JP2014090210A - パターン形成装置、及びパターン形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 パターン形成装置(10F、10G)は、基板(FB)の表面に凹凸状のパターンを形成する。そして、パターン形成装置(10F)は紫外線の照射により硬化する硬化性材料(LR)の液体を基板(FB)の表面に均一に供給する供給部(42、42G)と、基板(FB)を一方向に搬送している間に、パターンに対応するパターン情報に基づいて基板(FB)の表面と接触した硬化性材料(LR)に紫外線を付与し該硬化性材料(LR)を硬化させる紫外線照射装置(41)と、を備える。
【選択図】図5
Description
<デバイス製造装置100>
第1の実施例のパターン形成装置10Aを用いたデバイス製造装置100について、図1を参照しながら説明する。図1は、第1の実施例のパターン形成装置10Aを用いたデバイス製造装置100の説明図である。デバイス製造装置100は、パターン形成装置10Aとは反対側の帯状の基板FBの片面に凹凸パターンを形成する。
<パターン形成装置10A>
図2は、第1の実施例のパターン形成装置10Aの説明図である。図2は、第1の実施例のパターン形成装置10Aの斜視図である。図2では、帯状の基板FBは、矢印で示されるように−X軸方向に搬送されている。
次に、第1の実施例のデバイス製造装置100によりデバイスを製造する方法について、図4を参照しながら説明する。
図4は、第1の実施例のデバイス製造装置100によるデバイス製造方法を示したフローチャートである。なお、第1の実施例のデバイス製造装置100によるデバイス製造方法は、第1の実施例のパターン形成装置10Aにより帯状の基板FBに凹凸状のパターンを形成する工程と、液滴塗布装置60によりメタルインクMTをゲート電極用の凹凸状のパターンに塗布する工程と、印刷ローラPRにより帯状の基板FBに絶縁体ISの層を形成する工程とを含む。
ステップS111において、搬送制御部70が供給ロールRLを介して帯状の基板FBを所定量だけパターン形成装置10Aに搬送する(図1を参照)。
ステップS115において、高さ調整部18により紫外線照射装置11が+Z軸方向に移動し最初の位置に戻る。このときに帯状の基板FBが液状の紫外線硬化樹脂LRから離れるように供給ロールRLが多少回転する。これにより、帯状の基板FBと液状の紫外線硬化樹脂LRとが離れる。このとき、予めに帯状の基板FBに対して撥水処理が実施されるため、液状の紫外線硬化樹脂LRが帯状の基板FBに付着していない。すなわち、液状の紫外線硬化樹脂LRが重力により、帯状の基板FBから離間する。
次に、印刷ローラPRにより帯状の基板FBに絶縁体ISの層を形成する工程について、図1を参照しながらステップS119〜S121で説明する。
<デバイス製造装置110>
第2の実施例のパターン形成装置10Fを用いたデバイス製造装置110について、図5を参照しながら説明する。図1で示されたデバイス製造装置100は、パターン形成装置の反対側の帯状の基板FBの片面に凹凸パターンを形成していた。デバイス製造装置110は、パターン形成装置10F側の帯状の基板FBの片面に凹凸パターンを形成する。この点で、デバイス製造装置100とデバイス製造装置110とは大きく異なる。
図6は、第2の実施例のパターン形成装置10Fの一例の斜視図である。図7(a)はパターン形成装置10Fの断面で、(b)は帯状の基板FBにおいてパターン形成装置10Fにより凹凸状のパターンを形成される際の硬化された紫外線硬化樹脂SRの厚さを示したグラフである。なお、図7(b)において縦軸は硬化された紫外線硬化樹脂SRの厚さを示し、横軸は帯状の基板FBの移動方向を示す。
図7を参照しながら第2の実施例のパターン形成装置10Fによって帯状の基板FBに凹凸状のパターンを形成する方法を説明する。図7(a)に示されるように第2の実施例において帯状の基板FBは連続に搬送される。そして紫外線照射装置41の−X側(上流側)から液状の紫外線硬化樹脂LRを供給し、+X側(下流側)から硬化されなった液状の紫外線硬化樹脂LRを回収する。流量計46及び流量計48(図5を参照)は、帯状の基板FBの大きさ及び搬送速度などを考慮して、液状の紫外線硬化樹脂LRの供給量及び回収量を調節する。また、フラッシュ光源81(811〜815)はX軸方向に間隔Lで配置されている。
帯状の基板FBがフラッシュ光源811の直下を通過する際に、フラッシュ光源811が瞬間的に点灯する。すると、図7(b)のグラフに示されたように、フラッシュ光源811の直下に位置する帯状の基板FBの片面に厚さ1/5Hの硬化された紫外線硬化樹脂SRが形成される。そして帯状の基板FBが連続的に搬送されていき距離L移動した際に、フラッシュ光源812が瞬間的に点灯する。これにより、フラッシュ光源812の直下に到着した厚さ1/5Hの硬化した紫外線硬化樹脂SRにさらに厚さ1/5Hの硬化された紫外線硬化樹脂SRが積み重ねられる。同様に、硬化された紫外線硬化樹脂SRはフラッシュ光源813の直下で厚さ3/5Hとなり、フラッシュ光源814の直下で厚さ4/5Hとなる。その後、硬化された紫外線硬化樹脂SRはフラッシュ光源815の直下で所定の厚さHとなる。このとき、フラッシュ光源81は、先の図4中のステップS113で説明したように、パターン情報に基づいて所定時間のみ点灯される。硬化された紫外線硬化樹脂SRは、フラッシュ光源81(例えば紫外線LED光源)からの光がレンズアレイ14でコリメートされているため、その断面は長方形に形成される。このようにして、帯状の基板FBに凹凸状のパターンが形成される。
図5に示されたデバイス製造装置110は、パターン形成装置10Fに代えて図9に示されたパターン形成装置10Gを配置することもできる。
第3の実施例のパターン形成装置10Gについて図9を参照しながら説明し、その他の部分に対して説明を省略する。
11、21、 … 紫外線照射装置
12、22、32 … 材料容器
13(131〜138) … 紫外線LED光源
14 … レンズアレイ
19 … 固定ローラ
41 … 紫外線照射装置
42 … 供給部
43 … 回収部
46、48 … 流量計
60 … 液滴塗布装置
70 … 搬送制御部
81(811〜815) … フラッシュ光源
100、110 … デバイス製造装置
CA … アライメントカメラ
FB … 基板
FR … 搬送ローラ
HT … 温風ヒータ
IS … 絶縁体
LR … 液状の紫外線硬化樹脂
MT … メタルインク
P、PP … 配管
PR … 印刷ローラ
RL … 供給ロール
SR … 硬化された紫外線硬化樹脂
Claims (7)
- 可撓性の基板の表面に凹凸状のパターンを形成するパターン形成装置において、
前記基板を前記表面に沿って連続的に搬送する搬送部と、
紫外線を含む光エネルギーを受けて硬化する硬化性材料の液体を、前記基板の搬送方向の上流側に配置されるノズルを通して前記基板の表面に均一に供給する供給部と、
該供給部のノズルに対して前記基板の搬送方向の下流側に配置されて、所定のパターン情報に基づく前記パターンに対応した前記光エネルギーを、前記基板の搬送の位置に応じて前記基板の表面上の前記硬化性材料の液体に付与する点滅可能な複数の発光部を有し、前記基板の表面に前記硬化性材料の硬化したパターンを前記基板の搬送の間に形成する硬化装置と、
該硬化装置に対して前記基板の搬送方向の下流側に配置されるノズルを通して、前記基板の表面上の硬化されなかった前記硬化性材料の液体を回収する回収部と、を備えたパターン形成装置。 - 前記供給部は、前記硬化性材料を溜める供給タンクと、前記供給タンクから前記上流側に配置される前記ノズルへ伸びる配管とを有し、
前記回収部は、前記硬化性材料を溜める回収タンクと、前記下流側に配置される前記ノズルから前記回収タンクへ伸びる配管とを有する請求項1に記載のパターン形成装置。 - 前記硬化装置の複数の発光部は前記パターンを構成する最小単位の領域ごとに配置され、前記発光部は前記光エネルギーをコリメートするレンズアレイを含む請求項1又は請求項2に記載のパターン形成装置。
- 可撓性の帯状の基板の表面に凹凸状のパターンを形成するパターン形成方法において、
前記基板を帯状の方向に連続的に搬送する搬送工程と、
紫外線を受けて硬化する硬化性材料の液体を、前記基板の搬送方向の上流側に設けた供給部から前記基板の表面に均一に供給する供給工程と、
前記供給部に対して前記基板の搬送方向の下流側に設けられた紫外線照射装置によって、前記基板を搬送させた状態で、所定のパターン情報に基づく前記パターンに対応した紫外線を、前記基板の搬送の位置に応じて前記基板上の前記硬化性材料の液体に付与し、前記基板の表面に前記硬化性材料の硬化したパターンを形成する硬化工程と、
該硬化工程で硬化されなかった前記硬化性材料の液体を、前記紫外線照射装置に対して前記基板の搬送方向の下流側に設けた回収部によって回収する回収工程と、
を備えたパターン形成方法。 - 前記紫外線照射装置は、前記基板の表面と所定の隙間となるように設けられ、前記紫外線を前記基板に向けて透過する透明板を有し、
前記供給工程は、前記隙間の前記上流側から前記硬化性材料の液体を供給し、
前記回収工程は、前記硬化工程で硬化されなかった前記硬化性材料の液体を前記隙間の前記下流側から回収する、
請求項4に記載のパターン形成方法。 - 前記紫外線照射装置は、前記基板を連続的に搬送する方向、及び前記基板の搬送の方向と直交する方向の各々に所定の間隔で配置されて、紫外線のパルス光を発する複数のフラッシュ光源を含む、
請求項4または請求項5に記載のパターン形成方法。 - 前記複数のフラッシュ光源の各々は、前記基板の搬送の間、前記基板上の同じ位置に対して前記パルス光が複数回照射されるように制御される、
請求項4または請求項5に記載のパターン形成方法。
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