JP7416807B2 - 大きな回折格子パターンのデジタル書き込み - Google Patents
大きな回折格子パターンのデジタル書き込み Download PDFInfo
- Publication number
- JP7416807B2 JP7416807B2 JP2021540139A JP2021540139A JP7416807B2 JP 7416807 B2 JP7416807 B2 JP 7416807B2 JP 2021540139 A JP2021540139 A JP 2021540139A JP 2021540139 A JP2021540139 A JP 2021540139A JP 7416807 B2 JP7416807 B2 JP 7416807B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- linear
- features
- substrate
- diffraction
- diffractive features
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 98
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 83
- 239000013598 vector Substances 0.000 claims description 75
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 48
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 25
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 14
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 11
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 9
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 4
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 3
- 230000010344 pupil dilation Effects 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101001037256 Homo sapiens Indoleamine 2,3-dioxygenase 1 Proteins 0.000 description 2
- 102100040061 Indoleamine 2,3-dioxygenase 1 Human genes 0.000 description 2
- 101100027924 Petunia hybrida ODO1 gene Proteins 0.000 description 2
- 238000004630 atomic force microscopy Methods 0.000 description 2
- 230000003190 augmentative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 230000006855 networking Effects 0.000 description 2
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000002164 ion-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/01—Head-up displays
- G02B27/017—Head mounted
- G02B27/0172—Head mounted characterised by optical features
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4272—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having plural diffractive elements positioned sequentially along the optical path
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0081—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means for altering, e.g. enlarging, the entrance or exit pupil
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1814—Diffraction gratings structurally combined with one or more further optical elements, e.g. lenses, mirrors, prisms or other diffraction gratings
- G02B5/1819—Plural gratings positioned on the same surface, e.g. array of gratings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1852—Manufacturing methods using mechanical means, e.g. ruling with diamond tool, moulding
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
- G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
- G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
- G02B6/0013—Means for improving the coupling-in of light from the light source into the light guide
- G02B6/0015—Means for improving the coupling-in of light from the light source into the light guide provided on the surface of the light guide or in the bulk of it
- G02B6/0016—Grooves, prisms, gratings, scattering particles or rough surfaces
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
- G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
- G02B6/0033—Means for improving the coupling-out of light from the light guide
- G02B6/0035—Means for improving the coupling-out of light from the light guide provided on the surface of the light guide or in the bulk of it
- G02B6/0038—Linear indentations or grooves, e.g. arc-shaped grooves or meandering grooves, extending over the full length or width of the light guide
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/28—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals
- G02B6/293—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means
- G02B6/29304—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means operating by diffraction, e.g. grating
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/01—Head-up displays
- G02B27/0101—Head-up displays characterised by optical features
- G02B2027/0123—Head-up displays characterised by optical features comprising devices increasing the field of view
- G02B2027/0125—Field-of-view increase by wavefront division
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/01—Head-up displays
- G02B27/017—Head mounted
- G02B2027/0178—Eyeglass type
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
一実施形態では、図2に示されるように、光学システムは、バーチャル像ニアアイディスプレイシステム34であるか、またはそれを含むことができる。バーチャル像ニアアイディスプレイシステム34は、ヘッドマウントディスプレイ(「HMD」)を含むことができる。実像を形成する方法とは対照的に、バーチャル像はディスプレイ面上に形成されない。すなわち、ディスプレイ面がバーチャル像を知覚する位置に配置された場合、このディスプレイ面上に画像は形成されない。バーチャル像ディスプレイには、拡張現実ディスプレイにとって固有の利点がいくつかある。たとえば、バーチャル像の見かけのサイズは、ディスプレイ面のサイズや位置によって制限されない。実像を投影するシステムと比較して、ある程度離れているように見えるバーチャル像を形成することにより、より現実的な視覚体験を提供することができる。バーチャル像を提供することで、実像を投射するときに必要になるスクリーンのアーティファクトの補正も、必要なくなる。
Claims (14)
- コーティングを備えた平面状の表面を有する基板を提供する工程と、
第1方向と前記第1方向に垂直な第2方向に書き込むように動作可能なビーム書き込みシステムを提供する工程と、
回折パターンレイアウトを提供する工程であって、前記回折パターンレイアウトが、第1の複数のリニアな回折フィーチャと、第2の複数のリニアな回折フィーチャと、を含む工程と、
前記基板を前記ビーム書き込みシステムに配置し、それにより、前記ビーム書き込みシステムが前記コーティングに書き込むように動作可能になる工程と、
前記第2の複数のリニアな回折フィーチャを、前記ビーム書き込みシステムの第1方向と平行にアライメントさせ、前記第1の複数のリニアな回折フィーチャを、前記ビーム書き込みシステムの第1、第2方向に対して角度をなしてアライメントさせる工程と、
前記回折パターンレイアウトを前記コーティングに書き込む工程と、
を備え、
前記第1の複数のリニアな回折フィーチャが、階段状の書き込み経路で前記コーティングに書き込まれた階段状の線の回折フィーチャを含む、基板を製造する方法。 - 前記第2の複数のリニアな回折フィーチャが、前記第1の複数のリニアな回折フィーチャよりも大きな総面積を有する、請求項1に記載の基板を製造する方法。
- 前記第1、第2の複数のリニアな回折フィーチャのうちの少なくとも1つのリニアな回折フィーチャのデューティサイクルが50%未満である、請求項1に記載の基板を製造する方法。
- 前記第2の複数のリニアな回折フィーチャが、50%未満の回折フィーチャのデューティサイクルを有する、請求項2に記載の基板を製造する方法。
- 前記ビーム書き込みシステムの第1方向と平行にアライメントされた前記第2の複数のリニアな回折フィーチャが、前記ビーム書き込みシステムの第1方向と平行から、1分角以内に配向される、請求項1に記載の基板を製造する方法。
- 前記ビーム書き込みシステムの第1方向と平行にアライメントされた前記第2の複数のリニアな回折フィーチャが、前記ビーム書き込みシステムの第1方向と平行から、1秒角以内に配向される、請求項1に記載の基板を製造する方法。
- 前記回折パターンレイアウトはさらに、第3の複数のリニアな回折フィーチャを備えており、
前記第1の複数のリニアな回折フィーチャは、インカップリング回折光学要素を形成し、
前記第2の複数のリニアな回折フィーチャは、前記第1の複数のリニアな回折フィーチャと前記第3の複数のリニアな回折フィーチャとの間に光学的に配置された回転回折光学要素を形成し、
前記第3の複数のリニアな回折フィーチャは、アウトカップリング回折光学要素を形成する、請求項1に記載の基板を製造する方法。 - 前記第3の複数のリニアな回折フィーチャは、前記ビーム書き込みシステムの第1、第2方向に対して角度をなしてアライメントされ、
前記第3の複数のリニアな回折フィーチャは、階段状の書き込み経路で前記コーティングに書き込まれた階段状の線の回折フィーチャを含み、
前記第1、第3の複数のリニアな回折フィーチャは、前記第2の複数のリニアな回折フィーチャの周りに左右対称の向きで配置される、請求項7に記載の基板を製造する方法。 - 前記第1の複数のリニアな回折フィーチャが第1格子ベクトルを定義し、前記第2の複数のリニアな回折フィーチャが第2格子ベクトルを定義し、前記第3の複数のリニアな回折フィーチャが第3格子ベクトルを定義し、
前記第1、第2、第3格子ベクトルのベクトル和がほぼゼロである、請求項7に記載の基板を製造する方法。 - さらに、前記基板を用いて導波路を成形する工程を含む、請求項1に記載の基板を製造する方法。
- 前記基板がバーチャル像ニアアイディスプレイシステム用の導波路である、請求項1に記載の基板を製造する方法。
- さらに、画像担持光を全内部反射により伝送するように動作可能な導波路を成形する工程を備え、前記階段状の線の回折フィーチャによって回折された画像担持光において誘発される角度的誤差が、左右対称の向きによって矯正される、請求項8に記載の基板を製造する方法。
- 前記階段状の書き込み経路が第1書き込み経路方向と第2書き込み経路方向とを備え、前記第1書き込み経路方向と第2書き込み経路方向の連続部分が前記階段状の書き込み経路を形成する、請求項1に記載の基板を製造する方法。
- コーティングを備えた平面状の表面を有する基板を提供する工程と、
第1方向と前記第1方向に垂直な第2方向に書き込むように動作可能なビーム書き込みシステムを提供する工程と、
回折パターンレイアウトを提供する工程であって、前記回折パターンレイアウトが、第1の複数のリニアな回折フィーチャと、第2の複数のリニアな回折フィーチャと、第3の複数のリニアな回折フィーチャと、を含み、前記第2の複数のリニアな回折フィーチャが、前記第1の複数のリニアな回折フィーチャと前記第3の複数のリニアな回折フィーチャとの間に光学的に配置され、前記第1、第3の複数のリニアな回折フィーチャは、前記第2の複数のリニアな回折フィーチャの周りに左右対称の向きで配置される工程と、
前記基板を前記ビーム書き込みシステムに配置し、それにより、前記ビーム書き込みシステムが前記コーティングに書き込むように動作可能になる工程と、
前記第2の複数のリニアな回折フィーチャを、前記ビーム書き込みシステムの第1方向と平行にアライメントさせ、前記第1の複数のリニアな回折フィーチャと前記第3の複数のリニアな回折フィーチャは、前記ビーム書き込みシステムの第1方向とも第2方向とも平行にアライメントさせない工程と、
前記回折パターンレイアウトを前記コーティングに書き込む工程と、
を備え、
前記第1、第3の複数のリニアな回折フィーチャが、階段状の線の回折フィーチャとして前記コーティングに書き込まれる、基板を製造する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023182518A JP2024012231A (ja) | 2019-01-14 | 2023-10-24 | 大きな回折格子パターンのデジタル書き込み |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201962792318P | 2019-01-14 | 2019-01-14 | |
US62/792,318 | 2019-01-14 | ||
PCT/US2020/013565 WO2020150276A1 (en) | 2019-01-14 | 2020-01-14 | Digital writing of large diffraction grating patterns |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023182518A Division JP2024012231A (ja) | 2019-01-14 | 2023-10-24 | 大きな回折格子パターンのデジタル書き込み |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022517785A JP2022517785A (ja) | 2022-03-10 |
JPWO2020150276A5 JPWO2020150276A5 (ja) | 2022-10-05 |
JP7416807B2 true JP7416807B2 (ja) | 2024-01-17 |
Family
ID=71613571
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021540139A Active JP7416807B2 (ja) | 2019-01-14 | 2020-01-14 | 大きな回折格子パターンのデジタル書き込み |
JP2023182518A Pending JP2024012231A (ja) | 2019-01-14 | 2023-10-24 | 大きな回折格子パターンのデジタル書き込み |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023182518A Pending JP2024012231A (ja) | 2019-01-14 | 2023-10-24 | 大きな回折格子パターンのデジタル書き込み |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220075195A1 (ja) |
EP (1) | EP3894941A4 (ja) |
JP (2) | JP7416807B2 (ja) |
CN (1) | CN113678053B (ja) |
WO (1) | WO2020150276A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4165461A4 (en) * | 2020-07-09 | 2024-06-26 | Vuzix Corporation | IMAGE LIGHT GUIDE WITH A DIFFRACTIVE OPTICAL COMPOSITE ELEMENT AND HEAD-MOUNTED DISPLAY MADE THEREFROM |
CN114355502B (zh) * | 2022-02-17 | 2024-01-30 | 烟台艾睿光电科技有限公司 | 衍射光栅波导和ar显示设备 |
CN114637116B (zh) * | 2022-03-15 | 2023-02-10 | 嘉兴驭光光电科技有限公司 | 衍射光波导以及具有其的显示设备 |
GB202215039D0 (en) * | 2022-10-12 | 2022-11-23 | Vividq Ltd | Image replicating waveguide |
CN117148499A (zh) * | 2023-09-15 | 2023-12-01 | 慕德微纳(杭州)科技有限公司 | 一种衍射光波导的设计方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000121815A (ja) | 1998-10-19 | 2000-04-28 | Toppan Printing Co Ltd | 回折格子パターンおよび該回折格子パターンを適用した物品 |
JP2003173954A (ja) | 2001-12-05 | 2003-06-20 | Konica Corp | 電子ビーム描画方法、基材の製造方法、基材、その基材を形成するための金型、及び電子ビーム描画装置 |
JP2008076922A (ja) | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Toppan Printing Co Ltd | 可変成形描画装置の図形データ分割方法及び可変成形描画装置 |
JP2009065036A (ja) | 2007-09-07 | 2009-03-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 図形パターン分割方法及びその方法を用いた描画装置、フォトマスク |
JP2014238465A (ja) | 2013-06-06 | 2014-12-18 | 凸版印刷株式会社 | 微細凹凸回折構造を有する表示体 |
US20160231566A1 (en) | 2015-02-09 | 2016-08-11 | Tapani Levola | Display System |
WO2017120320A1 (en) | 2016-01-06 | 2017-07-13 | Vuzix Corporation | Two channel imaging light guide with dichroic reflectors |
US20170322426A1 (en) | 2016-05-07 | 2017-11-09 | Jani Kari Tapio Tervo | Degrees of freedom for diffraction elements in wave expander |
WO2018206847A1 (en) | 2017-05-08 | 2018-11-15 | Dispelix Oy | Diffractive grating with variable diffraction efficiency and method for displaying an image |
WO2018213009A1 (en) | 2017-05-17 | 2018-11-22 | Vuzix Corporation | Fixed focus image light guide with zoned diffraction gratings |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3323666B2 (ja) * | 1994-10-18 | 2002-09-09 | キヤノン株式会社 | 周期的パターンを用いた物体の回転ずれ検出装置及び方法 |
JPH08213299A (ja) * | 1995-01-31 | 1996-08-20 | Sony Corp | パターン露光装置 |
US8471230B2 (en) * | 2006-09-01 | 2013-06-25 | Pacific Biosciences Of California, Inc. | Waveguide substrates and optical systems and methods of use thereof |
PL2242419T3 (pl) * | 2008-02-14 | 2016-05-31 | Nokia Technologies Oy | Urządzenie i sposób określania kierunku spojrzenia |
US9235006B2 (en) * | 2011-05-06 | 2016-01-12 | Finisar Corporation | Optical channel monitor |
US8985803B2 (en) * | 2012-03-21 | 2015-03-24 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Freeform-prism eyepiece with illumination waveguide |
GB2529003B (en) * | 2014-08-03 | 2020-08-26 | Wave Optics Ltd | Optical device |
EP3308219A4 (en) * | 2015-06-15 | 2019-03-13 | Magic Leap, Inc. | SYSTEMS AND METHODS FOR VIRTUAL AND INCREASED REALITY |
US11598970B2 (en) * | 2016-01-06 | 2023-03-07 | Vuzix Corporation | Imaging light guide with reflective turning array |
WO2018174057A1 (ja) * | 2017-03-23 | 2018-09-27 | 大日本印刷株式会社 | 回折光学素子 |
JP7213831B2 (ja) * | 2017-06-13 | 2023-01-27 | ビュージックス コーポレーション | 拡大された光分配を行う重合格子を備えた画像光ガイド |
CN107797287A (zh) * | 2017-11-28 | 2018-03-13 | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 | 光波导镜片及显示装置 |
US10557994B1 (en) * | 2018-09-24 | 2020-02-11 | Facebook Technologies, Llc | Waveguide grating with spatial variation of optical phase |
-
2020
- 2020-01-14 JP JP2021540139A patent/JP7416807B2/ja active Active
- 2020-01-14 WO PCT/US2020/013565 patent/WO2020150276A1/en unknown
- 2020-01-14 CN CN202080020681.1A patent/CN113678053B/zh active Active
- 2020-01-14 EP EP20741693.4A patent/EP3894941A4/en active Pending
- 2020-01-14 US US17/422,960 patent/US20220075195A1/en active Pending
-
2023
- 2023-10-24 JP JP2023182518A patent/JP2024012231A/ja active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000121815A (ja) | 1998-10-19 | 2000-04-28 | Toppan Printing Co Ltd | 回折格子パターンおよび該回折格子パターンを適用した物品 |
JP2003173954A (ja) | 2001-12-05 | 2003-06-20 | Konica Corp | 電子ビーム描画方法、基材の製造方法、基材、その基材を形成するための金型、及び電子ビーム描画装置 |
JP2008076922A (ja) | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Toppan Printing Co Ltd | 可変成形描画装置の図形データ分割方法及び可変成形描画装置 |
JP2009065036A (ja) | 2007-09-07 | 2009-03-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 図形パターン分割方法及びその方法を用いた描画装置、フォトマスク |
JP2014238465A (ja) | 2013-06-06 | 2014-12-18 | 凸版印刷株式会社 | 微細凹凸回折構造を有する表示体 |
US20160231566A1 (en) | 2015-02-09 | 2016-08-11 | Tapani Levola | Display System |
WO2017120320A1 (en) | 2016-01-06 | 2017-07-13 | Vuzix Corporation | Two channel imaging light guide with dichroic reflectors |
US20170322426A1 (en) | 2016-05-07 | 2017-11-09 | Jani Kari Tapio Tervo | Degrees of freedom for diffraction elements in wave expander |
WO2018206847A1 (en) | 2017-05-08 | 2018-11-15 | Dispelix Oy | Diffractive grating with variable diffraction efficiency and method for displaying an image |
WO2018213009A1 (en) | 2017-05-17 | 2018-11-22 | Vuzix Corporation | Fixed focus image light guide with zoned diffraction gratings |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113678053B (zh) | 2024-05-28 |
EP3894941A4 (en) | 2022-10-26 |
WO2020150276A1 (en) | 2020-07-23 |
EP3894941A1 (en) | 2021-10-20 |
JP2024012231A (ja) | 2024-01-29 |
CN113678053A (zh) | 2021-11-19 |
US20220075195A1 (en) | 2022-03-10 |
JP2022517785A (ja) | 2022-03-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7416807B2 (ja) | 大きな回折格子パターンのデジタル書き込み | |
CN111512189B (zh) | 谐振波导光栅及其应用 | |
JP7378872B2 (ja) | 回折導光板 | |
US11086216B2 (en) | Generating electronic components | |
US9513480B2 (en) | Waveguide | |
TWI745770B (zh) | 使用灰調微影術及傾斜蝕刻的深度調節傾斜光柵 | |
KR102074476B1 (ko) | 결상 광학계, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP5534176B2 (ja) | 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 | |
US20230266599A1 (en) | Image light guide with compound diffractive optical element and the head-mounted display made therewith | |
JP7407842B2 (ja) | 格子結合器の片側パターン化を使用した光学接眼レンズ | |
KR20190101436A (ko) | 플라즈마 에칭에 의한 고굴절률 유리들의 패터닝 | |
JP2021528688A (ja) | 最適効率のための導波路の回転格子の設計 | |
EP4310576A1 (en) | Diffractive optical waveguide and display device | |
JP7494297B2 (ja) | 液晶層をパターン化するための方法およびシステム | |
CN115509006A (zh) | 光学设备及电子设备 | |
TWI744408B (zh) | 產生的虛擬內容顯示 | |
JPWO2020150276A5 (ja) | ||
JP7434579B2 (ja) | 多重パターニングの線角度及び回転を決定する方法 | |
JP2006047670A (ja) | 露光装置および露光方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220927 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220927 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230502 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20230725 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20230927 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231023 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231219 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240104 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7416807 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |