JP2014212206A - インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
物品としてのデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、上述したインプリント装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターンを形成する工程を含む。さらに、該製造方法は、パターンを形成された基板をエッチングする工程を含み得る。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子などの他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりにパターンを形成された基板を加工する他の処理を含み得る。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
4 ガス供給機構
5 ウエハステージ
8 モールド
8a パターン部
11 ウエハ
12 ガス
13b 壁部
15 バッファ空間
Claims (10)
- 型に形成されたパターンを基板上にインプリントするインプリント装置であって、
前記基板を保持し、該基板の表面に沿う方向に移動可能な基板保持部と、
前記型のパターン部と前記基板との間の空間に気体を供給するための気体供給部と、
前記気体が供給される空間を囲むように配置される壁部と、を備え、
前記基板と前記型とが対向する位置において、前記壁部は、前記基板保持部または前記基板に間隙を介して対向することを特徴とするインプリント装置。 - 前記壁部の外側に配置され、前記間隙との間を介して流出した気体を排気する排気部を備えることを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記気体供給部は、前記気体が供給される空間に対向する供給口を備え、
前記壁部の端部は、前記基板の表面に垂直な方向において、前記供給口よりも前記基板保持部の側に配置されることを特徴とする請求項1または2に記載のインプリント装置。 - 前記壁部の端部は、前記基板の表面に垂直な方向において、前記型のパターン部よりも前記基板保持部から離れて配置されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記間隙が1mm以下であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記壁部は、前記間隙において、前記気体供給部からの気体の流速を増加させるように構成されることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記供給部からの供給された気体の流速が、前記間隙において、前記基板保持部の移動速度以上になるように、前記壁部の間隙が設定されることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記気体が排気される空間を囲むように配置される第2の壁部を備え、
前記基板と前記型とが対向する位置において、前記第2の壁部は、前記基板保持部または前記基板に間隙を介して対向することを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。 - 前記排気される空間に向かう気体の流速が、前記第2の壁部によって形成される間隙において、前記基板保持部の移動速度以上になるように、前記第2の壁部の間隙が設定されることを特徴とする請求項8に記載のインプリント装置。
- 請求項1ないし9のいずれか1項に記載のインプリント装置を用いて基板上に樹脂のパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013087691A JP6230041B2 (ja) | 2013-04-18 | 2013-04-18 | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
US14/254,364 US9770850B2 (en) | 2013-04-18 | 2014-04-16 | Imprint apparatus and article manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013087691A JP6230041B2 (ja) | 2013-04-18 | 2013-04-18 | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014212206A true JP2014212206A (ja) | 2014-11-13 |
JP6230041B2 JP6230041B2 (ja) | 2017-11-15 |
Family
ID=51728419
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013087691A Active JP6230041B2 (ja) | 2013-04-18 | 2013-04-18 | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9770850B2 (ja) |
JP (1) | JP6230041B2 (ja) |
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2013
- 2013-04-18 JP JP2013087691A patent/JP6230041B2/ja active Active
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2014
- 2014-04-16 US US14/254,364 patent/US9770850B2/en active Active
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JP7064310B2 (ja) | 2017-10-24 | 2022-05-10 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品製造方法 |
KR102452936B1 (ko) | 2017-10-24 | 2022-10-11 | 캐논 가부시끼가이샤 | 임프린트 장치 및 물품 제조 방법 |
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JP7149872B2 (ja) | 2019-02-14 | 2022-10-07 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置、および物品の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20140312532A1 (en) | 2014-10-23 |
US9770850B2 (en) | 2017-09-26 |
JP6230041B2 (ja) | 2017-11-15 |
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