JP2014206572A - 光電変換サブマウント基板 - Google Patents

光電変換サブマウント基板 Download PDF

Info

Publication number
JP2014206572A
JP2014206572A JP2013082838A JP2013082838A JP2014206572A JP 2014206572 A JP2014206572 A JP 2014206572A JP 2013082838 A JP2013082838 A JP 2013082838A JP 2013082838 A JP2013082838 A JP 2013082838A JP 2014206572 A JP2014206572 A JP 2014206572A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
outflow prevention
photoelectric conversion
cladding layer
convex
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013082838A
Other languages
English (en)
Inventor
忠寛 山路
Tadahiro Yamaji
忠寛 山路
豊 衣笠
Yutaka Kinugasa
豊 衣笠
亮 友井田
Akira Tomoida
亮 友井田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2013082838A priority Critical patent/JP2014206572A/ja
Publication of JP2014206572A publication Critical patent/JP2014206572A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

【課題】アンダーフィルの余剰分がクラッド層の表面を伝って外部導波路の方に流れ出すのを未然に防ぐことができる光電変換サブマウント基板を提供する。【解決手段】基板1と内部導波路4と反射ミラー11と光素子5とアンダーフィル6と外部導波路20とを備えている。光素子5と外部導波路20の端部との間で、少なくともクラッド層3の表面に、凸状の流出防止部22Aを設けている。この凸状の流出防止部22Aは、光素子5と内部導波路4との間の隙間から流れ出したアンダーフィル6の余剰分がクラッド層3の表面を伝って外部導波路20の接着部に到達するのを防止するものである。【選択図】図1

Description

本発明は、光と電気の信号を相互に変換する光電変換サブマウント基板に関する。
近年、通信インフラの急速な広帯域化、コンピュータ等の情報処理能力の飛躍的な増大等に伴って、非常に高速な情報伝送路を有する情報処理回路へのニーズが高まっている。このような背景のもと、電気信号の伝送速度限界を突破する一つの手段として、光信号による伝送が考えられており、電気回路に光回路を混載することが種々検討されている。そして、光信号を電気信号に、またはその逆に変換するユニットとして光電変換サブマウント基板が知られている。
図6は、従来の光電変換サブマウント基板であり、(a)は平面図、(b)は(a)の要部側面断面図である。この光電変換サブマウント基板は、基板1と、基板1の表面の溝1b内に設けられたコア層2、およびコア層2を被覆して形成されたクラッド層3からなる内部導波路4を備えている。また、溝1bの内端部に設けられた光路変換用の反射ミラー11と対向するように基板1の表面に実装され、反射ミラー11を介して、内部導波路4のコア層2に光信号を発光し、若しくは内部導波路4のコア層2からの光信号を受光する光素子5を備えている。さらに、光素子5と内部導波路4との間の隙間に充填されたアンダーフィル6と、基板1の表面に端部が接着され、外部導波路7とフィルム8を有する外部導波路フィルム9を備えている(特許文献1参照)。なお、10はメタルパターンにより形成される配線パッドである。
クラッド層3は、上端面が基板1の表面よりも高くなっており、クラッド層3と基板1との間に段差(例えば、1〜15μm程度)が形成されている。
このような光電変換サブマウント基板にあっては、光素子5がアンダーフィル6によって基板1に固定され、丈夫で光電変換性能のよいものとすることができる。
ところが、光素子5と基板1との間の隙間に充填されるアンダーフィル6の余剰分が、毛細管現象によりクラッド層3の両脇の段差を伝って外部導波路フィルム9の方に流れ出す(矢印a参照)ことがある。このアンダーフィル6の余剰分がフィルム接着部に達すると、フィルム8を基板1に接着する場合、接着部を覆ったアンダーフィル6によってフィルム8が接着不良となり、外部導波路フィルム9の接続強度の不良が発生するという問題がある。
そこで、特許文献1では、光素子5と外部導波路フィルム9の端部との間の基板1の表面に流出防止部12を形成している。
この流出防止部12は、アンダーフィル6の余剰分が、毛細管現象によりクラッド層3の両脇の段差を伝って外部導波路フィルム9の方に流れ出すのを防ぐためのものである。
特開2011−33659号公報
しかしながら、この流出防止部12では、アンダーフィルの余剰分が内部導波路4の表面、つまりクラッド層3の表面を伝って外部導波路フィルム9の方に流れ出す(矢印b参照)のを防ぐことができないという問題がある。なお、基板1に形成したV字状溝に円形断面の光ファイバー(外部導波路)の端部を嵌め込み、この端部を押さえる押さえ板と溝との間に接着剤を充填することで、基板1に光ファイバーの端部を接着固定するタイプでも同様の問題がある。
本発明は前記問題を解消するためにされたもので、アンダーフィルの余剰分がクラッド層の表面を伝って外部導波路の方に流れ出すのを未然に防ぐことができる光電変換サブマウント基板を提供することを目的とするものである。
前記課題を解決するために、本発明は、基板と、前記基板の表面の溝内に設けられたコア層、および前記コア層を被覆して形成されたクラッド層からなる内部導波路と、前記溝の端部に設けられた光路変換用の反射ミラーとを備えている。また、前記反射ミラーと対向するように前記基板の表面に実装され、前記反射ミラーを介して、前記内部導波路のコア層に光信号を発光し、若しくは内部導波路のコア層からの光信号を受光する光素子を備えている。さらに、前記光素子と前記内部導波路との間の隙間に充填されたアンダーフィルと、前記基板に端部が接着された外部導波路とを備えている。そして、前記光素子と前記外部導波路の端部との間で、少なくとも前記クラッド層の表面に、前記隙間から流れ出したアンダーフィルの余剰分が前記クラッド層の表面を伝って前記外部導波路の接着部に到達するのを防止する凸状の流出防止部が設けられている。
本発明によれば、光素子と外部導波路の端部との間で、少なくともクラッド層の表面に凸状の流出防止部を設けたものである。したがって、光素子と内部導波路との間の隙間から流れ出したアンダーフィルの余剰分が凸状の流出防止部で堰き止められ、クラッド層の表面を伝って、外部導波路の接着部に到達するのを未然に防止することができる。これにより、外部導波路の接着強度の不良を防止することができ、外部導波路が剥離することなく、信頼性の高い光電変換サブマウント基板となる。
前記凸状の流出防止部は、前記クラッド層から略同じ高さで前記基板の表面に跨って延在している構成とすることができる。
この構成であれば、アンダーフィルの余剰分が毛細管現象によりクラッド層との段差を伝って外部導波路の方に流れ出したとしても、基板の表面に跨って延在している凸状の流出防止部で堰き止められる。したがって、クラッド層との段差を伝って、外部導波路の接着部に到達するのを未然に防止することができる。
前記凸状の流出防止部は、前記基板の表面で前記光素子の周囲を包囲する形状である構成とすることができる。
この構成であれば、光素子を凸状の流出防止部で囲い込む構造とすることで、凸状の流出防止部を迂回する可能性があるアンダーフィルの流出を防止することができる。
前記凸状の流出防止部は、前記基板の表面で前記光素子の周囲を多重で包囲する形状である構成とすることができる。
この構成であれば、光素子を凸状の流出防止部で多重に囲い込む構造とすることで、アンダーフィルが内側の凸状の流出防止部を乗り越えたとしても、外側の凸状の流出防止部で流出を防止できるので、流出防止の効果がより向上するようになる。
前記凸状の流出防止部は、前記クラッド層と同じ材料である構成とすることができる。
この構成であれば、クラッド層と同時に凸状の流出防止部を形成できるから、凸状の流出防止部を形成する工程が増加しなくなる。また、クラッド層と凸状の流出防止部とは、線膨張係数が同じとなるためにクラックや剥離が発生しにくく、材料同士の密着性もよくなって、信頼性が向上するようになる。
前記凸状の流出防止部は、前記クラッド層と異なる材料である構成とすることができる。
この構成であれば、凸状の流出防止部の材料選択性が増えるために、撥水性や親水性の材料を使い分ければ、アンダーフィルの流出経路の制御が行いやすくなる。
前記凸状の流出防止部の高さは、少なくとも前記アンダーフィルの流出高さよりも高く設定されている構成とすることができる。
この構成であれば、凸状の流出防止部の高さをアンダーフィルの流出高さよりも高く設定することで、より流出防止の効果が向上するようになる。
本発明によれば、アンダーフィルの余剰分がクラッド層の表面を伝って外部導波路の方に流れ出すのを未然に防ぐことができる。
本発明の第1および第2実施形態の流出防止部を備えた光電変換サブマウント基板の全体斜視図である。 図1の光電変換サブマウント基板であり、(a)は正面図、(b)は側面断面図である。 (a)は本発明の第3実施形態の流出防止部を備えた光電変換サブマウント基板の全体斜視図、(b)は本発明の第4実施形態の流出防止部を備えた光電変換サブマウント基板の全体斜視図である。 本発明の第2実施形態の流出防止部に適用した第5実施形態の流出防止部を備えた光電変換サブマウント基板であり、(a)は全体斜視図、(b)は正面図、(c)は側面断面図である。 変形例の流出防止部を備えた光電変換サブマウント基板であり、(a)は全体斜視図、(b)は正面図、(c)は側面断面図である。 従来の光電変換サブマウント基板であり、(a)は平面図、(b)は(a)の側面断面図である。
以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、背景技術と同一構成・作用の箇所は、同一番号を付して詳細な説明を省略する。
図1は本発明の光電変換サブマウント基板の全体斜視図、図2は図1の光電変換サブマウント基板であり、(a)は正面図、(b)は側面断面図である。
光電変換サブマウント基板は、基板1と、基板1の表面の浅いV字状溝1b内に設けられたコア層2、およびコア層2を被覆して形成されたクラッド層3からなる内部導波路4と、溝1bの内端部に設けられた光路変換用の反射ミラー11とを備えている。
また、反射ミラー11と対向するように基板1の表面に実装され、反射ミラー11を介して、内部導波路4のコア層2に光信号を発光し、若しくは内部導波路4のコア層2からの光信号を受光する光素子5を備えている。
さらに、光素子5と内部導波路4との間の隙間に充填されたアンダーフィル6と、基板1の表面に形成された配線パッド10と、基板1の表面の深い略V字状溝1aに接着固定された光ファイバー(外部導波路)20とを備えている。この光ファイバー20は、円形断面であり、基板1の溝1aに端部を嵌め込み、この端部を押さえる押さえ板(不図示)と溝1aとの間に接着剤を充填する。これにより、基板1に光ファイバー20の端部が接着固定されるようになる。
基板1は、例えばシリコン(Si)基板であり、基板1の表面には、内部導波路4を設けるための溝1bと、光ファイバー20の端部を嵌め込むための溝1aとが形成されている。なお、基板1の表面と裏面には、薄い酸化膜(SiO)1cがそれぞれ形成されており、基板1の表面や裏面と言うときは、酸化膜1cの表面や裏面の意味であると理解されたい。
内部導波路4は、光信号を伝送するためのものであり、コア層2およびクラッド層3により構成される。コア層2およびクラッド層3としては、例えば、屈折率の高い樹脂組成物をコア層2の材料とし、屈折率の低い樹脂組成物をクラッド層3の材料とすることができる。具体的には、コア層2およびクラッド層3の材料として、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フッ素化樹脂、ポリイミド等を挙げることができる。例えばエポキシ樹脂を用いる場合には、コア層2の材料として高屈折率のビスフェノール型エポキシ化合物の配合割合を高めたものを用い、クラッド層3の材料として低屈折率の脂環式エポキシ化合物の配合割合を高めたものを用いることができる。
コア層2は、基板1の溝1bの内部に、光ファイバー20のコアと同芯となるように直線状に形成されている。コア層2の表面は、基板1の表面とほぼ同じ高さに設定されている。クラッド層3は、溝1b内のコア層2の周囲を取り囲んで封止してあり、その上端面(表面)は基板1の表面よりも高さt1〔図2(b)参照〕で突出し、この突出部分の両端3a〔図2(a)参照〕は、基板1の両側方にフランジ状に延在されている。
光素子5と光学的に結合する側のコア層2の内端部側の溝1bには、光を反射させるために、45°ミラーの反射ミラー11が設けられている。コア層2の外端部には、光ファイバー20のコアが光学的に結合されている。
光素子5は、光信号と電気信号とを相互に変換する素子である。この光素子5は、反射ミラー11の上方で、コア層2と光学的に結合するように、クラッド層3と僅かの隙間を開けた状態で、基板1の表面に実装されている。この光素子5は、基板1の表面に設けられた金属製の配線パッド10に、Auバンプ5aを介して電気的に接続されている。
光素子5と内部導波路4のクラッド層3との間の隙間には、異物の浸入を防ぐためにアンダーフィル6が充填されている。
アンダーフィル6の材料としては、例えば、熱硬化型のエポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーンゴム、シリコーンゲル等を用いることができる。
ここで、未硬化状態のアンダーフィル6を、光素子5と内部導波路4のクラッド層3との間の隙間に充填する際に、この隙間からアンダーフィル6の余剰分が内部導波路4のクラッド層3の表面に流れ出すことがある〔図6の矢印b参照〕。
この流れ出したアンダーフィル6の余剰分がクラッド層3の表面を伝って光ファイバー20の方に流れ出し、光ファイバー20の接着部に達する。その後、光ファイバー20を基板1に接着した場合、接着部を覆ったアンダーフィル6によって光ファイバー20が接着不良となり、光ファイバー20の接続強度の不良が発生するという問題がある。
そこで、光素子5と光ファイバー20の端部との間で、少なくともクラッド層3の表面に、アンダーフィル6の余剰分がクラッド層3の表面を伝って光ファイバー20の接着部に到達するのを防止する凸状の流出防止部22A〜22Eを設けている。この凸状の流出防止部22A〜22Eは、光素子5から離間した位置に設けることが好ましい。
第1実施形態の流出防止部22Aは、クラッド層3の表面、つまり、両端3aを含むクラッド層3の表面にのみ、クラッド層3の表面よりも高さt2〔図2(b)参照〕で突出する凸部22a〔図1のクロスハッチング部分を参照〕を形成したものである。
凸部22aは、永久レジストのパターニングで形成することができる。凸部22aの高さは、1〜40μmであることが好ましい。高さt2が1μm未満であると、アンダーフィル6の流出を防止できなくなるおそれがある。高さt2が20μmあれば十分な防止効果があり、その高さを超えれば嵩高くなるおそれがある。
第1実施形態では、光素子5と光ファイバー20の端部との間で、少なくともクラッド層3の表面にのみ流出防止部22Aである凸部22aを設けたものである。したがって、光素子5と内部導波路4との間の隙間から流れ出したアンダーフィル6の余剰分が凸状の流出防止部22Aで堰き止められ、クラッド層3の表面を伝って、光ファイバー20の接着部に到達するのを未然に防止することができる。これにより、光ファイバー20の接着強度の不良を防止することができ、光ファイバー20が剥離することなく、信頼性の高い光電変換サブマウント基板となる。
第2実施形態の流出防止部22Bは、第1実施形態の流出防止部22Aの凸部22aに加え、凸部22aの両端から略同じ高さt1+t2で、基板1の表面に跨って、基板1の幅方向に略直線状で延在する凸部22bをさらに形成したものである。
第2実施形態では、アンダーフィル6の余剰分が毛細管現象によりクラッド層3との段差を伝って光ファイバー20の方に流れ出したとしても、基板1の表面に跨って延在している流出防止部22Bの凸部22bで堰き止められる。したがって、第1実施形態の作用効果に加えて、クラッド層3との段差を伝って、光ファイバー20の接着部に到達するのを未然に防止することができる。
第3実施形態の流出防止部22Cは、図3(a)のように、第2実施形態の流出防止部22Bの凸部22bに加え、基板1の表面に、凸部22bの両端から光素子5の両側を通って基板1の長さ方向に略直線状で延在させる。そして、その延在した両端から基板1の幅方向に略直線状で延在させた凸部22cをさらに形成したものである。
すなわち、流出防止部22Cは、1重の凸部22a,22b,22cで光素子5の周囲を四角枠状に包囲する形状である。なお、必ずしも四角枠状である必要はない。
第3実施形態では、光素子5を流出防止部22Cで囲い込む構造とすることで、第2実施形態の流出防止部22Bでは凸部22bを迂回する可能性があるアンダーフィル6の流出を防止することができる。
第4実施形態の流出防止部22Dは、図3(b)のように、第3実施形態の流出防止部22Cに加え、その内側の周囲を、さらに四角枠状に包囲する形状としたものである。
すなわち、内側の流出防止部22Dは、外側の流出防止部22Cと相俟って、内外位置で光素子5の周囲を四角枠状に2重で包囲する形状である。なお、必ずしも四角枠状である必要はない。また、3重以上で包囲する形状であってもよい。
第4実施形態では、光素子5を流出防止部22C,22Dで多重に囲い込む構造とすることで、アンダーフィル6が内側の流出防止部22Dを乗り越えたとしても、外側の流出防止部22Cで流出を防止できるので、流出防止の効果がより向上するようになる。
図4は第5実施形態の流出防止部22Eである。第2実施形態の流出防止部22B〔図1参照〕の凸部22a,22bの高さt1+t2と比較して、凸部22a,22bの高さを、少なくともアンダーフィル6の流出高さよりも高い高さt1+t3(t3>t2)に設定している。
第5実施形態では、流出防止部22Eの高さt3をアンダーフィル6の流出高さよりも高く設定することで、より流出防止の効果が向上するようになる。なお、第2実施形態以外の実施形態でも同様に適用することができる。
前記各実施形態において図5に例示したように、凸部22aの光素子5側のクラッド層3の一部または全部を除去することで、コア露出凹部(流出防止部)22dを設けるようにしてもよい。
この構成であれば、コア露出凹部22dが液溜まりとなるから、光素子5と内部導波路4との間の隙間から流れ出したアンダーフィル6の余剰分がコア露出凹部22dで溜められるようになる。したがって、アンダーフィル6の流出防止の効果がより向上するようになる。
前記各実施形態において、流出防止部22A〜22Eは、クラッド層3と同じ材料とすることができる。
この構成であれば、クラッド層3と同時に流出防止部22A〜22Eを形成できるから、流出防止部22A〜22Eを形成する工程が増加しなくなる。また、クラッド層3と流出防止部22A〜22Eとは、線膨張係数が同じとなるためにクラックや剥離が発生しにくく、材料同士の密着性もよくなって、信頼性が向上するようになる。
前記各実施形態において、流出防止部22A〜22Eは、クラッド層3と異なる材料とすることができる。
この構成であれば、流出防止部22A〜22Eの材料選択性が増えるために、撥水性や親水性の材料を使い分ければ、アンダーフィル6の流出経路の制御が行いやすくなる。
前記各実施形態において、外部導波路として、光ファイバー20を用いたが、図6の背景技術と同様に、外部導波路フィルム9を用いた場合であっても、アンダーフィル6の余剰分が外部導波路フィルム9の接着部に到達するのを未然に防止することができる。
1 基板
1a 溝
2 コア層
3 クラッド層
4 内部導波路
5 光素子
6 アンダーフィル
9 外部導波路フィルム(外部導波路)
11 反射ミラー
20 光ファイバー(外部導波路)
22A〜22E 流出防止部
22a〜22c 凸部
t1〜t3 高さ

Claims (7)

  1. 基板と、
    前記基板の表面の溝内に設けられたコア層、および前記コア層を被覆して形成されたクラッド層からなる内部導波路と、
    前記溝の端部に設けられた光路変換用の反射ミラーと、
    前記反射ミラーと対向するように前記基板の表面に実装され、前記反射ミラーを介して、前記内部導波路のコア層に光信号を発光し、若しくは内部導波路のコア層からの光信号を受光する光素子と、
    前記光素子と前記内部導波路との間の隙間に充填されたアンダーフィルと、
    前記基板に端部が接着された外部導波路とを備え、
    前記光素子と前記外部導波路の端部との間で、少なくとも前記クラッド層の表面に、前記隙間から流れ出したアンダーフィルの余剰分が前記クラッド層の表面を伝って前記外部導波路の接着部に到達するのを防止する凸状の流出防止部を設けたことを特徴とする光電変換サブマウント基板。
  2. 前記凸状の流出防止部は、前記クラッド層から略同じ高さで前記基板の表面に跨って延在していることを特徴とする請求項1に記載の光電変換サブマウント基板。
  3. 前記凸状の流出防止部は、前記基板の表面で前記光素子の周囲を包囲する形状であることを特徴とする請求項2に記載の光電変換サブマウント基板。
  4. 前記凸状の流出防止部は、前記基板の表面で前記光素子の周囲を多重で包囲する形状であることを特徴とする請求項2に記載の光電変換サブマウント基板。
  5. 前記凸状の流出防止部は、前記クラッド層と同じ材料であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の光電変換サブマウント基板。
  6. 前記凸状の流出防止部は、前記クラッド層と異なる材料であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の光電変換サブマウント基板。
  7. 前記凸状の流出防止部の高さは、少なくとも前記アンダーフィルの流出高さよりも高く設定されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の光電変換サブマウント基板。
JP2013082838A 2013-04-11 2013-04-11 光電変換サブマウント基板 Pending JP2014206572A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013082838A JP2014206572A (ja) 2013-04-11 2013-04-11 光電変換サブマウント基板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013082838A JP2014206572A (ja) 2013-04-11 2013-04-11 光電変換サブマウント基板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014206572A true JP2014206572A (ja) 2014-10-30

Family

ID=52120181

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013082838A Pending JP2014206572A (ja) 2013-04-11 2013-04-11 光電変換サブマウント基板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2014206572A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016212155A (ja) * 2015-04-30 2016-12-15 住友電気工業株式会社 光半導体素子、光半導体素子の製造方法および光半導体素子の検査方法
WO2023028418A1 (en) * 2021-08-25 2023-03-02 Cisco Technology, Inc. Photonics packaging platform

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006330280A (ja) * 2005-05-25 2006-12-07 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光回路構造および光モジュール
JP2008041968A (ja) * 2006-08-07 2008-02-21 Sony Chemical & Information Device Corp 発光素子モジュール
JP2008145684A (ja) * 2006-12-08 2008-06-26 Sony Corp 光導波路及び光モジュール
JP2011033659A (ja) * 2009-07-29 2011-02-17 Panasonic Electric Works Co Ltd 光電変換サブマウント基板及びその製造方法
JP2013057718A (ja) * 2011-09-07 2013-03-28 Panasonic Corp 光モジュール

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006330280A (ja) * 2005-05-25 2006-12-07 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光回路構造および光モジュール
JP2008041968A (ja) * 2006-08-07 2008-02-21 Sony Chemical & Information Device Corp 発光素子モジュール
JP2008145684A (ja) * 2006-12-08 2008-06-26 Sony Corp 光導波路及び光モジュール
JP2011033659A (ja) * 2009-07-29 2011-02-17 Panasonic Electric Works Co Ltd 光電変換サブマウント基板及びその製造方法
JP2013057718A (ja) * 2011-09-07 2013-03-28 Panasonic Corp 光モジュール

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016212155A (ja) * 2015-04-30 2016-12-15 住友電気工業株式会社 光半導体素子、光半導体素子の製造方法および光半導体素子の検査方法
WO2023028418A1 (en) * 2021-08-25 2023-03-02 Cisco Technology, Inc. Photonics packaging platform
US11762155B2 (en) 2021-08-25 2023-09-19 Cisco Technology, Inc. Photonics packaging platform

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3936365B2 (ja) 機能素子実装モジュール及びその製造方法
JP5664905B2 (ja) 光電変換モジュール
US8498504B2 (en) Integrated optical transmission board and optical module
US20120020621A1 (en) Laterally Coupled Optical Fiber Component and Processing Method Thereof
US8923669B2 (en) Optical waveguide and method of manufacturing the same, and optical waveguide device
US9116291B2 (en) Integrated optical module
US9244222B2 (en) Optical waveguide device
JP5185895B2 (ja) 光電変換サブマウント基板及びその製造方法
JP4845333B2 (ja) 光電変換素子パッケージ、その作製方法及び光コネクタ
JP2007094296A (ja) 光導波路デバイス及び光導波路デバイスの製造方法
JP2010097169A (ja) 光電気モジュール、光基板および光電気モジュール製造方法
JP2014206572A (ja) 光電変換サブマウント基板
JP2014206573A (ja) 光電変換サブマウント基板
JP2012113180A (ja) 光導波路及びその製造方法と光導波路装置
JP2013057720A (ja) 光モジュール
JP6065764B2 (ja) 光電変換サブマウント基板
JP2009020391A (ja) 光導波路及び光モジュール
JP5144357B2 (ja) 複合光伝送基板および光モジュール
JP2014145947A (ja) 光電変換サブマウント基板
JP2014145946A (ja) 光電変換サブマウント基板
JP6492169B2 (ja) 光伝送基板および光伝送モジュール
US9122023B2 (en) Optical waveguide device and method of manufacturing the same
JP2010199410A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2012226100A (ja) 光回路
JP6137971B2 (ja) 光導波路付きフレキシブルプリント配線板、およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20150225

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160204

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160831

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160906

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170404