JP2014146648A - 光学素子実装基板およびその製造方法 - Google Patents

光学素子実装基板およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2014146648A
JP2014146648A JP2013013162A JP2013013162A JP2014146648A JP 2014146648 A JP2014146648 A JP 2014146648A JP 2013013162 A JP2013013162 A JP 2013013162A JP 2013013162 A JP2013013162 A JP 2013013162A JP 2014146648 A JP2014146648 A JP 2014146648A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical element
substrate
layer
underfill
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013013162A
Other languages
English (en)
Inventor
Takuya Oda
拓弥 小田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujikura Ltd filed Critical Fujikura Ltd
Priority to JP2013013162A priority Critical patent/JP2014146648A/ja
Publication of JP2014146648A publication Critical patent/JP2014146648A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Abstract

【課題】アンダーフィル層に形成されたボイド(空隙)による光学特性の低下を防止できる光学素子実装基板を提供する。
【解決手段】光入出部6を有する光透過性の基板1と、光入出部6を経て基板1と光接続可能な受発光部5を有する光学素子2と、を備えた光学素子実装基板10。基板1の実装面1aに、光入出部6を囲み、かつ光学素子2に重なる範囲内にパッシベーション開口部11を有するパッシベーション層4が形成されている。光学素子2とパッシベーション層4との隙間8には、液状硬化型のアンダーフィル材が充てんされ硬化したアンダーフィル層7が形成されている。アンダーフィル層7には、パッシベーション層4の開口部11と平面視位置が一致し、かつ受発光部5を囲むアンダーフィル開口部12が形成されている。パッシベーション開口部11とアンダーフィル開口部12とは、基板1と光学素子2との間に、空気層9を形成している。
【選択図】図1

Description

本発明は、基板と、この基板に実装された光学素子とを備えた光学素子実装基板およびその製造方法に関する。
従来、VCSEL、PDなどの光学素子を基板に実装した光学素子実装基板が用いられている(例えば、特許文献1を参照)。
図8(a)は、光学素子実装基板の一例を示す図である。この光学素子実装基板40は、基板41と、基板41に実装された光学素子42とを備えている。基板41の実装面41aには、パッシベーション層44が形成されている。
光学素子42は、基板41の実装面41a側に、フリップチップボンディング等により実装される。光学素子42の受発光部45は、相手側の光学素子等(図示略)に光接続される位置に配置される。
光学素子42と基板41との隙間48には、接合強度の確保、異物侵入防止、応力緩和などを目的として、アンダーフィル層47が形成されている。アンダーフィル層47は、未硬化のアンダーフィル材を、毛細管現象を利用して隙間48に充てんさせ、硬化させることにより形成される。
光学素子42と基板41との間を伝送される光の光路L1は、アンダーフィル層47を通る。
図9は、光学素子実装基板の他の例である光学素子実装基板50を示す図である(例えば、特許文献2を参照)。
光学素子52と基板51との隙間58に形成されたアンダーフィル層57は、光学素子52と基板51との光接続位置を含む中央領域に形成された中央アンダーフィル層57aと、周辺領域に形成された周辺アンダーフィル層57bとからなる。中央アンダーフィル層57aには、光透過性が高い非フィラー含有樹脂が用いられ、周辺アンダーフィル層57bには熱膨張係数の調整により熱応力の緩和が容易なフィラー含有樹脂が用いられる。
基板51の裏面側には、ミラー53aを有する光導波路層53が形成されている。
特開2005−164801号公報 特開2009−163178号公報
しかしながら、前述の光学素子実装基板では、ボイド(空隙)(例えば、図8(b)のボイド49)がアンダーフィル層に形成されることがある。ボイドが光学素子と基板との光接続位置に近い場合には、光学特性が低下するおそれがあった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、アンダーフィル層に形成されたボイド(空隙)による光学特性の低下を防止できる光学素子実装基板およびその製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明では以下の構成を提供する。
本発明は、実装面の一部領域として1または複数の光入出部を有する光透過性の基板と、前記光入出部を経て前記基板側と光接続可能な1または複数の受発光部を有する光学素子と、を備え、前記実装面に、平面視において前記光入出部を囲み、かつ前記光学素子に重なる範囲内にパッシベーション開口部を有するパッシベーション層が形成され、前記光学素子とパッシベーション層との隙間には、液状硬化型のアンダーフィル材が充てんされ硬化したアンダーフィル層が形成され、前記アンダーフィル層には、前記パッシベーション層のパッシベーション開口部と平面視位置が一致し、かつ前記受発光部を囲むアンダーフィル開口部が形成され、前記パッシベーション開口部と前記アンダーフィル開口部とは、前記基板と前記光学素子との間に、空気層を形成している光学素子実装基板を提供する。
前記アンダーフィル材は、フィラーを含む樹脂からなることが好ましい。
前記パッシベーション開口部は複数形成され、それぞれが前記複数の光入出部を1つずつ囲んで形成されていることが好ましい。
本発明の光学素子実装基板は、前記実装面に導電層が形成され、前記光学素子は、半田を介して前記導電層に電気的に接続されていることが好ましい。
本発明は、実装面の一部領域として1または複数の光入出部を有する光透過性の基板と、前記光入出部を経て前記基板側と光接続可能な1または複数の受発光部を有する光学素子と、を備えた光学素子実装基板を製造する方法であって、前記実装面に、平面視において前記光入出部を囲み、かつ前記光学素子に重なる範囲内にパッシベーション開口部を有するパッシベーション層を形成し、前記実装面に、前記受発光部と前記光入出部とが光接続できるように前記光学素子を設置し、前記光学素子とパッシベーション層との隙間に、液状硬化型のアンダーフィル材を充てんして硬化させることによって、前記パッシベーション開口部と平面視位置が一致し、かつ前記受発光部を囲むアンダーフィル開口部が形成されたアンダーフィル層を形成し、これによって、前記パッシベーション開口部と前記アンダーフィル開口部とが、前記基板と前記光学素子との間に、空気層を形成している光学素子実装基板を得る光学素子実装基板の製造方法を提供する。
本発明によれば、基板と光学素子との間に、受発光部と光入出部を囲む空気層が形成されているので、受発光部と光入出部との間の光路は空気層を通る。従って、アンダーフィル層内のボイド(空隙)により光学特性に悪影響が及ぶのを回避できる。
本発明の光学素子実装基板の第1実施形態を模式的に示す断面図である。 図1の光学素子実装基板を模式的に示す平面図である。 図1の光学素子実装基板の製造工程を示す工程図である。 図1の光学素子実装基板の製造工程を示す工程図である。 光学素子実装基板の光接続経路の一例を説明する模式図である。 (a)本発明の光学素子実装基板の第2実施形態を模式的に示す平面図である。(b)(a)の光学素子実装基板を模式的に示すA−A’断面矢視図である。 (a)図6の光学素子実装基板の製造過程を説明する平面図である。(b)(a)に示す基板および光学素子を模式的に示すA−A’断面矢視図である。 (a)従来の光学素子実装基板の一例を模式的に示す断面図である。(b)アンダーフィル層にボイド(空隙)が形成された光学素子実装基板を模式的に示す断面図である。 従来の光学素子実装基板の他の例を模式的に示す断面図である。
図1および図2は、本発明の光学素子実装基板の第1実施形態である光学素子実装基板10を示す図である。
図1に示すように、この光学素子実装基板10は、基板1と、基板1に実装された光学素子2とを備えている。光学素子2の下面2a(対向面)には、受発光部5と、電極13とが設けられている。
光学素子2の受発光部5には、表面発光型のレーザーダイオード(VCSEL:Vertical Cavity Surface Emitting Laser)等の発光素子、あるいは、フォトダイオード(PD:Photo Diode)等の受光素子などが用いられる。受発光部5は、発光素子と受光素子の機能を併せ持っていてもよい。
光学素子2は、基板1の実装面1a(基板の一面)側に、フリップチップボンディング等により実装される。
光学素子2は、受発光部5が、基板1の光入出部6に対面する位置に設置される。光学素子2は、下面2aが実装面1aにほぼ平行となる姿勢で設置することができる。
図示例では、受発光部5と光入出部6とを接続する光路L1の方向は、下面2aおよび実装面1aに対してほぼ垂直である。この光路L1の方向は、下面2aおよび実装面1aに対して0°を越え、90°未満である角度で傾斜していてもよい。
基板1は、光透過性を有する基板であって、例えばガラス基板である。光透過性とは、光学素子2と相手側の光学素子等(図示略)との間で伝送される光を透過させる性質を指す。
基板1が光透過性を有するため、光学素子2は、基板1を透過する光を介して相手側の光学素子(図示略)と光接続できる。相手側の光学素子は、例えばVCSEL等の発光素子や、PD等の受光素子などを有する。
光入出部6は、実装面1aの一部領域であって、光学素子2と基板1との間で伝送される光が基板1から出射、または基板1に入射する領域である。
受発光部5が発光素子である場合には、受発光部5からの光は、通常、照射範囲を拡大しつつ基板1に照射される。この場合、平面視における光入出部6の面積は、受発光部5の面積より大きくなる。
基板1の実装面1aには、銅などからなる導電層3(配線層)と、実装面1aを覆うように設けられたパッシベーション層4が形成されている。
パッシベーション層4は、樹脂等からなる絶縁膜である。パッシベーション層4には、例えば感光性ポリイミド系樹脂、感光性PBO樹脂等の感光性樹脂が使用できる。パッシベーション層4の厚さは、例えば1〜50μmである。
図2に示すように、パッシベーション層4は、平面視において光入出部6を囲む開口部11(パッシベーション開口部)を有する。開口部11は、光入出部6を囲んで形成されるため、パッシベーション層4が、受発光部5と光入出部6との間の光の進行を妨げることはない。
開口部11の平面視形状は、円形、矩形など任意の形状としてよい。図示例の開口部11は平面視円形である。
開口部11は、平面視において光学素子2の下面2a(対向面)に重なる範囲内に形成されている。図示例では、光学素子2の下面2aに重なる範囲とは、光学素子2の下面2aの周縁2bで区画される略矩形の領域A1である。
パッシベーション層4は、導電層3が半田14を介して光学素子2の電極13に接続される位置にも開口部15を有する。
図1に示すように、光学素子2とパッシベーション層4との隙間8には、アンダーフィル層7が形成されている。アンダーフィル層7の構成材料(アンダーフィル材7a)は、例えば、エポキシ系樹脂、シリコーン樹脂等である。アンダーフィル材7aとしては、液状硬化型の樹脂、例えば熱硬化性樹脂、紫外線硬化樹脂等を使用できる。
アンダーフィル層7を設けることによって、基板1と光学素子2との接合強度の確保、隙間8への異物侵入防止、応力緩和などが可能となる。
アンダーフィル層7は、シリカなどからなるフィラーを含有することが好ましい。フィラー(例えば球状シリカ)の含有量は、例えば50〜70質量%としてよい。フィラーの使用によって、アンダーフィル層7の熱膨張係数を調整できるため、熱応力の緩和が容易となる。また、フィラーの使用によって、アンダーフィル層7の吸湿性を調整することもできる。
後述のように、基板1と光学素子2とを接続する光路L1はアンダーフィル層7を通らないため、フィラーの使用によりアンダーフィル層7の光透過性が低くなっても、光学特性に影響は及ばない。このため、フィラーの選択の自由度が高められる。
アンダーフィル層7には、平面視位置がパッシベーション層4の開口部11と一致(または略一致)する開口部12(アンダーフィル開口部)が形成されている。図示例では、開口部12の平面視形状は、開口部11と同じ径の円形であり、開口部12の周縁12aの平面視位置は、開口部11の周縁11aの平面視位置に一致している。
開口部12は、平面視において受発光部5を囲み、かつ光学素子2の下面2a(対向面)に重なる範囲(領域A1)内に形成されている。
開口部12は、後述するアンダーフィル層7の形成工程において、隙間8に流れ込んだアンダーフィル材7aが、パッシベーション層4の開口部11の周縁11aに沿って回り込んで空気が閉じ込められることにより形成される。
パッシベーション層4の開口部11とアンダーフィル層7の開口部12とは、基板1と光学素子2との間に空気層9を形成している。空気層9は、開口部11、12の内部空間に空気が封入された層である。
空気層9は、平面視において受発光部5と光入出部6を含む範囲に形成されるため、受発光部5と光入出部6との間の光路L1は、空気層9内を通る。
図5は、互いに光接続される2つの光学素子実装基板10(10A、10B)を示す図である。
送信側の光学素子実装基板10Aは、基板1Aと、これに実装された光学素子2Aとを備えている。光学素子2Aの受発光部5は発光素子である。受信側の光学素子実装基板10Bは、基板1Bと、これに実装された光学素子2Bとを備えている。光学素子2Bの受発光部5は受光素子である。光学素子2A、2Bは、図1に示す構造によりそれぞれ基板1A、1Bに実装される。
基板1A、1Bの裏面側には、それぞれ光コネクタ16A、16Bが設置され、光コネクタ16A、16Bは光ファイバ17を介して互いに接続されている。
図1および図5に示すように、送信側の光学素子2Aから出射された光は、空気層9内を通って光入出部6から基板1Aに入射し、基板1Aを透過し、光コネクタ16A、光ファイバ17を経て光コネクタ16Bに至り、さらに、基板1Bを透過し、光入出部6から出射して空気層9内を通って受信側の光学素子2Bに達する光路L1を辿る。
光学素子2の電極13は、半田14を介して基板1の導電層3に電気的に接続される。半田14は、特に限定されず、共晶タイプ、鉛フリータイプなどを使用することができる。
次に、光学素子実装基板10を製造する方法の一例を説明する。
(パッシベーション層の形成)
図3に示すように、基板1の実装面1aに、銅などからなる導電層3(配線層)を形成し、次いで、感光性樹脂等からなるシート材を実装面1aに重ね合せることなどによって、パッシベーション層4を形成する。パッシベーション層4には、開口部11、15を形成する。開口部11、15は、例えば感光性樹脂からなるパッシベーション層4をフォトリソグラフィ技術によりパターニングすることによって形成することができる。
パッシベーション層4を形成するには、前記シート材を実装面1aに重ね合せる手法に代えて、フォトリグラフィー法を用いる手法も可能である。具体的には、導電層3を形成した基板1の実装面1aに、スピンコートにより樹脂(例えば感光性樹脂)を均一に塗布した後、前処理としてのプリベイク、露光、樹脂の安定化のための露光後ベーク、現像、キュア等の工程により、所望のパッシベーション層4を形成することができる。
(光学素子の設置)
図4に示すように、基板1の実装面1a側に光学素子2を置き、予め基板1または光学素子2に形成された半田バンプ(図示略)を加熱、溶融させることによって、光学素子2の電極13と基板1の導電層3とを半田14を介して接合する。
(アンダーフィル層の形成)
図1に示すように、ディスペンサ等を用いて、未硬化のアンダーフィル材7aを光学素子2近傍の実装面1aに塗布し、毛細管現象を利用して、隙間8(光学素子2の下面2aとパッシベーション層4の上面4aとの隙間)に流入させる。
未硬化のアンダーフィル材7aは、例えば0.5〜50Pa・Sの低粘性の液体であることが望ましい。
アンダーフィル材7aは、隙間8内でパッシベーション層4の上面4aを流動するが、開口部11の周縁11aには段差があるため、表面張力の影響により周縁11aより内側への流入は起こりにくい。
このため、アンダーフィル材7aは周縁11aに沿って回り込んで開口部11を包囲し、開口部11内に空気を閉じ込める。閉じ込められた空気の圧力によって、開口部11内へのアンダーフィル材7a流入はいっそう起こりにくくなる。
これによって、受発光部5を囲む開口部12が形成される。
パッシベーション層4の開口部11とアンダーフィル層7の開口部12とは、基板1と光学素子2との間に空気層9を形成する。
アンダーフィル材7aは、空気層9を除いて、光学素子2の下面2aに重なる略矩形の領域A1の全域に浸透する。
アンダーフィル材7aを、例えば150〜160℃に加熱することなどによって硬化させることによりアンダーフィル層7とする。これによって、図1および図2に示す光学素子実装基板10を得る。
光学素子実装基板10では、基板1と光学素子2との間に、受発光部5と光入出部6を囲む空気層9が形成されているので、受発光部5と光入出部6との間の光路L1は空気層9を通る。
従って、アンダーフィル層7内のボイド(空隙)により光学特性に悪影響が及ぶのを回避できる。
光学素子実装基板10では、半田14による接合の後にアンダーフィル層7を形成することができるため、アンダーフィル層7の耐熱性を考慮して低融点の半田14を使用する必要はない。よって、半田14の選択に関して自由度を高めることができる。
これに対し、例えば図9の光学素子実装基板40では、その構造上、半田接合に先だって中央アンダーフィル層47aが形成されるため、中央アンダーフィル層47aの耐熱性を考慮して低融点の半田を使用する必要がある。
図6は、本発明の光学素子実装基板の第2実施形態である光学素子実装基板20を示す図である。以下、図1等に示す光学素子実装基板10との共通部分については同一符号を付して説明を省略する。
この光学素子実装基板20は、基板21と、基板21の実装面21a側に実装された光学素子22とを備えている。
図6(a)に示すように、基板21の平面視形状は、所定方向に延在する形状、例えば長方形としてよい。基板21の実装面21aには、複数(図示例では4つ)の光入出部6が設けられている。
図示例の光入出部6は、基板21の長手方向(図6(a)の左右方向)に並んで、この方向に互いに間隔をおいて配列している。
光学素子22の平面視形状は、所定方向に延在する形状、例えば長方形としてよい。光学素子22は、長手方向を基板21の長手方向に一致させて設置することができる。
光学素子22の下面22a(対向面)には、複数(図示例では4つ)の受発光部5が設けられている。
図示例の受発光部5は、光学素子22の長手方向(図6(a)の左右方向)に並んで、この方向に間隔をあけて配列している。
基板21の実装面21aに形成されたパッシベーション層24は、平面視において光入出部6を囲む複数(図示例では4つ)の開口部31(パッシベーション開口部)を有する。
開口部31は、平面視において光学素子22の下面22a(対向面)に重なる範囲(領域A21)内に形成されている。
これら複数の開口部31は、互いに独立して形成されている。図示例の開口部31は、光学素子22の長手方向に並んで、この方向に間隔をあけて配列している。
開口部31は、それぞれが1つずつ光入出部6を囲んで形成されていることが望ましいが、複数の光入出部6を一括して囲んで形成されていてもよい。
例えば、図6(a)において、4つの光入出部6のうち、光学素子22の長手方向の一端側の光入出部6aおよびこれに隣接する光入出部6bとを一括して囲む第1の開口部31と、他端側の光入出部6dおよびこれに隣接する光入出部6cとを一括して囲む第2の開口部31とを形成してもよい。
また、光入出部6a〜6cを一括して囲む第1の開口部31と、光入出部6dのみを囲む第2の開口部31を形成してもよい。
図6(b)に示すように、光学素子22とパッシベーション層24との隙間28には、アンダーフィル層27が形成されている。
アンダーフィル層27には、複数の開口部31と平面視位置が一致し、かつ受発光部5を囲む複数の開口部32(アンダーフィル開口部)が形成されている。図示例では、開口部31と同様に、4つの開口部32が形成されている。
開口部31と開口部32とは、基板1と光学素子2との間の空気層29を形成する。
空気層29は、平面視において受発光部5と光入出部6を含む範囲に形成されるため、受発光部5と光入出部6との間の光路L1は、空気層29内を通る。
これら複数の空気層29は、互いに独立して形成されている。図示例の空気層29は、光学素子22の長手方向に並んで、この方向に間隔をあけて配列している。
空気層29が互いに独立して形成されているため、これら空気層29が一体化している場合に比べ、アンダーフィル層27の面積を大きく確保し、光学素子22の基板21に対する接合強度を高めることができる。
次に、光学素子実装基板20を製造する方法の一例を説明する。
図7(a)および図7(b)に示すように、基板21の実装面21aにパッシベーション層24を形成する。パッシベーション層24には、開口部31を形成する。次いで、基板21と光学素子22とを半田を介して接合する。
図6(a)および図6(b)に示すように、未硬化のアンダーフィル材27aを、毛細管現象を利用して、光学素子22とパッシベーション層24との隙間28に流入させる。
アンダーフィル材27aが開口部31を包囲し、開口部31内に空気を閉じ込めることによって、開口部32が形成される。アンダーフィル材27aは、開口部31を除いて、光学素子22の下面22aに重なる略矩形の領域A21の全域に浸透する。
アンダーフィル材27aを加熱などによって硬化させることによりアンダーフィル層27とし、光学素子実装基板20を得る。
光学素子実装基板20によれば、基板21と光学素子22との間に、受発光部5と光入出部6を囲む空気層29が形成されているので、受発光部5と光入出部6との間の光路L1は空気層29を通る。
従って、アンダーフィル層27内のボイド(空隙)により光学特性に悪影響が及ぶのを回避できる。
なお、空気層9内の気体は空気に限らず、他の気体(窒素ガス等)であってもよい。この場合には、前記内部空間には「空気層」に代えて「気体層」が形成される。光学素子は基板の両面に設けてもよい。基板は光透過性に限定されない。
1、21・・・基板、1a、21a・・・実装面、2、22・・・光学素子、2a、22a・・・下面(対向面)、3・・・導電層、4、24・・・パッシベーション層、5・・・光学素子の受発光部、6・・・光入出部、7、27・・・アンダーフィル層、7a、27a・・・アンダーフィル材、8、28・・・隙間、9、29・・・空気層、10、20・・・光学素子実装基板、11、31・・・パッシベーション層の開口部(パッシベーション開口部)、12、32・・・アンダーフィル層の開口部(アンダーフィル開口部)、14・・・半田。

Claims (5)

  1. 実装面の一部領域として1または複数の光入出部を有する光透過性の基板と、前記光入出部を経て前記基板側と光接続可能な1または複数の受発光部を有する光学素子と、を備え、
    前記実装面に、平面視において前記光入出部を囲み、かつ前記光学素子に重なる範囲内にパッシベーション開口部を有するパッシベーション層が形成され、
    前記光学素子とパッシベーション層との隙間には、液状硬化型のアンダーフィル材が充てんされ硬化したアンダーフィル層が形成され、
    前記アンダーフィル層には、前記パッシベーション層のパッシベーション開口部と平面視位置が一致し、かつ前記受発光部を囲むアンダーフィル開口部が形成され、
    前記パッシベーション開口部と前記アンダーフィル開口部とは、前記基板と前記光学素子との間に、空気層を形成していることを特徴とする光学素子実装基板。
  2. 前記アンダーフィル材は、フィラーを含む樹脂からなることを特徴とする請求項1に記載の光学素子実装基板。
  3. 前記パッシベーション開口部は複数形成され、それぞれが前記複数の光入出部を1つずつ囲んで形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の光学素子実装基板。
  4. 前記実装面に、導電層が形成され、
    前記光学素子は、半田を介して前記導電層に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1〜3のうちいずれか1項に記載の光学素子実装基板。
  5. 実装面の一部領域として1または複数の光入出部を有する光透過性の基板と、前記光入出部を経て前記基板側と光接続可能な1または複数の受発光部を有する光学素子と、を備えた光学素子実装基板を製造する方法であって、
    前記実装面に、平面視において前記光入出部を囲み、かつ前記光学素子に重なる範囲内にパッシベーション開口部を有するパッシベーション層を形成し、
    前記実装面に、前記受発光部と前記光入出部とが光接続できるように前記光学素子を設置し、
    前記光学素子とパッシベーション層との隙間に、液状硬化型のアンダーフィル材を充てんして硬化させることによって、前記パッシベーション開口部と平面視位置が一致し、かつ前記受発光部を囲むアンダーフィル開口部が形成されたアンダーフィル層を形成し、
    これによって、前記パッシベーション開口部と前記アンダーフィル開口部とが、前記基板と前記光学素子との間に、空気層を形成している光学素子実装基板を得ることを特徴とする光学素子実装基板の製造方法。
JP2013013162A 2013-01-28 2013-01-28 光学素子実装基板およびその製造方法 Pending JP2014146648A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013013162A JP2014146648A (ja) 2013-01-28 2013-01-28 光学素子実装基板およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013013162A JP2014146648A (ja) 2013-01-28 2013-01-28 光学素子実装基板およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014146648A true JP2014146648A (ja) 2014-08-14

Family

ID=51426677

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013013162A Pending JP2014146648A (ja) 2013-01-28 2013-01-28 光学素子実装基板およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2014146648A (ja)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH056920A (ja) * 1991-06-27 1993-01-14 Toshiba Corp 半導体装置
JP2000228573A (ja) * 1999-02-05 2000-08-15 Canon Inc モジュールの基板構造
JP2004214344A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Nec Kansai Ltd 固体撮像装置
JP2006091753A (ja) * 2004-09-27 2006-04-06 Ibiden Co Ltd Icチップ実装用基板および光通信用デバイス
JP2006511964A (ja) * 2002-12-23 2006-04-06 フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド フリップチップ及びフリップチップアセンブリのための選択的アンダーフィル
JP2008041857A (ja) * 2006-08-04 2008-02-21 Dainippon Printing Co Ltd 配線基板、デバイス装置及びその製造方法
JP2009021430A (ja) * 2007-07-12 2009-01-29 Fuji Xerox Co Ltd 面型光素子及び光モジュール
JP2014063062A (ja) * 2012-09-21 2014-04-10 Fujitsu Ltd 光学ユニット及びその製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH056920A (ja) * 1991-06-27 1993-01-14 Toshiba Corp 半導体装置
JP2000228573A (ja) * 1999-02-05 2000-08-15 Canon Inc モジュールの基板構造
JP2006511964A (ja) * 2002-12-23 2006-04-06 フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド フリップチップ及びフリップチップアセンブリのための選択的アンダーフィル
JP2004214344A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Nec Kansai Ltd 固体撮像装置
JP2006091753A (ja) * 2004-09-27 2006-04-06 Ibiden Co Ltd Icチップ実装用基板および光通信用デバイス
JP2008041857A (ja) * 2006-08-04 2008-02-21 Dainippon Printing Co Ltd 配線基板、デバイス装置及びその製造方法
JP2009021430A (ja) * 2007-07-12 2009-01-29 Fuji Xerox Co Ltd 面型光素子及び光モジュール
JP2014063062A (ja) * 2012-09-21 2014-04-10 Fujitsu Ltd 光学ユニット及びその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10613282B2 (en) Fluid control structure
US9671575B2 (en) Optical waveguide device and method of manufacturing the same
JP5178650B2 (ja) 光電気複合配線モジュールおよびその製造方法
JP3566842B2 (ja) 半導体受光装置、半導体受光装置の製造方法、双方向光半導体装置及び光伝送システム
US8515219B2 (en) Optical device
JP6423753B2 (ja) 光モジュール及びその製造方法
US7977138B1 (en) Optical device and method of manufacturing the same
JP2009080451A (ja) フレキシブル光電気配線及びその製造方法
US11378763B2 (en) Optical waveguide having support member, optical waveguide mounting substrate and optical transceiver
JP2014164198A (ja) 光通信装置
JP4845333B2 (ja) 光電変換素子パッケージ、その作製方法及び光コネクタ
JP2015207676A (ja) 配線基板およびその製造方法
JP2013210575A (ja) 光導波路デバイス、および、光導波路デバイスの製造方法
JP4767228B2 (ja) 光伝送基板とその製造方法、光伝送装置、複合光伝送基板および光電気混載基板
JP5078021B2 (ja) 光導波路モジュール、光導波路モジュールの製造方法
JP2014146648A (ja) 光学素子実装基板およびその製造方法
JP2009021430A (ja) 面型光素子及び光モジュール
US9470856B2 (en) Method of manufacturing photoelectric composite substrate
JP2017125956A (ja) レンズ付き光導波路、光電気混載基板、光モジュールおよび電子機器
WO2017141369A1 (ja) 光伝送モジュールおよび内視鏡
WO2012020532A1 (ja) 光電気複合配線モジュールおよびその製造方法
JP7070156B2 (ja) 光部品およびその製造方法
JP2008041857A (ja) 配線基板、デバイス装置及びその製造方法
US9122023B2 (en) Optical waveguide device and method of manufacturing the same
JP2015065293A (ja) 光学素子実装モジュール、および光学素子実装モジュールの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140717

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20140717

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20140806

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140812

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20141001

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20141202