JP2014199930A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
その作製方法に関する。例えば、液晶表示パネルに代表される電気光学装置や有機発光素
子を有する発光表示装置を部品として搭載した電子機器に関する。
置全般を指し、電気光学装置、半導体回路および電子機器は全て半導体装置である。
れた材料であり、液晶ディスプレイなどで必要とされる透明電極材料として用いられてい
る。
半導体の一種である。化合物半導体とは、2種以上の原子が結合してできる半導体である
。一般的に、金属酸化物は絶縁体となる。しかし、金属酸化物を構成する元素の組み合わ
せによっては、半導体となることが知られている。
は半導体特性を示すことが知られている。このような金属酸化物で構成される透明半導体
層をチャネル形成領域とする薄膜トランジスタが開示されている(特許文献1乃至4、非
特許文献1)。
ホモロガス相を有するInGaO3(ZnO)m(m:自然数)は公知の材料である(非
特許文献2乃至4)。
適用可能であることが確認されている(特許文献5、非特許文献5及び6)。
用する技術が注目されている。例えば、酸化物半導体膜として酸化亜鉛、In−Ga−Z
n−O系酸化物半導体を用いて薄膜トランジスタを作製し、画像表示装置のスイッチング
素子などに用いる技術が特許文献6及び特許文献7で開示されている。
半導体装置を提供することを課題の一つとする。
化物半導体層を用いた薄膜トランジスタとする。代表的にはSiO2を0.1重量%以上
20重量%以下、好ましくは1重量%以上6重量%以下含む酸化物半導体ターゲットを用
いて成膜を行い、酸化物半導体層に結晶化を阻害するSiOx(X>0)を含ませること
で、薄膜トランジスタのゲート電圧が0Vにできるだけ近い正のしきい値電圧でチャネル
が形成される薄膜トランジスタを実現する。
O系酸化物半導体、Sn−Zn−O系酸化物半導体、In−Sn−O系酸化物半導体、G
a−Zn−O系酸化物半導体、またはZn−O系酸化物半導体を用いる。
ト抵抗を低減するため、ソース電極層及びドレイン電極層と上記SiOxを含む酸化物半
導体層との間にソース領域またはドレイン領域を形成する。
a−Zn−O系酸化物半導体、In−Zn−O系酸化物半導体、Sn−Zn−O系酸化物
半導体、In−Sn−O系酸化物半導体、Ga−Zn−O系酸化物半導体、またはZn−
O系酸化物半導体を用いる。また、ソース領域またはドレイン領域は、窒素を含ませたI
n−Ga−Zn−O系非単結晶膜、即ちIn−Ga−Zn−O−N系非単結晶膜(IGZ
ON膜とも呼ぶ)を用いてもよい。このIn−Ga−Zn−O−N系非単結晶膜は、窒素
ガスを含む雰囲気中でインジウム、ガリウム、及び亜鉛を含む酸化物を成分とするターゲ
ットを用いて成膜して得たインジウム、ガリウム、及び亜鉛を含む酸窒化物膜を加熱処理
することで得られる。また、ソース領域またはドレイン領域は、窒素を含ませたGa−Z
n−O系非単結晶膜、即ちGa−Zn−O−N系非単結晶膜(GZON膜とも呼ぶ)や、
窒素を含ませたZn−O系非単結晶膜、即ちZn−O−N系非単結晶膜や、窒素を含ませ
たSn−Zn−O系非単結晶膜、即ちSn−Zn−O−N系非単結晶膜を用いてもよい。
素、または上述した元素を成分とする合金か、上述した元素を組み合わせた合金膜等を用
いる。
物半導体層と、ゲート電極と酸化物半導体層の間に絶縁層と、SiOxを含む酸化物半導
体層とソース電極層またはドレイン電極層との間にソース領域またはドレイン領域とを有
し、ソース領域またはドレイン領域は、酸化物半導体材料または酸窒化物材料である半導
体装置である。
む酸化物半導体ターゲットを用いたスパッタ法で形成される。
、ゲート電極上に絶縁層を形成し、絶縁層上にSiO2を0.1重量%以上20重量%以
下含む第1の酸化物半導体ターゲットを用いたスパッタ法でSiOxを含む酸化物半導体
層を成膜し、SiOxを含む酸化物半導体層上に窒素を含む雰囲気下で第2の酸化物半導
体ターゲットを用いたスパッタ法で酸窒化物層を形成する半導体装置の作製方法である。
物層の一部を除去して、SiOxを含む酸化物半導体層の一部を露呈させてチャネルエッ
チ型の薄膜トランジスタを作製する。
ジスタ、ボトムコンタクト型の薄膜トランジスタ、またはトップゲート型の薄膜トランジ
スタを作製することができる。
SiO2を0.1重量%以上20重量%以下含む第1の酸化物半導体ターゲットを用いた
スパッタ法で成膜した後、SiOxを含む酸化物半導体層上に窒素を含む雰囲気下で第2
の酸化物半導体ターゲットを用いたスパッタ法で酸窒化物層を形成し、酸窒化物層を覆う
絶縁層を形成し、絶縁層上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方
法である。
層及びドレイン電極層とのコンタクト抵抗を低減するため、ソース電極層及びドレイン電
極層と上記SiOxを含む酸化物半導体層との間に設けられるソース領域またはドレイン
領域である。
体装置を実現する。
以下の説明に限定されず、その形態および詳細を様々に変更し得ることは、当業者であれ
ば容易に理解される。また、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈さ
れるものではない。
本実施の形態では、SiOxを含む酸化物半導体層を用いた薄膜トランジスタの一例につ
いて図1(A)及び図1(B)に説明する。
ッチ型と呼ばれる構造の断面図の一例である。また、図1(B)は薄膜トランジスタの上
面図の一例であり、図中B1―B2の鎖線で切断した断面図が図1(A)に相当する。
けられ、ゲート電極層101上にゲート絶縁層102が設けられ、ゲート絶縁層102上
にゲート電極層101と重なるSiOxを含む酸化物半導体層103が設けられている。
また、SiOxを含む酸化物半導体層103の一部と重なるソース電極層又はドレイン電
極層105a、105bが設けられ、SiOxを含む酸化物半導体層103の一部とソー
ス電極層又はドレイン電極層105a、105bの間にソース領域又はドレイン領域10
4a、104bを有する。また、SiOxを含む酸化物半導体層103及びソース電極層
及びドレイン電極層105a、105bを接して覆う保護絶縁層106を有する。
ングステン、ネオジム、スカンジウムなどの金属材料、またはこれらの金属材料を主成分
とする合金材料、またはこれらの金属材料を成分とする窒化物を用いて、単層又は積層で
形成することができる。アルミニウムや銅などの低抵抗導電性材料で形成するのが望まし
いが、耐熱性が低い、または腐食しやすいという問題点があるので耐熱性導電性材料と組
み合わせて用いるのが好ましい。耐熱性導電性材料としては、モリブデン、チタン、クロ
ム、タンタル、タングステン、ネオジム、スカンジウム等を用いる。
層された二層の積層構造、または銅層上にモリブデン層を積層した二層構造、または銅層
上に窒化チタン層若しくは窒化タンタル層を積層した二層構造、窒化チタン層とモリブデ
ン層とを積層した二層構造とすることが好ましい。3層の積層構造としては、タングステ
ン層または窒化タングステン層と、アルミニウムとシリコンの合金層またはアルミニウム
とチタンの合金層と、窒化チタン層またはチタン層とを積層した構造とすることが好まし
い。
縁層102は、CVD法又はスパッタリング法等を用いて、酸化シリコン層、窒化シリコ
ン層、酸化窒化シリコン層又は窒化酸化シリコン層を単層で又は積層して形成することが
できる。また、ゲート絶縁層102として、有機シランガスを用いたCVD法により酸化
シリコン層を形成することも可能である。
n−Zn−O系、Ga−Sn−Zn−O系、In−Zn−O系、Sn−Zn−O系、In
−Sn−O系、Ga−Zn−O系、またはZn−O系の酸化物半導体を用いる。
む酸化物半導体ターゲット(SnO2:ZnO=1:1)を用いるスパッタ法により成膜
する。この場合、SiOxを含む酸化物半導体層103は、Snを0.01重量%以上6
0重量%以下、好ましくは3重量%以上50重量%以下含む膜となる。
半導体層、例えばIn−Ga−Zn−O系酸化物半導体、In−Zn−O系酸化物半導体
、Sn−Zn−O系酸化物半導体、In−Sn−O系酸化物半導体、Ga−Zn−O系酸
化物半導体、またはZn−O系酸化物半導体を用いる。また、ソース領域またはドレイン
領域104a、104bは、窒素を含ませたIn−Ga−Zn−O系非単結晶膜、即ちI
n−Ga−Zn−O−N系非単結晶膜(IGZON膜とも呼ぶ)を用いてもよい。また、
ソース領域またはドレイン領域104a、104bは、窒素を含ませたGa−Zn−O系
非単結晶膜、即ちGa−Zn−O−N系非単結晶膜(GZON膜とも呼ぶ)や、窒素を含
ませたZn−O−N系非単結晶膜や、窒素を含ませたSn−Zn−O−N系非単結晶膜を
用いてもよい。
を含む雰囲気中でスパッタ法によりIn(インジウム)、Ga(ガリウム)、及びZn(
亜鉛)を含む酸化物半導体ターゲット(In2O3:Ga2O3:ZnO=1:1:1)
を用いて得たインジウム、ガリウム、及び亜鉛を含む酸窒化物膜の成膜後に加熱処理する
ことで得られる酸窒化物材料を用いる。
む酸化物半導体層103と大きく異なっている。また、ソース領域またはドレイン領域1
04a、104bは、成膜後に加熱処理を行った場合または成膜直後に結晶粒を含む場合
もある。一方、SiOxを含む酸化物半導体層103は、SiOxを含ませることにより
膜の結晶化温度が高くなるため、例えばソース領域またはドレイン領域104a、104
bの一部が結晶化する温度で加熱処理を行っても、SiOxを含む酸化物半導体層103
は非晶質状態を維持することができる。
、Ti、Mo、Wから選ばれた元素、または上述した元素を成分とする合金か、上述した
元素を組み合わせた合金膜等を用いる。
い金属材料からなるソース電極層及びドレイン電極層105a、105bとのコンタクト
抵抗を低減する。従って、ソース領域またはドレイン領域104a、104bを設けるこ
とにより、電気特性の優れた薄膜トランジスタ160を実現する。
コン膜、または酸化窒化シリコン膜などの単層またはこれらの積層を用いることができる
。
本実施の形態では、ゲート電極の幅が実施の形態1とは異なる薄膜トランジスタの一例に
ついて図2(A)及び図2(B)に説明する。
ッチ型と呼ばれる構造の断面図の一例である。また、図2(B)は薄膜トランジスタの上
面図の一例であり、図中C1―C2の鎖線で切断した断面図が図2(A)に相当する。
けられ、ゲート電極層101上にゲート絶縁層102が設けられ、ゲート絶縁層102上
に酸化物半導体層が設けられ、酸化物半導体層上にソース電極層又はドレイン電極層10
5a、105bが設けられている。また、酸化物半導体層の積層及びソース電極層及びド
レイン電極層105a、105b覆う保護絶縁層106を有する。
の酸化物半導体層とも呼ぶ)と、その上に第2の酸化物半導体層(または酸窒化物層)と
が積層される。ただし、SiOxを含む酸化物半導体層103においてチャネルとして機
能する領域上にはエッチングにより除去されるため第2の酸化物半導体層は形成されない
。なお、第2の酸化物半導体層(または酸窒化物層)は、バッファ層、n+層、ソース領
域またはドレイン領域として機能する。図2(A)ではソース領域またはドレイン領域1
04a、104bとして図示する。
1重量%以上20重量%以下、好ましくは1重量%以上6重量%以下の割合で含ませたI
n(インジウム)、Ga(ガリウム)、及びZn(亜鉛)を含む酸化物半導体ターゲット
を用いて成膜する。酸化物半導体にSiOxを含ませることにより、成膜される酸化物半
導体をアモルファス化することが容易となる。また、酸化物半導体膜を熱処理した場合に
、結晶化してしまうのを抑制することができる。
GZOにSiO2を含ませるとどのような構造変化が起こるか、古典分子動力学シミュレ
ーションにより調べた。古典分子動力学法では、原子間相互作用を特徴づける経験的ポテ
ンシャルを定義することで、各原子に働く力を評価し、ニュートンの運動方程式を数値的
に解くことにより、各原子の運動(時間発展)を決定論的に追跡できる。
−Hugginsポテンシャルを用いた。
ZnO4のIn、Ga、Znのそれぞれ20原子ずつをSi原子で置換した構造(図8参
照)を作製した。Si置換モデルにおいて、Siは3.57atom%(2.34重量%
)である。また、単結晶モデルの密度は6.36g/cm3、Si置換モデルの密度は6
.08g/cm3である。
約2000℃)以下である1727℃において、圧力一定(1atm)で、150pse
c間(時間刻み幅0.2fsec×75万ステップ)の古典分子動力学シミュレーション
により、構造緩和を行った。これら2つの構造に対して動径分布関数g(r)を求めた。
なお、動径分布関数g(r)とは、ある原子から距離r離れた位置において、他の原子が
存在する確率密度を表す関数である。原子同士の相関が無くなっていくと、g(r)は1
に近づく。
ことにより得られた最終構造をそれぞれ図9、図10に示す。また、それぞれの構造にお
ける動径分布関数g(r)を図11に示す。
に示すSi置換モデルは不安定で、時間経過とともに結晶構造が崩れていき、アモルファ
ス構造へと変化することが確認できる。図11において、各構造モデルの動径分布関数g
(r)を比較すると、単結晶モデルでは、長距離でもピークがあり、長距離秩序があるこ
とがわかる。一方、Si置換モデルでは、0.6nm程度でピークが消え、長距離秩序が
ないことがわかる。
アモルファス構造のほうが安定であり、IGZO薄膜にSiO2を含有することにより、
IGZOのアモルファス化が起こりやすくなることが示唆された。実際にスパッタ法で得
られるSiO2を含有させたIGZO薄膜は、成膜直後において非晶質半導体膜であるた
め、これらの計算結果から、SiO2を含有させることによって高温加熱を行っても結晶
化を阻害し、非晶質(アモルファス)構造を維持することができると導き出される。
にも、In−Sn−Zn−O系、Ga−Sn−Zn−O系、In−Zn−O系、Sn−Z
n−O系、In−Sn−O系、Ga−Zn−O系、またはZn−O系の酸化物半導体を用
いることができる。
半導体層、例えばIn−Ga−Zn−O系酸化物半導体、In−Zn−O系酸化物半導体
、Sn−Zn−O系酸化物半導体、In−Sn−O系酸化物半導体、Ga−Zn−O系酸
化物半導体、またはZn−O系酸化物半導体を用いる。また、ソース領域またはドレイン
領域104a、104bとしては、In−Ga−Zn−O−N系非単結晶膜、Ga−Zn
−O−N系非単結晶膜、Zn−O−N系非単結晶膜や、Sn−Zn−O−N系非単結晶膜
を用いてもよい。
を含む雰囲気中でスパッタ法によりSn(錫)、及びZn(亜鉛)を含む酸化物半導体タ
ーゲット(SnO2:ZnO=1:1)を用いて得たSn−Zn−O−N系非単結晶膜の
成膜後に加熱処理することで得られる酸窒化物材料を用いる。
製する例を以下に説明する。
基板100はガラス基板を用いる。ゲート電極層101の材料は、モリブデン、チタン、
クロム、タンタル、タングステン、アルミニウム、銅、ネオジム、スカンジウム等の金属
材料又はこれらを主成分とする合金材料を用いて、単層で又は積層して形成することがで
きる。なお、ゲート電極層101の形成の際、画素部の容量配線108、及び端子部の第
1の端子121も形成する。
層が積層された二層の積層構造、または銅層上にモリブデン層を積層した二層構造、また
は銅層上に窒化チタン層若しくは窒化タンタル層を積層した二層構造、窒化チタン層とモ
リブデン層とを積層した二層構造とすることが好ましい。また、Caを含む銅層上にバリ
ア層となるCaを含む酸化銅層の積層や、Mgを含む銅層上にバリア層となるMgを含む
酸化銅層の積層もある。また、3層の積層構造としては、タングステン層または窒化タン
グステン層と、アルミニウムとシリコンの合金層またはアルミニウムとチタンの合金層と
、窒化チタン層またはチタン層とを積層した積層とすることが好ましい。
2はスパッタ法、PCVD法などを用い、膜厚を50〜400nmとする。
の厚さで形成する。勿論、ゲート絶縁層102はこのような酸化シリコン膜に限定される
ものでなく、酸化窒化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、窒化アルミニ
ウム膜、酸化窒化アルミニウム膜、酸化タンタル膜などの他の絶縁膜を用い、これらの材
料から成る単層または積層構造として形成しても良い。積層する場合、例えば、PCVD
法により窒化シリコン膜を形成し、その上にスパッタ法で酸化シリコン膜を成膜すればよ
い。また、ゲート絶縁層102として酸化窒化シリコン膜、または窒化シリコン膜などを
用いる場合、ガラス基板からの不純物、例えばナトリウムなどが拡散し、後にゲート絶縁
層102の上方に形成する酸化物半導体に侵入することをブロックすることができる。
重量%の割合で含ませたIn(インジウム)、Ga(ガリウム)、及びZn(亜鉛)を含
む酸化物半導体ターゲットを用いて成膜を行う。酸化物半導体にSiOxを含ませること
により、成膜される酸化物半導体をアモルファス化することが容易となる。また、SiO
xを含ませることにより、酸化物半導体膜の成膜後のプロセスにおいて熱処理した場合に
、酸化物半導体膜の結晶化を防止することができる。
法で成膜する。窒素ガスを含む雰囲気中でスパッタ法によりSn(錫)、及びZn(亜鉛
)を含む酸化物半導体ターゲット(SnO2:ZnO=1:1)を用いて得たSn−Zn
−O−N系非単結晶膜を成膜する。
があり、さらにパルス的にバイアスを与えるパルスDCスパッタ法もある。
装置は、同一チャンバーで異なる材料膜を積層成膜することも、同一チャンバーで複数種
類の材料を同時に放電させて成膜することもできる。
や、グロー放電を使わずマイクロ波を用いて発生させたプラズマを用いるECRスパッタ
法を用いるスパッタ装置がある。
とを化学反応させてそれらの化合物薄膜を形成するリアクティブスパッタ法や、成膜中に
基板にも電圧をかけるバイアススパッタ法もある。
系非単結晶膜を選択的にエッチングし、さらに同じマスクを用いてSiOxを含むIn−
Ga−Zn−O系非単結晶膜を選択的にエッチングする。エッチング後にレジストマスク
は除去する。
により不要な部分(ゲート絶縁層の一部)を除去してゲート電極層と同じ材料の配線や電
極層に達するコンタクトホールを形成する。このコンタクトホールは後に形成する導電膜
と直接接続するために設ける。例えば、駆動回路部において、ゲート電極層とソース電極
層或いはドレイン電極層と直接接する薄膜トランジスタや、端子部のゲート配線と電気的
に接続する端子を形成する場合にコンタクトホールを形成する。なお、ここではフォトリ
ソグラフィー工程を行って、後に形成する導電膜と直接接続するためのコンタクトホール
を形成する例を示したが、特に限定されず、後で画素電極との接続のためのコンタクトホ
ールと同じ工程でゲート電極層に達するコンタクトホールを形成し、画素電極と同じ材料
で電気的な接続を行ってもよい。画素電極と同じ材料で電気的な接続を行う場合にはマス
ク数を1枚削減することができる。
蒸着法で形成する。
述した元素を成分とする合金か、上述した元素を組み合わせた合金膜等が挙げられる。ま
た、後の工程で200℃〜600℃の熱処理を行う場合には、この熱処理に耐える耐熱性
を導電膜に持たせることが好ましい。Al単体では耐熱性が劣り、また腐蝕しやすい等の
問題点があるので耐熱性導電性材料と組み合わせて形成する。Alと組み合わせる耐熱性
導電性材料としては、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、タングステン(W)、モリブ
デン(Mo)、クロム(Cr)、Nd(ネオジム)、Sc(スカンジウム)から選ばれた
元素、または上述した元素を成分とする合金か、上述した元素を組み合わせた合金膜、ま
たは上述した元素を成分とする窒化物で形成する。
としてもよく、アルミニウム膜上にチタン膜を積層してもよい。また、導電膜としてTi
膜と、そのTi膜上に重ねてNdを含むアルミニウム(Al−Nd)膜を積層し、さらに
その上にTi膜を成膜する3層構造としてもよい。導電膜は、シリコンを含むアルミニウ
ム膜の単層構造としてもよい。
要な部分を除去して画素部にソース電極層又はドレイン電極層105a、105b、ソー
ス領域又はドレイン領域104a、104bを形成し、駆動回路部にソース電極層又はド
レイン電極層、ソース領域又はドレイン領域をそれぞれ形成する。この際のエッチング方
法としてウェットエッチングまたはドライエッチングを用いる。例えば導電膜としてアル
ミニウム膜、又はアルミニウム合金膜を用いる場合は、燐酸と酢酸と硝酸を混ぜた溶液を
用いたウェットエッチングを行うことができる。ここでは、ウェットエッチングにより、
Ti膜である導電膜をエッチングしてソース電極層又はドレイン電極層を形成し、Sn−
Zn−O−N系非単結晶膜をエッチングしてソース領域又はドレイン領域104a、10
4bを形成する。このエッチング工程において、SiOxを含む酸化物半導体膜の露出領
域も一部エッチングされ、SiOxを含む酸化物半導体層103となる。
a、105bと同じ材料である第2の端子122を端子部に残す。なお、第2の端子12
2はソース配線(ソース電極層又はドレイン電極層105a、105bを含むソース配線
)と電気的に接続されている。
る薄膜トランジスタ170が作製できる。
を介して端子部の第1の端子121と直接接続される。なお、本実施の形態では図示しな
いが、上述した工程と同じ工程を経て駆動回路の薄膜トランジスタのソース配線あるいは
ドレイン配線とゲート電極が直接接続される。
む)を行う。ここでは炉に入れ、窒素雰囲気下で350℃、1時間の熱処理を行う。この
熱処理によりSiOxを含むIn−Ga−Zn−O系非単結晶膜の原子レベルの再配列が
行われる。また、SiOxを含む酸化物半導体層103はSiOxを含んでいるため、こ
の熱処理での結晶化を妨げることができ、非晶質構造を保つことができる。なお、熱処理
を行うタイミングは、Sn−Zn−O−N系非単結晶膜の成膜後であれば特に限定されず
、例えば画素電極形成後に行ってもよい。
成する。
エッチングによりソース電極層又はドレイン電極層105bに達するコンタクトホールを
形成する。また、ここでのエッチングにより第2の端子122に達するコンタクトホール
、接続電極120に達するコンタクトホールも形成する。
は、酸化インジウム(In2O3)やインジウム錫酸化物(In2O3―SnO2、IT
Oと略記する)などをスパッタ法や真空蒸着法などを用いて形成する。このような材料の
エッチング処理は塩酸系の溶液により行う。しかし、特にITOのエッチングは残渣が発
生しやすいので、エッチング加工性を改善するために酸化インジウム酸化亜鉛合金(In
2O3−ZnO)を用いても良い。
要な部分を除去して画素電極層110を形成する。また、このフォトリソグラフィー工程
において、容量部におけるゲート絶縁層102及び保護絶縁層106を誘電体として、容
量配線108と画素電極層110とで保持容量が形成される。また、このフォトリソグラ
フィー工程において、第1の端子及び第2の端子をレジストマスクで覆い端子部に形成さ
れた透明導電膜128、129を残す。透明導電膜128、129はFPCとの接続に用
いられる電極または配線となる。第1の端子121と直接接続された接続電極120上に
形成された透明導電膜128は、ゲート配線の入力端子として機能する接続用の端子電極
となる。第2の端子122上に形成された透明導電膜129は、ソース配線の入力端子と
して機能する接続用の端子電極である。
量配線108と画素電極層110とで保持容量を形成する例を示したが、特に限定されず
、ソース電極またはドレイン電極と同じ材料で構成される電極を容量配線上方に設け、そ
の電極と、容量配線と、それらの間にゲート絶縁層102を誘電体として構成する保持容
量を形成し、その電極と画素電極層とを電気的に接続する構成としてもよい。
の画素部における薄膜トランジスタ170の上面図が図4に相当する。
相当する断面図が図3に相当する。図3は、画素部における薄膜トランジスタ170の断
面構造と、画素部における容量部の断面構造と、端子部の断面構造を示している。
図示している。また、図5(A)は図5(B)中のD1−D2線に沿った断面図に相当す
る。図5(A)において、保護絶縁層106上に形成される透明導電膜155は、入力端
子として機能する接続用の端子電極である。また、図5(A)において、端子部では、ゲ
ート配線と同じ材料で形成される電極156が、ソース配線と電気的に接続される第2の
端子150の下方にゲート絶縁層152を介して重なる。電極156は第2の端子150
とは電気的に接続しておらず、電極156を第2の端子150と異なる電位、例えばフロ
ーティング、GND、0Vなどに設定すれば、ノイズ対策のための容量または静電気対策
のための容量を形成することができる。また、第2の端子150は、保護絶縁層106を
介して透明導電膜155と電気的に接続している。
。また、端子部においては、ゲート配線と同電位の第1の端子、ソース配線と同電位の第
2の端子、容量配線と同電位の第3の端子などが複数並べられて配置される。それぞれの
端子の数は、それぞれ任意な数で設ければ良いものとし、実施者が適宣決定すれば良い。
有する画素部、及び端子部を完成させることができる。また、同一基板上に駆動回路も形
成することもできる。
と、対向電極が設けられた対向基板との間に液晶層を設け、アクティブマトリクス基板と
対向基板とを固定する。なお、対向基板に設けられた対向電極と電気的に接続する共通電
極をアクティブマトリクス基板上に設け、共通電極と電気的に接続する端子を端子部に設
ける。この端子は、共通電極を固定電位、例えばGND、0Vなどに設定するための端子
である。
に示す。図6では容量配線を設けず、画素電極を隣り合う画素のゲート配線と保護絶縁膜
及びゲート絶縁層を介して重ねて保持容量を形成する例であり、この場合、容量配線及び
容量配線と接続する第3の端子は省略することができる。なお、図6において、図4と同
じ部分には同じ符号を用いて説明する。
を駆動することによって、画面上に表示パターンが形成される。詳しくは選択された画素
電極と該画素電極に対応する対向電極との間に電圧が印加されることによって、画素電極
と対向電極との間に配置された液晶層の光学変調が行われ、この光学変調が表示パターン
として観察者に認識される。
は動画のぼけが生じるという問題がある。液晶表示装置の動画特性を改善するため、全面
黒表示を1フレームおきに行う、所謂、黒挿入と呼ばれる駆動技術がある。
善する、所謂、倍速駆動と呼ばれる駆動技術もある。
ダイオード)光源または複数のEL光源などを用いて面光源を構成し、面光源を構成して
いる各光源を独立して1フレーム期間内で間欠点灯駆動する駆動技術もある。面光源とし
て、3種類以上のLEDを用いてもよいし、白色発光のLEDを用いてもよい。独立して
複数のLEDを制御できるため、液晶層の光学変調の切り替えタイミングに合わせてLE
Dの発光タイミングを同期させることもできる。この駆動技術は、LEDを部分的に消灯
することができるため、特に一画面を占める黒い表示領域の割合が多い映像表示の場合に
は、消費電力の低減効果が図れる。
を従来よりも改善することができる。
ことができる。
本実施の形態では、マスク数を低減するため、多階調マスクを用いた露光を行う例を示す
。
ない例を示す。加えて、希少金属の一種であるガリウムも酸化物半導体層の組成元素とし
て用いない例を示す。
を行うことが可能なマスクであり、透過した光が複数の強度となる露光マスクである。一
度の露光及び現像工程により、複数(代表的には二種類)の厚さの領域を有するレジスト
マスクを形成することが可能である。このため、多階調マスクを用いることで、露光マス
クの枚数を削減することが可能である。
される。遮光部においては、光の透過率が0%である。一方、回折格子はスリット、ドッ
ト、メッシュ等の光透過部の間隔を、露光に用いる光の解像度限界以下の間隔とすること
により、光の透過率を制御することができる。なお、回折格子は、周期的なスリット、ド
ット、メッシュ、または非周期的なスリット、ドット、メッシュどちらも用いることがで
きる。
される。半透過部は、MoSiN、MoSi、MoSiO、MoSiON、CrSiなど
を用いることができる。遮光部は、クロムや酸化クロム等の光を吸収する遮光材料を用い
て形成することができる。ハーフトーンマスクに露光光を照射した場合、遮光部において
は、光透過率は0%であり、遮光部及び半透過部が設けられていない領域では光透過率は
100%である。また、半透過部においては、10〜70%の範囲で調整可能である。半
透過部に於ける光の透過率の調整は、半透過部の材料により調整により可能である。
する。
設ける。本実施の形態では、絶縁膜357として酸化珪素膜(膜厚100nm)を用いる
。ゲート電極層351上にゲート絶縁層352、SiOxを含む酸化物半導体膜380、
酸窒化物膜381及び導電膜383を順に積層する。本実施の形態では、SiOxを含む
酸化物半導体膜380として、インジウム、及びガリウムを含まない酸化物半導体、代表
的には、Sn−Zn−O系、Zn−O系の酸化物半導体を用いる。本実施の形態では、S
iOxを含む酸化物半導体膜380としてスパッタ法を用いたSn−Zn−O系の酸化物
半導体を用いる。また、酸窒化物膜381としてSiOxを含まないSn−Zn−O−N
系の酸窒化物材料を用いる。
、導電膜383上にマスク384を形成する。
を行う例を示す。
2(B)に示すように膜厚の異なる領域を有するマスク384を形成することができる。
多階調マスクを用いることで、露光マスクの枚数を削減することが可能である。
膜380、酸窒化物膜381、導電膜383をエッチングし島状に加工する。この結果、
パターニングされたSiOxを含む酸化物半導体層390、酸窒化物層385、導電層3
87を形成することができる(図12(B)参照。)。
る。このとき、膜厚の薄い領域のマスクのレジスト(ゲート電極層351の一部と重畳す
る領域)は除去され、分離されたマスク388を形成することができる(図12(C)参
照。)。
ッチングし、SiOxを含む半導体層353、ソース領域またはドレイン領域354a、
354b、ソース電極層又はドレイン電極層355a、355bを形成する。(図12(
D)参照。)。なお、SiOxを含む半導体層353は一部のみがエッチングされ、溝部
(凹部)を有する半導体層となり、かつ端部においても、一部エッチングされ露出した形
状となる。
窒化物膜381、及び導電膜383は異方的にエッチングされるため、マスク384の端
部と、酸窒化物層385、導電層387の端部は一致し、連続的な形状となる。
と、酸窒化物層385、及び導電層387は異方的にエッチングされるため、マスク38
8の端部と、SiOxを含む半導体層353の凹部及び端部、ソース領域またはドレイン
領域354a、354bの端部、ソース電極層又はドレイン電極層355a、355bの
端部は一致し、連続的な形状となる。
ン電極層355a、355bの端部は同じテーパー角で連続的に積層されている形状を示
すが、エッチング条件や、酸化物半導体層及び導電層の材料によって、エッチングレート
が異なるため、それぞれ異なるテーパー角や不連続な端部形状を有する場合もある。
SiOxを含む半導体層353は、結晶化を阻害するSiOxを含んでおり、200℃〜
600℃の加熱を行っても非晶質状態を保持できる。
スタ360を作製することができる。
領域を有するレジストマスクを用いると、レジストマスクの数を減らすことができるため
、工程簡略化、低コスト化が計れる。
にインジウム及びガリウムを用いないことによって酸化物半導体ターゲットの価格を低減
することができるため、低コスト化が図れる。
本実施の形態では、チャネルストップ型の薄膜トランジスタ430の一例について図13
(A)及び図13(B)に説明する。また、図13(B)は薄膜トランジスタの上面図の
一例であり、図中Z1―Z2の鎖線で切断した断面図が図13(A)に相当する。また、
薄膜トランジスタ430の酸化物半導体層にインジウムを含まない酸化物半導体材料を用
いる例を示す。
401を覆うゲート絶縁層402上には、SiOxを含む酸化物半導体層403を設ける
。
−Zn−O系の酸化物半導体を用いる。本実施の形態では、SiOxを含む酸化物半導体
層403として、インジウムを含まない酸化物半導体、代表的には、Ga−Sn−Zn−
O系、Ga−Zn−O系、Sn−Zn−O系、Ga−Sn−O系、Zn−O系の酸化物半
導体を用いる。
る。チャネル保護層418を設けることによって、SiOxを含む酸化物半導体層403
のチャネル形成領域に対する工程時におけるダメージ(エッチング時のプラズマやエッチ
ング剤による膜減りや、酸化など)を防ぐことができる。従って薄膜トランジスタ430
の信頼性を向上させることができる。
化珪素など)を用いることができる。作製法としては、プラズマCVD法や熱CVD法な
どの気相成長法やスパッタリング法を用いることができる。チャネル保護層418は成膜
後にエッチングにより形状を加工して形成する。ここでは、スパッタ法により酸化シリコ
ン膜を形成し、フォトリソグラフィーによるマスクを用いてエッチング加工することでチ
ャネル保護層418を形成する。
又はドレイン領域406a、406bを形成する。本実施の形態では、ソース領域又はド
レイン領域406a、406bは、Ga−Zn−O−N系非単結晶膜を用いる。また、ソ
ース領域又はドレイン領域406a、406bは、窒素を含ませたZn−O系非単結晶膜
、即ちZn−O−N系非単結晶膜を用いてもよい。
イン領域406b上に第2配線410をそれぞれ形成する。第1配線409及び第2配線
410は、Al、Cr、Ta、Ti、Mo、Wから選ばれた元素、または上述した元素を
成分とする合金か、上述した元素を組み合わせた合金膜等を用いる。
配線409、第2配線410と、SiOxを含む酸化物半導体層403との間を良好な接
合としてショットキー接合に比べて熱的にも安定動作を有せしめる。また、チャネルのキ
ャリアを供給する(ソース側)、またはチャネルのキャリアを安定して吸収する(ドレイ
ン側)、または抵抗成分を配線)との界面に作らないためにも積極的にソース領域又はド
レイン領域406a、406bを設けると効果的である。
しい。ここでは炉に入れ、大気雰囲気下で350℃、1時間の熱処理を行う。この熱処理
によりSiOxを含む酸化物半導体層403の原子レベルの再配列が行われる。この熱処
理によりキャリアの移動を阻害する歪が解放されるため、ここでの熱処理(光アニールも
含む)は重要である。また、ここでの熱処理でSiOxを含む酸化物半導体層403の結
晶化はSiOxを含む酸化物半導体層403に含まれるSiOxにより阻害され、大部分
が非晶質状態を維持することができる。なお、熱処理を行うタイミングは、SiOxを含
む酸化物半導体層403の成膜後であれば特に限定されず、例えば画素電極形成後に行っ
てもよい。
材料として枯渇する恐れのあるインジウムを用いずに済む。
である。
本実施の形態では、2つのnチャネル型の薄膜トランジスタ760、761を用いてイン
バータ回路を構成する例を説明する。また、薄膜トランジスタ760、761の酸化物半
導体層にガリウムを含まない酸化物半導体材料を用いる例を示す。
。2つのnチャネル型TFTを組み合わせてインバータ回路を形成する場合、エンハンス
メント型トランジスタとデプレッション型トランジスタとを組み合わせて形成する場合(
以下、EDMOS回路という)と、エンハンスメント型TFT同士で形成する場合(以下
、EEMOS回路という)がある。なお、nチャネル型TFTのしきい値電圧が正の場合
は、エンハンスメント型トランジスタと定義し、nチャネル型TFTのしきい値電圧が負
の場合は、デプレッション型トランジスタと定義し、本明細書を通してこの定義に従うも
のとする。
エンハンスメント型トランジスタを用いて画素電極への電圧印加のオンオフを切り替える
。
板740上に第1のゲート電極741及び第2のゲート電極742を設ける。第1のゲー
ト電極741及び第2のゲート電極742の材料は、モリブデン、チタン、クロム、タン
タル、タングステン、アルミニウム、銅、ネオジム、スカンジウム等の金属材料又はこれ
らを主成分とする合金材料を用いて、単層で又は積層して形成することができる。
には、第1配線749、第2配線750、及び第3配線751を設け、第2の配線750
は、ゲート絶縁層743に形成されたコンタクトホール744を介して第2のゲート電極
742と直接接続する。
イン領域755a、755b、756a、756bを形成する。本実施の形態では、ソー
ス領域又はドレイン領域755a、755b、756a、756bは、SiOxを含まな
いZn−O−N系非単結晶膜である。また、ソース領域又はドレイン領域755a、75
5b、756a、756bは、窒素を含ませた即ちIn−Zn−O−N系非単結晶膜を用
いてもよい。
ース領域又はドレイン領域755a、755bを介してSiOxを含む第1の酸化物半導
体層745と、第2のゲート電極742と重なる位置に第2配線750及び第3配線75
1上にソース領域又はドレイン領域756a、756bを介してSiOxを含む第2の酸
化物半導体層747とを設ける。
2の酸化物半導体層747としてスパッタ法を用いたIn−Zn−O系の酸化物半導体を
用いる。SiOxを含む第1の酸化物半導体層745、及びSiOxを含む第2の酸化物
半導体層747としてガリウムを含まない酸化物半導体、代表的には、In−Sn−Zn
−O系、In−Zn−O系、In−Sn−O系、Sn−Zn−O系、Zn−O系の酸化物
半導体を用いる。
して第1のゲート電極741と重なるSiOxを含む第1の酸化物半導体層745とを有
し、第1配線749は、接地電位の電源線(接地電源線)である。この接地電位の電源線
は、負の電圧VDLが印加される電源線(負電源線)としてもよい。
3を介して第2のゲート電極742と重なるSiOxを含む第2の酸化物半導体層747
とを有し、第3配線751は、正の電圧VDDが印加される電源線(正電源線)である。
む第2の酸化物半導体層747の両方に電気的に接続する第2の配線750は、ゲート絶
縁層743に形成されたコンタクトホール744を介して第2の薄膜トランジスタ761
の第2のゲート電極742と直接接続する。第2の配線750と第2のゲート電極742
とを直接接続させることにより、良好なコンタクトを得ることができ、接触抵抗を低減す
ることができる。第2のゲート電極742と第2配線750を他の導電膜、例えば透明導
電膜を介して接続する場合に比べて、コンタクトホールの数の低減、コンタクトホールの
数の低減による占有面積の縮小を図ることができる。
、鎖線Y1−Y2で切断した断面が図14(A)に相当する。
製造コストのかかるガリウムを含むターゲットを用いずに済む。
である。
本実施の形態では、トップゲート型の薄膜トランジスタ330の一例について図15(A
)及び図15(B)に説明する。また、図15(B)は薄膜トランジスタの上面図の一例
であり、図中P1―P2の鎖線で切断した断面図が図15(A)に相当する。
とで、第1配線309と第2配線310を形成し、その上に酸窒化物層304a、304
bを形成する。なお、第1配線309と第2配線310は、ソース電極又はドレイン電極
として機能する。また、ソース領域又はドレイン領域として機能する酸窒化物層304a
、304bとしてIn−Ga−Zn−O−N系の非単結晶膜を用いる。
iOxを含む酸化物半導体層305を形成する。本実施の形態では、SiOxを含む酸化
物半導体層305としてSiOxを含むSn−Zn−O系の酸化物半導体を用いる。
層303を形成する。
しい。ここでは炉に入れ、大気雰囲気下で350℃、1時間の熱処理を行う。この熱処理
によりSiOxを含む酸化物半導体層305の原子レベルの再配列が行われる。この熱処
理によりキャリアの移動を阻害する歪が解放されるため、ここでの熱処理(光アニールも
含む)は重要である。
接する領域と重なる位置にゲート電極301を設ける。
である。
本実施の形態では、トップゲート型の薄膜トランジスタ630の一例について図16(A
)及び図16(B)に説明する。また、図16(B)は薄膜トランジスタの上面図の一例
であり、図中R1―R2の鎖線で切断した断面図が図16(A)に相当する。
。本実施の形態では、酸化物半導体層605としてSiOxを含むSn−Zn−O系の酸
化物半導体を用いる。
成する。本実施の形態では、ソース領域又はドレイン領域606a、606bは、Ga−
Zn−O系非単結晶膜である。また、ソース領域又はドレイン領域606a、606bは
、窒素を含ませたGa−Zn−O系非単結晶膜、即ちGa−Zn−O−N系非単結晶膜(
GZON膜とも呼ぶ)を用いてもよい。
610を形成する。なお、第1配線609と第2配線610は、ソース電極又はドレイン
電極として機能する。
電極601をゲート絶縁層603上に設ける。
しい。ここでは炉に入れ、大気雰囲気下で350℃、1時間の熱処理を行う。この熱処理
により酸化物半導体層605の原子レベルの再配列が行われる。この熱処理によりキャリ
アの移動を阻害する歪が解放されるため、ここでの熱処理(光アニールも含む)は重要で
ある。
半導体装置の一例である表示装置において、同一基板上に少なくとも駆動回路の一部と、
画素部に配置する薄膜トランジスタを作製する例について以下に説明する。
化物半導体層をチャネル形成領域に用い、ソース領域またはドレイン領域として窒素を含
ませた酸化物半導体を用いる。また、薄膜トランジスタはnチャネル型TFTであるため
、駆動回路のうち、nチャネル型TFTで構成することができる駆動回路の一部を画素部
の薄膜トランジスタと同一基板上に形成する。
7(A)に示す。図17(A)に示す表示装置は、基板5300上に表示素子を備えた画
素を複数有する画素部5301と、各画素を選択する走査線駆動回路5302と、選択さ
れた画素へのビデオ信号の入力を制御する信号線駆動回路5303とを有する。
型TFTで構成する信号線駆動回路について図18を用いて説明する。
02_M、第1の配線5611、第2の配線5612、第3の配線5613及び配線56
21_1〜5621_Mを有する。スイッチ群5602_1〜5602_Mそれぞれは、
第1の薄膜トランジスタ5603a、第2の薄膜トランジスタ5603b及び第3の薄膜
トランジスタ5603cを有する。
線S1〜Sm(図示せず。)により信号線駆動回路5303と接続され、走査線駆動回路
5302から行方向に伸張して配置された複数の走査線G1〜Gn(図示せず。)により
走査線駆動回路5302と接続され、信号線S1〜Sm並びに走査線G1〜Gnに対応し
てマトリクス状に配置された複数の画素(図示せず。)を有する。そして、各画素は、信
号線Sj(信号線S1〜Smのうちいずれか一)、走査線Gi(走査線G1〜Gnのうち
いずれか一)と接続される。
及び配線5621_1〜5621_Mに接続される。そして、スイッチ群5602_1〜
5602_Mそれぞれは、第1の配線5611、第2の配線5612、第3の配線561
3及びスイッチ群5602_1〜5602_Mそれぞれに対応した配線5621_1〜5
621_Mに接続される。そして、配線5621_1〜5621_Mそれぞれは、第1の
薄膜トランジスタ5603a、第2の薄膜トランジスタ5603b及び第3の薄膜トラン
ジスタ5603cを介して、3つの信号線に接続される。例えば、J列目の配線5621
_J(配線5621_1〜配線5621_Mのうちいずれか一)は、スイッチ群5602
_Jが有する第1の薄膜トランジスタ5603a、第2の薄膜トランジスタ5603b及
び第3の薄膜トランジスタ5603cを介して、信号線Sj−1、信号線Sj、信号線S
j+1に接続される。
号が入力される。
、スイッチ群5602_1〜5602_Mは、画素部と同一基板上に形成されていること
が望ましい。したがって、ドライバIC5601とスイッチ群5602_1〜5602_
MとはFPCなどを介して接続するとよい。
照して説明する。なお、図19のタイミングチャートは、i行目の走査線Giが選択され
ている場合のタイミングチャートを示している。さらに、i行目の走査線Giの選択期間
は、第1のサブ選択期間T1、第2のサブ選択期間T2及び第3のサブ選択期間T3に分
割されている。さらに、図18の信号線駆動回路は、他の行の走査線が選択されている場
合でも図19と同様の動作をする。
スタ5603a、第2の薄膜トランジスタ5603b及び第3の薄膜トランジスタ560
3cを介して、信号線Sj−1、信号線Sj、信号線Sj+1に接続される場合について
示している。
1の薄膜トランジスタ5603aのオン・オフのタイミング5703a、第2の薄膜トラ
ンジスタ5603bのオン・オフのタイミング5703b、第3の薄膜トランジスタ56
03cのオン・オフのタイミング5703c及びJ列目の配線5621_Jに入力される
信号5721_Jを示している。
択期間T2及び第3のサブ選択期間T3において、それぞれ別のビデオ信号が入力される
。例えば、第1のサブ選択期間T1において配線5621_Jに入力されるビデオ信号は
信号線Sj−1に入力され、第2のサブ選択期間T2において配線5621_Jに入力さ
れるビデオ信号は信号線Sjに入力され、第3のサブ選択期間T3において配線5621
_Jに入力されるビデオ信号は信号線Sj+1に入力される。さらに、第1のサブ選択期
間T1、第2のサブ選択期間T2及び第3のサブ選択期間T3において、配線5621_
Jに入力されるビデオ信号をそれぞれData_j−1、Data_j、Data_j+
1とする。
aがオンし、第2の薄膜トランジスタ5603b及び第3の薄膜トランジスタ5603c
がオフする。このとき、配線5621_Jに入力されるData_j−1が、第1の薄膜
トランジスタ5603aを介して信号線Sj−1に入力される。第2のサブ選択期間T2
では、第2の薄膜トランジスタ5603bがオンし、第1の薄膜トランジスタ5603a
及び第3の薄膜トランジスタ5603cがオフする。このとき、配線5621_Jに入力
されるData_jが、第2の薄膜トランジスタ5603bを介して信号線Sjに入力さ
れる。第3のサブ選択期間T3では、第3の薄膜トランジスタ5603cがオンし、第1
の薄膜トランジスタ5603a及び第2の薄膜トランジスタ5603bがオフする。この
とき、配線5621_Jに入力されるData_j+1が、第3の薄膜トランジスタ56
03cを介して信号線Sj+1に入力される。
、1ゲート選択期間中に1つの配線5621から3つの信号線にビデオ信号を入力するこ
とができる。したがって、図18の信号線駆動回路は、ドライバIC5601が形成され
る基板と、画素部が形成されている基板との接続数を信号線の数に比べて約1/3にする
ことができる。接続数が約1/3になることによって、図18の信号線駆動回路は、信頼
性、歩留まりなどを向上できる。
択期間それぞれにおいて、ある1つの配線から複数の信号線それぞれにビデオ信号を入力
することができれば、薄膜トランジスタの配置や数、駆動方法などは限定されない。
ぞれにビデオ信号を入力する場合は、薄膜トランジスタ及び薄膜トランジスタを制御する
ための配線を追加すればよい。ただし、1ゲート選択期間を4つ以上のサブ選択期間に分
割すると、1つのサブ選択期間が短くなる。したがって、1ゲート選択期間は、2つ又は
3つのサブ選択期間に分割されることが望ましい。
ジ期間Tp、第1のサブ選択期間T1、第2のサブ選択期間T2、第3のサブ選択期間T
3に分割してもよい。さらに、図20のタイミングチャートは、i行目の走査線Giが選
択されるタイミング、第1の薄膜トランジスタ5603aのオン・オフのタイミング58
03a、第2の薄膜トランジスタ5603bのオン・オフのタイミング5803b、第3
の薄膜トランジスタ5603cのオン・オフのタイミング5803c及びJ列目の配線5
621_Jに入力される信号5821_Jを示している。図20に示すように、プリチャ
ージ期間Tpにおいて第1の薄膜トランジスタ5603a、第2の薄膜トランジスタ56
03b及び第3の薄膜トランジスタ5603cがオンする。このとき、配線5621_J
に入力されるプリチャージ電圧Vpが第1の薄膜トランジスタ5603a、第2の薄膜ト
ランジスタ5603b及び第3の薄膜トランジスタ5603cを介してそれぞれ信号線S
j−1、信号線Sj、信号線Sj+1に入力される。第1のサブ選択期間T1において第
1の薄膜トランジスタ5603aがオンし、第2の薄膜トランジスタ5603b及び第3
の薄膜トランジスタ5603cがオフする。このとき、配線5621_Jに入力されるD
ata_j−1が、第1の薄膜トランジスタ5603aを介して信号線Sj−1に入力さ
れる。第2のサブ選択期間T2では、第2の薄膜トランジスタ5603bがオンし、第1
の薄膜トランジスタ5603a及び第3の薄膜トランジスタ5603cがオフする。この
とき、配線5621_Jに入力されるData_jが、第2の薄膜トランジスタ5603
bを介して信号線Sjに入力される。第3のサブ選択期間T3では、第3の薄膜トランジ
スタ5603cがオンし、第1の薄膜トランジスタ5603a及び第2の薄膜トランジス
タ5603bがオフする。このとき、配線5621_Jに入力されるData_j+1が
、第3の薄膜トランジスタ5603cを介して信号線Sj+1に入力される。
ブ選択期間の前にプリチャージ期間を設けることによって、信号線をプリチャージできる
ため、画素へのビデオ信号の書き込みを高速に行うことができる。なお、図20において
、図19と同様なものに関しては共通の符号を用いて示し、同一部分又は同様な機能を有
する部分の詳細な説明は省略する。
ッファを有している。また場合によってはレベルシフタを有していても良い。走査線駆動
回路において、シフトレジスタにクロック信号(CLK)及びスタートパルス信号(SP
)が入力されることによって、選択信号が生成される。生成された選択信号はバッファに
おいて緩衝増幅され、対応する走査線に供給される。走査線には、1ライン分の画素のト
ランジスタのゲート電極が接続されている。そして、1ライン分の画素のトランジスタを
一斉にONにしなくてはならないので、バッファは大きな電流を流すことが可能なものが
用いられる。
て説明する。
ップフロップ(フリップフロップ5701_1〜5701_n)で構成される。また、第
1のクロック信号、第2のクロック信号、スタートパルス信号、リセット信号が入力され
て動作する。
目のフリップフロップ5701_i(フリップフロップ5701_1〜5701_nのう
ちいずれか一)は、図22に示した第1の配線5501が第7の配線5717_i−1に
接続され、図22に示した第2の配線5502が第7の配線5717_i+1に接続され
、図22に示した第3の配線5503が第7の配線5717_iに接続され、図22に示
した第6の配線5506が第5の配線5715に接続される。
5712に接続され、偶数段目のフリップフロップでは第3の配線5713に接続され、
図22に示した第5の配線5505が第4の配線5714に接続される。
1の配線5711に接続され、n段目のフリップフロップ5701_nの図22に示す第
2の配線5502は第6の配線5716に接続される。
16を、それぞれ第1の信号線、第2の信号線、第3の信号線、第4の信号線と呼んでも
よい。さらに、第4の配線5714、第5の配線5715を、それぞれ第1の電源線、第
2の電源線と呼んでもよい。
ップフロップは、第1の薄膜トランジスタ5571、第2の薄膜トランジスタ5572、
第3の薄膜トランジスタ5573、第4の薄膜トランジスタ5574、第5の薄膜トラン
ジスタ5575、第6の薄膜トランジスタ5576、第7の薄膜トランジスタ5577及
び第8の薄膜トランジスタ5578を有する。なお、第1の薄膜トランジスタ5571、
第2の薄膜トランジスタ5572、第3の薄膜トランジスタ5573、第4の薄膜トラン
ジスタ5574、第5の薄膜トランジスタ5575、第6の薄膜トランジスタ5576、
第7の薄膜トランジスタ5577及び第8の薄膜トランジスタ5578は、nチャネル型
トランジスタであり、ゲート・ソース間電圧(Vgs)がしきい値電圧(Vth)を上回
ったとき導通状態になるものとする。
続されている。また、第3の薄膜トランジスタ5573と第4の薄膜トランジスタ557
4の接続させた回路(図22中鎖線で囲んだ回路)は、図14(A)に示す構成に相当す
ると言える。ここでは全ての薄膜トランジスタは、エンハンスメント型のnチャネル型ト
ランジスタとする例を示すが、特に限定されず、例えば、第3の薄膜トランジスタ557
3は、デプレッション型のnチャネル型トランジスタを用いても駆動回路を駆動させるこ
ともできる。
が第4の配線5504に接続され、第1の薄膜トランジスタ5571の第2の電極(ソー
ス電極またはドレイン電極の他方)が第3の配線5503に接続される。
薄膜トランジスタ5572の第2の電極が第3の配線5503に接続される。
薄膜トランジスタ5573の第2の電極が第2の薄膜トランジスタ5572のゲート電極
に接続され、第3の薄膜トランジスタ5573のゲート電極が第5の配線5505に接続
される。
薄膜トランジスタ5574の第2の電極が第2の薄膜トランジスタ5572のゲート電極
に接続され、第4の薄膜トランジスタ5574のゲート電極が第1の薄膜トランジスタ5
571のゲート電極に接続される。
薄膜トランジスタ5575の第2の電極が第1の薄膜トランジスタ5571のゲート電極
に接続され、第5の薄膜トランジスタ5575のゲート電極が第1の配線5501に接続
される。
薄膜トランジスタ5576の第2の電極が第1の薄膜トランジスタ5571のゲート電極
に接続され、第6の薄膜トランジスタ5576のゲート電極が第2の薄膜トランジスタ5
572のゲート電極に接続される。
薄膜トランジスタ5577の第2の電極が第1の薄膜トランジスタ5571のゲート電極
に接続され、第7の薄膜トランジスタ5577のゲート電極が第2の配線5502に接続
される。第8の薄膜トランジスタ5578の第1の電極が第6の配線5506に接続され
、第8の薄膜トランジスタ5578の第2の電極が第2の薄膜トランジスタ5572のゲ
ート電極に接続され、第8の薄膜トランジスタ5578のゲート電極が第1の配線550
1に接続される。
のゲート電極、第5の薄膜トランジスタ5575の第2の電極、第6の薄膜トランジスタ
5576の第2の電極及び第7の薄膜トランジスタ5577の第2の電極の接続箇所をノ
ード5543とする。さらに、第2の薄膜トランジスタ5572のゲート電極、第3の薄
膜トランジスタ5573の第2の電極、第4の薄膜トランジスタ5574の第2の電極、
第6の薄膜トランジスタ5576のゲート電極及び第8の薄膜トランジスタ5578の第
2の電極の接続箇所をノード5544とする。
504を、それぞれ第1の信号線、第2の信号線、第3の信号線、第4の信号線と呼んで
もよい。さらに、第5の配線5505を第1の電源線、第6の配線5506を第2の電源
線と呼んでもよい。
動回路を配置することなどによって、さらに高いフレーム周波数を実現することができる
。複数の走査線駆動回路を配置する場合は、偶数行の走査線を駆動する為の走査線駆動回
路を片側に配置し、奇数行の走査線を駆動するための走査線駆動回路をその反対側に配置
することにより、フレーム周波数を高くすることを実現することができる。また、複数の
走査線駆動回路により、同じ走査線に信号を出力すると、表示装置の大型化に有利である
。
なくとも一つの画素に複数の薄膜トランジスタを配置するため、走査線駆動回路を複数配
置することが好ましい。アクティブマトリクス型発光表示装置のブロック図の一例を図1
7(B)に示す。
る画素部5401と、各画素を選択する第1の走査線駆動回路5402及び第2の走査線
駆動回路5404と、選択された画素へのビデオ信号の入力を制御する信号線駆動回路5
403とを有する。
合、画素はトランジスタのオンとオフの切り替えによって、発光もしくは非発光の状態と
なる。よって、面積階調法または時間階調法を用いて階調の表示を行うことができる。面
積階調法は、1画素を複数の副画素に分割し、各副画素を独立にビデオ信号に基づいて駆
動させることによって、階調表示を行う駆動法である。また時間階調法は、画素が発光す
る期間を制御することによって、階調表示を行う駆動法である。
している。具体的に時間階調法で表示を行なう場合、1フレーム期間を複数のサブフレー
ム期間に分割する。そしてビデオ信号に従い、各サブフレーム期間において画素の発光素
子を発光または非発光の状態にする。複数のサブフレーム期間に分割することによって、
1フレーム期間中に画素が実際に発光する期間のトータルの長さを、ビデオ信号により制
御することができ、階調を表示することができる。
を配置する場合、一方のスイッチング用TFTのゲート配線である第1の走査線に入力さ
れる信号を第1走査線駆動回路5402で生成し、他方のスイッチング用TFTのゲート
配線である第2の走査線に入力される信号を第2の走査線駆動回路5404で生成してい
る例を示しているが、第1の走査線に入力される信号と、第2の走査線に入力される信号
とを、共に1つの走査線駆動回路で生成するようにしても良い。また、例えば、1つの画
素が有するスイッチング用TFTの数によって、スイッチング素子の動作を制御するのに
用いられる走査線が、各画素に複数設けられることもあり得る。この場合、複数の走査線
に入力される信号を、全て1つの走査線駆動回路で生成しても良いし、複数の各走査線駆
動回路で生成しても良い。
できる駆動回路の一部を画素部の薄膜トランジスタと同一基板上に形成することができる
。
電気的に接続する素子を利用して電子インクを駆動させる電子ペーパーに用いてもよい。
電子ペーパーは、電気泳動表示装置(電気泳動ディスプレイ)も呼ばれており、紙と同じ
読みやすさ、他の表示装置に比べ低消費電力、薄くて軽い形状とすることが可能という利
点を有している。
子と、マイナスの電荷を有する第2の粒子とを含むマイクロカプセルが溶媒または溶質に
複数分散されたものであり、マイクロカプセルに電界を印加することによって、マイクロ
カプセル中の粒子を互いに反対方向に移動させて一方側に集合した粒子の色のみを表示す
るものである。なお、第1の粒子または第2の粒子は染料を含み、電界がない場合におい
て移動しないものである。また、第1の粒子の色と第2の粒子の色は異なるもの(無色を
含む)とする。
いわゆる誘電泳動的効果を利用したディスプレイである。電気泳動ディスプレイは、液晶
表示装置には必要な偏光板、対向基板も電気泳動表示装置には必要なく、厚さや重さが半
減する。
の電子インクはガラス、プラスチック、布、紙などの表面に印刷することができる。また
、カラーフィルタや色素を有する粒子を用いることによってカラー表示も可能である。
ロカプセルを複数配置すればアクティブマトリクス型の表示装置が完成し、マイクロカプ
セルに電界を印加すれば表示を行うことができる。例えば、実施の形態2の薄膜トランジ
スタ(SiOxを含む酸化物半導体層をチャネル形成領域に用い、ソース領域またはドレ
イン領域として窒素を含ませた酸化物半導体を用いる)によって得られるアクティブマト
リクス基板を用いることができる。
半導体材料、磁性材料、液晶材料、強誘電性材料、エレクトロルミネセント材料、エレク
トロクロミック材料、磁気泳動材料から選ばれた一種の材料、またはこれらの複合材料を
用いればよい。
である。
本実施の形態では、半導体装置として発光表示装置の一例を示す。表示装置の有する表示
素子としては、ここではエレクトロルミネッセンスを利用する発光素子を用いて示す。エ
レクトロルミネッセンスを利用する発光素子は、発光材料が有機化合物であるか、無機化
合物であるかによって区別され、前者は有機EL素子、後者は無機EL素子と呼ばれてい
る。
がそれぞれ発光性の有機化合物を含む層に注入され、電流が流れる。そして、それらキャ
リア(電子および正孔)が再結合することにより、発光性の有機化合物が励起状態を形成
し、その励起状態が基底状態に戻る際に発光する。このようなメカニズムから、このよう
な発光素子は、電流励起型の発光素子と呼ばれる。
類される。分散型無機EL素子は、発光材料の粒子をバインダ中に分散させた発光層を有
するものであり、発光メカニズムはドナー準位とアクセプター準位を利用するドナー−ア
クセプター再結合型発光である。薄膜型無機EL素子は、発光層を誘電体層で挟み込み、
さらにそれを電極で挟んだ構造であり、発光メカニズムは金属イオンの内殻電子遷移を利
用する局在型発光である。なお、ここでは、発光素子として有機EL素子を用いて説明す
る。
す図である。
はSiOxを含む酸化物半導体層(代表的には、In−Ga−Zn−O系非単結晶膜)を
チャネル形成領域に用い、ソース領域またはドレイン領域として窒素を含ませたIn−G
a−Zn−O系酸化物半導体を用いるnチャネル型のトランジスタを1つの画素に2つ用
いる例を示す。
発光素子6404及び容量素子6403を有している。スイッチング用トランジスタ64
01はゲートが走査線6406に接続され、第1電極(ソース電極及びドレイン電極の一
方)が信号線6405に接続され、第2電極(ソース電極及びドレイン電極の他方)が駆
動用トランジスタ6402のゲートに接続されている。駆動用トランジスタ6402は、
ゲートが容量素子6403を介して電源線6407に接続され、第1電極が電源線640
7に接続され、第2電極が発光素子6404の第1電極(画素電極)に接続されている。
発光素子6404の第2電極は共通電極6408に相当する。共通電極6408は、同一
基板上に形成される共通電位線と電気的に接続され、その接続部分を共通接続部とすれば
よい。
る。なお、低電源電位とは、電源線6407に設定される高電源電位を基準にして低電源
電位<高電源電位を満たす電位であり、低電源電位としては例えばGND、0Vなどが設
定されていても良い。この高電源電位と低電源電位との電位差を発光素子6404に印加
して、発光素子6404に電流を流して発光素子6404を発光させるため、高電源電位
と低電源電位との電位差が発光素子6404の順方向しきい値電圧以上となるようにそれ
ぞれの電位を設定する。
ことも可能である。駆動用トランジスタ6402のゲート容量については、チャネル領域
とゲート電極との間で容量が形成されていてもよい。
駆動用トランジスタ6402が十分にオンするか、オフするかの二つの状態となるような
ビデオ信号を入力する。つまり、駆動用トランジスタ6402は線形領域で動作させる。
駆動用トランジスタ6402は線形領域で動作させるため、電源線6407の電圧よりも
高い電圧を駆動用トランジスタ6402のゲートにかける。なお、信号線6405には、
(電源線電圧+駆動用トランジスタ6402のVth)以上の電圧をかける。
らせることで、図23と同じ画素構成を用いることができる。
の順方向電圧+駆動用トランジスタ6402のVth以上の電圧をかける。発光素子64
04の順方向電圧とは、所望の輝度とする場合の電圧を指しており、少なくとも順方向し
きい値電圧を含む。なお、駆動用トランジスタ6402が飽和領域で動作するようなビデ
オ信号を入力することで、発光素子6404に電流を流すことができる。駆動用トランジ
スタ6402を飽和領域で動作させるため、電源線6407の電位は、駆動用トランジス
タ6402のゲート電位よりも高くする。ビデオ信号をアナログとすることで、発光素子
6404にビデオ信号に応じた電流を流し、アナログ階調駆動を行うことができる。
にスイッチ、抵抗素子、容量素子、トランジスタ又は論理回路などを追加してもよい。
型の場合を例に挙げて、画素の断面構造について説明する。図24(A)(B)(C)の
半導体装置に用いられる駆動用TFTであるTFT7001、7011、7021は、実
施の形態2で示す薄膜トランジスタ170と同様に作製でき、SiOxを含む酸化物半導
体層をチャネル形成領域に用い、ソース領域またはドレイン領域として窒素を含ませた酸
化物半導体を用いた薄膜トランジスタである。
して、基板上に薄膜トランジスタ及び発光素子を形成し、基板とは逆側の面から発光を取
り出す上面射出や、基板側の面から発光を取り出す下面射出や、基板側及び基板とは反対
側の面から発光を取り出す両面射出構造の発光素子があり、画素構成はどの射出構造の発
光素子にも適用することができる。
せられる光が陽極7005側に抜ける場合の、画素の断面図を示す。TFT7001は、
半導体層として、酸化シリコンを添加したIn−Sn−O系酸化物半導体を用い、ソース
領域またはドレイン領域として窒素を含ませたIn−Zn−O系酸化物半導体を用いる。
図24(A)では、発光素子7002の陰極7003と駆動用TFTであるTFT700
1が電気的に接続されており、陰極7003上に発光層7004、陽極7005が順に積
層されている。陰極7003は仕事関数が小さく、なおかつ光を反射する導電膜であれば
様々の材料を用いることができる。例えば、Ca、Al、MgAg、AlLi等が望まし
い。そして発光層7004は、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるよう
に構成されていてもどちらでも良い。複数の層で構成されている場合、陰極7003上に
電子注入層、電子輸送層、発光層、ホール輸送層、ホール注入層の順に積層する。なおこ
れらの層を全て設ける必要はない。陽極7005は光を透過する透光性を有する導電性材
料を用いて形成し、例えば酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステン
を含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むイ
ンジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物(以下、ITOと示す。)、インジウム亜鉛酸化
物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物などの透光性を有する導電膜を用いても良
い。
相当する。図24(A)に示した画素の場合、発光素子7002から発せられる光は、矢
印で示すように陽極7005側に射出する。
011がn型で、発光素子7012から発せられる光が陰極7013側に射出する場合の
、画素の断面図を示す。TFT7011は、半導体層として、酸化シリコンを添加したI
n−Zn−O系酸化物半導体を用い、ソース領域またはドレイン領域として窒素を含ませ
たIn−Zn−O系酸化物半導体を用いる。図24(B)では、駆動用TFT7011と
電気的に接続された透光性を有する導電膜7017上に、発光素子7012の陰極701
3が成膜されており、陰極7013上に発光層7014、陽極7015が順に積層されて
いる。なお、陽極7015が透光性を有する場合、陽極上を覆うように、光を反射または
遮蔽するための遮蔽膜7016が成膜されていてもよい。陰極7013は、図24(A)
の場合と同様に、仕事関数が小さい導電性材料であれば様々な材料を用いることができる
。ただしその膜厚は、光を透過する程度(好ましくは、5nm〜30nm程度)とする。
例えば20nmの膜厚を有するアルミニウム膜を、陰極7013として用いることができ
る。そして発光層7014は、図24(A)と同様に、単数の層で構成されていても、複
数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良い。陽極7015は光を透過す
る必要はないが、図24(A)と同様に、透光性を有する導電性材料を用いて形成するこ
とができる。そして遮蔽膜7016は、例えば光を反射する金属等を用いることができる
が、金属膜に限定されない。例えば黒の顔料を添加した樹脂等を用いることもできる。
に相当する。図24(B)に示した画素の場合、発光素子7012から発せられる光は、
矢印で示すように陰極7013側に射出する。
では、駆動用TFT7021と電気的に接続された透光性を有する導電膜7027上に、
発光素子7022の陰極7023が成膜されており、陰極7023上に発光層7024、
陽極7025が順に積層されている。TFT7021は、半導体層として、酸化シリコン
を添加したIn−Zn−O系酸化物半導体を用い、ソース領域またはドレイン領域として
窒素を含ませたZn−O系酸化物半導体を用いる。陰極7023は、図24(A)の場合
と同様に、仕事関数が小さい導電性材料であれば様々な材料を用いることができる。ただ
しその膜厚は、光を透過する程度とする。例えば20nmの膜厚を有するAlを、陰極7
023として用いることができる。そして発光層7024は、図24(A)と同様に、単
数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良
い。陽極7025は、図24(A)と同様に、光を透過する透光性を有する導電性材料を
用いて形成することができる。
22に相当する。図24(C)に示した画素の場合、発光素子7022から発せられる光
は、矢印で示すように陽極7025側と陰極7023側の両方に射出する。
L素子を設けることも可能である。
発光素子が電気的に接続されている例を示したが、駆動用TFTと発光素子との間に電流
制御用TFTが接続されている構成であってもよい。
断面について、図25を用いて説明する。図25(A)は、第1の基板上に形成された薄
膜トランジスタ及び発光素子を、第2の基板との間にシール材によって封止した、パネル
の上面図であり、図25(B)は、図25(A)のH−Iにおける断面図に相当する。
3b、及び走査線駆動回路4504a、4504bを囲むようにして、シール材4505
が設けられている。また画素部4502、信号線駆動回路4503a、4503b、及び
走査線駆動回路4504a、4504bの上に第2の基板4506が設けられている。よ
って画素部4502、信号線駆動回路4503a、4503b、及び走査線駆動回路45
04a、4504bは、第1の基板4501とシール材4505と第2の基板4506と
によって、充填材4507と共に密封されている。このように外気に曝されないように気
密性が高く、脱ガスの少ない保護フィルム(貼り合わせフィルム、紫外線硬化樹脂フィル
ム等)やカバー材でパッケージング(封入)することが好ましい。
503b、及び走査線駆動回路4504a、4504bは、薄膜トランジスタを複数有し
ており、図25(B)では、画素部4502に含まれる薄膜トランジスタ4510と、信
号線駆動回路4503aに含まれる薄膜トランジスタ4509とを例示している。
物半導体を用い、ソース領域またはドレイン領域として窒素を含ませたIn−Zn−O系
酸化物半導体を用いる。本実施の形態において、薄膜トランジスタ4509、4510は
nチャネル型薄膜トランジスタである。
層4517は、薄膜トランジスタ4510のソース電極層またはドレイン電極層と電気的
に接続されている。なお発光素子4511の構成は、第1の電極層4517、電界発光層
4512、第2の電極層4513の積層構造であるが、本実施の形態に示した構成に限定
されない。発光素子4511から取り出す光の方向などに合わせて、発光素子4511の
構成は適宜変えることができる。
特に感光性の材料を用い、第1の電極層4517上に開口部を形成し、その開口部の側壁
が連続した曲率を持って形成される傾斜面となるように形成することが好ましい。
されていてもどちらでも良い。
4513及び隔壁4520上に保護膜を形成してもよい。保護膜としては、窒化珪素膜、
窒化酸化珪素膜、DLC膜等を形成することができる。
、または画素部4502に与えられる各種信号及び電位は、FPC4518a、4518
bから供給されている。
517と同じ導電膜から形成され、端子電極4516は、薄膜トランジスタ4509、4
510が有するソース電極層及びドレイン電極層と同じ導電膜から形成されている。
して電気的に接続されている。
ればならない。その場合には、ガラス板、プラスチック板、ポリエステルフィルムまたは
アクリルフィルムのような透光性を有する材料を用いる。
脂または熱硬化樹脂を用いることができ、PVC(ポリビニルクロライド)、アクリル、
ポリイミド、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、PVB(ポリビニルブチラル)またはEV
A(エチレンビニルアセテート)を用いることができる。本実施の形態は充填材4507
として窒素を用いた。
位相差板(λ/4板、λ/2板)、カラーフィルタなどの光学フィルムを適宜設けてもよ
い。また、偏光板又は円偏光板に反射防止膜を設けてもよい。例えば、表面の凹凸により
反射光を拡散し、映り込みを低減できるアンチグレア処理を施すことができる。
、別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体膜によって形成された駆動回
路で実装されていてもよい。また、信号線駆動回路のみ、或いは一部、又は走査線駆動回
路のみ、或いは一部のみを別途形成して実装しても良く、本実施の形態は図25の構成に
限定されない。
ることができる。
である。
SiOxを含む酸化物半導体層をチャネル形成領域に用い、ソース領域またはドレイン領
域として窒素を含ませた酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタを作製し、該薄膜トラン
ジスタを駆動回路、さらには画素部に用いて表示機能を有する液晶表示装置を作製するこ
とができる。また、薄膜トランジスタを用いた駆動回路の一部または全体を、画素部と同
じ基板上に一体形成し、システムオンパネルを形成することができる。
ーラを含むIC等を実装した状態にあるモジュールとを含む。さらに、該液晶表示装置を
作製する過程における、表示素子が完成する前の一形態に相当する素子基板に関し、該素
子基板は、電流を表示素子に供給するための手段を複数の各画素に備える。素子基板は、
具体的には、表示素子の画素電極のみが形成された状態であっても良いし、画素電極とな
る導電膜を成膜した後であって、エッチングして画素電極を形成する前の状態であっても
良いし、あらゆる形態があてはまる。
は光源(照明装置含む)を指す。また、コネクター、例えばFPC(Flexible
printed circuit)もしくはTAB(Tape Automated B
onding)テープもしくはTCP(Tape Carrier Package)が
取り付けられたモジュール、TABテープやTCPの先にプリント配線板が設けられたモ
ジュール、または表示素子にCOG(Chip On Glass)方式によりIC(集
積回路)が直接実装されたモジュールも全て液晶表示装置に含むものとする。
て説明する。図26(A1)及び図26(A2)は、液晶素子4013を第1の基板40
01第2の基板4006との間にシール材4005によって封止した、パネルの上面図で
あり、図26(B)は、図26(A1)及び図26(A2)のM−Nにおける断面図に相
当する。
ようにして、シール材4005が設けられている。また画素部4002と、走査線駆動回
路4004の上に第2の基板4006が設けられている。よって画素部4002と、走査
線駆動回路4004とは、第1の基板4001とシール材4005と第2の基板4006
とによって、液晶層4008と共に封止されている。本実施の形態において液晶層400
8は、特に限定されないが、ブルー相を示す液晶材料を用いる。ブルー相を示す液晶材料
は、電圧無印加状態から電圧印加状態においては、応答速度が1msec以下と短く、高
速応答が可能である。ブルー相を示す液晶材料として液晶及びカイラル剤を含む。カイラ
ル剤は、液晶を螺旋構造に配向させ、ブルー相を発現させるために用いる。例えば、5重
量%以上のカイラル剤を混合させた液晶材料を液晶層に用いればよい。液晶は、サーモト
ロピック液晶、低分子液晶、高分子液晶、強誘電性液晶、反強誘電性液晶等を用いる。
領域とは異なる領域に、別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体膜で形
成された信号線駆動回路4003が実装されている。なお、図26(A2)は信号線駆動
回路の一部を第1の基板4001上に形成する例であり、第1の基板4001上に信号線
駆動回路4003bが形成され、かつ別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶
半導体膜で形成された信号線駆動回路4003aが実装されている。
ワイヤボンディング方法、或いはTAB方法などを用いることができる。図26(A1)
は、COG方法により信号線駆動回路4003を実装する例であり、図26(A2)は、
TAB方法により信号線駆動回路4003を実装する例である。
薄膜トランジスタを複数有しており、図26(B)では、画素部4002に含まれる薄膜
トランジスタ4010と、走査線駆動回路4004に含まれる薄膜トランジスタ4011
とを例示している。薄膜トランジスタ4010、4011上には絶縁層4020、402
1が設けられている。薄膜トランジスタ4010、4011は、SiOxを含む酸化物半
導体層をチャネル形成領域に用い、ソース領域またはドレイン領域として窒素を含ませた
酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタを適用することができる。本実施の形態において
、薄膜トランジスタ4010、4011はnチャネル型薄膜トランジスタである。
画素電極層4030は、薄膜トランジスタ4010と電気的に接続されている。液晶素子
4013は、画素電極層4030、共通電極層4031、及び液晶層4008を含む。本
実施の形態では、基板に概略平行(すなわち水平な方向)な電界を生じさせて、基板と平
行な面内で液晶分子を動かして、階調を制御する方式、を用いる。このような方式として
、IPS(In Plane Switching)モードで用いる電極構成や、FFS
(Fringe Field Switching)モードで用いる電極構成が適用でき
る。なお、第1の基板4001、第2の基板4006の外側にはそれぞれ偏光板4032
、4033が設けられている。
スチックなどを用いることができる。プラスチックとしては、FRP(Fibergla
ss−Reinforced Plastics)板、PVF(ポリビニルフルオライド
)フィルム、ポリエステルフィルムまたはアクリル樹脂フィルムを用いることができる。
また、アルミニウムホイルをPVFフィルムやポリエステルフィルムで挟んだ構造のシー
トを用いることもできる。
液晶層4008の膜厚(セルギャップ)を制御するために設けられている。なお球状のス
ペーサを用いていても良い。
、偏光板は基板の内側に設けてもよい。偏光板の材料や作製工程条件によって適宜設定す
ればよい。また、ブラックマトリクスとして機能する遮光層を設けてもよい。
1の一部を遮光層4012とする。遮光層4012は、薄膜トランジスタ4010、40
11を覆う。図26においては、薄膜トランジスタ4010、4011上方を覆うように
遮光層4034が第2の基板4006側に設けられている。遮光層4012、及び遮光層
4034を設けることにより、さらにコントラスト向上や薄膜トランジスタの安定化の効
果を高めることができる。
ることができ、酸化物半導体の光感度による薄膜トランジスタの電気特性の変動を防止し
安定化する効果を得られる。
に限定されない。
ぐためのものであり、緻密な膜が好ましい。保護膜は、スパッタ法を用いて、酸化珪素膜
、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜、酸化アルミニウム膜、窒化アルミニウ
ム膜、酸化窒化アルミニウム膜、又は窒化酸化アルミニウム膜の単層、又は積層で形成す
ればよい。
、ベンゾシクロブテン、ポリアミド、エポキシ等の、耐熱性を有する有機材料を用いるこ
とができる。また上記有機材料の他に、低誘電率材料(low−k材料)、シロキサン系
樹脂、PSG(リンガラス)、BPSG(リンボロンガラス)等を用いることができる。
なお、これらの材料で形成される絶縁膜を複数積層させることで、絶縁層を形成してもよ
い。
、スピンコート、ディップ、スプレー塗布、液滴吐出法(インクジェット法、スクリーン
印刷、オフセット印刷等)、ドクターナイフ、ロールコーター、カーテンコーター、ナイ
フコーター等を用いることができる。絶縁層を材料液を用いて形成する場合、ベークする
工程で同時に、半導体層のアニール(200℃〜400℃)を行ってもよい。絶縁層の焼
成工程と半導体層のアニールを兼ねることで効率よく液晶表示装置を作製することが可能
となる。
、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、
酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物(以下、ITOと示す。)、
インジウム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物などの透光性を有する
導電性材料を用いることができる。
ともいう)を含む導電性組成物を用いて形成することができる。
002に与えられる各種信号及び電位は、FPC4018から供給されている。
線に対して、駆動回路保護用の保護回路を同一基板上に設けることが好ましい。保護回路
は、酸化物半導体を用いた非線形素子を用いて構成することが好ましい。
端子電極4016は、薄膜トランジスタ4010、4011のソース電極層及びドレイン
電極層と同じ導電膜で形成されている。
て電気的に接続されている。
装している例を示しているが、この構成に限定されない。走査線駆動回路を別途形成して
実装しても良いし、信号線駆動回路の一部または走査線駆動回路の一部のみを別途形成し
て実装しても良い。
シール材2602により固着され、その間にTFT等を含む素子層2603、液晶層26
04が設けられる。
置する。RGB方式の場合は、赤の発光ダイオード2910R、緑の発光ダイオード29
10G、青の発光ダイオード2910Bを液晶表示装置の表示エリアを複数に分割した分
割領域にそれぞれ配置する。
光板2607、及び光学シート2613が配設されている。光源は赤の発光ダイオード2
910R、緑の発光ダイオード2910G、青の発光ダイオード2910Bと反射板26
11により構成され、回路基板2612に設けられたLED制御回路2912は、フレキ
シブル配線基板2609により素子基板2600の配線回路部2608と接続され、さら
にコントロール回路や電源回路などの外部回路が組みこまれている。
よって、フィールドシーケンシャル方式の液晶表示装置とする例を示したが特に限定され
ず、バックライトの光源として冷陰極管または白色LEDを用い、カラーフィルタを設け
てもよい。
、TN(Twisted Nematic)モード、MVA(Multi−domain
Vertical Alignment)モード、PVA(Patterned Ve
rtical Alignment)モード、ASM(Axially Symmetr
ic aligned Micro−cell)モード、OCB(Optical Co
mpensated Birefringence)モード、FLC(Ferroele
ctric Liquid Crystal)モード、AFLC(AntiFerroe
lectric Liquid Crystal)モードなどを用いることができる。
である。
本実施の形態では、半導体装置として電子ペーパーの一例を示す。
置に用いられる表示部に配置される薄膜トランジスタ581としては、実施の形態2で示
すSiOxを含む酸化物半導体層をチャネル形成領域に用い、ソース領域またはドレイン
領域として窒素を含ませた酸化物半導体を用いる薄膜トランジスタと同様に作製できる。
ツイストボール表示方式とは、白と黒に塗り分けられた球形粒子を表示素子に用いる電極
層である第1の電極層及び第2の電極層の間に配置し、第1の電極層及び第2の電極層に
電位差を生じさせての球形粒子の向きを制御することにより、表示を行う方法である。
の薄膜トランジスタであり、ソース電極層又はドレイン電極層によって第1の電極層58
7と、絶縁層583、584、585に形成する開口で接しており電気的に接続している
。第1の電極層587と第2の電極層588との間には黒色領域590a及び白色領域5
90bを有し、周りに液体で満たされているキャビティ594を含む球形粒子589が設
けられており、球形粒子589の周囲は樹脂等の充填材595で充填されている(図28
(A)参照。)。
が共通電極に相当する。第2の電極層588は、薄膜トランジスタ581と同一基板上に
設けられる共通電位線と電気的に接続される。共通接続部において、一対の基板間に配置
される導電性粒子を介して第2の電極層588と共通電位線とを電気的に接続することが
できる。
と、正に帯電した白い微粒子と負に帯電した黒い微粒子とを封入した直径10μm〜20
0μm程度のマイクロカプセルを用いる。第1の電極層と第2の電極層との間に設けられ
るマイクロカプセルは、第1の電極層と第2の電極層によって、電場が与えられると、白
い微粒子と、黒い微粒子が逆の方向に移動し、白または黒を表示することができる。この
原理を応用した表示素子が電気泳動表示素子であり、電子ペーパーとよばれている。電気
泳動表示素子は、液晶表示素子に比べて反射率が高いため、補助ライトは不要であり、ま
た消費電力が小さく、薄暗い場所でも表示部を認識することが可能である。また、表示部
に電源が供給されない場合であっても、一度表示した像を保持することが可能であるため
、電波発信源から表示機能付き半導体装置(単に表示装置、又は表示装置を具備する半導
体装置ともいう)を遠ざけた場合であっても、表示された像を保存しておくことが可能と
なる。
い、ソース領域またはドレイン領域として窒素を含ませた酸化物半導体を用いる薄膜トラ
ンジスタを作製することで、半導体装置として製造コストが低減された電子ペーパーを作
製することができる。電子ペーパーは、情報を表示するものであればあらゆる分野の電子
機器に用いることが可能である。例えば、電子ペーパーを用いて、電子書籍(電子ブック
)、ポスター、電車などの乗り物の車内広告、クレジットカード等の各種カードにおける
表示等に適用することができる。電子機器の一例を図28(B)に示す。
筐体2701および筐体2703の2つの筐体で構成されている。筐体2701および筐
体2703は、軸部2711により一体とされており、該軸部2711を軸として開閉動
作を行うことができる。このような構成により、紙の書籍のような動作を行うことが可能
となる。
込まれている。表示部2705および表示部2707は、続き画面を表示する構成として
もよいし、異なる画面を表示する構成としてもよい。異なる画面を表示する構成とするこ
とで、例えば右側の表示部(図28(B)では表示部2705)に文章を表示し、左側の
表示部(図28(B)では表示部2707)に画像を表示することができる。
筐体2701において、電源2721、操作キー2723、スピーカ2725などを備え
ている。操作キー2723により、頁を送ることができる。なお、筐体の表示部と同一面
にキーボードやポインティングディバイスなどを備える構成としてもよい。また、筐体の
裏面や側面に、外部接続用端子(イヤホン端子、USB端子、またはACアダプタおよび
USBケーブルなどの各種ケーブルと接続可能な端子など)、記録媒体挿入部などを備え
る構成としてもよい。さらに、電子書籍2700は、電子辞書としての機能を持たせた構
成としてもよい。
電子書籍サーバから、所望の書籍データなどを購入し、ダウンロードする構成とすること
も可能である。
である。
SiOxを含む酸化物半導体層をチャネル形成領域に用い、ソース領域またはドレイン領
域として窒素を含ませた酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタを含む半導体装置は、さ
まざまな電子機器(遊技機も含む)に適用することができる。電子機器としては、例えば
、テレビジョン装置(テレビ、またはテレビジョン受信機ともいう)、コンピュータ用な
どのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電
話機(携帯電話、携帯電話装置ともいう)、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装
置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。
01は、筐体に表示部9603が組み込まれている。表示部9603により、映像を表示
することが可能である。また、ここでは、壁9600に固定して筐体の裏側を支持した構
成を示している。
機9610により行うことができる。リモコン操作機9610が備える操作キー9609
により、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部9603に表示される映像を
操作することができる。また、リモコン操作機9610に、当該リモコン操作機9610
から出力する情報を表示する表示部9607を設ける構成としてもよい。
より一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線または無線に
よる通信ネットワークに接続することにより、一方向(送信者から受信者)または双方向
(送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など)の情報通信を行うことも可能である。
れており、連結部9893により、開閉可能に連結されている。筐体9881には表示部
9882が組み込まれ、筐体9891には表示部9883が組み込まれている。また、図
29(B)に示す携帯型遊技機は、その他、スピーカ部9884、記録媒体挿入部988
6、LEDランプ9890、入力手段(操作キー9885、接続端子9887、センサ9
888(力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、
化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振
動、におい又は赤外線を測定する機能を含むもの)、マイクロフォン9889)等を備え
ている。もちろん、携帯型遊技機の構成は上述のものに限定されず、少なくとも半導体装
置を備えた構成であればよく、その他付属設備が適宜設けられた構成とすることができる
。図29(B)に示す携帯型遊技機は、記録媒体に記録されているプログラム又はデータ
を読み出して表示部に表示する機能や、他の携帯型遊技機と無線通信を行って情報を共有
する機能を有する。なお、図29(B)に示す携帯型遊技機が有する機能はこれに限定さ
れず、様々な機能を有することができる。
1001に組み込まれた表示部1002の他、操作ボタン1003、外部接続ポート10
04、スピーカ1005、マイク1006などを備えている。
報を入力ことができる。また、電話を掛ける、或いはメールを打つなどの操作は、表示部
1002を指などで触れることにより行うことができる。
示モードであり、第2は、文字等の情報の入力を主とする入力モードである。第3は表示
モードと入力モードの2つのモードが混合した表示+入力モードである。
主とする文字入力モードとし、画面に表示させた文字の入力操作を行えばよい。この場合
、表示部1002の画面のほとんどにキーボードまたは番号ボタンを表示させることが好
ましい。
有する検出装置を設けることで、携帯電話機1000の向き(縦か横か)を判断して、表
示部1002の画面表示を自動的に切り替えるようにすることができる。
ボタン1003の操作により行われる。また、表示部1002に表示される画像の種類に
よって切り替えるようにすることもできる。例えば、表示部に表示する画像信号が動画の
データであれば表示モード、テキストデータであれば入力モードに切り替える。
部1002のタッチ操作による入力が一定期間ない場合には、画面のモードを入力モード
から表示モードに切り替えるように制御してもよい。
02に掌や指を触れることで、掌紋、指紋等を撮像することで、本人認証を行うことがで
きる。また、表示部に近赤外光を発光するバックライトまたは近赤外光を発光するセンシ
ング用光源を用いれば、指静脈、掌静脈などを撮像することもできる。
、表示部9412、及び操作ボタン9413を含む表示装置9410と、筐体9401に
操作ボタン9402、外部入力端子9403、マイク9404、スピーカ9405、及び
着信時に発光する発光部9406を含む通信装置9400とを有しており、表示機能を有
する表示装置9410は電話機能を有する通信装置9400と矢印の2方向に脱着可能で
ある。よって、表示装置9410と通信装置9400の短軸同士を取り付けることも、表
示装置9410と通信装置9400の長軸同士を取り付けることもできる。また、表示機
能のみを必要とする場合、通信装置9400より表示装置9410を取り外し、表示装置
9410を単独で用いることもできる。通信装置9400と表示装置9410とは無線通
信又は有線通信により画像又は入力情報を授受することができ、それぞれ充電可能なバッ
テリーを有する。
である。
101:ゲート電極層
102:ゲート絶縁層
103:SiOxを含む酸化物半導体層
104a、104b:ソース領域又はドレイン領域
105a、105b:ソース電極層及びドレイン電極層
106:保護絶縁層
160:薄膜トランジスタ
170:薄膜トランジスタ
Claims (3)
- ゲート電極と、
酸化物半導体層と、
前記ゲート電極と、前記酸化物半導体層との間の、絶縁層と、
ソース電極と、
ドレイン電極とを有し、
前記酸化物半導体層は、ガリウムと、亜鉛と、シリコンとを含み、
前記酸化物半導体層は、インジウムを含まず、
前記酸化物半導体層と、前記ソース電極との間には、シリコンを含まない第1の領域を有し、
前記第1の領域は、ガリウムと、亜鉛とを含み、
前記酸化物半導体層と、前記ドレイン電極との間には、シリコンを含まない第2の領域を有し、
前記第2の領域は、ガリウムと、亜鉛とを含むことを特徴とする半導体装置。 - ゲート電極と、
酸化物半導体層と、
前記ゲート電極と、前記酸化物半導体層との間の、絶縁層と、
ソース電極と、
ドレイン電極とを有し、
前記酸化物半導体層は、ガリウムと、亜鉛と、シリコンとを含み、
前記酸化物半導体層は、インジウムを含まず、
前記酸化物半導体層と、前記ソース電極との間には、シリコンと、インジウムとを含まない第1の領域を有し、
前記第1の領域は、ガリウムと、亜鉛とを含み、
前記酸化物半導体層と、前記ドレイン電極との間には、シリコンと、インジウムとを含まない第2の領域を有し、
前記第2の領域は、ガリウムと、亜鉛とを含む領域を有することを特徴とする半導体装置。 - ゲート電極と、
酸化物半導体層と、
前記ゲート電極と、前記酸化物半導体層との間の、絶縁層と、
ソース電極と、
ドレイン電極とを有し、
前記酸化物半導体層は、シリコンを含み、
前記酸化物半導体層は、インジウムを含まず、
前記酸化物半導体層と、前記ソース電極との間には、シリコンと、インジウムとを含まない第1の領域を有し、
前記酸化物半導体層と、前記ドレイン電極との間には、シリコンと、インジウムとを含まない第2の領域を有することを特徴とする半導体装置。
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