shown in FIG. Got.
The colored portion had a thickness of 2.0 μm.

[実施例5]
ポリイミド基材およびアンカー層の間に、円偏光板を形成したこと以外は、実施例1と同様の方法によりセンサ電極基材を得た。なお、円偏光板には、ポリイミド基材側から、直線偏光板、面内レターデーション値がλ/4に相当する位相差層、面内レターデーション値がλ/2に相当する位相差層、+Cプレートを含む位相差層が、粘着層により順に積層されたものを用いた。
[Example 5]
A sensor electrode substrate was obtained by the same method as in Example 1 except that a circularly polarizing plate was formed between the polyimide substrate and the anchor layer. The circularly polarizing plate includes a linear polarizing plate, a retardation layer having an in-plane retardation value corresponding to λ / 4, a retardation layer having an in-plane retardation value corresponding to λ / 2, from the polyimide substrate side, A layer in which a retardation layer including a + C plate was sequentially laminated by an adhesive layer was used.

[実施例6]
ポリイミド基材およびアンカー層の間に、円偏光板を形成したこと以外は、実施例4と同様の方法によりセンサ電極基材を得た。なお、円偏光板には、ポリイミド基材側から、直線偏光板、面内レターデーション値がλ/4に相当する位相差層、面内レターデーション値がλ/2に相当する位相差層、+Cプレートを含む位相差層が、粘着層により順に積層されたものを用いた。
[Example 6]
A sensor electrode substrate was obtained by the same method as in Example 4 except that a circularly polarizing plate was formed between the polyimide substrate and the anchor layer. The circularly polarizing plate includes a linear polarizing plate, a retardation layer having an in-plane retardation value corresponding to λ / 4, a retardation layer having an in-plane retardation value corresponding to λ / 2, from the polyimide substrate side, A layer in which a retardation layer including a + C plate was sequentially laminated by an adhesive layer was used.

[比較例1]
図19に示すように、インジウム錫酸化物(ITO)から構成されたセンサ電極4’(第1センサ電極4a’、第2センサ電極4b’)(厚み:0.13μm)を形成し、アンカー層を形成しなかったこと以外は、実施例1と同様の方法によりセンサ電極基材を得た。
[Comparative Example 1]
As shown in FIG. 19, a sensor electrode 4 ′ (first sensor electrode 4a ′, second sensor electrode 4b ′) (thickness: 0.13 μm) made of indium tin oxide (ITO) is formed, and an anchor layer is formed. A sensor electrode substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that was not formed.

[比較例2]
膜厚25μmのPET基材の一方の面上に第1メッシュ電極を形成し、他方の面上に第2メッシュ電極を形成することによりセンサ電極基材を得た。なお、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の材料や厚み等については、実施例1のポリイミド基材、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極と同様とした。
[Comparative Example 2]
A sensor electrode substrate was obtained by forming a first mesh electrode on one surface of a PET substrate having a thickness of 25 μm and forming a second mesh electrode on the other surface. In addition, about the material, thickness, etc. of the 1st mesh electrode and the 2nd mesh electrode, it was the same as that of the polyimide base material of Example 1, the 1st mesh electrode, and the 2nd mesh electrode.

[比較例3]
第1のPET基材上に第1メッシュ電極を形成し、第2のPET基材上に第2メッシュ電極を形成し、これらを第1のPET基材と第2のPET基材とを接着剤を用いて貼り合せることにより積層し、第1メッシュ電極/第1のPET基材/第2メッシュ電極/第2のPET基材の順で積層されたセンサ電極基材を得た。なお、第1のPET基材および第2のPET基材の厚みは、比較例2のPET基材と同様とし、第1メッシュ電極および第2メッシュ電極の材料や厚み等については、実施例1の第1メッシュ電極および第2メッシュ電極と同様とした。
[Comparative Example 3]
A first mesh electrode is formed on the first PET substrate, a second mesh electrode is formed on the second PET substrate, and these are bonded to the first PET substrate and the second PET substrate. A sensor electrode substrate was obtained by laminating by bonding using an agent, and laminated in the order of the first mesh electrode / first PET substrate / second mesh electrode / second PET substrate. The thicknesses of the first PET substrate and the second PET substrate are the same as those of the PET substrate of Comparative Example 2, and the materials and thicknesses of the first mesh electrode and the second mesh electrode are the same as in Example 1. The same as the first mesh electrode and the second mesh electrode.

[評価]
1)外観
実施例1〜6および比較例1〜3により得られたセンサ電極基材について、外観の評価を行った。外観の評価は、具体的に、モアレが発生していないか、またはセンサ電極のパターンが見えていないか等の視認性の評価とし、いずれも目視により判断した。
結果は、表1に示す。
[Evaluation]
1) Appearance The appearance of the sensor electrode substrates obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 was evaluated. Specifically, the evaluation of the appearance was an evaluation of visibility such as whether moiré was generated or the pattern of the sensor electrode was not visible, and both were judged visually.
The results are shown in Table 1.

2)耐屈曲性試験
実施例1〜6および比較例1〜3により得られたセンサ電極基材について、耐屈曲性試験を行った。耐屈曲性試験における測定条件は、下記の通りである。
なお、実施例1〜6、および比較例1は、キャリアガラス基材側からエキシマレーザ光をポリイミドとキャリアガラス基材の界面に集光させることにより、ポリイミドの界面側の一部にレーザーアブレージョンを起こし、キャリアガラス基材を剥離したセンサ電極基材を用い、下記条件の屈曲試験を行った。
<測定条件>
・サンプルサイズ:200mm×120mm、150mm×70mm
センサ電極基材を、長辺および短辺のいずれかの方向に3mmRで屈曲させることで試験を行った。
・曲げ半径R=3mm
・回転数:120rpm
・ストローク:20mm
20万回の屈曲試験を実施後における初期抵抗値からの抵抗値の変化率は、抵抗値変化率が20%以内の信頼性試験として要求される水準を満たす条件下において、試験後抵抗値平均値/試験前抵抗値平均値×100の式により算出した。また、試験後の外観の変化を目視により確認して評価を行った。
なお、本発明では、上述の耐屈曲性試験に合格することにて、タッチパネル一体型有機EL表示装置用センサ電極基材がフレキシブル性を有すると定義する。
結果は、表1に示す。
2) Bending resistance test The bending resistance test was done about the sensor electrode base material obtained by Examples 1-6 and Comparative Examples 1-3. Measurement conditions in the flex resistance test are as follows.
In Examples 1 to 6 and Comparative Example 1, the laser ablation is performed on a part of the polyimide interface side by focusing the excimer laser light on the interface between the polyimide and the carrier glass substrate from the carrier glass substrate side. A bending test under the following conditions was performed using the sensor electrode substrate which was raised and the carrier glass substrate was peeled off.
<Measurement conditions>
Sample size: 200mm x 120mm, 150mm x 70mm
The test was performed by bending the sensor electrode substrate at 3 mmR in either the long side or the short side.
・ Bending radius R = 3mm
・ Rotation speed: 120rpm
・ Stroke: 20mm
The rate of change in resistance value from the initial resistance value after 200,000 bending tests is the average resistance value after the test under conditions that satisfy the level required for the reliability test with the resistance value change rate within 20%. Value / average resistance before test × 100. Moreover, the external appearance change after a test was confirmed visually and evaluated.
In the present invention, the sensor electrode base material for a touch panel integrated organic EL display device is defined as having flexibility by passing the above-described bending resistance test.
The results are shown in Table 1.

比較例1により得られたセンサ電極基材は、ITOから構成されたセンサ電極が見えてしまい、優れた外観を実現することはできなかった。また、比較例2、3により得られたセンサ電極基材は、PETフィルム上でセンサ電極のパターニングを行ったため、パターニング精度が劣り、表示装置との貼り合せを行う際に位置ずれが生じ、モアレが発生して優れた外観を実現することはできなかった。
これに対し、実施例1〜6により得られたセンサ電極基材は、上述のような外観の不具合は生じず、優れた外観を実現することができた。
これは、本発明のセンサ電極基材が用いられる有機EL表示装置において、有機EL画素を有しない非表示領域とセンサ電極とが平面視上重なるように配置されていることに起因すると考えられる。
The sensor electrode base material obtained in Comparative Example 1 was not able to realize an excellent appearance because the sensor electrode made of ITO was visible. In addition, since the sensor electrode substrate obtained in Comparative Examples 2 and 3 was subjected to patterning of the sensor electrode on the PET film, the patterning accuracy was inferior, and the positional deviation occurred when bonding with the display device, resulting in moire. It was not possible to realize an excellent appearance.
On the other hand, the sensor electrode base material obtained by Examples 1-6 did not produce the above-mentioned defects in appearance, and was able to realize an excellent appearance.
This is considered to be due to the fact that in the organic EL display device using the sensor electrode substrate of the present invention, the non-display area not having the organic EL pixel and the sensor electrode are arranged so as to overlap in plan view.

比較例1〜3では、耐屈曲性試験後の抵抗値が60MΩ以上となり、測定不可能であった。断線発生と判断される。
これに対し、実施例1〜6では、初期抵抗値からの抵抗値の変化率を最小限に抑えることができた。
これは、耐屈曲性試験後の外観の評価からも確認できたように、比較例1〜3においては、耐屈曲性試験後にセンサ電極の割れや剥がれといった不具合が生じている一方、実施例1〜6においては、耐屈曲性試験後におけるセンサ電極の上述のような不具合の発生が抑制されたことに起因すると考えられる。
In Comparative Examples 1 to 3, the resistance value after the bending resistance test was 60 MΩ or more, and measurement was impossible. It is determined that a disconnection has occurred.
On the other hand, in Examples 1-6, the rate of change of the resistance value from the initial resistance value could be minimized.
As confirmed from the appearance evaluation after the bending resistance test, in Comparative Examples 1 to 3, the sensor electrode had a defect such as cracking or peeling after the bending resistance test. In -6, it is thought that it originates in generation | occurrence | production of the above malfunctions of the sensor electrode after the bending resistance test being suppressed.

以上の結果から、実施例1〜6は、耐屈曲性試験に合格(判定:○)したが、比較例1〜3では、耐屈曲性試験に不合格(判定:△、×)であった。   From the above results, Examples 1 to 6 passed the bending resistance test (determination: ◯), but Comparative Examples 1 to 3 failed the bending resistance test (determination: Δ, ×). .

1 …センサ電極基材
2 …透明基材
3 …ブラックマトリクス
4 …センサ電極
4a …第1メッシュ電極
4b …第2メッシュ電極
5 …絶縁層
6 …加飾部
8 …着色部
9 …円偏光板
10 …ガラス(キャリアガラス)基材
30 …有機ELパネル
40 …有機EL基材
100 …有機EL表示装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Sensor electrode base material 2 ... Transparent base material 3 ... Black matrix 4 ... Sensor electrode 4a ... 1st mesh electrode 4b ... 2nd mesh electrode 5 ... Insulating layer 6 ... Decorating part 8 ... Colored part 9 ... Circularly-polarizing plate 10 ... Glass (carrier glass) substrate 30 ... Organic EL panel 40 ... Organic EL substrate 100 ... Organic EL display device

Claims (11)

有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材であって、
透明基材と、前記透明基材の一方の表面側に配置されたセンサ電極とを有し、
前記センサ電極は、前記有機エレクトロルミネッセンス表示装置の非画素領域と平面視上重なる領域に配置され、
前記センサ電極は、メッシュ状の第1メッシュ電極、およびメッシュ状の第2メッシュ電極を有することを特徴とするタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材。
A sensor electrode substrate for a touch panel integrated organic electroluminescence display device used in an organic electroluminescence display device,
A transparent substrate, and a sensor electrode disposed on one surface side of the transparent substrate;
The sensor electrode is disposed in a region overlapping the non-pixel region of the organic electroluminescence display device in plan view,
The sensor electrode includes a mesh-shaped first mesh electrode and a mesh-shaped second mesh electrode. A sensor electrode base material for a touch-panel-integrated organic electroluminescence display device.
前記透明基材上に、複数の開口部を有するブラックマトリクスが配置され、
前記センサ電極が、前記ブラックマトリクスに平面視上重なるように、前記ブラックマトリクス上に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材。
A black matrix having a plurality of openings is disposed on the transparent substrate,
The sensor electrode substrate for a touch panel integrated organic electroluminescence display device according to claim 1, wherein the sensor electrode is disposed on the black matrix so as to overlap the black matrix in plan view.
前記透明基材が、フレキシブル性を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材。   The said transparent base material has flexibility, The sensor electrode base material for touchscreen integrated organic electroluminescent display apparatuses of Claim 1 or Claim 2 characterized by the above-mentioned. 前記第1メッシュ電極上には絶縁層が配置され、
前記絶縁層上に、前記第2メッシュ電極が配置されていることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材。
An insulating layer is disposed on the first mesh electrode,
The sensor electrode base for a touch panel integrated organic electroluminescence display device according to any one of claims 1 to 3, wherein the second mesh electrode is disposed on the insulating layer. Wood.
前記第1メッシュ電極および前記第2メッシュ電極は、それぞれが交差する交差領域およびそれ以外の領域である非交差領域を有しており、
前記交差領域では、前記第1メッシュ電極および前記第2メッシュ電極は、絶縁層を介して積層されており、
前記非交差領域では、前記第1メッシュ電極および前記第2メッシュ電極は、同一平面上に配置されていることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材。
The first mesh electrode and the second mesh electrode each have a crossing region where they cross each other and a non-crossing region that is a region other than the crossing region.
In the intersecting region, the first mesh electrode and the second mesh electrode are laminated via an insulating layer,
4. The touch panel according to claim 1, wherein the first mesh electrode and the second mesh electrode are arranged on the same plane in the non-intersection region. 5. A sensor electrode substrate for an integrated organic electroluminescence display device.
前記第1メッシュ電極および前記第2メッシュ電極は、同一平面上に配置され、
前記第1メッシュ電極はストライプ状に配置され、
前記第2メッシュ電極は、前記第1メッシュ電極のストライプの間に非連続に複数個が配置されていることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材。
The first mesh electrode and the second mesh electrode are disposed on the same plane,
The first mesh electrodes are arranged in a stripe shape,
4. The touch panel according to claim 1, wherein a plurality of the second mesh electrodes are arranged discontinuously between the stripes of the first mesh electrode. 5. A sensor electrode substrate for an integrated organic electroluminescence display device.
前記センサ電極が配置された表示領域の外周となる非表示領域に、加飾部を有することを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれかの請求項に記載されたタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材。   The touch panel integrated organic according to any one of claims 1 to 6, further comprising a decoration portion in a non-display area that is an outer periphery of the display area in which the sensor electrode is arranged. Sensor electrode base material for electroluminescence display device. 前記センサ電極により画素領域が画定され、
前記画素領域に、着色部を有することを特徴とする請求項1から請求項7までのいずれかの請求項に記載されたタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材。
A pixel region is defined by the sensor electrode,
The sensor electrode substrate for a touch panel integrated organic electroluminescence display device according to any one of claims 1 to 7, wherein the pixel region has a colored portion.
前記透明基材上に円偏光板有し、
前記円偏光板上に、前記センサ電極を有することを特徴とする請求項1から請求項8までのいずれかの請求項に記載されたタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材。
Having a circularly polarizing plate on the transparent substrate,
The sensor electrode substrate for a touch panel integrated organic electroluminescence display device according to any one of claims 1 to 8, wherein the sensor electrode is provided on the circularly polarizing plate.
請求項1から請求項9までのいずれかの請求項に記載されたタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材と、
有機エレクトロルミネッセンスパネルと
を有することを特徴とするタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
A sensor electrode base material for a touch panel integrated organic electroluminescence display device according to any one of claims 1 to 9,
A touch panel integrated organic electroluminescence display device comprising: an organic electroluminescence panel.
第1のガラス基材上に貼着され、第1の透明基材上にセンサ電極が形成されたタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材を準備するタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材準備工程と、
第2のガラス基材上に貼着された有機エレクトロルミネッセンス基材を準備する有機エレクトロルミネッセンス基材準備工程と、
前記タッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材、および前記有機エレクトロルミネッセンス基材を貼り合わせる貼合工程と
を有し、
前記タッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材が、請求項1から請求項9までのいずれかの請求項に記載された前記タッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置用センサ電極基材であることを特徴とするタッチパネル一体型有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
A touch panel integrated organic electroluminescence display device for preparing a sensor electrode base material for a touch panel integrated organic electroluminescence display device, which is attached to a first glass substrate and has a sensor electrode formed on the first transparent substrate. Sensor electrode substrate preparation process,
An organic electroluminescence base material preparation step of preparing an organic electroluminescence base material adhered on the second glass base material;
A sensor electrode substrate for the touch panel integrated organic electroluminescence display device, and a bonding step of bonding the organic electroluminescence substrate.
The sensor electrode base material for a touch panel integrated organic electroluminescence display device according to any one of claims 1 to 9, wherein the sensor electrode base material for a touch panel integrated organic electroluminescence display device is used. A method for producing a touch panel integrated organic electroluminescence display device.
JP2015212648A 2015-10-29 2015-10-29 Sensor electrode base material for touch panel integrated organic electroluminescence display device, touch panel integrated organic electroluminescence display device, and method for manufacturing touch panel integrated organic electroluminescence display device Active JP6707836B2 (en)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200015412A (en) * 2018-08-03 2020-02-12 황장환 Light absorption-transmission film and display device including the same
KR20220011678A (en) 2019-05-28 2022-01-28 도요보 가부시키가이샤 Circularly polarized light element transfer laminate and manufacturing method of optical article using same
WO2022044574A1 (en) * 2020-08-27 2022-03-03 富士フイルム株式会社 Conductive member for touchscreen and touchscreen
JP2022063204A (en) * 2020-10-09 2022-04-21 カンブリオス フィルム ソリューションズ(シアメン) コーポレーション Transparent conductive film and touch panel made thereof
KR20230051086A (en) 2021-10-08 2023-04-17 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 Substrate with cured film, photosensitive resin composition, producing process of that substrate, and display device having that substrate
KR20230141600A (en) 2022-03-31 2023-10-10 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 Substrate with cured film, photosensitive resin composition forming the same, manufacturing process of that substrate, and display device with that cured film or that substrate

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011222009A (en) * 2010-04-02 2011-11-04 Arolltech Co Ltd Display device which includes in-cell touch sensor device
WO2014065001A1 (en) * 2012-10-22 2014-05-01 コニカミノルタ株式会社 Display device with touch panel
JP2015064855A (en) * 2013-08-28 2015-04-09 凸版印刷株式会社 Manufacturing method of touch panel film having functional membrane and touch panel manufactured using the manufacturing method
JP2015069351A (en) * 2013-09-27 2015-04-13 大日本印刷株式会社 Image display device, touch panel sensor with circularly polarizing plate, and touch panel sensor with optical conversion layer
WO2015133041A1 (en) * 2014-03-05 2015-09-11 三菱電機株式会社 Display panel, display apparatus, and liquid crystal panel manufacturing method
JP2015180993A (en) * 2014-02-28 2015-10-15 株式会社半導体エネルギー研究所 Electronic device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011222009A (en) * 2010-04-02 2011-11-04 Arolltech Co Ltd Display device which includes in-cell touch sensor device
WO2014065001A1 (en) * 2012-10-22 2014-05-01 コニカミノルタ株式会社 Display device with touch panel
JP2015064855A (en) * 2013-08-28 2015-04-09 凸版印刷株式会社 Manufacturing method of touch panel film having functional membrane and touch panel manufactured using the manufacturing method
JP2015069351A (en) * 2013-09-27 2015-04-13 大日本印刷株式会社 Image display device, touch panel sensor with circularly polarizing plate, and touch panel sensor with optical conversion layer
JP2015180993A (en) * 2014-02-28 2015-10-15 株式会社半導体エネルギー研究所 Electronic device
WO2015133041A1 (en) * 2014-03-05 2015-09-11 三菱電機株式会社 Display panel, display apparatus, and liquid crystal panel manufacturing method

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200015412A (en) * 2018-08-03 2020-02-12 황장환 Light absorption-transmission film and display device including the same
KR102275404B1 (en) 2018-08-03 2021-07-09 황장환 Light absorption-transmission film and display device including the same
KR20220011678A (en) 2019-05-28 2022-01-28 도요보 가부시키가이샤 Circularly polarized light element transfer laminate and manufacturing method of optical article using same
WO2022044574A1 (en) * 2020-08-27 2022-03-03 富士フイルム株式会社 Conductive member for touchscreen and touchscreen
JP7469485B2 (en) 2020-08-27 2024-04-16 富士フイルム株式会社 Conductive member for touch panel and touch panel
JP2022063204A (en) * 2020-10-09 2022-04-21 カンブリオス フィルム ソリューションズ(シアメン) コーポレーション Transparent conductive film and touch panel made thereof
KR20230051086A (en) 2021-10-08 2023-04-17 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 Substrate with cured film, photosensitive resin composition, producing process of that substrate, and display device having that substrate
KR20230141600A (en) 2022-03-31 2023-10-10 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 Substrate with cured film, photosensitive resin composition forming the same, manufacturing process of that substrate, and display device with that cured film or that substrate

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