JP2014222702A - ガスを供給する方法、及びプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (3)
- 被処理体を処理するためのプラズマ処理装置の処理容器内にガスを供給する方法であって、
前記プラズマ処理装置は、
前記処理容器と、
前記処理容器内に設けられ、下部電極を構成する載置台と、
前記載置台の上方に設けられ、上部電極を構成するシャワーヘッドと、
前記上部電極及び下部電極の一方に高周波電力を供給する高周波電源と、
前記シャワーヘッドに処理ガス及び付加ガスを供給するためのガス供給系と、
を備え、
前記シャワーヘッドは、前記載置台の中央領域に対面する中央ガス導入部、及び、前記載置台の中央領域よりも外側の領域に対面する周辺ガス導入部、を含み、
前記ガス供給系は、
前記処理ガスを供給する第1のガスソースと、
前記付加ガスを供給する第2のガスソースと、
前記第1のガスソースからの処理ガスを前記中央ガス導入部及び前記周辺ガス導入部にそれぞれ供給する第1の分岐ライン及び第2の分岐ラインと、
前記第2のガスソースを前記第2の分岐ラインに接続するガスラインであり、流量制御器、該流量制御器と前記第2の分岐ラインとの間に設けられたバルブ、及び該流量制御器と該バルブとの間に設けられた管を含む該ガスラインと、
を有し、該方法は、
前記処理ガスを前記第1の分岐ライン及び前記第2の分岐ラインを介して前記中央ガス導入部及び前記周辺ガス導入部にそれぞれ供給する工程と、
前記バルブを閉じて前記管に前記付加ガスを充填する工程と、
前記付加ガスの充填後に前記バルブを開放する工程と、
前記バルブの開放後に、前記高周波電源から前記上部電極及び前記下部電極の一方に高周波電力を供給する工程と、
を含む方法。 - 前記付加ガスを充填する工程は、被処理体を交換する期間内に行われ、
前記充填する工程の後、前記流量制御器を閉じる工程を更に含む、
請求項1に記載の方法。 - 被処理体を処理するためのプラズマ処理装置であって、
処理容器と、
前記処理容器内に設けられ、下部電極を構成する載置台と、
前記載置台の上方に設けられ、上部電極を構成するシャワーヘッドと、
前記上部電極及び下部電極の一方に高周波電力を供給する高周波電源と、
前記シャワーヘッドに処理ガス及び付加ガスを供給するためのガス供給系と、
制御部と、
を備え、
前記シャワーヘッドは、前記載置台の中央領域に対面する中央ガス導入部、及び、前記載置台の中央領域よりも外側の領域に対面する周辺ガス導入部、を含み、
前記ガス供給系は、
前記処理ガスを供給する第1のガスソースと、
前記付加ガスを供給する第2のガスソースと、
前記第1のガスソースからの処理ガスを前記中央ガス導入部及び前記周辺ガス導入部にそれぞれ供給する第1の分岐ライン及び第2の分岐ラインと、
前記第2のガスソースを前記第2の分岐ラインに接続するガスラインであり、流量制御器、該流量制御器と前記第2の分岐ラインとの間に設けられたバルブ、及び該流量制御器と該バルブとの間に設けられた管を含む該ガスラインと、
を有し、
前記制御部は、
前記処理ガスを前記第1の分岐ライン及び前記第2の分岐ラインを介して前記中央ガス導入部及び前記周辺ガス導入部にそれぞれ供給する第1制御と、
前記バルブを閉じて前記管に前記付加ガスを充填する第2制御と、
前記付加ガスの充填後に前記バルブを開放する第3制御と、
前記バルブの開放後に、前記高周波電源から前記上部電極及び前記下部電極の一方に高周波電力を供給する第4制御と、
を実行する、プラズマ処理装置。
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