JP2014238465A - 微細凹凸回折構造を有する表示体 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 66
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 19
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 19
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 18
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002585 base Substances 0.000 description 12
- 238000002039 particle-beam lithography Methods 0.000 description 10
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 10
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRWSWMKELFKJMC-UHFFFAOYSA-N CC.F.F.F.F.F.F Chemical compound CC.F.F.F.F.F.F CRWSWMKELFKJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018503 SF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- QBEGYEWDTSUVHH-UHFFFAOYSA-P diazanium;cerium(3+);pentanitrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O QBEGYEWDTSUVHH-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N octafluorocyclobutane Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019407 octafluorocyclobutane Nutrition 0.000 description 1
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
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Abstract
【解決手段】構造周期が250nm以上400nm以下の回折格子が、特定範囲の角度で入射する白色光を分光する現象を利用し、画素をマトリックス状に配置した画素領域において、配列方向が異なる2種類以上の一次元回折格子パターン画素と、二次元回折格子パターン画素とを設けることで、傾ける方向により表示像が切り替わる表示体を形成できる。また、前記回折格子パターン画素をナノインプリント用の樹脂に形成し、さらに基材に可視光領域の波長に対して透過性の高い材料を適用することで、白色光源下において、正面から観察した場合は光を透過し、傾けた場合のみ表示像が現れる、厚みの薄い表示体を形成できる。
【選択図】図1
Description
以下、本発明の第1の実施形態について図面を用いながら説明する。図1は本発明の第1の実施形態における表示体を示す図である。
以下、本発明の第2の実施形態について図面を用いながら説明する。図2は本発明の第2の実施形態における表示体である。
まず、シリコン基板モールドの基材101表面に熱可塑性樹脂を塗布し、ホットプレート等で該熱可塑性樹脂のガラス転位温度以上まで加熱する。熱可塑性樹脂が十分に軟化した後、前記シリコン基板モールドに押しあて、基材101ごと冷却し、熱可塑性樹脂を硬化させる。基材101からシリコン基板モールドを引き離すと、断面図が図2(b)で示される、基材101上に該シリコン基板モールドのパターンが転写された熱可塑性樹脂層31が形成された表示体を得ることができる。この方法により、基材101の表面に熱可塑性樹脂層31が形成された表示体2を簡便に複製することが可能となる。
まず、紫外線ナノインプリントモールド用石英ガラス基板(以下、石英ガラス基板と称する)を用意し、該石英ガラス基板表面に膜厚50nmのクロム膜をスパッタリングにより形成した。スパッタリングに用いたクロムターゲットは純度99.995%である。スパッタチャンバ内にArを100sccm導入し、スパッタチャンバ内の圧力0.3Paとした。DC電源より500Wの電力をターゲット下部の電極へ印加し、プラズマ放電させ、Cr膜を成膜した。
11、12、14、15、17・・・一次元回折格子パターン画素
13、16・・・二次元回折格子パターン画素
31・・・熱可塑性樹脂層
100、101・・・基材
Claims (9)
- 基材表面上に、
少なくとも一辺が1μm以上である複数の画素がマトリックス状に配置された画素領域が形成された表示体において、
少なくとも
構造周期が250nm以上400nm以下の線状凹凸構造からなる一次元回折構造体で形成された画素と、
構造周期が250nm以上400nm以下の格子状凹凸構造からなる二次元回折構造体で形成された画素と、
が前記画素領域内に形成され、
前記一次元回折構造体で形成された画素は、線状凹凸構造の凹凸配列方向が異なる2種類以上の画素を含み、
前記線状凹凸構造の凹凸配列方向が、少なくとも前記二次元回折構造体の格子状凹凸構造の複数の凹凸配列方向のいずれかと平行である、
ことを特徴とする表示体。 - 前記一次元回折構造体で形成された画素と、前記二次元回折構造体で形成された画素を有する表示体において、少なくとも
構造周期が50nm以上250nm未満の線状凹凸構造からなる一次元回折構造体で形成された画素、
または構造周期が50nm以上250nm未満の格子状凹凸構造からなる二次元回折構造体で形成された画素、
のいずれかがさらに含まれていること、
を特徴とする、請求項1記載の表示体。 - 前記一次元回折構造体および前記二次元回折構造体の少なくともいずれか一方の凹凸構造のアスペクト比(深さ÷周期)が、0.1以上10.0以下であることを特徴とする請求項1または請求項2のいずれかに記載の表示体。
- 前記一次元回折構造体と前記二次元回折構造体の凹凸構造のアスペクト比(深さ÷周期)が異なることを特徴とする請求項3記載の表示体。
- 基材上に、
前記一次元回折構造体からなる画素および前記二次元回折構造体からなる画素を含む画素領域が形成された熱可塑性樹脂層が形成されていること、
を特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の表示体。 - 前記熱可塑性樹脂層の厚さが0.1μm以上10μm以下であることを特徴とする請求項5記載の表示体。
- 基材上に、
前記一次元回折構造体からなる画素および前記二次元回折構造体からなる画素を含む画素領域が形成された光硬化性樹脂層が形成されていること、
を特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の表示体。 - 前記光硬化性樹脂層の厚さが0.1μm以上10μm以下であることを特徴とする請求項7記載の表示体。
- 前記基材が
全可視光波長領域に対して80%以上を透過する材料で構成されることを特徴とする、請求項1から6のいずれかに記載の表示体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013120129A JP6163892B2 (ja) | 2013-06-06 | 2013-06-06 | 微細凹凸回折構造を有する表示体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013120129A JP6163892B2 (ja) | 2013-06-06 | 2013-06-06 | 微細凹凸回折構造を有する表示体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014238465A true JP2014238465A (ja) | 2014-12-18 |
JP6163892B2 JP6163892B2 (ja) | 2017-07-19 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2013120129A Active JP6163892B2 (ja) | 2013-06-06 | 2013-06-06 | 微細凹凸回折構造を有する表示体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6163892B2 (ja) |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP6163892B2 (ja) | 2017-07-19 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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