JP2014518199A5

JP2014518199A5 -

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Publication number: JP2014518199A5
Application number: JP2014513214A
Authority: JP
Filing date: 2012-06-01
Publication date: 2016-02-12
Anticipated expiration: 2032-06-01

Claims

式（Ｉ）の化合物の調製方法であって、
ａ）式（ＩＩ）の化合物を、アシル化剤またはシリル化剤と反応させて、式（ＩＩＩ）の化合物を製造する工程と、
（式（ＩＩＩ）中、Ｐ^１およびＰ^２は、それぞれ独立して、Ｒ^２−Ｓｉ−Ｒ^３Ｒ^４またはＲ^１ＣＯ−から選択される保護基であり、Ｒ^１は、Ｃ_１−６アルキルまたはＣ_３−６シクロアルキルから選択される基（各基は、任意選択でフルオロまたはＣ_１−４アルキルから独立して選択される１つ以上の置換基により置換される）であり；Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、Ｃ_１−６アルキルまたはフェニルから選択される基（各基は、任意選択でフルオロまたはＣ_１−４アルキルから独立して選択される１つ以上の置換基により置換される）である。）
ｂ）式（ＩＩＩ）の化合物を、酢酸パラジウムまたはその誘導体の存在下で反応させて、式（ＩＶ）の化合物を製造する工程と、
ｃ）式（ＩＶ）の化合物を、還元剤と反応させて、式（Ｉ）の化合物を製造する工程とを含む、方法。
Ｐ^１が、Ｒ^１ＣＯ−である請求項１に記載の方法。
Ｐ^１が、Ｒ^２−Ｓｉ−Ｒ^３Ｒ^４である請求項１に記載の方法。
Ｐ^２が、Ｒ^２−Ｓｉ−Ｒ^３Ｒ^４である請求項３に記載の方法。
Ｐ^２が、Ｒ^１ＣＯ−である請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
工程（ａ）は、式（ＩＩ）の化合物におけるヒドロキシルを、シリル化剤で保護して、式（ＩＩａ）の化合物を製造する工程（ａ１）と、
（式（ＩＩａ）中、Ｐ^１は、請求項３に定義したものと同様の意味を有する。）
式（ＩＩａ）の化合物におけるケトンを、アシル化剤の存在下で保護して、式（ＩＩＩ）の化合物を製造する工程（ａ２）と、を含む請求項５に記載の方法。
アシル化剤が、Ｃ_２−６アルケニルＣ_１−６アルカノエートまたはＣ_２−６アルケニルＣ_３−６シクロアルカノエートである、請求項１〜３、５および６のいずれかに記載の方法。
シリル化剤は、Ｃ_１−６アルキルシリルクロリド、Ｃ_１−６アルキルシリルトリフラート、フェニルシリルクロリド、フェニルシリルトリフラート、Ｃ_１−６アルキルフェニルシリルクロリド、Ｃ_１−６アルキルフェニルシリルトリフラートを含み、各基が任意選択でフルオロまたはＣ_１−４アルキルから独立して選択される１つ以上の置換基により置換されている、群から選択される、請求項１、３〜７のいずれかに記載の方法。
工程（ｂ）は、Ｃ_１−６アルキレンカルボネートおよび有機スズ化合物の存在下で行われる、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
前記酢酸パラジウムが、化学量論的な量で存在する、請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
前記反応は、触媒的または準化学量論的な量で存在する酢酸パラジウムで行われ、前記反応は、好ましくは酸素雰囲気中で行われる、請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
工程（ｃ）における還元剤が、金属ヒドリド化合物の群から選択される、請求項１〜１１のいずれかに記載の方法。
金属ヒドリド化合物が、ＮａＢＨ_４／ＣｅＣｌ_３、ＬｉＡｌＨ_４、ＮａＢＨ_４、ＮａＢＨ（ＯＡｃ）_３およびＺｎＢＨ_４を含む群から選択される、請求項１２に記載の方法。
エステトロールの調製方法であって、
請求項１〜１３のいずれかに記載の方法により、式（Ｉ）の化合物を調製する工程、および、さらに、式（Ｉ）の化合物を反応させてエステトロールを製造する工程を含む、方法。