JP2014153476A - 静電荷像現像用キャリア、静電荷像現像用現像剤、プロセスカートリッジおよび画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高温高湿の環境下で、高速で画像を形成しても、記録媒体上の画像に生じる画像濃度差が抑制される静電荷像現像用キャリアを提供する。
【解決手段】磁性粒子を有し、前記磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが１．０以上３．５以下の範囲であり、前記磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．２以上０．７以下の範囲であり、前記磁性粒子のＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１４ｍ^２／ｇ以下の範囲であり、前記磁性粒子の体積抵抗が、２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲である静電荷像現像用キャリアである。
【選択図】なし

Description

本発明は、静電荷像現像用キャリア、静電荷像現像用現像剤、プロセスカートリッジおよび画像形成装置に関する。

電子写真法等静電荷像を経て画像情報を可視化する方法は、現在様々な分野で利用されている。電子写真法においては、帯電、露光工程により像保持体上に静電潜像を形成し（潜像形成工程）、静電荷像現像用トナー（以下、単に「トナー」と呼ぶ場合がある。）を含む静電荷像現像用現像剤（以下、単に「現像剤」と呼ぶ場合がある。）で静電潜像を現像し（現像工程）、転写工程、定着工程を経て可視化される。ここで用いる現像剤は、静電荷像現像用キャリア（以下、単に「キャリア」と呼ぶ場合がある。）とトナーの両者を相互に摩擦帯電させてトナーに適当量の正または負の電荷を付与する二成分現像剤と、磁性トナー等のようにトナー単独で用いる一成分現像剤とに大別される。特に二成分現像剤は、キャリア自身に撹拌、搬送、帯電付与等の機能を持たせ、現像剤に要求される機能の分離を図れるため、設計が容易であること等の理由で現在広く用いられている。

近年、電子写真法による画像形成装置により形成される画像の高画質化、プロセスの高速度化、長期安定性等が求められ、さらに装置の小型化や使用環境の多様化に伴い、キャリアにおいても様々な検討がなされている。

例えば、特許文献１には、磁性粒子を有し、（磁性粒子のＢＥＴ比表面積）／（磁性粒子を真球と仮定したときの真球相当比表面積）の値が、８．０以上３０．０以下であり、磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが、０．０５０μｍ以下であり、見掛密度が、２．４０ｇ／ｃｃ以上であるキャリアについて開示されている。

例えば、特許文献２には、磁性粒子及び該磁性粒子を被覆する被覆層で形成されているキャリアであって、キャリアの平均粒径が１００μｍ以下であり、キャリアの体積抵抗が１０^１０Ω・ｃｍ以上であるキャリアについて開示されている。

例えば、特許文献３には、磁性粒子を含有するキャリアコアと該キャリアコアの表面に形成される被覆層とを有するキャリアであって、該キャリアの５０００Ｖ／ｃｍにおける体積抵抗の１０点偏差が０．５桁以内であり、該キャリアの円相当径０．５μｍ以上２００．０μｍ以下の範囲内における個数基準の円相当径５０％値が１５μｍ以上７０μｍであり、円相当径０．５μｍ以上２００．０μｍ以下の範囲内における円形度０．２００以上１．０００以下での平均円形度が０．９６０以上であり、円相当径１５．０μｍ以上１００．０μｍ以下の範囲内における円形度０．２００以上０．９２５以下の粒子の割合が１５．０個数％以下であるキャリアについて開示されている。

例えば、特許文献４には、多孔質磁性粒子と樹脂とを少なくとも有するキャリアであって、該多孔質磁性粒子の水銀圧入法において、細孔径０．１０μｍ以上３．００μｍ以下の範囲の微分細孔容積が最大となる細孔径が０．８０μｍ以上１．５０μｍ以下であり、細孔径０．８０μｍ以上１．５０μｍ以下の範囲の微分細孔容積の最大値をＰ１とし、細孔径２．００μｍ以上３．００μｍ以下の範囲の微分細孔容積の最大値をＰ２とした場合に、Ｐ１が０．０５ｍｌ／ｇ以上０．５０ｍｌ／ｇ以下であり、Ｐ２／Ｐ１が０．０５以上０．３０以下であることを特徴とするキャリアについて開示されている。

特開２００９−８６３４０号公報 特開平７−２３４５４８号公報 特開２００８−１９１４６３号公報 特開２０１０−６１１２０号公報

本発明の目的は、高温高湿の環境下で、高速で画像を形成しても、記録媒体上の画像に生じる画像濃度差が抑制される静電荷像現像用キャリア、静電荷像現像用現像剤、プロセスカートリッジおよび画像形成装置を提供することにある。

請求項１に係る発明は、磁性粒子を有し、前記磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが１．０以上３．５以下の範囲であり、前記磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．２以上０．７以下の範囲であり、前記磁性粒子のＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１４ｍ^２／ｇ以下の範囲であり、前記磁性粒子の体積抵抗が、２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲である静電荷像現像用キャリアである。

請求項２に係る発明は、前記磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが２．５以上３．０以下の範囲であり、前記磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．４以上０．７以下の範囲であり、前記磁性粒子のＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１２ｍ^２／ｇ以下の範囲であり、前記磁性粒子の体積抵抗が、２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、７．０ｌｏｇΩｃｍ以上７．８ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲である請求項１に記載の静電荷像現像用キャリアである。

請求項３に係る発明は、請求項１又は２に記載の静電荷像現像用キャリアを含有する静電荷像現像用現像剤である。

請求項４に係る発明は、請求項３に記載の静電荷像現像用現像剤を収納し、像保持体表面に形成された静電潜像を前記静電荷像現像用現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段を備えるプロセスカートリッジである。

請求項５に係る発明は、像保持体と、前記像保持体表面を帯電する帯電手段と、前記像保持体表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記静電潜像を請求項３に記載の静電荷像現像用現像剤により現像してトナー画像を形成する現像手段と、前記トナー画像を被転写体に転写する転写手段と、を備える画像形成装置である。

請求項１に係る発明によれば、磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが１．０以上３．５以下の範囲であり、前記磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．２以上０．７以下の範囲であり、前記磁性粒子のＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１４ｍ^２／ｇ以下の範囲であり、前記磁性粒子の体積抵抗が、２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲であるとの条件を満たさない場合と比較して、高温高湿の環境下で、高速で画像を形成しても、記録媒体上の画像に生じる画像濃度差が抑制される静電荷像現像用キャリアが提供される。

請求項２に係る発明によれば、磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが２．５以上３．０以下の範囲であり、磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．４以上０．７以下の範囲であり、磁性粒子のＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１２ｍ^２／ｇ以下の範囲であり、磁性粒子の体積抵抗が、２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、７．０ｌｏｇΩｃｍ以上７．８ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲であるとの条件を満たさない場合と比較して、高温高湿の環境下で、高速で画像を形成しても、記録媒体上の画像に生じる画像濃度差がより抑制される静電荷像現像用キャリアが提供される。

請求項３に係る発明によれば、キャリアの磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが１．０以上３．５以下の範囲であり、前記磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．２以上０．７以下の範囲であり、前記磁性粒子のＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１４ｍ^２／ｇ以下の範囲であり、前記磁性粒子の体積抵抗が、２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲であるとの条件を満たさない場合と比較して、高温高湿の環境下で、高速で画像を形成しても、記録媒体上の画像に生じる画像濃度差が抑制される静電荷像現像用現像剤が提供される。

請求項４に係る発明によれば、キャリアの磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが１．０以上３．５以下の範囲であり、前記磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．２以上０．７以下の範囲であり、前記磁性粒子のＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１４ｍ^２／ｇ以下の範囲であり、前記磁性粒子の体積抵抗が、２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲であるとの条件を満たさない場合と比較して、高温高湿の環境下で、高速で画像を形成しても、記録媒体上の画像に生じる画像濃度差が抑制されるプロセスカートリッジが提供される。

請求項５に係る発明によれば、キャリアの磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが１．０以上３．５以下の範囲であり、前記磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．２以上０．７以下の範囲であり、前記磁性粒子のＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１４ｍ^２／ｇ以下の範囲であり、前記磁性粒子の体積抵抗が、２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲であるとの条件を満たさない場合と比較して、高温高湿の環境下で、高速で画像を形成しても、記録媒体上の画像に生じる画像濃度差が抑制される画像形成装置が提供される。

本発明の実施形態に係る画像形成装置に用いられる現像装置の構成の一例を示す概略構成図である。 現像装置から電子写真感光体にトナーが供給される様子を表す模式図である。 本発明の実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。 本発明の実施形態に係るプロセスカートリッジの一例を示す概略構成図である。

本発明の実施の形態について以下説明する。本実施形態は本発明を実施する一例であって、本発明は本実施形態に限定されるものではない。

図１は、本発明の実施形態に係る画像形成装置に用いられる現像装置の構成の一例を示す概略構成図である。図１に示す現像装置５０のケース５１の内部には現像剤が収容されている。ケース５１の電子写真感光体２０側の開口部には、電子写真感光体２０に対向して現像ロール５２が設けられている。現像ロール５２は回転体であり、筒状の部材である。現像ロール５２は、内部に固定した状態で配置されたマグネットロール５２１と、マグネットロール５２１の外周に回転自在に設けられた現像スリーブ５２２と、を有する。マグネットロール５２１は、現像ロール５２の周面に現像剤を保持させるための磁界を発生する。現像スリーブ５２２は、非磁性のスリーブであり、決められた現像電位の現像バイアス電圧が与えられて、図中の矢印Ｄ方向に回転させられる。ここでの現像電位は、例えば−６００Ｖである。現像装置５０において現像ロール５２のさらに奥側には、現像剤を攪拌しつつ、現像ロール５２に現像剤を供給する供給ロール５３が設けられる。供給ロール５３のさらに奥側には、攪拌ロール５４が設けられる。

現像ロール５２は、マグネットロール５２１の磁気吸着力によって現像剤を周面に保持したまま回転させられる。より具体的には、現像ロール５２の現像スリーブ５２２上に現像剤が保持される。この現像剤は、マグネットロール５２１が与える磁力により磁力線に沿って束状に配列する、所謂磁気ブラシを形成する。この磁気ブラシは、現像スリーブ５２２の回転とともに、層厚規制部材５１１によって層厚が規制された後、さらに回転方向下流側に搬送される。ケース５１のカバー部５１２は、現像ロール５２や電子写真感光体２０から飛散したトナーが、画像形成装置内の別の場所に至ることを抑制するために設けられている。

図２は、現像装置から電子写真感光体にトナーが供給される様子を表す模式図である。図２に示す白抜きの丸印は静電荷像現像用キャリアを表しており、ハッチングで示す丸印は静電荷像現像用トナーを表している。現像ロール５２は、磁気吸着により現像剤である磁気ブラシを保持したまま、矢印Ｄ方向である周方向に回転させられる。そして、現像ロール５２と電子写真感光体２０との距離が最小となる領域を含む供給経路Ｔ１において、磁気ブラシを電子写真感光体２０に接触させ、又は近接させて、磁気ブラシ中のトナーを電子写真感光体２０上の潜像に供給する。このとき、現像スリーブ５２２の現像電位と、電子写真感光体２０に形成された潜像の電位との電位差によって生じる電界（以下、「現像電界」という。）により電気的引力が作用し、電子写真感光体２０の表面にトナーが移動して付着する（現像）。

そして、後述するような転写工程、定着工程等を経て、画像が形成された記録媒体が画像形成装置から出力されることになる。一般的に、記録媒体上に高速で画像を形成する際には、現像ロール５２等を高速で回転させること等が必要であるが、画像形成を高速にするほど、すなわち現像ロール５２が高速で回転するほど、現像ロール５２に形成される磁気ブラシの穂立ち高さや磁気ブラシの密度等にばらつきが生じ易くなる場合がある。ここで、高速で画像を形成するとは、普通紙を４０枚／分以上で出力することである。

また、高温（例えば２８℃以上３２℃以下）高湿（例えば、８０％ＲＨ以上）環境下で、記録媒体上に画像を形成する場合、キャリアの抵抗が低いほど、トナーに帯電した電荷がキャリアを通してリークし易くなり、現像ロール５２に形成される磁気ブラシの穂立ち高さや磁気ブラシの密度等にばらつきが生じ易くなる場合がある。磁気ブラシ穂立ち高さは、図２に示す供給経路Ｔ１での磁気ブラシの高さである。なお、磁気ブラシ穂立ち高さは、顕微鏡等を用いて観察し、その平均高さを計測することにより求められ、磁気ブラシの密度は、図２に示す供給経路Ｔ１での磁気ブラシの密度である。磁気ブラシの密度は、レーザーの透過率などにより求められるほか、拡大鏡による目視観察や写真画像から相対比較する方法がある。

そして、磁気ブラシ穂立ち高さや磁気ブラシの密度等にばらつきが生じた場合、磁気ブラシ先端における現像効率に差が発生し、記録媒体上の画像に画像濃度差が発生すると考えられる。したがって、高温高湿の環境下で、高速で画像を形成すると、記録媒体上の画像に画像濃度差が発生し易くなる。本発明者らは、本実施形態に係る静電荷像現像用キャリアを用いることにより、高温高湿の環境下で、高速で画像を形成しても、記録媒体上の画像に生じる画像濃度差が抑制されることを見出した。以下、本実施形態に係る静電荷像現像用キャリアについて説明する。

＜静電荷像現像用キャリア＞
本実施形態に係る静電荷像現像用キャリアは、磁性粒子を有し、前記磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが１．０以上３．５以下の範囲であり、前記磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．２以上０．７以下の範囲であり、前記磁性粒子のＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１４ｍ^２／ｇ以下の範囲であり、前記磁性粒子の体積抵抗が、２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲である。磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍ、磁性粒子表面の算術平均粗さＲａ、磁性粒子のＢＥＴ比表面積、磁性粒子の体積抵抗の測定方法について後述する（実施例参照）。

磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍを１．０以上３．５以下の範囲とし、磁性粒子表面の算術平均粗さＲａを０．２以上０．７以下の範囲とし、磁性粒子のＢＥＴ比表面積を０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１４ｍ^２／ｇ以下の範囲とすることにより、上記これらの範囲を満たさない場合と比較して、高速で画像を形成しても、図１に示す現像装置５０のケース５１の内部等において、キャリアを含む現像剤の流動性が安定し、磁気ブラシが現像ロール５２上で滑り難くなり、磁気ブラシ穂立ち高さや磁気ブラシの密度等のばらつき等が抑えられると考えられる。また、磁性粒子の体積抵抗を２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲とすることにより、上記範囲を満たさない場合と比べて、高温高湿の環境下でも、トナーに帯電した電荷がキャリアを通してリークし難くなり、現像ロール５２に形成される磁気ブラシの穂立ち高さや磁気ブラシの密度等のばらつきが抑えられると考えられる。したがって、磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍを１．０以上３．５以下の範囲とし、磁性粒子表面の算術平均粗さＲａを０．２以上０．７以下の範囲とし、磁性粒子のＢＥＴ比表面積を０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１４ｍ^２／ｇ以下の範囲とし、磁性粒子の体積抵抗を２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲とすることにより、上記範囲を満たさない場合と比べて、高温高湿の環境下で、高速で画像を形成しても、磁気ブラシ穂立ち高さや磁気ブラシの密度等のばらつきが抑えられ、記録媒体上の画像に生じる画像濃度差が抑制される。本実施形態では、磁性粒子と、磁性粒子の表面に形成される被覆層とを有するキャリアにおいても、磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍ、磁性粒子表面の算術平均粗さＲａ、磁性粒子のＢＥＴ比表面積、磁性粒子の体積抵抗が上記範囲を満たせば、上記範囲を満たさない場合と比べて、高温高湿の環境下で、高速で画像を形成しても、記録媒体上の画像に生じる画像濃度差が抑制される。

磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが１．０未満であると、Ｓｍが１．０以上の場合と比較して、磁気ブラシが現像ロール５２上で滑り易くなり、磁気ブラシの穂立ち高さや磁気ブラシの密度等にばらつきが生じる場合がある。また、磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが３．５を超えると、Ｓｍが３．５以下の場合と比較して、磁性粒子表面の凹凸が大きくなりすぎて、磁気ブラシが現像ロール５２上で滑り易くなり、磁気ブラシの穂立ち高さや磁気ブラシの密度等にばらつきが生じる場合がある。また、磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．２未満であると、Ｒａが０．２以上の場合と比較して、磁性粒子同士の引っかかりが小さくなり、磁気ブラシの穂立ち高さや磁気ブラシの密度等にばらつきが生じる場合がある。また、磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．７を超えると、Ｒａが０．７以下の場合と比較して、磁気ブラシが現像ロール５２に固定されて、動き難くなるため、磁気ブラシが現像ロール５２上で滑り易くなり、磁気ブラシの穂立ち高さや磁気ブラシの密度等にばらつきが生じる場合がある。また、磁性粒子の体積抵抗が２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ未満であると、磁性粒子の体積抵抗が２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上の場合と比較して、トナーに帯電した電荷がキャリアを通してリークし易くなり、磁気ブラシの穂立ち高さや磁気ブラシの密度等にばらつきが生じる場合がある。また、磁性粒子の体積抵抗が２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、８．０ｌｏｇΩｃｍを超えると、磁性粒子の体積抵抗が２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の場合と比較して、トナーに帯電した電荷と逆の電荷がキャリアに蓄積され易くなり、磁気ブラシの穂立ち高さや磁気ブラシの密度等にばらつきが生じる場合がある。また、磁性粒子のＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ未満の場合又は０．１４ｍ^２／ｇを超える場合、ＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１４ｍ^２／ｇ以下の場合と比較して、磁性粒子の体積抵抗が２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲において、トナーに帯電した電荷がキャリアを通してリーク易くなり、磁気ブラシの穂立ち高さや磁気ブラシの密度等にばらつきが生じる場合がある。したがって、磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍ、磁性粒子表面の算術平均粗さＲａ、磁性粒子のＢＥＴ比表面積、磁性粒子の体積抵抗のいずれも上記範囲を満たすことにより、少なくともいずれか１つを満たさない場合と比較して、高温高湿の環境下で、高速で画像を形成しても、磁気ブラシ穂立ち高さや磁気ブラシの密度等のばらつき等が抑えられ、記録媒体上の画像に生じる画像濃度差が抑制される。

本実施形態の磁性粒子の体積平均粒径としては、例えば、３０μｍ以上５０μｍ以下の範囲が好ましい。磁性粒子の体積平均粒径が３０μｍ未満であると、キャリア飛散が抑制され難くなる場合があり、５０μｍを超えるとキャリアとした際にトナーをできるだけ均一に帯電させることが困難となる場合がある。

本実施形態の静電荷像現像用キャリアの製造方法は、特に制限はないが、例えば、鉄化合物、マンガン化合物、マグネシウム化合物、カルシウム化合物、及びストロンチウム化合物等を含むキャリア材料を焼成する仮焼成工程、前記仮焼成工程の後、焼成したキャリア材料を粉砕する粉砕工程、前記粉砕工程の後、粉砕したキャリア材料を造粒する造粒工程、前記造粒工程の後、キャリア材料を焼成する本焼成工程含む製造方法であることが好ましい。

キャリア材料として用いられる鉄化合物、マンガン化合物、マグネシウム化合物、カルシウム化合物、及びストロンチウム化合物等は、例えば、酸化物、水酸化物、炭酸塩等如何なる組成であってもよい。

仮焼成工程における焼成温度は、特に制限されるものではないが、例えば、８００℃以上１２００℃以下であることが好ましい。仮焼成工程における酸素濃度は特に制限されるものではないが、例えば、１％以上１０％以下の範囲とすることが好ましい。仮焼成工程における焼成時間としては、キャリア材料の組成や、焼成温度、乾燥の程度などにもよるが、例えば、０．５時間以上４８時間以下であることが好ましく、１時間以上１２時間以下であることがより好ましい。仮焼成工程、及び後述する本焼成工程及び追加焼成工程の焼成は、公知の装置が用いられ、例えば、電気炉やロータリーキルン等が挙げられる。

仮焼成工程の後、焼成したキャリア材料を粉砕する粉砕工程、及び粉砕工程後、粉砕した粉砕品（キャリア材料）を造粒する造粒工程を含むことが好ましい。粉砕工程においては、公知の装置が用いられ、例えば、湿式ボールミル等が挙げられる。造粒工程においては、公知の装置が用いられ、例えば、スプレードライヤー等が挙げられる。また、造粒工程の後、造粒したキャリア材料を乾燥する乾燥工程を含むことが好ましい。

本焼成工程における焼成時間としては、キャリア材料の組成や、焼成温度、乾燥の程度などにもよるが、例えば、１時間以上２４時間以下であることが好ましく、２時間以上１２時間以下であることがより好ましい。また、本焼成工程後、本焼成工程により得られる磁性粒子の解砕工程、及び分級工程を行うことが好ましい。なお、解砕工程においては、公知の装置が用いられ、例えば、ピンミルやハンマーミル等が挙げられる。分級工程においては、公知の装置が用いられ、例えば、振動篩や気流分級機等が挙げられる。

本実施形態では、キャリア材料にシリカ（ＳｉＯ_２）等の表面性調整剤を添加すること、仮焼成後の粉砕工程等における粉砕品（キャリア材料）の体積平均粒径を制御すること、本焼成工程等における焼成温度及び酸素濃度を調整すること等により、磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍを１．０以上３．５以下の範囲とし、磁性粒子表面の算術平均粗さＲａを０．２以上０．７以下の範囲とし、磁性粒子のＢＥＴ比表面積を０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１４ｍ^２／ｇ以下の範囲とし、磁性粒子の体積抵抗を２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲に調整することが好ましい。

まず、仮焼成工程を行うキャリア材料にシリカ等の表面性調整剤を添加することにより、最終的に得られる磁性粒子の粒界の面積（大きさ）が調整される。具体的には、シリカ等の表面性調整剤の添加量を多くするほど、磁性粒子の粒界の面積が大きくなり、主に磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが大きくなり易い。仮焼成工程後の粉砕工程における粉砕品の体積平均粒径が大きいほど、磁性粒子の粒界の面積が大きくなり、主に磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが大きくなり易い。また、本焼成工程における焼成温度及び酸素濃度を調整することにより、最終的に得られる磁性粒子の粒界の面積（大きさ）が調整される。具体的には、本焼成工程における焼成温度を高くすると、磁性粒子の粒界の面積が大きくなり、主に磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが大きくなり易い。また、本焼成工程における酸素濃度を高くすると、粒界の成長が遅くなり粒界間の隙間が残りやすく、主に磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが大きくなり易い。また、本焼成工程における焼成温度を高く、酸素濃度を低くするほど、主に（磁性粒子の磁化が高くなり）体積抵抗が低くなり易い。また、本焼成において磁性粒子を得た後に、大気雰囲気下で磁性粒子を流動させながら焼成を行う追加焼成を行うことにより、上記追加焼成を行わない場合と比較して、粒界間の隙間が小さくなり、Ｓｍ及びＲａの変化を抑えながら、主に磁性粒子のＢＥＴ比表面積が小さくなり易い。例えば、磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍ、磁性粒子表面の算術平均粗さＲａ、磁性粒子のＢＥＴ比表面積、磁性粒子の体積抵抗を上記範囲とするために、シリカ等の表面性調整剤の添加量は、キャリア材料の全量に対して０．０１質量％以上０．５質量％以下の範囲とすることが好ましく、本焼成工程における焼成温度は、例えば、９００℃以上１５００℃以下であることが好ましく、本焼成工程における酸素濃度は、例えば、０．５％以上８％以下の範囲とすることが好ましい。さらに、本焼成工程後には、例えば、磁性粒子を流動させながら、大気雰囲気下で、７００℃以上１０００℃以下で磁性粒子を焼成する追加焼成を行うことがより好ましい。

また、本実施形態の静電荷像現像用キャリアの製造方法は、前記本焼成工程等を経て得られる磁性粒子の表面に樹脂等を被覆する被覆層形成工程を含んでもよい。また、被覆層形成工程により形成された被覆層に導電性粒子、耐電調整剤等の外添剤等を添加してもよい。

被覆層を構成する材料は、例えば絶縁性である樹脂等が用いられる。被覆層を磁性粒子表面へ被覆する方法としては、例えば、溶剤を使用する湿式法と溶剤を使用しない乾式法等が挙げられる。

湿式法としては、例えば、樹脂等を可溶な溶媒に樹脂と導電材料等を投入して被覆層形成用溶液とし、磁性粒子を被覆層形成用溶液中に浸漬する浸漬法、被覆層形成用溶液を磁性粒子の表面に噴霧するスプレー法、磁性粒子を流動エアー等により浮遊させた状態で被覆層形成用溶液を噴霧する流動床法、ニーダーコータ中で磁性粒子と被覆層形成用溶液を混合し、次いで溶剤を除去するニーダーコータ法等がある。

乾式法としては、乳化重合法又は懸濁重合法等により樹脂粒子等を合成するか、又は合成後の樹脂等を粉砕分級や水中で乳化分散して得た樹脂粒子等を磁性粒子と混合して、機械的衝撃力により、磁性粒子表面に被覆して、必要により樹脂のガラス転移点以上に加熱、溶融させて被覆層を形成する方法等がある。

湿式法や乾式法等により磁性粒子に被覆層が形成された後、例えば、外添剤等が添加され、さらに混合攪拌され、被覆層上に外添剤等が付着される。そして、外添剤等が付着された粒子が篩分け網等により篩分けられることにより、キャリアが得られる。

本実施形態の被覆層を構成する材料としては、特に制限されるものではないが、例えば、メタアクリレート樹脂およびその誘導体、スチレン−メタアクリレート共重合樹脂、シリコーン樹脂およびその変性体、フッ素樹脂、ビニル系およびビニリデン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、フェノール系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、アミノ樹脂等の樹脂等が挙げられる。

被覆層の被覆量としては、例えば、キャリア全体に対して０．５重量％以上５重量％以下の範囲が好ましい。被覆層の被覆量が０．５重量％よりも少ないと帯電性向上効果が少なく、５重量％以上であると磁性粒子から被覆層が剥離し易くなる場合がある。

本実施形態においては、被覆層中にラウリルアミン塩酸塩、ステアリルアミン塩酸塩等のカチオン活性剤、ラウリン酸カリウム、オレイン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤、ポリオキシエチレンオクチルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル等の非イオン性界面活性剤等の公知の界面活性剤等を含んでいても良い。

また、本実施形態においては、被覆層中にニグロシン染料、ベンゾイミダゾール系化合物等の公知の帯電制御剤を含んでいても良い。

前記樹脂被覆層の平均膜厚は、経時にわたり安定したキャリアの体積抵抗を発現させる観点等から、０．５μｍ以上３μｍ以下であることが好ましい。

本実施形態に係るキャリアの体積抵抗は、高画質を達成する観点等から、通常の現像コントラスト電位の上下限に相当する１０００Ｖ時において、１０^６Ω・ｃｍ以上１０^１４Ω・ｃｍ以下であることが好ましく、１０^８Ω・ｃｍ以上１０^１３Ω・ｃｍ以下であることがより好ましい。キャリアの体積抵抗が１０^６Ω・ｃｍ未満であると、細線の再現性が悪くなる場合がある。一方、キャリアの体積抵抗が１０^１４Ω・ｃｍを超えると、黒ベタ画像や、ハーフトーン画像の再現が悪くなる場合がある。

本実施形態に係るキャリアの体積平均粒径としては、例えば、２０μｍ以上１００μｍ以下が好ましい。キャリアの体積平均粒径が２０μｍ未満であると、トナーとともに現像されやすくなる場合があり、１００μｍを超えると、トナーを略均一に帯電させることが困難となる場合がある。

＜静電荷像現像用現像剤＞
本実施形態に係る静電荷像現像用現像剤（現像剤）は、本実施形態に係る静電荷像現像用キャリアと静電荷像現像用トナーとを含有する。本実施形態に係る現像剤は、本実施形態に係るキャリアおよびトナーを適当な配合割合で混合することにより調製される。キャリアの含有量（（キャリア）／（キャリア＋トナー）×１００）としては、８５質量％以上９９質量％以下の範囲が好ましく、８７質量％以上９８質量％の範囲がより好ましく、８９質量％以上９７質量％以下の範囲がさらに好ましい。

以下、本実施形態に係る静電荷像現像用現像剤に用いられるトナーについて説明する。

本実施形態に用いられるトナーは、少なくとも結着樹脂および着色剤を含有し、必要に応じて離型剤およびその他の成分を含有する。また、本実施形態に用いられるトナーには、上記構成からなるいわゆるトナー粒子の他、種々の目的で外部添加剤（以下、単に「外添剤」と称することがある）が添加されていてもよい。

本実施形態に用いられるトナーには、公知の結着樹脂や各種の着色剤等を使用してもよい。本実施形態に用いられるトナーにおける結着樹脂としては、ポリエステル樹脂のほかに、ポリオレフィン樹脂、スチレンとアクリル酸またはメタクリル酸との共重合体、ポリ塩化ビニル、フェノール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、シリコーン樹脂、変性ポリエステル樹脂、ポリウレタン、ポリアミド樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、ポリビニルブチラール、テルペン樹脂、クマロンインデン樹脂、石油系樹脂、ポリエーテルポリオール樹脂等を単独で用いてもよいし、併用してもよい。

本実施形態に用いられるトナーにおける着色剤としては、シアンの着色剤として、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー２、同３、同４、同５、同６、同７、同１０、同１１、同１２、同１３、同１４、同１５、同１５：１、同１５：２、同１５：３、同１５：４、同１５：６、同１６、同１７、同２３、同６０、同６５、同７３、同８３、同１８０、Ｃ．Ｉ．バットシアン１、同３、同２０等や、紺青、コバルトブルー、アルカリブルーレーキ、フタロシアニンブルー、無金属フタロシアニンブルー、フタロシアニンブルーの部分塩素化物、ファーストスカイブルー、インダスレンブルーＢＣのシアン顔料、Ｃ．Ｉ．ソルベントシアン７９、１６２等のシアン染料等を用いてもよい。

また、マゼンタの着色剤として、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、同２、同３、同４、同５、同６、同７、同８、同９、同１０、同１１、同１２、同１３、同１４、同１５、同１６、同１７、同１８、同１９、同２１、同２２、同２３、同３０、同３１、同３２、同３７、同３８、同３９、同４０、同４１、同４８、同４９、同５０、同５１、同５２、同５３、同５４、同５５、同５７、同５８、同６０、同６３、同６４、同６８、同８１、同８３、同８７、同８８、同８９、同９０、同１１２、同１１４、同１２２、同１２３、同１６３、同１８４、同２０２、同２０６、同２０７、同２０９等、ピグメントバイオレット１９のマゼンタ顔料や、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１、同３、同８、同２３、同２４、同２５、同２７、同３０、同４９、同８１、同８２、同８３、同８４、同１００、同１０９、同１２１、Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド９、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１、同２、同９、同１２、同１３、同１４、同１５、同１７、同１８、同２２、同２３、同２４、同２７、同２９、同３２、同３４、同３５、同３６、同３７、同３８、同３９、同４０等のマゼンタ染料等、ベンガラ、カドミウムレッド、鉛丹、硫化水銀、カドミウム、パーマネントレッド４Ｒ、リソールレッド、ピラゾロンレッド、ウオッチングレッド、カルシウム塩、レーキレッドＤ、ブリリアントカーミン６Ｂ、エオシンレーキ、ロータミンレーキＢ、アリザリンレーキ、ブリリアントカーミン３Ｂ等を用いてもよい。

また、イエローの着色剤として、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２、同３、同１５、同１６、同１７、同９７、同１８０、同１８５、同１３９等のイエロー顔料等を用いてもよい。

さらに、ブラックトナーの場合には、例えば、カーボンブラック、活性炭、チタンブラック、磁性粉、Ｍｎ含有の非磁性粉等を用いてもよい。

また、本実施形態に用いられるトナーは、帯電制御剤を含有してもよく、ニグロシン、４級アンモニウム塩、有機金属錯体、キレート錯体等を用いてもよい。

さらに本実施形態においては、トナー粒子の表面に、表面改質剤として種々の樹脂粉や無機化合物等を外添剤として添加してもよい。樹脂粉としてポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）、ナイロン、メラミン、ベンゾグアナミン、フッ素系樹脂等の球状粒子等を用いることができる。種々の公知の無機化合物としては、例えば、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｇＯ、ＣｕＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＢａＯ、ＣａＯ、Ｋ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、ＺｒＯ_２、ＣａＯ・ＳｉＯ_２、ＣａＣＯ_３、Ｋ_２Ｏ（ＴｉＯ_２）_ｎ、ＭｇＣＯ_３、Ａｌ_２Ｏ_３・２ＳｉＯ_２、ＢａＳＯ_４、ＭｇＳＯ_４等を例示することができ、好ましくはＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、またこれらの１種あるいは２種以上併用しても構わない。また、外添剤の体積平均粒径は、０．１μｍ以下のものが好ましく、外添剤の添加量は、例えば、トナー粒子１００質量％に対して、０．１質量％以上２０質量％以下の範囲である。

さらにまた、本実施形態に用いられるトナーは、離型剤を含有することが好ましい。離型剤としては、エステルワックス、ポリエチレン、ポリプロピレンまたはポリエチレンとポリプロピレンの共重合物、ポリグリセリンワックス、マイクロクリスタリンワックス、パラフィンワックス、カルナバワックス、サゾールワックス、モンタン酸エステルワックス、脱酸カルナバワックス、パルミチン酸、ステアリン酸、モンタン酸、ブランジン酸、エレオステアリン酸、バリナリン酸等の不飽和脂肪酸類、ステアリンアルコール、アラルキルアルコール、ベヘニルアルコール、カルナウビルアルコール、セリルアルコール、メリシルアルコール、あるいはさらに長鎖のアルキル基を有する長鎖アルキルアルコール類等の飽和アルコール類、ソルビトール等の多価アルコール類、リノール酸アミド、オレイン酸アミド、ラウリン酸アミド等の脂肪酸アミド類、メチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスカプリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミド等の飽和脂肪酸ビスアミド類、エチレンビスオレイン酸アミド、ヘキサメチレンビスオレイン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ジオレイルアジピン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ジオレイルセバシン酸アミド等の、不飽和脂肪酸アミド類、ｍ−キシレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’ジステアリルイソフタル酸アミド等の芳香族系ビスアミド類、ステアリン酸カルシウム、ラウリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム等の脂肪酸金属塩（一般に金属石けんと言われているもの）、脂肪族炭化水素系ワックスにスチレンやアクリル酸等のビニル系モノマを用いてグラフト化させたワックス類、ベヘニン酸モノグリセリド等の脂肪酸と多価アルコールの部分エステル化物；植物性油脂の水素添加等によって得られるヒドロキシル基を有するメチルエステル化合物等が挙げられる。

本実施形態において、トナー（トナー粒子）の製造方法は特に限定されないが、高画質を得るために、湿式製法で作製されることが好ましい。湿式製法としては、結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された結着樹脂分散液と、着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化凝集法、結着樹脂を得るための重合性単量体と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法、結着樹脂、着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等が挙げられる。また、上記方法で得られたトナー粒子をコアにして、さらに樹脂粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法を行ってもよい。また、一般の粉砕分級法により得られたトナー粒子でもよい。

＜画像形成装置及びプロセスカートリッジ＞
本実施形態に係る画像形成装置は、像保持体と、前記像保持体表面を帯電する帯電手段と、前記像保持体表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記静電潜像を本実施形態に係る静電荷像現像用現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を記録媒体に転写する転写手段と、を備えるものである。本実施形態に係る画像形成装置は、必要に応じて、前記記録媒体に前記トナー像を定着する定着手段、像保持体表面を清掃する像保持体清掃手段等を含むものであってもよい。

なお、この画像形成装置において、例えば前記現像手段を含む部分が、画像形成装置本体に対して脱着可能なカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。該プロセスカートリッジとしては、本実施形態に係る静電荷像現像用現像剤を収納し、像保持体表面に形成された静電潜像を前記静電荷像現像用現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段を備え、画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジが好適に用いられる。これにより、静電荷像現像用現像剤の取り扱いを容易にし、種々の構成の画像形成装置への適応性が高められる。

以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。

図３は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。画像形成装置３０１は、帯電部３１０と、露光部３１２と、像保持体である電子写真感光体３１４と、現像部３１６と、転写部３１８と、クリーニング部３２０と、定着部３２２とを備える。

画像形成装置３０１において、電子写真感光体３１４の周囲には、電子写真感光体３１４の表面を帯電する帯電手段である帯電部３１０と、帯電された電子写真感光体３１４を露光し画像情報に応じて静電潜像を形成する静電潜像形成手段である露光部３１２と、静電潜像を現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段である現像部３１６と、電子写真感光体３１４の表面に形成されたトナー像を記録媒体３２４の表面に転写する転写手段である転写部３１８と、転写後の電子写真感光体３１４表面上に残存したトナー等の異物を除去して電子写真感光体３１４の表面を清掃する像保持体清掃手段であるクリーニング部３２０とがこの順で配置されている。また、記録媒体３２４に転写されたトナー像を定着する定着手段である定着部３２２が転写部３１８の側方に配置されている。

本実施形態に係る画像形成装置３０１の動作について説明する。まず、帯電部３１０により電子写真感光体３１４の表面が帯電される（帯電工程）。次に、露光部３１２により電子写真感光体３１４の表面に光が当てられ、光の当てられた部分の帯電電荷が除去され、画像情報に応じて静電潜像が形成される（静電荷像形成工程）。その後、静電潜像が現像部３１６により現像され、電子写真感光体３１４の表面にトナー像が形成される（現像工程）。例えば、電子写真感光体３１４として有機感光体を用い、露光部３１２としてレーザビーム光を用いたデジタル式電子写真複写機の場合、電子写真感光体３１４の表面は、帯電部３１０により負電荷を付与され、レーザビーム光によりドット状にデジタル潜像が形成され、レーザビーム光の当たった部分に現像部３１６でトナーを付与され可視像化される。この場合、現像部３１６にはマイナスのバイアスが印加されている。次に転写部３１８で、用紙等の記録媒体３２４がこのトナー像に重ねられ、記録媒体３２４の裏側からトナーとは逆極性の電荷が記録媒体３２４に与えられ、静電気力によりトナー像が記録媒体３２４に転写される（転写工程）。転写されたトナー像は、定着部３２２において定着部材により熱および圧力が加えられ、記録媒体３２４に融着されて定着される（定着工程）。一方、転写されずに電子写真感光体３１４の表面に残存したトナー等の異物はクリーニング部３２０で除去される（クリーニング工程）。この帯電からクリーニングに至る一連のプロセスで一回のサイクルが終了する。なお、図３において、転写部３１８で用紙等の記録媒体３２４に直接トナー像が転写されているが、中間転写体等の転写体を介して転写されてもよい。

以下、図３の画像形成装置３０１における帯電手段、像保持体、静電荷像形成手段（露光手段）、現像手段、転写手段、像保持体清掃手段、定着手段について説明する。

（帯電手段）
帯電手段である帯電部３１０としては、例えば、図３に示すようなコロトロン等の帯電器が用いられるが、導電性または半導電性の帯電ロールを用いてもよい。導電性または半導電性の帯電ロールを用いた接触型帯電器は、電子写真感光体３１４に対し、直流電流を印加するか、交流電流を重畳させて印加してもよい。例えばこのような帯電部３１０により、電子写真感光体３１４との接触部近傍の微小空間で放電を発生させることにより電子写真感光体３１４表面を帯電させる。なお、通常は、−３００Ｖ以上−１０００Ｖ以下に帯電される。また前記の導電性または半導電性の帯電ロールは単層構造あるいは多重構造でもよい。また、帯電ロールの表面をクリーニングする機構を設けてもよい。

（像保持体）
像保持体は、少なくとも潜像（静電荷像）が形成される機能を有する。像保持体としては、電子写真感光体が好適に挙げられる。電子写真感光体３１４は、円筒状の導電性の基体外周面に有機感光体等を含む塗膜を有する。塗膜は、基体上に、必要に応じて下引き層、および、電荷発生物質を含む電荷発生層と、電荷輸送物質を含む電荷輸送層とを含む感光層がこの順序で形成されたものである。電荷発生層と電荷輸送層の積層順序は逆であってもよい。これらは、電荷発生物質と電荷輸送物質とを別個の層（電荷発生層、電荷輸送層）に含有させて積層した積層型感光体であるが、電荷発生物質と電荷輸送物質との双方を同一の層に含む単層型感光体であってもよく、望ましくは積層型感光体である。また、下引き層と感光層との間に中間層を有していてもよい。また、有機感光体に限らずアモルファスシリコン感光膜等他の種類の感光層を使用してもよい。

（静電荷像形成手段）
静電荷像形成手段（露光手段）である露光部３１２としては、特に制限はなく、例えば、像保持体表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）光、液晶シャッタ光等の光源を、所望の像様に露光する光学系機器等が挙げられる。

（現像手段）
現像手段である現像部３１６は、像保持体上に形成された静電荷像を、トナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する機能を有する。そのような現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択すればよいが、例えば、静電荷像現像用トナーをブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体３１４に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。電子写真感光体３１４には、通常直流電圧が使用されるが、さらに交流電圧を重畳させて使用してもよい。

（転写手段）
転写手段である転写部３１８としては、例えば、図３に示すような記録媒体３２４の裏側からトナーとは逆極性の電荷を記録媒体３２４に与え、静電気力によりトナー像を記録媒体３２４に転写するもの、あるいは記録媒体３２４に直接接触して転写する導電性または半導電性のロール等を用いた転写ロールおよび転写ロール押圧装置を用いればよい。転写ロールには、像保持体に付与する転写電流として、直流電流を印加してもよいし、交流電流を重畳させて印加してもよい。転写ロールは、帯電すべき画像領域幅、転写帯電器の形状、開口幅、プロセススピード（周速）等により、任意に設定すればよい。また、低コスト化のため、転写ロールとして単層の発泡ロール等が好適に用いられる。転写方式としては、紙等の記録媒体３２４に直接転写する方式でも、中間転写体を介して記録媒体３２４に転写する方式でもよい。

中間転写体としては、公知の中間転写体を用いればよい。中間転写体に用いられる材料としては、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリアルキレンフタレート、ＰＣ／ポリアルキレンテレフタレート（ＰＡＴ）のブレンド材料、エチレンテトラフロロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）／ＰＣ、ＥＴＦＥ／ＰＡＴ、ＰＣ／ＰＡＴのブレンド材料等が挙げられるが、機械的強度の観点から熱硬化ポリイミド樹脂を用いた中間転写ベルトが好ましい。

（像保持体清掃手段）
像保持体清掃手段であるクリーニング部３２０については、像保持体上の残留トナー等の異物を清掃するものであれば、ブレードクリーニング方式、ブラシクリーニング方式、ロールクリーニング方式を採用したもの等を適宜選定すればよい。

（定着手段）
定着手段（画像定着装置）である定着部３２２としては、記録媒体３２４に転写されたトナー像を加熱、加圧あるいは加熱加圧により定着するものであり、定着部材を具備する。

（記録媒体）
トナー像を転写する記録媒体３２４としては、例えば、電子写真方式の複写機、プリンタ等に使用される普通紙、ＯＨＰシート等が挙げられる。定着後における画像表面の平滑性をさらに向上させるには、記録媒体の表面も平滑であることが好ましく、例えば、普通紙の表面を樹脂等でコーティングしたコート紙、印刷用のアート紙等を使用してもよい。

また特公平２−２１５９１号公報で提案されているトリクル現像と組み合わせることにより、さらに長期に安定した画像形成がなされる。

図４は、本実施形態に係る静電荷像現像用現像剤を収容するプロセスカートリッジの一例を示す概略構成図である。プロセスカートリッジ２００は、現像装置１１１とともに、感光体１０７、帯電ローラ１０８、感光体クリーニング装置１１３、露光のための開口部１１８、および、除電露光のための開口部１１７を取り付けレール１１６を用いて組み合わせ、そして一体化したものである。なお、図４において符号３００は記録媒体を示す。

そして、このプロセスカートリッジ２００は、転写装置１１２と、定着装置１１５と、図示しない他の構成部分とから構成される画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。

図４で示すプロセスカートリッジ２００では、感光体１０７、帯電装置１０８、現像装置１１１、クリーニング装置１１３、露光のための開口部１１８、および、除電露光のための開口部１１７を備えているが、これら装置は選択的に組み合わせてもよい。本実施形態に係るプロセスカートリッジでは、現像装置１１１のほかには、感光体１０７、帯電装置１０８、クリーニング装置（クリーニング手段）１１３、露光のための開口部１１８、および、除電露光のための開口部１１７から構成される群から選択される少なくとも１種を備えてもよい。

次に、トナーカートリッジについて説明する。トナーカートリッジは、画像形成装置に着脱可能に装着され、少なくとも、前記画像形成装置内に設けられた現像手段に供給するためのトナーを収容するものである。なお、トナーカートリッジには少なくともトナーが収容されればよく、画像形成装置の機構によっては、例えば現像剤が収められてもよい。

以下、実施例および比較例を挙げ、本発明をより具体的に詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。

（キャリア１の調製）
（被覆層形成用溶液の調製）
シクロヘキシルアクリレート樹脂（重量平均分子量５万） ３６質量部
カーボンブラックＶＸＣ７２（キャボット社製） ４質量部
トルエン ２５０質量部
イソプロピルアルコール ５０質量部
上記成分とガラスビーズ（粒径：１ｍｍ、トルエンと同量）とを関西ペイント社製サンドミルに投入し、回転速度１２００ｒｐｍで３０分間攪拌し固形分１１％の被覆層形成用溶液を調製した。

（磁性材料１の調製）
キャリア材料としてＦｅ_２Ｏ_３１３１８質量部、Ｍｎ（ＯＨ）_２５８６質量部、Ｍｇ（ＯＨ）_２９６質量部を準備し、それらを混合して、該混合物に分散剤（ポリカルボン酸ナトリウム）、水、直径１ｍｍのジルコニアビーズを加え、サンドミルで1時間解砕混合した。次いで、ジルコニアビーズをろ過し、乾燥したキャリア材料をロータリーキルンを用いて、２０ｒｐｍ、９００℃、２時間、酸素濃度５％の酸素窒素混合雰囲気下で仮焼成した。仮焼成後、キャリア材料（酸化物）に、分散剤（ポリカルボン酸ナトリウム）、水、ポリビニルアルコール６．６質量部を添加し、湿式ボールミルで５時間粉砕混合した。得られた粉砕品の体積平均粒径は１．４μｍであった。次に、該粉砕品をスプレードライヤーで、体積平均粒径が４０μｍになるように造粒、乾燥した。更に、電気炉を用いて１１００℃、５時間、酸素濃度１％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成した。そして、解砕工程、分級工程を経て、磁性粒子１を得た。磁性粒子１の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子１表面の凹凸の平均間隔Ｓｍ（以下、磁性粒子１のＳｍと呼ぶ場合がある）は２．５であり、磁性粒子１表面の算出平均粗さＲａ（以下、磁性粒子１のＲａと呼ぶ場合がある）は０．４であり、磁性粒子１のＢＥＴ比表面積は０．１２ｍ^２／ｇであり、磁性粒子１の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、７ｌｏｇΩｃｍであった。これらの測定方法については以下の通りである。

＜磁性粒子１のＳｍ及びＲａの測定＞
磁性粒子１のＳｍ及びＲａの測定方法は、磁性粒子１を５０個、超深度カラー３Ｄ形状測定顕微鏡（ＶＫ−９５００、キーエンス社製）を用い、倍率３０００倍で表面を換算して求める方法であり、ＪＩＳ Ｂ０６０１（１９９４年度版）に準じて行った。具体的に、磁性粒子１のＳｍは、上記顕微鏡にて観察した磁性粒子１表面の３次元形状から粗さ曲線を求め、該粗さ曲線が平均線と交差する交点から求めた山谷一周期の間隔の平均値により求められる。磁性粒子１のＳｍを求める際の基準長さは１０μｍであり、カットオフ値は０．０８ｍｍである。磁性粒子１のＲａは、上記顕微鏡にて観察した磁性粒子１表面の３次元形状から粗さ曲線を求め、該粗さ曲線の測定値と平均値までの偏差の絶対値を合計し、平均することにより求められる。磁性粒子１のＲａを求める際の基準長さは１０μｍであり、カットオフ値は０．０８ｍｍである。

＜磁性粒子１の体積平均粒径の測定＞
磁性粒子１の体積平均粒径は、レーザー解説粒度分布測定装置ＬＡ−７００（堀場製作所）により得られた粒度分布を分割された粒度範囲（チャンネル）に対し、小粒子径側から体積累積分布を引いて、累積５０％となる粒子径を体積平均粒子径とした。なお、上記粉砕品の体積平均粒径も同様である。

＜磁性粒子１のＢＥＴ比表面積の測定＞
磁性粒子１のＢＥＴ比表面積は、５質量部の磁性粒子１をＳＡ３１００比表面積測定装置（ベックマンコールター）のセルに入れ、６０℃、１２０分の脱気処理を行い、窒素とヘリウムの混合ガス（３０：７０）で窒素置換し、ＪＩＳ Ｚ ８８３０（２００１年度版）に準じた３点法により測定した。

＜磁性粒子１の体積抵抗の測定＞
磁性粒子１の体積抵抗は、２枚の極板を１ｍｍの幅で平行に対峙させ、その間に磁性粒子１を０．２５質量部入れ、断面積２．４ｃｍ^２の磁石で保持し、１０００Ｖの印加電圧を掛け（このときの電界は２４０００Ｖ／ｃｍ）、電流値を測定し、得られた電流値から計算した。

真空脱気型５Ｌニーダーに上記磁性粒子１を２０００質量部入れ、更に被覆層形成用溶液を５６０質量部入れ、攪拌しながら、６０℃にて−２００ｍｍＨｇまで減圧し１５分混合した後、９４℃／−７２０ｍＨｇで３０分間攪拌及び乾燥させ、７５μｍメッシュの篩分網で篩分を行い、キャリア１を得た。

なお、現像剤から磁性粒子を回収し、磁性粒子のＳｍ、Ｒａ、ＢＥＴ比表面積、体積抵抗を測定する場合は、まず、現像剤をエアブローして、トナーを除去し、キャリアを回収する。そして、１０質量部のキャリアを１００質量部のトルエンに添加し、４０ｋＨｚの条件で超音波攪拌を３０秒行い、被覆層を溶解させる。粒径に合わせ任意のろ紙を用いて磁性粒子と被覆層が溶解した溶液とに分離する。ろ紙に残った磁性粒子に２０質量部のトルエンを流して、洗浄し、ろ紙に残った磁性粒子を回収する。回収した磁性粒子を同様にトルエン１００質量部に添加し、４０ｋＨｚの条件で超音波攪拌を３０秒行う。上記と同様にろ過し、２０質量部のトルエンを流して、洗浄し、ろ紙に残った磁性粒子を回収する。これを合計１０回行う。最後に回収した磁性粒子を乾燥させる。このようにして得られる磁性粒子のＳｍ、Ｒａ、ＢＥＴ比表面積、体積抵抗を上記の条件で測定する。

（キャリア２の調製）
キャリア材料としてＳｉＯ_２を１．５質量部添加すること、粉砕品の体積平均粒径を２．１μｍとしたこと、本焼成の焼成温度を１１５０℃（表面酸化温度９００℃）としたこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子２を得た。磁性粒子２の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子２のＳｍは３．２であり、磁性粒子２のＲａは０．４であり、磁性粒子２のＢＥＴ比表面積は０．１０ｍ^２／ｇであり、磁性粒子２の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．５ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子２に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア２を得た。

（キャリア３の調製）
粉砕品の体積平均粒径を１．２μｍとしたこと、本焼成の焼成温度を１０５０℃（表面酸化温度９５０℃）とし、酸素濃度１．５％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成したこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子３を得た。磁性粒子３の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子３のＳｍは１．２であり、磁性粒子３のＲａは０．５であり、磁性粒子３のＢＥＴ比表面積は０．１３ｍ^２／ｇであり、磁性粒子３の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、７．５ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子３に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア３を得た。

（キャリア４の調製）
キャリア材料としてＳｉＯ_２を１．２質量部添加すること、酸素濃度０．８％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成したこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子４を得た。磁性粒子４の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子４のＳｍは２．５であり、磁性粒子４のＲａは０．２であり、磁性粒子４のＢＥＴ比表面積は０．１０ｍ^２／ｇであり、磁性粒子４の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．４ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子４に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア４を得た。

（キャリア５の調製）
粉砕品の体積平均粒径を２．０μｍとしたこと、本焼成の焼成温度を１１５０℃（表面酸化温度８８０℃）としたこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子５を得た。磁性粒子５の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子５のＳｍは３．０であり、磁性粒子５のＲａは０．４であり、磁性粒子５のＢＥＴ比表面積は０．１４ｍ^２／ｇであり、磁性粒子５の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子５に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア５を得た。

（キャリア６の調製）
粉砕品の体積平均粒径を１．２μｍとしたこと、本焼成の焼成温度を１１７０（表面酸化温度９７０℃）、酸素濃度１．２％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成したこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子６を得た。磁性粒子６の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子６のＳｍは１．０であり、磁性粒子６のＲａは０．３であり、磁性粒子６のＢＥＴ比表面積は０.０９ｍ^２／ｇであり、磁性粒子６の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．８ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子６に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア６を得た。

（キャリア７の調製）
キャリア材料としてＳｉＯ_２を１．４質量部添加すること、粉砕品の体積平均粒径を２．２μｍとしたこと、本焼成の焼成温度を１１２０（表面酸化温度９２０℃）、酸素濃度１．５％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成したこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子７を得た。磁性粒子７の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子７のＳｍは３．５であり、磁性粒子７のＲａは０．６であり、磁性粒子７のＢＥＴ比表面積は０．１２ｍ^２／ｇであり、磁性粒子７の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、７．６ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子７に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア７を得た。

（キャリア８の調製）
粉砕品の体積平均粒径を２．０μｍとしたこと、本焼成の焼成温度を１１７０（表面酸化温度９００℃）、酸素濃度１．５％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成したこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子８を得た。磁性粒子８の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子８のＳｍは３．０であり、磁性粒子８のＲａは０．７であり、磁性粒子８のＢＥＴ比表面積は０．１２ｍ^２／ｇであり、磁性粒子８の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、７．７ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子８に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア８を得た。

（キャリア９の調製）
粉砕品の体積平均粒径を２．１μｍとしたこと、本焼成の焼成温度を１１７０（表面酸化温度９７０℃）、酸素濃度１．０％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成したこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子９を得た。磁性粒子９の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子９のＳｍは３．０であり、磁性粒子９のＲａは０．５であり、磁性粒子９のＢＥＴ比表面積は０．０８ｍ^２／ｇであり、磁性粒子９の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、７．８ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子９に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア９を得た。

（キャリア１０の調製）
粉砕品の体積平均粒径を２．１μｍとしたこと、本焼成の焼成温度を１１２０（表面酸化温度９７０℃）、酸素濃度１．０％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成したこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子１０を得た。磁性粒子１０の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子１０のＳｍは２．５であり、磁性粒子１０のＲａは０．４であり、磁性粒子１０のＢＥＴ比表面積は０．１０ｍ^２／ｇであり、磁性粒子１０の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、８ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子１０に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア１０を得た。

（キャリア１１の調製）
キャリア材料としてＳｉＯ_２を１．５質量部添加すること、粉砕品の体積平均粒径を２．３μｍとしたこと、本焼成の焼成温度を１１５０℃（表面酸化温度９００℃）、酸素濃度０．８％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成したこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子１１を得た。磁性粒子１１の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子１１のＳｍは３．６であり、磁性粒子１１のＲａは０．３であり、磁性粒子１１のＢＥＴ比表面積は０．０８ｍ^２／ｇであり、磁性粒子１１の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．５ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子１１に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア１１を得た。

（キャリア１２の調製）
粉砕品の体積平均粒径を１．２μｍとしたこと、本焼成の焼成温度を１０５０℃（表面酸化温度９２０℃）、酸素濃度０．８％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成したこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子１２を得た。磁性粒子１２の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子１２のＳｍは０．９であり、磁性粒子１２のＲａは０．７であり、磁性粒子１２のＢＥＴ比表面積は０．１３ｍ^２／ｇであり、磁性粒子１２の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、７．５ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子１２に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア１２を得た。

（キャリア１３の調製）
キャリア材料としてＳｉＯ_２を１．０質量部添加すること、本焼成の焼成温度を１１５０（表面酸化温度８８０℃）、酸素濃度１．５％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成したこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子１３を得た。磁性粒子１３の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子１３のＳｍは２．２であり、磁性粒子１３のＲａは０．８であり、磁性粒子１３のＢＥＴ比表面積は０．１０ｍ^２／ｇであり、磁性粒子１３の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．２ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子１３に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア１３を得た。

（キャリア１４の調製）
本焼成の焼成温度を１１６０（表面酸化温度９２０℃）、酸素濃度０．５０％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成したこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子１４を得た。磁性粒子１４の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子１４のＳｍは２．１であり、磁性粒子１４のＲａは０．１であり、磁性粒子１４のＢＥＴ比表面積は０．０９ｍ^２／ｇであり、磁性粒子１４の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、７．６ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子１４に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア１４を得た。

（キャリア１５の調製）
本焼成の焼成温度を１１００℃、酸素濃度１．０％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成したこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子１５を得た。磁性粒子１５の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子１５のＳｍは２．０であり、磁性粒子１５のＲａは０．７であり、磁性粒子１５のＢＥＴ比表面積は０．１８ｍ^２／ｇであり、磁性粒子１５の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、５．００ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子１５に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア１５を得た。

（キャリア１６の調製）
粉砕品の体積平均粒径を１．２μｍとしたこと、本焼成の酸素濃度０．９％、焼成温度を１１６０℃（表面酸化温度９８０℃）としたこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子１６を得た。磁性粒子１６の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子１６のＳｍは２．０であり、磁性粒子１６のＲａは０．２であり、磁性粒子１６のＢＥＴ比表面積は０．０７ｍ^２／ｇであり、磁性粒子１６の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、８．００ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子１６に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア１６を得た。

（キャリア１７の調製）
本焼成の焼成温度を１１５０℃（表面酸化温度９７０℃）、酸素濃度１．２０％の酸素窒素混合雰囲気下で本焼成したこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子１７を得た。磁性粒子１７のＳｍは２．４であり、磁性粒子１７のＲａは０．２であり、磁性粒子１７のＢＥＴ比表面積は０．０９ｍ^２／ｇであり、磁性粒子１７の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、９．０ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子１７に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア１７を得た。

（キャリア１８の調製）
キャリア材料としてＳｉＯ_２を１．５質量部添加したこと、粉砕品の体積平均粒径を２．１μｍとしたこと以外は、磁性粒子１と同様の条件で行い、磁性粒子１８を得た。磁性粒子１８の体積平均粒径は３５μｍであり、磁性粒子１８のＳｍは３．５であり、磁性粒子１８のＲａは０．５であり、磁性粒子１８のＢＥＴ比表面積は０．１４ｍ^２／ｇであり、磁性粒子１８の体積抵抗は２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、５．００ｌｏｇΩｃｍであった。そして、磁性粒子１を磁性粒子１８に変更すること以外は、キャリア１と同様の条件で行い、キャリア１８を得た。

表１に磁性粒子１〜１８を得る際のＳｉＯ_２の添加量、粉砕品の体積平均粒径、本焼成温度、酸素濃度及び表面酸化温度をまとめた。また、表２に磁性粒子１〜１８のＳｍ、Ｒａ、ＢＥＴ比表面積、体積抵抗をまとめた。

（着色剤分散液の調製）
シアン顔料：銅フタロシアニンＢ１５：３（大日精化社製） ５０質量部
アニオン性界面活性剤：ネオゲンＳＣ（第一工業製薬社製） ５質量部
イオン交換水 ２００質量部

上記の成分を混合し、ＩＫＡ社製ウルトラタラックスにより５分間、更に超音波バスにより１０分間分散し、固形分２１％の着色剤分散液を得た。堀場製作所製粒度測定器ＬＡ−７００にて体積平均粒径を測定したところ１６０ｎｍであった。

（離型剤分散液の調製）
パラフィンワックス：ＨＮＰ−９（日本精鑞社製） １９質量部
アニオン性界面活性剤：ネオゲンＳＣ（第一工業製薬社製） １質量部
イオン交換水 ８０質量部

上記の成分を耐熱容器中で混合し、９０℃に昇温して３０分、攪拌を行った。次いで、容器底部より溶融液をゴーリンホモジナイザーへと流通し、５ＭＰａの圧力条件のもと、３パス相当の循環運転を行った後、圧力を３５ＭＰａに昇圧し、更に３パス相当の循環運転を行った。こうして出来た乳化液を前記耐熱溶液中で４０℃以下になるまで冷却し、離型剤分散液を得た。堀場製作所製粒度測定器ＬＡ−７００にて体積平均粒径を測定したところ２４０ｎｍであった。

（樹脂粒子分散液の調製）
（油層）
スチレン（和光純薬社製） ３０質量部
アクリル酸ｎ−ブチル（和光純薬社製） １０質量部
β-カルボキシエチルアクリレート（ローディア日華社製） １．３質量部
ドデカンチオール（和光純薬社製） ０．４質量部
（水層１）
イオン交換水 １７質量部
アニオン性界面活性剤（ダウファックス、ダウケミカル社製） ０．４質量部
（水層２）
イオン交換水 ４０質量部
アニオン性界面活性剤（ダウファックス、ダウケミカル社製） ０．０５質量部
ペルオキソ二硫酸アンモニウム（和光純薬社製） ０．４質量部

上記の油層成分と水層１の成分をフラスコに入れて攪拌混合し、単量体乳化分散液とした。反応容器に上記水層２の成分を投入し、容器内を窒素で十分に置換し、攪拌をしながらオイルバスで反応系内が７５℃になるまで加熱した。反応容器内に上記の単量体乳化分散液を３時間かけて徐々に滴下し、乳化重合を行った。滴下終了後、更に７５℃で重合を継続し、３時間後に重合を終了させた。得られた樹脂粒子は、レーザー回析式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００堀場製作所製）で樹脂微粒子の体積平均粒径Ｄ５０ｖを測定したところ２５０ｎｍであり、示差走査熱量計（ＤＳＣ−５０島津製作所製）を用いて昇温速度１０℃／分で樹脂のガラス転移温度を測定したところ５３℃であり、分子量測定器（ＨＬＣ−８０２０東ソー社製）を用い、ＴＨＦを溶媒として数平均分子量（ポリスチレン換算）を測定したところ１３，０００であった。すなわち、体積平均粒径２５０ｎｍ、固形分４２％、ガラス転移温度５２℃、数平均分子量Ｍｎが１３，０００の樹脂粒子分散液を得た。

（トナーの調製）
樹脂微粒子分散液 １５０質量部
着色剤粒子分散液 ３０質量部
離型剤粒子分散液 ４０質量部
ポリ塩化アルミニウム ０．４質量部

上記の成分をステンレス製フラスコ中でＩＫＥ社製のウルトラタラックスを用いて混合、分散した後、加熱用オイルバスでフラスコを攪拌しながら４８℃まで加熱した。４８℃で８０分保持した後、ここに上記と同じ樹脂微粒子分散液を緩やかに７０質量部追加した。その後、濃度０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を用いて系内のｐＨを６．０ に調整した後、ステンレス製フラスコを密閉し、攪拌軸のシールを磁力シールして攪拌を継続しながら９７℃まで加熱して３時間保持した。反応終了後、降温速度を１℃／分で冷却し、濾過、イオン交換水で十分に洗浄した後、ヌッチェ式吸引濾過により固液分離を行った。これをさらに４０℃のイオン交換水３Ｌを用いて再分散し、１５分間３００ｒｐｍで攪拌・洗浄した。この洗浄操作をさらに５回繰り返し、濾液のｐＨが６．５４、電気伝導度６．５μＳ／ｃｍとなったところで、ヌッチェ式吸引濾過によりＮｏ．５Ａのろ紙を用いて固液分離を行った。次いで真空乾燥を１２時間継続してトナー母粒子を得た。トナー母粒子の体積平均粒径Ｄ５０ｖをコールターカウンターで測定したところ６．２μｍであり 、体積平均粒度分布指標ＧＳＤｖは１．２０であった。ルーゼックス社製のルーゼックス画像解析装置で形状観察を行ったところ、粒子の形状係数ＳＦ１は１３５でポテト形状であることが観察された。また、トナーのガラス転移温度は５２℃であった。更に、このトナーに、ヘキサメチルジシラザン（以下、「ＨＭＤＳ」と略す場合がある）で表面疎水化処理した１次粒子平均粒径４０ｎｍのシリカ（ＳｉＯ_２）粒子と、メタチタン酸とイソブチルトリメトキシシランの反応生成物である１次粒子平均粒径２０ｎｍのメタチタン酸化合物微粒子とを、トナー粒子の表面に対する被覆率が４０％となるように添加し、ヘンシェルミキサーで混合し、トナーを調製した。

＜実施例１＞
トナー濃度８重量％となるようにキャリア１と上記トナーを混ぜ現像剤を得た。

（現像剤の評価）
純正Ｃｙａｎ現像剤（トナー濃度８％）をＤＣＣ４００改造機（トナー濃度８％固定、プリントスピード４５枚/分）のＣｙａｎ位置に仕込んだ。２３℃、５０％ＲＨの環境下で２４時間放置し、Ａ４の普通紙にエリアカバレッジ２％になるようにソリッドパッチを１００枚印刷した。次に、ＤＣＣ４００改造機のプリントスピードを９０枚／分に調整し、上記現像剤をＤＣＣ４００改造機のＣｙａｎ位置に仕込み、３０℃、８８％ＲＨの環境下で、２４時間放置し、Ａ４の普通紙にエリアカバレッジ２％になるようにソリッドパッチを１００枚印刷した。上記それぞれ１００枚目の画像の画像濃度差ΔＥを求めた。画像濃度差ΔＥは、Ｘ−ｒｉｔｅ９３８（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製）を用いて、国際照明委員会（ＣＩＥ）が規格化したＣＩＥ Ｌ＊ ａ＊ ｂ＊から求めた。画像濃度差（ΔＥ）の評価を下記の基準で行った。得られた結果を表３に示す。

（画像濃度差）
◎：画像濃度差がない（ΔＥが１．０以下の場合）
○：画像濃度差がほとんどない（ΔＥが１．０以上２．０以下の場合）
△：画像濃度差が若干ある（ΔＥが２．０超３．０以下の場合）
×：画像濃度差がある（ΔＥが３．０超４．０以下の場合）
××：画像濃度差が顕著である（ΔＥが４．０超の場合）

＜実施例２＞
実施例１のキャリア１をキャリア２に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜実施例３＞
実施例１のキャリア１をキャリア３に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜実施例４＞
実施例１のキャリア１をキャリア４に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜実施例５＞
実施例１のキャリア１をキャリア５に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜実施例６＞
実施例１のキャリア１をキャリア６に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜実施例７＞
実施例１のキャリア１をキャリア７に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜実施例８＞
実施例１のキャリア１をキャリア８に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜実施例９＞
実施例１のキャリア１をキャリア９に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜実施例１０＞
実施例１のキャリア１をキャリア１０に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜比較例１＞
実施例１のキャリア１をキャリア１１に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜比較例２＞
実施例１のキャリア１をキャリア１２に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜比較例３＞
実施例１のキャリア１をキャリア１３に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜比較例４＞
実施例１のキャリア１をキャリア１４に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜比較例５＞
実施例１のキャリア１をキャリア１５に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜比較例６＞
実施例１のキャリア１をキャリア１６に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜比較例７＞
実施例１のキャリア１をキャリア１７に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

＜比較例８＞
実施例１のキャリア１をキャリア１８に変更したこと以外は実施例１と同じように現像剤を調製し、評価を行った。得られた結果を表３に示す。

実施例１〜１０の結果が示すように、磁性粒子のＳｍを１．０以上３．５以下の範囲とし、磁性粒子表面のＲａを０．２以上０．７以下の範囲とし、磁性粒子のＢＥＴ比表面積を０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１４ｍ^２／ｇ以下の範囲とし、磁性粒子の体積抵抗を２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲とした磁性粒子を使用することにより、磁性粒子のＳｍ、Ｒａ、ＢＥＴ比表面積、体積抵抗のうち少なくともいずれか１つを満たさない磁性粒子を使用した比較例１〜８に比べて、高温高湿の環境下で、且つ高速で画像を形成しても、記録媒体上の画像に生じる画像濃度差が抑制された。また、磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが２．５以上３．０以下の範囲であり、磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．４以上０．７以下の範囲であり、磁性粒子のＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１２ｍ^２／ｇ以下の範囲であり、磁性粒子の体積抵抗が、２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、７．０ｌｏｇΩｃｍ以上７．８ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲である実施例１、８、９は、実施例２〜７、１０に比べて、高温高湿の環境下で、且つ高速で画像を形成しても、記録媒体上の画像に生じる画像濃度差がより抑制された。

２０ 電子写真感光体、５０ 現像装置、５１ ケース、５２ 現像ロール、５３ 供給ロール、５４ 攪拌ロール、１０７ 感光体、１０８ 帯電ローラ（帯電装置）、１１１ 現像装置、１１２ 転写装置、１１３ 感光体クリーニング装置、１１５ 定着装置、１１６ レール、１１７，１１８ 開口部、２００ プロセスカートリッジ、３００ 記録媒体、３０１ 画像形成装置、３１０ 帯電部、３１２ 露光部、３１４ 電子写真感光体、３１６ 現像部、３１８ 転写部、３２０ クリーニング部、３２２ 定着部、３２４ 記録媒体、５１１ 層厚規制部材、５１２ カバー部、５２１ マグネットロール、５２２ 現像スリーブ。

Claims (5)

1. 磁性粒子を有し、前記磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが１．０以上３．５以下の範囲であり、前記磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．２以上０．７以下の範囲であり、前記磁性粒子のＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１４ｍ^２／ｇ以下の範囲であり、前記磁性粒子の体積抵抗が、２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、６．０ｌｏｇΩｃｍ以上８．０ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲であることを特徴とする静電荷像現像用キャリア。
2. 前記磁性粒子表面の凹凸の平均間隔Ｓｍが２．５以上３．０以下の範囲であり、前記磁性粒子表面の算術平均粗さＲａが０．４以上０．７以下の範囲であり、前記磁性粒子のＢＥＴ比表面積が０．０８ｍ^２／ｇ以上０．１２ｍ^２／ｇ以下の範囲であり、前記磁性粒子の体積抵抗が、２４０００Ｖ／ｃｍの電界下で、７．０ｌｏｇΩｃｍ以上７．８ｌｏｇΩｃｍ以下の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の静電荷像現像用キャリア。
3. 請求項１又は２に記載の静電荷像現像用キャリアを含有することを特徴とする静電荷像現像用現像剤。
4. 請求項３に記載の静電荷像現像用現像剤を収納し、像保持体表面に形成された静電潜像を前記静電荷像現像用現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
5. 像保持体と、前記像保持体表面を帯電する帯電手段と、前記像保持体表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記静電潜像を請求項３に記載の静電荷像現像用現像剤により現像してトナー画像を形成する現像手段と、前記トナー画像を被転写体に転写する転写手段と、を備えることを特徴とする画像形成装置。

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