TW201519962A - 用於在帶狀薄膜基材上形成具有不連續圖案之塗膜的塗敷裝置、及具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件的製造方法 - Google Patents

用於在帶狀薄膜基材上形成具有不連續圖案之塗膜的塗敷裝置、及具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件的製造方法 Download PDF

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Abstract

一種塗敷裝置，係於帶狀薄膜基材之塗膜形成面形成膜，其具備：塗敷輥，於外周面上附著塗膜材料並旋轉；塗液供應構件，係對前述塗敷輥供應前述塗膜材料；薄膜基材搬送部，係一邊使前述薄膜基材之前述塗膜形成面接觸對前述塗敷輥、一邊連續地搬送；以及無塗敷區域形成機構，於前述薄膜基材上形成至少於一方向連續之無塗敷區域。此塗敷裝置，能以簡便之方法於基材上形成具有不連續圖案之塗膜。

Description

用於在帶狀薄膜基材上形成具有不連續圖案之塗膜的塗敷裝置、及具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件的製造方法
本發明係關於用於在帶狀薄膜基材上形成具有所欲之不連續圖案之塗膜的塗敷裝置及塗膜形成方法、用以製造於基材上具有分離之凹凸圖案形成區域之薄膜構件之裝置及方法、以及具有凹凸圖案之基板的製造方法。
作為將塗膜形成於帶狀薄膜基材之方法，已知有凹版塗敷法等方法，係使塗膜材料附著於旋轉之塗敷輥，一邊搬送薄膜基材一邊使之與此塗敷輥上之塗膜材料接觸，藉此於薄膜基材上形成塗膜。
此種塗膜形成方法，雖係使用在太陽電池、燃料電池、蓄電池等電極材片、反射防止膜、觸媒塗敷等各種用途，但此等用途中，不僅於基材上將塗膜形成於一面，有時亦有必須於基材上之分割成各種形狀及面積之區域形成塗膜之必要。此種情形下，能藉由如專利文獻1所記載之方法形成於長度方向及寬度方向連續之無塗敷區域，而形成相對基材之長度方向及寬度方向具有間歇(不連續)圖案的塗膜。專利文獻1所記載之方法，係一邊將薄膜基材搬送於長度方向，一邊將配置成透過基材接觸於塗敷輥之承壓(backing)輥間歇地從塗敷輥分離，藉此使薄膜基材從塗敷輥分離 以形成在薄膜基材之寬度方向連續之無塗敷區域，藉此相對基材之長度方向間歇地(在長度方向不連續地)形成塗膜。又，使用於外周面上沿著周方向形成有槽部之塗敷輥，一邊藉由與此槽部卡合之刮刀等除去槽部內之塗敷材料，一邊使薄膜基材接觸於塗敷輥且搬送於長度方向，藉此形成在薄膜基材之長度方向(搬送方向)連續之無塗敷區域，藉此相對基材之寬度方向間歇地(在寬度方向不連續地)形成塗膜。藉由上述之方法，能形成相對基材之長度方向及寬度方向具有間歇(不連續)圖案的塗膜。
此外，作為形成如半導體積體電路之微細圖案的方法，除了 微影法以外，已知有奈米壓印法。奈米壓印法，係能藉由以模與基板夾著樹脂來轉印奈米等級圖案的技術，依使用方法不同，已有研究出熱奈米壓印法、光奈米壓印法等。其中，光奈米壓印法，係由i)樹脂層之塗敷、ii)模之按壓、iii)光硬化、以及iv)離模之四步驟構成，在能以此種單純製程實現奈米尺寸之加工這點上非常優異。特別是，樹脂層由於係使用藉由光照射硬化之光硬化性樹脂，因此圖案轉印步驟所花費時間較短，能期待高產能。因此不僅半導體元件，在有機EL元件或LED等光學構件、MEMS、生物晶片等多數區域中均被期待實用化。
有機EL元件(有機發光二極體)，係從陽極通過電洞注入層而進入之電洞與從陰極通過電子注入層而進入之電子分別被往發光層傳輸，在發光層內之有機分子上兩者再度結合而激發有機分子，藉此放出光。因此，為了將有機EL元件作為顯示裝置或照明裝置使用，必須將來自發光層之光從元件表面以良好效率取出，因此在專利文獻2中已知有將具有凹 凸圖案之繞射柵格基板設於有機EL元件之光取出面的方法。
又，本申請人，係在專利文獻3中揭示了一種方法，係使用如薄膜狀模般具有可撓性之模將凹凸圖案轉印於基板，以製造有機EL元件用之繞射柵格基板之凹凸圖案的方法。專利文獻3中揭示了薄膜狀模能藉由將輥狀金屬模之凹凸圖案透過輥製程轉印於薄膜基材來製造。
[習知技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本特開2000-51778號公報
專利文獻2：日本特開2006-236748號公報
專利文獻3：WO2013/065384
在將形成有凹凸圖案之金屬基板捲繞於輥並加以固定者作為模使用時，必須對金屬基板之端部彼此間之間隙施加熔接或樹脂充填等來填埋間隙。在因此而形生之接縫部(連接部)中，有時會產生熔接所致之凹凸或樹脂間隙等。經由本申請人之調查研究發現，在使用此種模並透過專利文獻2所記載之輥製程來製造薄膜狀模時，會因模之接縫部之凹凸使薄膜基材非密合而導致空氣侵入，而有產生圖案不良，或有硬化性樹脂進入接縫部之間隙而無法將薄膜基材從模剝離，產生薄膜基材破損等問題之虞。
因此，本發明之目的，在於提供一種製造能防止因輥狀模之接縫部導致之轉印不良及剝離不良等產生之具有凹凸圖案之薄膜構件之方 法及製造裝置。
又，本發明之另一目的，在於提供一種塗敷裝置及塗敷方 法，能以簡便之方法於基材上形成具有所欲之不連續(分離)圖案之塗膜，適合各種圖案之塗膜形成。又，係提供使用此種塗敷裝置及塗敷方法以製造具有於基材上具有所欲之不連續圖案之凹凸圖案形成區域之薄膜構件的裝置及方法。
再者，亦提供使用藉由本發明製造之薄膜構件作為模來製造 具有凹凸圖案之基板的方法。
依據本發明之第1態樣，提供一種塗敷裝置，係於帶狀薄膜基材之塗膜形成面形成膜，其具備：塗敷輥，於外周面上附著塗膜材料並旋轉；塗液供應構件，係對前述塗敷輥供應前述塗膜材料；薄膜基材搬送部，係一邊使前述薄膜基材之前述塗膜形成面接觸前述塗敷輥、一邊連續地搬送；以及無塗敷區域形成機構，於前述薄膜基材上形成至少於一方向連續之無塗敷區域。
前述塗敷裝置亦可為，前述無塗敷區域形成機構包含：作動輥，係以前述薄膜基材在接觸前述塗敷輥之位置與從前述塗敷輥分離之位置位移之方式，彈壓向前述薄膜基材並移動，且相對前述塗敷輥在前述薄膜基材之搬送方向上游側或下游側分離設置；以及 搬送方向無塗敷區域形成機構，形成連續於前述薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域。
前述塗敷裝置亦可為，前述搬送方向無塗敷區域形成機構包含：帶狀遮罩賦予部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向上游側處，對前述薄膜基材之前述塗膜形成面上賦予沿著前述薄膜基材之搬送方向成帶狀之帶狀遮罩；以及帶狀遮罩剝離部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向下游側處，將前述帶狀遮罩從前述薄膜基材剝離。
前述塗敷裝置亦可為，前述搬送方向無塗敷區域形成機構包含：撥液材料塗敷部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向上游側處且將撥液性材料塗敷於前述薄膜基材之前述塗膜形成面上。
前述塗敷裝置亦可為，前述塗敷輥包含前述搬送方向無塗敷區域形成機構；前述搬送方向無塗敷區域形成機構，包含形成於前述塗敷輥之前述外周面上且於前述塗敷輥之周方向連續之兩個以上的液體保持區域、以及在前述塗敷輥之前述外周面上形成於前述液體保持區域各個之間的液體非保持區域。
前述塗敷裝置亦可為，前述塗液供應構件包含前述搬送方向無塗敷區域形成機構；前述搬送方向無塗敷區域形成機構包含在前述塗敷輥之旋轉軸方向彼此分離配置之至少兩個以上之塗液供應室。
前述塗敷裝置亦可為，前述作動輥，相對前述塗敷輥於前述薄膜基材之搬送方向下游側分離設置。
前述塗敷裝置亦可為，具備用以在搬送前述薄膜基材之期間將前述薄膜基材之張力保持於一定之張力控制部。
前述塗敷裝置亦可為，前述無塗敷區域形成機構包含朝前述薄膜基材之前述塗膜形成面吹出氣體，以使前述薄膜基材與前述塗敷輥成為非接觸之氣刀。
前述塗敷裝置亦可為，前述無塗敷區域形成機構進一步包含吸引輥，該吸引輥與前述氣刀對向配置，在前述薄膜基材與前述塗敷輥為非接觸時吸引前述薄膜基材並加以保持。前述吸引輥亦可具有排出氣體之機構。前述無塗敷區域形成機構亦可進一步包含朝前述薄膜基材之前述塗膜形成面之背面吹出氣體之另一氣刀。
前述塗敷裝置亦可為，前述無塗敷區域形成機構進一步包含於前述薄膜基材上形成連續於前述薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域之搬送方向無塗敷區域形成機構。
前述塗敷裝置亦可為，前述搬送方向無塗敷區域形成機構包含：帶狀遮罩賦予部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向上游側處，對前述薄膜基材之前述塗膜形成面上賦予沿著前述薄膜基材之搬送方向成帶狀之帶狀遮罩；以及帶狀遮罩剝離部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向下游側處，將前述帶狀遮罩從前述薄膜基材剝離。
前述塗敷裝置亦可為，前述搬送方向無塗敷區域形成機構包 含：撥液材料塗敷部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向上游側處且將撥液性材料塗敷於前述薄膜基材之前述塗膜形成面上。
前述塗敷裝置亦可為，前述塗敷輥包含前述搬送方向無塗敷區域形成機構；前述搬送方向無塗敷區域形成機構，包含形成於前述塗敷輥之前述外周面上且於前述塗敷輥之周方向連續之兩個以上的液體保持區域、以及在前述塗敷輥之前述外周面上形成於前述液體保持區域各個之間的液體非保持區域。
前述塗敷裝置亦可為，前述塗液供應構件包含前述搬送方向無塗敷區域形成機構；前述搬送方向無塗敷區域形成機構包含在前述塗敷輥之旋轉軸方向彼此分離配置之至少兩個以上之塗液供應室。
前述塗敷裝置亦可為，前述無塗敷區域形成機構包含：圖案遮罩賦予部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向上游側處，對前述薄膜基材之前述塗膜形成面上賦予圖案遮罩；以及圖案遮罩剝離部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向下游側處，將前述圖案遮罩從前述薄膜基材剝離。
前述塗敷裝置亦可為，前述圖案遮罩，具有在前述圖案遮罩之搬送方向分斷之圖案。
前述塗敷裝置亦可為，前述圖案遮罩，具有在前述圖案遮罩 之搬送方向連續之圖案。
前述塗敷裝置亦可為，前述無塗敷區域形成機構進一步包含 於前述薄膜基材上形成連續於前述薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域之搬送方向無塗敷區域形成機構。
依據本發明之第2態樣，提供一種具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造裝置，其具備：塗敷部，於帶狀薄膜基材上塗敷凹凸形成材料以形成膜；轉印部，具有具凹凸圖案之轉印輥，將前述凹凸圖案轉印於前述膜；以及搬送部，從前述塗敷部往前述轉印部連續地搬送前述薄膜基材；前述塗敷部具有第1態樣之塗敷裝置。
前述薄膜構件之製造裝置亦可為，進一步具備：檢測部，檢測前述轉印輥之旋轉狀態；以及控制部，控制前述塗敷部；前述轉印輥，係具有前述凹凸圖案之薄板狀模捲繞於基體輥且前述薄板狀模之端部彼此在前述基體輥之外周面上相連結的轉印輥；前述控制部，係根據以前述檢測部檢測出之前述旋轉狀態控制前述塗敷部，以在前述轉印部中前述薄膜基材之未塗敷有前述凹凸形成材料之未塗工部對向於前述轉印輥之前述薄板狀模之接縫部之狀態下，前述薄膜基材上之前述膜疊合於前述轉印輥。
依據本發明之第3態樣，提供一種第1態樣之塗敷裝置於薄 膜基材上形成塗膜的方法，其包含於前述薄膜基材上形成無塗敷區域之動作。
依據本發明之第4態樣，提供一種具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造方法，其包含：塗敷步驟，一邊搬送帶狀薄膜基材一邊於該薄膜基材上塗敷凹凸形成材料以形成膜；以及轉印步驟，一邊搬送前述薄膜基材一邊將轉印輥之凹凸圖案轉印於前述膜；在前述塗敷步驟中，係使前述薄膜基材接觸於前述凹凸形成材料以於前述薄膜基材上形成塗敷有前述凹凸形成材料之塗工部，從前述凹凸形成材料使前述薄膜基材分離而形成未塗敷有前述凹凸形成材料之未塗工部，藉此間歇地塗敷前述凹凸形成材料；在前述轉印步驟中，前述轉印輥係具有前述凹凸圖案之薄板狀模捲繞於基體輥且該薄板狀模之端部彼此在前述基體輥之外周面上相連結的轉印輥，以前述薄膜基材之前述未塗工部對向於前述轉印輥之前述薄板狀模之接縫部之方式，將前述薄膜基材上之前述膜疊合按壓於前述轉印輥。
前述薄膜構件之製造方法亦可為，進一步包含檢測步驟，係檢測前述轉印輥之旋轉狀態；根據以前述檢測步驟檢測出之旋轉狀態，控制在前述塗敷步驟中對前述薄膜基材上塗敷前述凹凸形成材料之時點。
本發明之塗敷裝置，由於具備於薄膜基材上形成至少於一方 向連續之無塗敷區域之無塗敷區域形成機構(以下單標記為「無塗敷區域形成機構」)，因此能於基材上形成具有不連續(分離)圖案之塗膜。例如，藉由無塗敷區域形成機構，一邊搬送薄膜基材一邊對塗敷輥以接觸或分離之方式移動，藉此能形成連續於薄膜基材之寬度方向之無塗敷區域。在使用氣刀使薄膜基材對塗敷輥移動或位移之無塗敷區域形成機構時，能使裝置構成單純化。在使用一邊搬送賦予有圖案遮罩之薄膜基材一邊使之接觸塗敷輥之無塗敷區域形成機構時，能將具有與圖案遮罩形狀對應之形狀之無塗敷區域之圖案之塗膜形成於薄膜基材上。因此，由於不需要用以使薄膜基材之搬送路徑位移之機械構造，因此裝置構成單純。無塗敷區域形成機構亦可進一步具備形成連續於薄膜基材長度方向(搬送方向)之無塗敷區域的機構，藉此，能於基材上簡便地形成具有各種圖案之塗膜。進一步地，能使用此塗敷裝置製造於基材上在所欲區域形成有凹凸圖案之薄膜基材。 又，在本發明之具有凹凸圖案之薄膜構件之製造方法中，藉由將凹凸形成材料間歇地塗敷於薄膜基材上以於薄膜基材之與轉印輥之接縫部對向之部分形成凹凸形成材料之未塗工部，藉此能減低轉印不良及剝離不良等，能有效率地製造薄膜構件。在將所製造之薄膜構件用於製造有機EL元件用基板時，被製造之基板具有良好之光擷取效率。因此，本發明之塗敷裝置及塗敷方法、以及具有凹凸圖案之薄膜構件之製造裝置及製造方法，在用於有機EL元件、太陽電池、燃料電池、蓄電池等電極材片、反射防止膜、觸媒塗敷等之基板製造上極為有效。
11‧‧‧帶狀遮罩
26‧‧‧撥液膜
40、41‧‧‧塗敷輥
42‧‧‧作動輥
44‧‧‧氣刀
46‧‧‧吸引輥
50、50’、50”‧‧‧圖案遮罩
62‧‧‧光學感測器
74‧‧‧按壓輥
80‧‧‧薄膜基材
80a‧‧‧薄膜構件
82‧‧‧塗液供應構件
84‧‧‧塗膜
86‧‧‧塗工部
88‧‧‧未塗工部
90‧‧‧轉印輥
90a‧‧‧基體輥
90b‧‧‧薄板狀模
90c‧‧‧接縫部
100a~d‧‧‧薄膜構件製造裝置
120‧‧‧薄膜搬送部
130‧‧‧張力控制部
140A~D‧‧‧塗敷部
140a~p‧‧‧塗敷裝置
160‧‧‧轉印部
180‧‧‧控制部
圖1係概念地顯示第1實施形態之塗敷裝置之圖。
圖2係概念地顯示第2實施形態之塗敷裝置之圖。
圖3係概念地顯示第3實施形態之塗敷裝置之圖。
圖4係概念地顯示第4實施形態之塗敷裝置之圖。
圖5(a)~(c)係概念地顯示用以形成在基材長度方向不連續之塗膜之第5實施形態之塗敷裝置之圖。
圖6係概念地顯示用以形成在基材長度方向及寬度方向不連續之塗膜之第6實施形態之塗敷裝置之圖。
圖7係概念地顯示用以形成在基材長度方向及寬度方向不連續之塗膜之第7實施形態之塗敷裝置之圖。
圖8係概念地顯示用以形成在基材長度方向及寬度方向不連續之塗膜之第8實施形態之塗敷裝置之圖。
圖9係概念地顯示用以形成在基材長度方向及寬度方向不連續之塗膜之第9實施形態之塗敷裝置之圖。
圖10係概念地顯示用以於基材上形成具有不連續圖案之塗膜之第10實施形態之塗敷裝置之圖。
圖11係概念地顯示用以於基材上形成具有不連續圖案之塗膜之第11實施形態之塗敷裝置之圖。
圖12係概念地顯示用以於基材上形成具有不連續圖案之塗膜之第12 實施形態之塗敷裝置之圖。
圖13係概念地顯示用以於基材上形成具有不連續圖案之塗膜之第13實施形態之塗敷裝置之圖。
圖14係概念地顯示用以於基材上形成具有不連續圖案之塗膜之第14實施形態之塗敷裝置之圖。
圖15係概念地顯示使用第1~第4實施形態之塗敷裝置之第15實施形態之具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造裝置之圖。
圖16係概念地顯示使用第5~第9實施形態之塗敷裝置之第16實施形態之具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造裝置之圖。
圖17係概念地顯示使用第10~第14實施形態之塗敷裝置之第17實施形態之具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造裝置之圖。
圖18係顯示第19實施形態之具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造方法之流程圖。
圖19係概念地顯示第20實施形態之具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造裝置之流程圖。
圖20係顯示第19實施形態之具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造方法中使用之轉印輥之概略剖面圖。
圖21係詳細顯示第20實施形態之具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造裝置之塗敷部之圖。
圖22係詳細顯示第20實施形態之具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造裝置之轉印部之圖。
圖23係概念地顯示第20實施形態之具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造裝置之控制部一例之圖。
圖24係概念地顯示將帶狀薄膜構件之凹凸圖案轉印於基板之樣子一例之圖。
圖25(a)~(c)係概念地顯示在第10實施形態之塗敷裝置中使用之圖案遮罩之圖案例之圖。
以下，參照圖式說明本發明之塗敷裝置、具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造裝置及製造方法、以及使用該薄膜構件製造之具有凹凸圖案之構件之實施形態。
[第1實施形態]
使用圖1說明本發明之塗敷裝置第1實施形態。塗敷裝置140a，如圖1所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以形成塗膜84之塗敷輥40、對塗敷輥40供應塗液(塗膜材料)之作動輥42、位於塗敷輥40上游側且對薄膜基材80上賦予帶狀遮罩(遮罩片)11之帶狀遮罩賦予部270、以及位於塗敷輥40下游側且剝離薄膜基材80上之帶狀遮罩11之帶狀遮罩剝離部290。再者，塗敷裝置140a亦可具備用以將薄膜基材80之張力保持於一定之張力控制部。塗敷裝置140a中，作動輥42、帶狀遮罩賦予部270、以及帶狀遮罩剝離部290發揮無塗敷區域形成機構之功能。帶狀遮罩賦予部270及帶狀遮罩剝離部290尤其發揮搬送方向無塗敷區域形成機構之功能。以下詳細說 明各部之構造。
<薄膜搬送部>
薄膜搬送部120a，如圖1所示，主要具有用以將帶狀之薄膜基材80往搬送方向(圖1之箭頭方向)搬送之搬送輥78。進而，雖未於圖1顯示，但亦可具備送出薄膜基材80之送出輥、設於塗敷輥40下游以捲取薄膜基材80之捲取輥(參照圖15)。能藉由搬送輥78之旋轉驅動及/或送出輥與捲取輥之旋轉驅動將薄膜基材80往搬送方向搬送。
薄膜基材80係為了能夠一邊被搬送一邊進行連續處理而為 帶狀或長條狀之薄膜基材。薄膜基材80例如以如薄膜狀玻璃、矽樹脂、聚乙烯對苯二甲酸酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、環烯烴聚合物(COP)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)、聚氨酯(PI)、聚丙烯酸之類的有機材料形成。薄膜基材可為透明或不透明。為了提高薄膜基材80與形成於其表面之塗膜之密著性，薄膜基材80亦可對表面施加易接著處理。亦可設置氣體隔離層等。薄膜基材80之尺寸雖能適當設定，但可例如將薄膜基材80之寬度設為50~3000mm、將厚度設為1~500μm。
<塗敷輥及塗液供應構件>
塗敷輥40對薄膜基材80塗敷液體而形成塗膜84。使用凹凸輥(gravure roll)作為塗敷輥40。凹凸輥具有於外周面形成有微細凹凸之液體保持區域40a，藉由未圖示之驅動系統繞旋轉軸旋轉。塗液供應構件82包含貯存有塗膜材料之室，於所貯存之塗膜材料浸漬塗敷輥40之一部分。當塗敷輥40旋轉時，於塗敷輥40之液體保持區域40a周方向保持塗膜材料。塗敷輥40 係與薄膜基材80表面(塗膜形成面)對向配置，藉由使塗敷輥40一邊旋轉、一邊使保持於塗敷輥40之液體保持區域40a之塗膜材料接觸於連續搬送之薄膜基材80，以於薄膜基材80上使塗膜材料附著而形成塗膜84。
塗敷輥40及其液體保持區域40a之尺寸能適當設定。從防 止塗膜材料從薄膜基材80左右端部超出而繞入薄膜基材80背面之觀點來看，液體保持區域40a之旋轉軸方向長度較薄膜基材80寬度小為佳。
<作動輥>
作動輥42，係擇一地位移至支撐薄膜基材80背面(與塗膜形成面相反側之面)以使薄膜基材80接觸於塗敷輥40之位置(即圖1中實線所圖示之作動輥42位置，以下適當稱為「接觸位置」)與使薄膜基材80從塗敷輥40分離之位置(即圖1中虛線所圖示之作動輥42位置，以下適當稱為「分離位置」)。 圖1中，以箭頭標記移動於作動輥42之接觸位置與分離位置之移動軌跡。 作動輥42，能使用致動器(未圖示)等用以使前述薄膜基材80相對塗敷輥40移動之機構來變更位置。在作動輥42位於接觸位置時，塗敷輥40所保持之塗膜材料接觸於薄膜基材80，塗膜材料附著於薄膜基材80上而形成塗膜84。另一方面，在作動輥42位於分離位置時，由於薄膜基材80從塗敷輥40所保持之塗膜材料分離，因此塗膜材料不附著於薄膜基材80上，而不形成塗膜。是以，藉由一邊搬送薄膜基材80一邊切換作動輥42之位置，而能形成在薄膜基材80之搬送方向不連續之塗膜84。
如圖1所示，作動輥42並非設於與塗敷輥40對向之位置， 而係設於從塗敷輥40分隔既定距離δ之位置。此配置有如下所述之技術性 意義。圖1中，在作動輥42位於分離位置時，薄膜基材80不接觸於塗敷輥40，薄膜基材80處於在作動輥42與上游側之支撐輥18之間伸張的狀態。 在使作動輥42從分離位置移動至接觸位置時，作動輥42所移動之距離、亦即與作動輥42接觸之薄膜基材80之移動距離d1，較薄膜基材80與塗敷輥40間之距離變化量d2大。作動輥42之移動距離與對應該距離而變化之薄膜基材80與塗敷輥40間之距離之比，大略相當於支撐輥18與作動輥42間之距離與支撐輥18與塗敷輥40間之距離之比。是以，藉由調整相對支撐輥18分離較塗敷輥40長之間隔之作動輥之移動，即能提高塗敷輥40與薄膜基材80之距離調整或薄膜基材80對塗敷輥40之位置對齊精度。再者，藉由在作動輥42往接觸位置移動而薄膜基材80接觸於塗敷輥40後使作動輥42之位置變化，而能高精度地調節將薄膜基材80按壓於塗敷輥40之力。 特別是雖在薄膜基材80接觸於塗敷輥40時在該塗敷輥40之與薄膜基材80接觸之點之切線方向存在作動輥42與薄膜基材80之接點，但藉由從該作動輥之位置以作動輥42之半徑量以上之距離使作動輥42移動至接觸位置側(從分離位置離開之方向)，而能使塗敷輥40對薄膜基材80之塗敷穩定。作動輥42與塗敷輥40之分離距離δ，若為作動輥之直徑以上則為有效，雖亦取決於作動輥42之直徑，但例如能分隔150mm~250mm來配置。
<帶狀遮罩賦予部>
帶狀遮罩(遮罩片)11，係遮蔽於薄膜基材80上之搬送方向連續之區域並與薄膜基材80一起搬送而被連續處理。帶狀遮罩11係帶狀或長條狀構件。作為帶狀遮罩11，能使用例如與薄膜基材80相同材料之薄膜等。又， 亦可使用聚苯硫醚(PPS)、聚乙烯(PE)等排斥塗膜材料之(塗膜材料不會沾濕)材料。或者，亦可藉由氟樹脂、矽等對帶狀遮罩11表面進行撥液處理以使帶狀遮罩11表面(與薄膜基材80接觸之面之相反側之面)排斥塗膜材料。藉由使帶狀遮罩11排斥塗膜材料，能抑制塗膜材料之使用量。帶狀遮罩11背面(與薄膜基材80接觸之面)亦可具有黏著性以在薄膜基材80上固定帶狀遮罩11之位置。帶狀遮罩11之寬度雖能視在形成於薄膜基材80上之塗膜圖案之連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域之寬度或所要求之製品形態等來適當決定，但可較薄膜基材80之寬度小。又，帶狀遮罩11之厚度雖可設為例如5μm~1000μm，但就操作性觀點來看，過薄則越容易破損，過厚則難以使用捲取輥捲取。又，若過厚則塗敷輥40與薄膜基材80無法接觸即難以塗敷。帶狀遮罩11係從帶狀遮罩送出輥13送出，被帶狀遮罩捲取輥15捲取。
帶狀遮罩賦予部270，由帶狀遮罩送出輥13與相對塗敷輥 40位於薄膜基材之搬送方向上游側且彼此對向旋轉之一組輥亦即貼合輥17及支撐輥18構成。帶狀遮罩賦予部270中，藉由將從帶狀遮罩送出輥13送出之帶狀遮罩11疊合於薄膜基材80並夾入貼合輥17與支撐輥18之間，來沿著薄膜基材80之搬送方向對薄膜基材80上賦予帶狀遮罩11。在薄膜基材80之寬度方向之帶狀遮罩11之賦予位置，能視在形成於薄膜基材80上之塗膜圖案之連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域之位置來適當決定，亦可設置能使帶狀遮罩送出輥13移動於與搬送方向正交之方向(薄膜基材80之寬度方向)之機構。
<帶狀遮罩剝離部>
帶狀遮罩剝離部290，由相對塗敷輥40位於薄膜基材之搬送方向下游側且彼此對向旋轉之一組輥亦即剝離輥19及支撐輥20構成。帶狀遮罩剝離部290中，藉由將在剝離輥19與支撐輥20間疊合於薄膜基材80上之狀態下通過之帶狀遮罩11往從薄膜基材80分離之方向搬送，帶狀遮罩11即從薄膜基材80被剝離。被剝離之帶狀遮罩11，能藉由設於脫離薄膜基材80搬送路徑之位置之帶狀遮罩捲取輥15來捲取。
此外，帶狀遮罩11，能藉由貼合輥17及剝離輥19之旋轉 驅動及/或帶狀遮罩送出輥13及帶狀遮罩捲取輥15之旋轉驅動或從動於薄膜基材80之搬送而搬送於搬送方向。
<張力控制部>
又，塗敷裝置140a亦可進一步於薄膜搬送部之任一部位具有將薄膜基材80之張力保持於一定之張力控制部(未圖示)。張力控制部，係發揮將因作動輥42移動至接觸位置或分離位置而產生之架設於塗敷裝置140a之薄膜基材80之張力變動抵銷以將薄膜基材80之張力保持於一定的功能。張力控制部雖能採用各種機構或控制方法，但亦可例如於薄膜基材80之搬送路徑設置調節輥(dancer roll)。又，亦可視薄膜基材80之張力直接控制薄膜送出輥之驅動。此情形下，能將具備張力偵測功能之如輥之張力感測器(未圖示)設置成接觸於薄膜基材80。能將此種張力感測器連接於控制送出輥之驅動之控制裝置、例如旋轉驅動送出輥之馬達之控制系統，將馬達控制成依據以張力感測器偵測之張力值使送出輥之旋轉速度變化。藉此，薄膜基材80 之張力被保持於一定，能消除因作動輥之移動動作產生之薄膜基材之鬆弛或突出。
作為張力控制部中將薄膜基材80之張力保持於一定之其他 機構，亦可於送出輥連接力矩馬達(未圖示)。力矩馬達能配合施加於送出輥之負荷之變化來調整旋轉速度或力矩。因此，只要將力矩馬達之力矩設定於一定，則即使施加於薄膜基材80之張力變化，使送出輥旋轉之旋轉力(力矩)亦可隨時保持於一定。
作為張力控制部中將薄膜基材80之張力保持於一定之其他 機構，亦可於送出輥設置磁粉離合器(未圖示)。磁粉離合器，係於傳遞馬達原動力之驅動軸(輸入軸)與傳遞其原動力之傳達軸(輸出軸)之接合面存在如鐵粉之磁粉，通常係以從設於離合器之電磁石產生之磁場控制磁粉之密度等來進行控制，據以控制原動力之傳達。此情形下，藉由設定成在對送出輥施加既定力矩時磁粉離合器會滑出，而能將送出輥之力矩控制於一定。 或者，設置如前述之張力控制部，而能依據施加於薄膜基材80之張力之值調整磁粉密度，據以透過離合器之滑動控制送出輥之力矩。
其次，說明使用如上述之塗敷裝置140a形成在薄膜基材80 之搬送方向(長度方向)及寬度方向不連續之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出 輥透過搬送輥78往帶狀遮罩賦予部270送出。在帶狀遮罩賦予部270中，以貼合輥17及支撐輥18將從帶狀遮罩送出輥13送出之帶狀遮罩11與薄膜基材80一起夾入，使帶狀遮罩11疊合於薄膜基材80之表面(塗膜形成面) 上之既定位置。
其次，將疊合有帶狀遮罩11之薄膜基材80搬送至與塗敷輥 40對向之位置(塗敷輥40之正面)。在薄膜基材80之應形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，藉由致動器等使作動輥42移動至接觸位置(圖1中以實線所示之位置)。藉由此作動輥42之移動，薄膜基材80及帶狀遮罩11一邊往搬送方向移動一邊與塗敷輥40接觸，藉此於薄膜基材80及帶狀遮罩11上以既定膜厚形成塗膜84。此外，在帶狀遮罩11以排斥塗膜材料之材料形成之情形或於帶狀遮罩11表面施有撥液處理之情形，係不於帶狀遮罩11上形成塗膜。其次，在薄膜基材80中連續於寬度方向不形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，藉由致動器等使作動輥42移動至分離位置(圖1中以虛線所示之位置)。藉由此作動輥42之移動，由於移動於搬送方向之薄膜基材80及帶狀遮罩11從塗敷輥40離開，因此於薄膜基材80及帶狀遮罩11上不形成塗膜，而形成連續於薄膜基材80之寬度方向之無塗敷區域。如上述般藉由以既定週期反覆使作動輥42位置變更之動作，而能於薄膜基材80及帶狀遮罩11上形成在薄膜基材80之搬送方向不連續之塗膜84。
薄膜基材80及帶狀遮罩11，其次被搬送至帶狀遮罩剝離部 290。在疊合有帶狀遮罩11之薄膜基材80通過剝離輥19及支撐輥20間後，將帶狀遮罩11往從薄膜基材80離開之方向搬送，將帶狀遮罩11從薄膜基材80剝離。剝離後之帶狀遮罩11被以帶狀遮罩捲取輥15捲取。由於形成於帶狀遮罩11上之塗膜亦與帶狀遮罩11一起從薄膜基材80剝離，因此薄 膜基材80之與帶狀遮罩11疊合之區域成為未形成有塗膜之無塗敷區域。以此方式形成在薄膜基材80之搬送方向連續之無塗敷區域，而能形成在薄膜基材80之寬度方向不連續之塗膜84。此外，圖1所示之帶狀遮罩11雖具有直線形狀，但帶狀遮罩11亦可係曲線或折線狀等形狀，亦可視帶狀遮罩11之形狀形成連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域。
以上述方式，能使用塗敷裝置140a將在薄膜基材80之搬送 方向及寬度方向不連續之塗膜84形成於薄膜基材80上。薄膜基材80上之塗膜84，具有以在薄膜基材80之搬送方向及寬度方向彼此分離之複數個區塊(凹凸圖案形成區域)區劃之圖案。
此外，圖1中雖使用一條帶狀之帶狀遮罩11，但亦可使用 兩條以上帶狀之帶狀遮罩11。可依據使用之帶狀遮罩之條數形成複數個延伸於薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域。能依據各帶狀遮罩間之距離及帶狀遮罩之寬度等，形成在薄膜基材80之寬度方向具有所欲長度且在薄膜基材80之寬度方向以所欲之距離分離之塗膜84。又，塗敷裝置140a，能依據作動輥42之位移時點等，形成在薄膜基材80之搬送方向具有所欲長度且在薄膜基材80之搬送方向以所欲之距離分離之塗膜84。因此，能使用塗敷裝置140a簡便地形成各種圖案之塗膜。
[第2實施形態]
使用圖2說明本發明之塗敷裝置第2實施形態。塗敷裝置140b，如圖2所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以形成塗膜84之塗敷輥40、對塗 敷輥40供應塗液之塗液供應構件82、使薄膜基材80之搬送路徑位移之作動輥42、以及位於塗敷輥40上游側且對薄膜基材80上塗敷撥液性材料之撥液材料塗敷部310。再者，塗敷裝置140b亦可具備用以將薄膜基材80之張力保持於一定之張力控制部。塗敷裝置140b中，作動輥42及撥液材料塗敷部310發揮無塗敷區域形成機構之功能。撥液材料塗敷部310尤其發揮搬送方向無塗敷區域形成機構之功能。
塗敷裝置140b之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、塗液供應構 件82、作動輥42及張力控制部，由於與第1實施形態之塗敷裝置140a之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、塗液供應構件82、作動輥42及張力控制部相同構成，因此其說明省略。
<撥液材料塗敷部>
撥液材料塗敷部310如圖2所示，具備撥液材料塗敷輥22及撥液材料供應室24。撥液材料塗敷輥22之塗敷面之旋轉軸方向之長度雖能視在形成於薄膜基材80上之連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域之寬度或所要求之製品形態等來適當決定，但可較薄膜基材80之寬度小。於撥液材料供應室24貯存有液體狀之撥液性材料。撥液性材料較佳為例如相對於塗膜其表面能量大幅相異者，若塗膜為親水性材料，則較佳為例如包含氟之撥液性材料。在塗膜為疏水性之材料時，較佳為例如包含氧之親水性材料。 撥液材料塗敷輥22，設置成以塗敷面之一部分浸漬於撥液材料供應室24中之撥液性材料之狀態下旋轉。若使撥液材料塗敷輥22一邊浸漬於撥液性材料一邊旋轉，則於撥液材料塗敷輥22之塗敷面涵蓋周方向有撥液性材料被 保持。撥液材料塗敷輥22，藉由一邊接觸於薄膜基材80之表面(塗膜形成面)一邊旋轉而將撥液性材料塗敷於薄膜基材80，形成撥液膜26。此外，在薄膜基材80之寬度方向之撥液材料塗敷輥22之設置位置，能視形成於薄膜基材80上之連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域之位置來適當設定，亦可設置一機構，該機構能將收容撥液材料塗敷輥22之撥液材料供應室24移動於與搬送方向正交之方向。又，於撥液材料塗敷輥22之後方(下游側)，亦可將使撥液性材料乾燥或硬化之加熱器或熱輥設置於薄膜基材80之背面(與塗膜形成面相反之面)。溫度在50度至250度之間，且可依據薄膜基材80之耐熱性改變溫度設定。亦可取代加熱器或熱輥而設置UV照射機。
其次，說明使用如上述之塗敷裝置140b形成在薄膜基材80 之搬送方向(長度方向)及寬度方向不連續之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出 輥透過搬送輥78往撥液材料塗敷部310送出。在撥液材料塗敷部310中，使撥液材料塗敷輥22一邊旋轉一邊使保持有撥液性材料之塗敷面接觸於薄膜基材80之既定位置。藉此，於薄膜基材80之表面(塗膜形成面)上之既定位置形成連續於薄膜基材80之搬送方向之撥液膜26。
其次，將形成有撥液膜26之薄膜基材80搬送至與塗敷輥 40對向之位置(塗敷輥40之正面)。與本發明之第1實施形態之塗敷裝置140a之動作同樣地，在薄膜基材80之應形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，藉由致動器等使作動輥42移動至接觸位置(圖2中以實線所示之位 置)。藉由此作動輥42之移動，薄膜基材80一邊往搬送方向移動一邊與塗敷輥40接觸。藉此於薄膜基材80上以既定膜厚形成塗膜84。此時，在薄膜基材80上之形成有撥液膜26之區域中，為了排斥塗膜材料而不形成膜。 因此，能依據形成有撥液膜26之區域，形成連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域，且形成在薄膜基材80之寬度方向不連續之塗膜84。又，在薄膜基材80中連續於寬度方向不形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，藉由致動器等使作動輥42移動至分離位置(圖2中以虛線所圖示之位置)。藉由此作動輥42之移動，由於移動於搬送方向之薄膜基材80從塗敷輥40離開，因此於薄膜基材80上不形成塗膜，而形成連續於薄膜基材80之寬度方向之無塗敷區域。如上述般藉由以既定週期反覆使作動輥42位置變更之動作，而能於薄膜基材80上形成在薄膜基材80之搬送方向不連續之塗膜84。
以上述方式，能使用塗敷裝置140b將在薄膜基材80之搬送 方向及寬度方向不連續之塗膜84形成於薄膜基材80上。薄膜基材80上之塗膜84，具有以在薄膜基材80之搬送方向及寬度方向彼此分離之複數個區塊區劃之圖案。
此外，圖2中雖使用具有一個塗敷面之撥液材料塗敷輥22 來形成一條線狀之撥液膜26，但亦可使用具有複數個塗敷面之撥液材料塗敷輥來形成複數條線狀之撥液膜26。能依據所形成之撥液膜26之條數形成複數個延伸於薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域。又，亦可使撥液材料塗敷輥22能移動於旋轉軸方向。藉此，能將延伸於薄膜基材之搬送方向之無 塗敷區域形成於相對薄膜基材之寬度方向之所欲位置。能依據各撥液材料塗敷輥22間之距離、各撥液材料塗敷輥22之寬度及位置等，形成在薄膜基材80之寬度方向具有所欲長度且在薄膜基材80之寬度方向以所欲之距離分離之塗膜84。又，塗敷裝置140b，能依據作動輥42之位移時點等，形成在薄膜基材80之搬送方向具有所欲長度且在薄膜基材80之搬送方向以所欲之距離分離之塗膜84。因此，能使用塗敷裝置140b簡便地形成各種圖案之塗膜。
[第3實施形態]
使用圖3說明本發明之塗敷裝置第3實施形態。塗敷裝置140c，如圖3所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以形成塗膜84之塗敷輥41、對塗敷輥41供應塗液之塗液供應構件82、以及使薄膜基材80之搬送路徑位移之作動輥42。再者，塗敷裝置140c亦可具備用以將薄膜基材80之張力保持於一定之張力控制部。塗敷裝置140c中，作動輥42及塗敷輥41發揮無塗敷區域形成機構之功能。塗敷輥41尤其發揮搬送方向無塗敷區域形成機構之功能。
塗敷裝置140c之薄膜搬送部120a、塗液供應構件82、作動 輥42及張力控制部，與第1實施形態之塗敷裝置140a之薄膜搬送部120a、塗液供應構件82、作動輥42及張力控制部相同構成。
<塗敷輥>
塗敷輥41對薄膜基材80塗敷液體而形成塗膜84。使用具有於外周面 形成有微細凹凸之兩個以上之液體保持區域41a之凹凸輥作為塗敷輥41。兩個以上之液體保持區域41a分別係在塗敷輥41之周方向連續之區域。於塗敷輥41之液體保持區域41a保持有從塗液供應構件82供應之塗膜材料。在塗敷輥41之旋轉軸方向被各個液體保持區域41a所夾之區域41b，被進行了用以不保持塗膜材料之處理(以下將此種區域41b適當稱為液體非保持區域41b)。此種處理，例如能藉由使區域41b成為無凹凸之平坦面、對區域41b表面進行撥液加工、使區域41b相對液體保持區域41a凹陷而形成凹部等來進行。塗敷輥41與薄膜基材80之表面(塗膜形成面)對向配置，藉由使塗敷輥41一邊旋轉、一邊使保持於液體保持區域41a之塗膜材料接觸於連續搬送之薄膜基材80，以於薄膜基材80上使塗膜材料附著而形成塗膜84。
塗敷輥41及液體保持區域41a之旋轉軸方向之長度及位置，能依據形成於薄膜基材80上之塗膜84之在薄膜基材80之寬度方向之長度及位置來適當設定。
其次，說明使用如上述之塗敷裝置140c形成在薄膜基材80之搬送方向(長度方向)及寬度方向不連續之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出輥透過搬送輥78往與塗敷輥41對向之位置(塗敷輥41之正面)搬送。與本發明之第1實施形態之塗敷裝置140a之動作同樣地，在薄膜基材80之應形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥41正面時，藉由致動器等使作動輥42移動至接觸位置(圖3中以實線所示之位置)。藉由此作動輥42之移動，薄膜基材80一邊往搬送方向移動一邊與塗敷輥41接觸。由於在塗敷輥41之液 體保持區域41a保持有塗膜材料，因此在薄膜基材80上之與液體保持區域41a對向之區域以既定膜厚形成塗膜84。另一方面，由於在塗敷輥41之液體非保持區域41b未保持有塗膜材料，因此在薄膜基材80上之與液體非保持區域41a對向之區域不形成塗膜84。藉此，能形成連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域，且形成在薄膜基材80之寬度方向不連續之塗膜84。又，在薄膜基材80中連續於寬度方向不形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥41正面時，藉由致動器等使作動輥42移動至分離位置(圖3中以虛線所圖示之位置)。藉由此作動輥42之移動，由於移動於搬送方向之薄膜基材80從塗敷輥41離開，因此於薄膜基材80上不形成塗膜，而形成連續於薄膜基材80之寬度方向之無塗敷區域。如上述般藉由以既定週期反覆使作動輥42位置變更之動作，而能於薄膜基材80上形成在薄膜基材80之搬送方向不連續之塗膜84。
以上述方式，能使用塗敷裝置140c將在薄膜基材80之搬送 方向及寬度方向不連續之塗膜84形成於薄膜基材80上。薄膜基材80上之塗膜84，具有以在薄膜基材80之搬送方向及寬度方向彼此分離之複數個區塊區劃之圖案。
此外，圖3中雖使用具有兩個液體保持區域41a及一個液體 非保持區域41b之塗敷輥41，但亦可使用具有三個以上之液體保持區域41a及兩個以上之液體非保持區域41b之塗敷輥。能依據液體非保持區域之數目形成複數個延伸於薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域。能依據各液體保持區域41a及各液體非保持區域41b之寬度及位置等，形成在薄膜基材80 之寬度方向具有所欲長度且在薄膜基材80之寬度方向以所欲之距離分離之塗膜84。又，塗敷裝置140c，能依據作動輥42之位移時點等，形成在薄膜基材80之搬送方向具有所欲長度且在薄膜基材80之搬送方向以所欲之距離分離之塗膜84。因此，能使用塗敷裝置140c簡便地形成各種圖案之塗膜。
[第4實施形態]
使用圖4說明本發明之塗敷裝置第4實施形態。塗敷裝置140d，如圖4所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以形成塗膜84之塗敷輥40、包含對塗敷輥40供應塗液之兩個以上之塗液供應室82a之塗液供應構件82’、以及使薄膜基材80之搬送路徑位移之作動輥42。再者，塗敷裝置140d亦可具備用以將薄膜基材80之張力保持於一定之張力控制部。塗敷裝置140d中，作動輥42及塗液供應構件82’發揮無塗敷區域形成機構之功能。塗液供應構件82’尤其發揮搬送方向無塗敷區域形成機構之功能。
塗敷裝置140d之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、作動輥42及張力控制部，與第1實施形態之塗敷裝置140a之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、作動輥42及張力控制部相同構成。
<塗液供應構件>
塗液供應構件82’包含貯存有塗膜材料之兩個以上之塗液供應室82a，於所貯存之塗膜材料浸漬塗敷輥40之一部分。當塗敷輥40旋轉時，於塗敷輥40之液體保持區域40a中浸漬於塗膜材料之區域保持塗膜材料，於塗敷輥40中不浸漬於塗膜材料之區域不保持塗膜材料。在薄膜基材80 之寬度方向之塗液供應室82a之大小及設置位置，能依據形成於薄膜基材80上之塗膜84之在薄膜基材80之寬度方向之長度及位置來適當設定。
其次，說明使用如上述之塗敷裝置140d形成在薄膜基材80之搬送方向(長度方向)及寬度方向不連續之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出輥透過搬送輥78往與塗敷輥40對向之位置(塗敷輥40之正面)搬送。與本發明之第1實施形態之塗敷裝置140a之動作同樣地，在薄膜基材80之應形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，藉由致動器等使作動輥42移動至接觸位置(圖4中以實線所示之位置)。藉由此作動輥42之移動，薄膜基材80一邊往搬送方向移動一邊與塗敷輥40接觸。在塗敷輥40之液體保持區域41a形成有保持有藉由兩個以上之塗液供應室82a供應之塗膜材料之區域與未被供應塗膜材料而未保持有塗膜材料之區域。在與塗敷輥40之保持有塗膜材料之區域對向之薄膜基材80之區域附著塗膜材料，以既定膜厚形成塗膜84。另一方面，在與塗敷輥40之未保持有塗膜材料之區域對向之薄膜基材80之區域不形成塗膜84。藉此，能形成連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域，且形成在薄膜基材80之寬度方向不連續之塗膜84。又，在薄膜基材80中連續於寬度方向不形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，藉由致動器等使作動輥42移動至分離位置(圖4中以虛線所圖示之位置)。藉由此作動輥42之移動，由於移動於搬送方向之薄膜基材80從塗敷輥40離開，因此於薄膜基材80上不形成塗膜，而形成連續於薄膜基材80之寬度方向之無塗敷區域。如上述般藉由以既定週期反覆使作動輥42 位置變更之動作，而能於薄膜基材80上形成在薄膜基材80之搬送方向不連續之塗膜84。
以上述方式，能使用塗敷裝置140d將在薄膜基材80之搬送 方向及寬度方向不連續之塗膜84形成於薄膜基材80上。薄膜基材80上之塗膜84，具有以在薄膜基材80之搬送方向及寬度方向彼此分離之複數個區塊區劃之圖案。
此外，圖4中雖使用兩個塗液供應室824，但亦可使用三個 以上之塗液供應室。能依據塗液供應室之數目形成複數個於塗敷輥40之液體保持區域40a上保持有塗膜材料之區域，並於各個保持有塗膜材料之區域之間形成未保持有塗膜材料之區域。能依據塗敷輥40之液體保持區域40a上未保持有塗膜材料之區域之數目形成複數個延伸於薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域。亦可取代對一支塗敷輥設置複數個塗液供應室之方式，使用於各個各設置有一個塗液供應室之複數支塗敷輥。此情形下，係於薄膜基材80之搬送方向不同之位置配置各塗敷輥，並於薄膜基材80之寬度方向彼此分離之位置配置各塗敷輥之塗液供應室。又，亦可設置能將塗液供應室各別獨立移動於軸方向之機構。能依據各塗液供應室間之距離、各室之寬度及位置等，形成在薄膜基材80之寬度方向具有所欲長度且在薄膜基材80之寬度方向以所欲之距離分離之塗膜84。又，塗敷裝置140d，能依據作動輥42之位移時點等，形成在薄膜基材80之搬送方向具有所欲長度且在薄膜基材80之搬送方向以所欲之距離分離之塗膜84。因此，能使用塗敷裝置140d簡便地形成各種圖案之塗膜。
[第5實施形態]
第5實施形態係說明用以形成在基材之長度方向(搬送方向)不連續之塗膜之塗敷裝置140e。塗敷裝置140e，如圖5(a)所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以形成塗膜84之塗敷輥40、對塗敷輥40供應塗液(塗膜材料)之塗液供應構件82、以及在薄膜基材80之搬送方向中相對塗敷輥40位於上游側而對薄膜基材80表面(形成塗膜84之面)噴吹氣體以使薄膜基材80之搬送路徑位移之氣刀44。塗敷裝置140e中，氣刀44發揮無塗敷區域形成機構之功能。以下說明各部之詳細構造。
塗敷裝置140e之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、以及塗液供 應構件82，由於與第1實施形態之塗敷裝置140a之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、以及塗液供應構件82相同構成，因此其說明省略。
<氣刀>
氣刀44，在薄膜基材80之搬送方向中相對塗敷輥40位於上游側，延伸於與薄膜基材80之搬送方向正交之方向(寬度方向)。氣刀44沿著其延伸方向(氣刀44之長度方向)形成有吹出高壓氣體之狹縫。氣刀44，藉由對薄膜基材80之表面(塗膜形成面)噴吹高壓氣體，藉由其風壓使薄膜基材80之搬送路徑從薄膜基材80接觸於塗敷輥40之路徑(係圖5(a)中以實線圖示之路徑，以下適當稱為「接觸路徑」)移動至薄膜基材80從塗敷輥40分離之路徑(係圖5(a)中以虛線圖示之路徑，以下適當稱為「分離路徑」)，能使薄膜基材80與塗敷輥40成為非接觸。
在氣刀44未吹出氣體時，薄膜基材80之搬送路徑係依循接 觸路徑。此情形下，保持於塗敷輥40之塗膜材料接觸薄膜基材80，塗膜材料附著於薄膜基材80上而形成塗膜84。另一方面，氣刀44吹出氣體時，薄膜基材80之搬送路徑係依循分離路徑。此情形下，由於薄膜基材80從保持於塗敷輥40之塗膜材料分離(成為非接觸)，因此塗膜材料不附著於薄膜基材80上，不形成塗膜84。是以，藉由一邊搬送薄膜基材80一邊切換來自氣刀44之氣體吹出之開關，而能形成在薄膜基材80之搬送方向不連續之塗膜84。塗敷裝置140e亦可進一步具備用以控制來自氣刀44之氣體吹出之開關之切換的控制裝置。
在薄膜基材80之搬送路徑為分離路徑之狀態之薄膜基材80 與塗敷輥40間之距離，較佳為5~50mm之範圍內。此距離能藉由氣刀44之狹縫寬度及噴出氣體壓、薄膜基材80之接觸路徑與氣刀44間之距離、氣刀44與塗敷輥40間之距離、薄膜基材80之張力等來調整。
作為從氣刀44吹出之氣體，例如能使用藉由通過各種過濾 器等而除去水滴或粉塵後之空氣(潔淨乾燥氣體)或氮等鈍氣。就作業環境之觀點來看，較佳為潔淨乾燥氣體等之空氣。
其次，說明使用如上述之第5實施形態之塗敷裝置140e形 成在薄膜基材80之搬送方向(長度方向)不連續之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出 輥透過搬送輥78往與塗敷輥40對向之位置(塗敷輥40之正面)搬送。在薄膜基材80中連續於寬度方向不形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面 時，從氣刀44吹出氣體以使薄膜基材80之搬送路徑成為分離路徑。藉此，形成連續於薄膜基材80之寬度方向之無塗敷區域。其次，在薄膜基材80之應形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，即停止來自氣刀44之氣體吹出，以使薄膜基材80之搬送路徑成為接觸路徑。藉此，薄膜基材80一邊往搬送方向移動一邊與塗敷輥40接觸，於薄膜基材80上以既定膜厚形成塗膜84。藉由如上述般反覆來自氣刀44之氣體吹出之開始及停止，而能於薄膜基材80上形成在薄膜基材80之搬送方向不連續之塗膜84。
以上述方式，能使用塗敷裝置140e將在薄膜基材80之搬送 方向不連續之塗膜84形成於薄膜基材80上。薄膜基材80上之塗膜84，在薄膜基材80之搬送方向彼此分離。塗敷裝置140e能藉由改變來自氣刀44之氣體吹出之開始及停止時點，簡便地形成在薄膜基材80之搬送方向具有所欲長度且在薄膜基材80之搬送方向以所欲之距離分離之塗膜84。塗敷裝置140e由於係使用氣刀使薄膜基材相對塗敷輥移動，因此不需要用以將薄膜基材之張力保持於一定之複雜裝置構成，能以簡單之裝置構成形成不連續之塗膜。
如圖5(b)所示，塗敷裝置140e亦可進一步具備吸引輥46。 此種塗敷裝置140e’中，吸引輥46係與氣刀44對向地設於薄膜基材80之背面(塗膜形成面之相反側之面)側。吸引輥46藉由被氣刀44噴出之氣體以吸引移動於分離路徑上之薄膜基材80，能將薄膜基材80保持於分離路徑上。
吸引輥46，係在輥外周面從其外側往內側使吸引力產生之輥。再者，吸引輥46亦可能在輥外周面從其內側往外側排氣。吸引輥通常 具備鼓風機(具備吸入口與吐出口)，因此能藉由替換該吸入口與吐出口來排氣。吸引輥46例如具有圓筒狀之輥本體，於輥本體外周面設有貫通輥本體周壁之多數個貫通孔。亦可藉由將吸引輥46外周面之材質設為陶瓷等多孔質體來設置貫通孔。亦可藉由使用穿孔金屬等來將吸引輥46之外周面設為篩網狀來形成貫通孔。貫通孔之形狀能設為圓形、橢圓形、菱形、狹縫狀等。吸引輥46能透過貫通孔將輥外側之氣體或物體往輥內側吸引，或將輥內側之氣體往輥外側排出。吸引輥46之吸引及排氣之開關切換，如後所述般，可與氣刀44之吹出開關切換同步進行。塗敷裝置140e’，亦可具備將氣刀44與吸引輥46控制成同步動作之控制裝置。
以下說明使用塗敷裝置140e’形成在薄膜基材80之搬送方 向(長度方向)不連續之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出 輥透過搬送輥78往與塗敷輥40對向之位置(塗敷輥40之正面)搬送。在薄膜基材80中連續於寬度方向不形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，從氣刀44吹出氣體，進而在吸引輥46之外周面從其外側往內側使吸引力產生以吸引薄膜基材80而加以保持，藉此使薄膜基材80之搬送路徑成為接觸路徑。藉此，形成連續於薄膜基材之寬度方向之無塗敷區域。此外，在薄膜基材80被吸引輥46之吸引力保持之期間，亦可停止來自氣刀44之氣體吹出。其次，在薄膜基材80之應形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，停止來自氣刀44之氣體吹出，進而藉由在吸引輥46之外周面從其內側往外側排出氣體，藉此將薄膜基材80之搬送路徑變更為接觸路 徑。藉此，薄膜基材80一邊往搬送方向移動一邊與塗敷輥40接觸，以於薄膜基材80上以既定膜厚形成塗膜84。此外，在薄膜基材80之搬送路徑為接觸路徑之期間，吸引輥46亦可透過貫通孔吸引氣體，或亦可排出，亦可不吸引及排出。例如，藉由從吸引輥46排出氣體，氣體能賦予將薄膜基材80彈壓於塗敷輥40之力，亦能促進對薄膜基材80之塗膜之確實地形成。 如上所述，藉由一邊搬送薄膜基材80，一邊反覆來自氣刀44之氣體之吹出之開始及停止、以及吸引輥46之吸引及排出，而能於薄膜基材80上形成在薄膜基材80之搬送方向不連續之塗膜84。
使用吸引輥46 之塗敷裝置140e’，只要僅在使薄膜基材 80之搬送路徑從接觸路徑變化成分離路徑時從氣刀46吹出氣體即可，在吸引輥46保持薄膜基材80之期間能停止來自氣刀44之氣體吹出。因此，在薄膜基材80之搬送路徑位於分離位置之期間，能藉由從氣刀44吹出之氣體流動防止薄膜基材80起伏。
此外，圖5(b)中雖係使用一個吸引輥，但亦可使用複數 個吸引輥來吸引保持薄膜基材80。
如圖5(c)所示，塗敷裝置除了吸引輥46以外，亦可進一 步具備氣刀48。此種塗敷裝置140e”中，氣刀48係接近吸引輥46而設置成往薄膜基材80之背面吹出氣體。上述塗敷裝置140e’中，雖係藉由從吸引輥46內側往外側排出氣體以將薄膜基材80之搬送路徑變更為接觸路徑，但在塗敷裝置140e”中亦可取代此方式，吸引輥46停止吸引，且氣刀48往薄膜基材80之背面吹出氣體，據以將薄膜基材80之搬送路徑變更為接觸 路徑。因此，在塗敷裝置140e”中使用之吸引輥46，亦可不能在輥外周面從其內側往外側排出氣體。
[第6實施形態]
第6實施形態係說明用以形成在基材之長度方向(搬送方向)及寬度方向不連續之塗膜之塗敷裝置140f。塗敷裝置140f如圖6所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以形成塗膜84之塗敷輥40、對塗敷輥40供應塗液(塗膜材料)之塗液供應構件82、在薄膜基材80之搬送方向中位於塗敷輥40之上游側而對薄膜基材80表面(形成塗膜84之面)噴吹氣體以使薄膜基材80之搬送路徑移動之氣刀44、在薄膜基材80之搬送方向中位於氣刀44之上游側且對薄膜基材80上賦予帶狀遮罩(遮罩片)11之帶狀遮罩賦予部270、以及在薄膜基材80之搬送方向中位於塗敷輥40下游側且剝離薄膜基材80上之帶狀遮罩11之帶狀遮罩剝離部290。塗敷裝置140f中，氣刀44、帶狀遮罩賦予部270及帶狀遮罩剝離部290發揮無塗敷區域形成機構之功能。帶狀遮罩賦予部270及帶狀遮罩剝離部290尤其發揮搬送方向無塗敷區域形成機構之功能。
塗敷裝置140f之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、塗液供應構 件82及氣刀44，由於與第5實施形態之塗敷裝置140e之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、塗液供應構件82及氣刀44相同之構成，因此其說明省略。又，塗敷裝置140f之帶狀遮罩賦予部270及帶狀遮罩剝離部290，係與第1實施形態之塗敷裝置140a之帶狀遮罩賦予部270及帶狀遮罩剝離部290相同構 成。此外，圖6所示之塗敷裝置140f之帶狀遮罩賦予部270，具備帶狀遮罩送出輥13與相對塗敷輥40位於薄膜基材之搬送方向上游側之貼合輥17。 帶狀遮罩賦予部270中，藉由將從帶狀遮罩送出輥13送出之帶狀遮罩11夾入薄膜基材80與貼合輥17之間，來沿著薄膜基材80之搬送方向對薄膜基材80上賦予帶狀遮罩11。在薄膜基材80之寬度方向之帶狀遮罩11之賦予位置，能視在形成於薄膜基材80上之連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域之位置來適當設定。
其次，說明使用如上述之塗敷裝置140f形成在薄膜基材80 之搬送方向(長度方向)及寬度方向不連續之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出 輥透過搬送輥78往帶狀遮罩賦予部270送出。在帶狀遮罩賦予部270中，藉由將從帶狀遮罩送出輥13送出之帶狀遮罩11夾入搬送來之薄膜基材80與貼合輥17之間，使帶狀遮罩11疊合於薄膜基材80之表面(塗膜形成面)上之既定位置。
其次，將疊合有帶狀遮罩11之薄膜基材80搬送至與塗敷輥 40對向之位置(塗敷輥40之正面)。在薄膜基材80中連續於寬度方向不形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，從氣刀44吹出氣體，使薄膜基材80及帶狀遮罩11從塗敷輥40分離、亦即使薄膜基材80之搬送路徑成為分離路徑。藉此，於薄膜基材80及帶狀遮罩11上形成連續於薄膜基材之寬度方向之無塗敷區域。其次，在薄膜基材80之應形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，停止來自氣刀44之氣體吹出，使薄膜基材80及帶狀 遮罩11與塗敷輥40接觸、亦即使薄膜基材80之搬送路徑成為接觸路徑。 藉此，薄膜基材80及帶狀遮罩11一邊往搬送方向移動一邊與塗敷輥40接觸，於薄膜基材80及帶狀遮罩11上以既定膜厚形成塗膜84。此外，在帶狀遮罩11以排斥塗膜材料之材料形成之情形或於帶狀遮罩11表面施有撥液處理之情形，係不於帶狀遮罩11上形成塗膜。藉由如上述般反覆來自氣刀44之氣體吹出之開始及停止，而能於薄膜基材80及帶狀遮罩11上形成在薄膜基材80之搬送方向不連續之塗膜84。
薄膜基材80及帶狀遮罩11，其次被搬送至帶狀遮罩剝離部 290。在疊合有帶狀遮罩11之薄膜基材80通過剝離輥19及支撐輥20間後，將帶狀遮罩11往從薄膜基材80離開之方向搬送，將帶狀遮罩11從薄膜基材80剝離。剝離後之帶狀遮罩11被以帶狀遮罩捲取輥15捲取。由於形成於帶狀遮罩11上之塗膜亦與帶狀遮罩11一起從薄膜基材80剝離，因此薄膜基材80之與帶狀遮罩11疊合之區域成為未形成有塗膜之無塗敷區域。以此方式形成在薄膜基材80之搬送方向連續之無塗敷區域，而能形成在薄膜基材80之寬度方向不連續之塗膜84。此外，圖6所示之帶狀遮罩11雖具有直線形狀，但帶狀遮罩11亦可係曲線或折線狀等形狀，亦可視帶狀遮罩11之形狀形成連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域。
以上述方式，能使用塗敷裝置140f將在薄膜基材80之搬送 方向及寬度方向不連續之塗膜84形成於薄膜基材80上。薄膜基材80上之塗膜84，具有以在薄膜基材80之搬送方向及寬度方向彼此分離之複數個區塊(凹凸圖案形成區域)區劃之圖案。此外，分離之複數個區域，稱為複數個 孤立之區域，該區域之形狀可設為矩形、圓形、多角形等任意形狀。
此外，圖6中雖使用一條帶狀之帶狀遮罩11，但亦可與第1 實施形態之塗敷裝置140a同樣地使用兩條以上帶狀之帶狀遮罩。可依據使用之帶狀遮罩之條數形成複數個延伸於薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域。能依據各帶狀遮罩間之距離及帶狀遮罩之寬度等，形成在薄膜基材80之寬度方向具有所欲長度且在薄膜基材80之寬度方向以所欲之距離分離之塗膜84。又，塗敷裝置140f，能依據氣刀44之氣體吹出之開始及停止時點，形成在薄膜基材80之搬送方向具有所欲長度且在薄膜基材80之搬送方向以所欲之距離分離之塗膜84。因此，能使用塗敷裝置140f簡便地形成各種圖案之塗膜。
[第7實施形態]
第7實施形態係說明用以形成在基材之長度方向(搬送方向)及寬度方向不連續之塗膜之塗敷裝置140g。塗敷裝置140g如圖7所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以形成塗膜84之塗敷輥40、對塗敷輥40供應塗液(塗膜材料)之塗液供應構件82、在薄膜基材80之搬送方向中相對塗敷輥40位於上游側而對薄膜基材80表面(形成塗膜84之面)噴吹氣體以使薄膜基材80之搬送路徑位移之氣刀44、以及在薄膜基材80之搬送方向中位於氣刀44之上游側且對薄膜基材80上塗敷撥液性材料之撥液材料塗敷部310。塗敷裝置140g中，氣刀44及撥液材料塗敷部310發揮無塗敷區域形成機構之功能。撥液材料塗敷部310尤其發揮搬送方向無塗敷區域形成機構之功能。
塗敷裝置140g之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、塗液供應構 件82及氣刀44，由於與第5實施形態之塗敷裝置140e之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、塗液供應構件82及氣刀44相同之構成，因此其說明省略。又，塗敷裝置140f之撥液材料塗敷部310，係與第2實施形態之塗敷裝置140b之撥液材料塗敷部310相同構成，因此其說明亦省略。
說明使用如上述之塗敷裝置140g形成在薄膜基材80之搬送 方向(長度方向)及寬度方向不連續之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出 輥透過搬送輥78往撥液材料塗敷部310送出。在撥液材料塗敷部310中，使撥液材料塗敷輥22一邊旋轉一邊使保持有撥液性材料之塗敷面接觸於薄膜基材80之既定位置。藉此，於薄膜基材80之表面(塗膜形成面)上之既定位置形成連續於薄膜基材80之搬送方向之撥液膜26。
其次，將形成有撥液膜26之薄膜基材80搬送至與塗敷輥 40對向之位置(塗敷輥40之正面)。與本發明之第6實施形態之塗敷裝置140f之動作同樣地，在薄膜基材80中連續於寬度方向不形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，從氣刀44吹出氣體，使薄膜基材80從塗敷輥40分離、亦即使薄膜基材80之搬送路徑成為分離路徑。藉此，形成連續於薄膜基材之寬度方向之無塗敷區域。其次，在薄膜基材80之應形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，停止來自氣刀44之氣體吹出，使薄膜基材80與塗敷輥40接觸、亦即使薄膜基材80之搬送路徑成為接觸路徑。藉此，薄膜基材80一邊往搬送方向移動一邊與塗敷輥40接觸，於薄膜基材 80上以既定膜厚形成塗膜84。此時，在薄膜基材80上之形成有撥液膜26之區域中，為了排斥塗膜材料而不形成膜。因此，能依據形成有撥液膜26之區域，形成連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域，且形成在薄膜基材80之寬度方向不連續之塗膜84。藉由如上述般反覆來自氣刀44之氣體吹出之開始及停止，而能於薄膜基材80上形成在薄膜基材80之搬送方向不連續之塗膜84。
以上述方式，能使用塗敷裝置140g將在薄膜基材80之搬送 方向及寬度方向不連續之塗膜84形成於薄膜基材80上。薄膜基材80上之塗膜84，具有以在薄膜基材80之搬送方向及寬度方向彼此分離之複數個區塊區劃之圖案。
此外，圖7中雖使用具有一個塗敷面之撥液材料塗敷輥22 來形成一條線狀之撥液膜26，但亦可與第2實施形態之塗敷裝置140b同樣地使用具有複數個塗敷面之撥液材料塗敷輥來形成複數條線狀之撥液膜26。能依據所形成之撥液膜26之條數形成複數個延伸於薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域。又，亦可使撥液材料塗敷輥22能移動於旋轉軸方向。藉此，能將延伸於薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域形成於相對薄膜基材之寬度方向之所欲位置。能依據各撥液材料塗敷輥22間之距離、各撥液材料塗敷輥22之寬度及位置等，形成在薄膜基材80之寬度方向具有所欲長度且在薄膜基材80之寬度方向以所欲之距離分離之塗膜84。又，塗敷裝置140g，能依據氣刀44之氣體吹出之開始及停止時點，形成在薄膜基材80之搬送方向具有所欲長度且在薄膜基材80之搬送方向以所欲之距離分離之塗膜84。 因此，能使用塗敷裝置140g簡便地形成各種圖案之塗膜。
[第8實施形態]
第8實施形態係說明用以形成在基材之長度方向(搬送方向)及寬度方向不連續之塗膜之塗敷裝置140h。塗敷裝置140h如圖8所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以形成塗膜84之塗敷輥41、對塗敷輥41供應塗液之塗液供應構件82、以及在薄膜基材80之搬送方向中相對塗敷輥41位於上游側而對薄膜基材80表面(形成塗膜84之面)噴吹氣體以使薄膜基材80之搬送路徑位移之氣刀44。塗敷裝置140h中，作動輥42及塗敷輥41發揮無塗敷區域形成機構之功能。塗敷輥41尤其發揮搬送方向無塗敷區域形成機構之功能。
塗敷裝置140h之薄膜搬送部120a、塗液供應構件82及氣刀 44，由於與第5實施形態之塗敷裝置140e之薄膜搬送部120a、塗液供應構件82及氣刀44相同之構成，因此其說明省略。又，塗敷裝置140h之塗敷輥41，係與第3實施形態之塗敷裝置140c之塗敷輥41相同構成，因此其說明亦省略。
其次，說明使用如上述之塗敷裝置140h形成在薄膜基材80 之搬送方向(長度方向)及寬度方向不連續之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出 輥透過搬送輥78往與塗敷輥41對向之位置(塗敷輥41之正面)搬送。與本發明之第6實施形態之塗敷裝置140f之動作同樣地，在薄膜基材80中連續 於寬度方向不形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥41正面時，從氣刀44吹出氣體，使薄膜基材80從塗敷輥41分離、亦即使薄膜基材80之搬送路徑成為分離路徑。藉此，形成連續於薄膜基材之寬度方向之無塗敷區域。其次，在薄膜基材80之應形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥41正面時，停止來自氣刀44之氣體吹出，使薄膜基材80與塗敷輥41接觸、亦即使薄膜基材80之搬送路徑成為接觸路徑。由於在塗敷輥41之液體保持區域41a保持有塗膜材料，因此在薄膜基材80上之與液體保持區域41a對向之區域以既定膜厚形成塗膜84。另一方面，由於在塗敷輥41之液體非保持區域41b未保持有塗膜材料，因此在薄膜基材80上之與液體非保持區域41a對向之區域不形成塗膜84。藉此，能形成連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域，且形成在薄膜基材80之寬度方向不連續之塗膜84。藉由如上述般反覆來自氣刀44之氣體吹出之開始及停止，而能於薄膜基材80上形成在薄膜基材80之搬送方向不連續之塗膜84。
以上述方式，能使用塗敷裝置140h將在薄膜基材80之搬送 方向及寬度方向不連續之塗膜84形成於薄膜基材80上。薄膜基材80上之塗膜84，具有以在薄膜基材80之搬送方向及寬度方向彼此分離之複數個區塊區劃之圖案。
此外，圖8中雖使用具有兩個液體保持區域41a及一個液體 非保持區域41b之塗敷輥41，但亦可與第3實施形態同樣地使用具有三個以上之液體保持區域及兩個以上之液體非保持區域之塗敷輥。能依據液體非保持區域之數目形成複數個延伸於薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域。 能依據各液體保持區域41a及各液體非保持區域41b之寬度及位置等，形成在薄膜基材80之寬度方向具有所欲長度且在薄膜基材80之寬度方向以所欲之距離分離之塗膜84。又，塗敷裝置140h，能依據氣刀44之氣體吹出之開始及停止時點，形成在薄膜基材80之搬送方向具有所欲長度且在薄膜基材80之搬送方向以所欲之距離分離之塗膜84。因此，能使用塗敷裝置140h簡便地形成各種圖案之塗膜。
[第9實施形態]
第9實施形態係說明用以形成在基材之長度方向(搬送方向)及寬度方向不連續之塗膜之塗敷裝置140i。塗敷裝置140i如圖9所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以形成塗膜84之塗敷輥40、對塗敷輥40供應塗液之塗液供應構件82’、以及在薄膜基材80之搬送方向中相對塗敷輥40位於上游側而對薄膜基材80表面(形成塗膜84之面)噴吹氣體以使薄膜基材80之搬送路徑位移之氣刀44。塗敷裝置140i中，氣刀44及塗液供應構件82’發揮無塗敷區域形成機構之功能。塗液供應構件82’尤其發揮搬送方向無塗敷區域形成機構之功能。
第9實施形態之塗敷裝置140i之薄膜搬送部120a、塗敷輥 40及氣刀44，由於與第5實施形態之塗敷裝置140e之薄膜搬送部120a、塗敷輥40及氣刀44相同之構成，因此其說明省略。又，塗敷裝置140i之塗液供應構件82’，係與第4實施形態之塗敷裝置140d之塗液供應構件82’相同構成，因此其說明亦省略。
其次，說明使用如上述之塗敷裝置140i形成在薄膜基材80 之搬送方向(長度方向)及寬度方向不連續之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出 輥透過搬送輥78往與塗敷輥40對向之位置(塗敷輥40之正面)搬送。與本發明之第6實施形態之塗敷裝置140f之動作同樣地，在薄膜基材80中連續於寬度方向不形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，從氣刀44吹出氣體，使薄膜基材80從塗敷輥40分離、亦即使薄膜基材80之搬送路徑成為分離路徑。藉此，形成連續於薄膜基材之寬度方向之無塗敷區域。其次，在薄膜基材80之應形成塗膜84之部分被搬送至塗敷輥40正面時，停止來自氣刀44之氣體吹出，使薄膜基材80與塗敷輥40接觸、亦即使薄膜基材80之搬送路徑成為接觸路徑。在塗敷輥40之液體保持區域40a形成有保持有藉由兩個以上之塗液供應室82a供應之塗膜材料之區域與未被供應塗膜材料而未保持有塗膜材料之區域。在與塗敷輥40之保持有塗膜材料之區域對向之薄膜基材80之區域附著塗膜材料，以既定膜厚形成塗膜84。另一方面，在與塗敷輥40之未保持有塗膜材料之區域對向之薄膜基材80之區域不形成塗膜84。藉此，能形成連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域，且形成在薄膜基材80之寬度方向不連續之塗膜84。藉由如上述般反覆來自氣刀44之氣體吹出之開始及停止，而能於薄膜基材80上形成在薄膜基材80之搬送方向不連續之塗膜84。
以上述方式，能使用塗敷裝置140i將在薄膜基材80之搬送 方向及寬度方向不連續之塗膜84形成於薄膜基材80上。薄膜基材80上之 塗膜84，具有以在薄膜基材80之搬送方向及寬度方向彼此分離之複數個區塊區劃之圖案。
此外，圖9中雖使用兩個塗液供應室82a，但亦可與第4實 施形態之塗敷裝置140d同樣地使用三個以上之塗液供應室。能依據塗液供應室之數目形成複數個於塗敷輥40之液體保持區域40a上保持有塗膜材料之區域，並於各個保持有塗膜材料之區域之間形成未保持有塗膜材料之區域。能依據塗敷輥40之液體保持區域40a上未保持有塗膜材料之區域之數目形成複數個延伸於薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域。亦可取代對一支塗敷輥設置複數個塗液供應室之方式，使用於各個各設置有一個塗液供應室之複數支塗敷輥。此情形下，係於薄膜基材80之搬送方向不同之位置配置各塗敷輥，並於薄膜基材80之寬度方向彼此分離之位置配置各塗敷輥之塗液供應室。又，亦可使塗液供應室能各別獨立移動於軸方向。能依據各塗液供應室間之距離、各室之寬度及位置等，形成在薄膜基材80之寬度方向具有所欲長度且在薄膜基材80之寬度方向以所欲之距離分離之塗膜84。 又，塗敷裝置140i，能依據氣刀44之氣體吹出之開始及停止時點，形成在薄膜基材80之搬送方向具有所欲長度且在薄膜基材80之搬送方向以所欲之距離分離之塗膜84。因此，能使用塗敷裝置140i簡便地形成各種圖案之塗膜。
[第10實施形態]
第10實施形態係說明用以在基材上形成不連續之(分離之)圖案之塗膜之塗敷裝置140j。塗敷裝置140j如圖10所示，主要具備連續地送出薄膜基 材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以形成塗膜84之塗敷輥40、對塗敷輥40供應塗液(塗膜材料)之塗液供應構件82、在薄膜基材80之搬送方向中相對塗敷輥40位於上游側而對薄膜基材80上賦予圖案遮罩50之圖案遮罩賦予部170、以及在薄膜基材80之搬送方向中位於塗敷輥40之下游側以剝離薄膜基材80上之圖案遮罩50之圖案遮罩剝離部190。塗敷裝置140j中，圖案遮罩賦予部170及圖案遮罩剝離部190發揮無塗敷區域形成機構之功能。以下說明各部之詳細構造。
塗敷裝置140j之薄膜搬送部120a、塗敷輥40及塗液供應構 件82，由於與第1實施形態之塗敷裝置140a之薄膜搬送部120a、塗敷輥40及塗液供應構件82相同之構成，因此其說明省略。此外，塗敷輥40被配置成與被薄膜搬送部搬送之薄膜基材80之表面(塗膜形成面)對向且接觸。
<圖案遮罩賦予部>
塗敷裝置140j中，作為圖案遮罩50，係使用與形成於薄膜基材80上之塗膜之圖案中無塗敷區域之形狀對應之形狀之帶狀或長條狀之片材。例如在如圖10所示圖案遮罩具有格子状形狀之場合，形成於薄膜基材80上之塗膜84具有一圖案，該圖案具有以格子状之無塗敷區域區隔而分離之複數個區域(凹凸圖案形成區域)。此外，所謂分離之複數個區域，係指複數個孤立之區域，其區域之形狀不拘。圖案遮罩50之大小雖可適當設定，但由於係與薄膜基材80一起搬送而連續地處理，因此可具有與薄膜基材80相同之寬度及長度。藉此方式，薄膜基材80與圖案遮罩50之寬度方向之位置對齊之管理係容易。圖案遮罩50之寬度，可依據所要求之製品形態來適當設定， 依照用途不同，圖案遮罩50之寬度亦可較薄膜基材80小或較其大。從圖案遮罩50遮蔽塗敷輥40之液體保持區域40a之功能來看，圖案遮罩50之寬度雖較佳為較液體保持區域40a之寬度大，但依所形成之塗膜圖案不同，亦可為較小(例如，僅遮蔽液體保持區域40a之寬度方向中央之場合等)。作為圖案遮罩50之材料，能使用例如與薄膜基材80相同之薄膜等。又，亦可使用聚苯硫醚(PPS)、聚乙烯(PE)等排斥塗膜材料之(塗膜材料不沾濕)材料。 或者，亦可藉由氟樹脂、矽等對圖案遮罩50表面進行撥液處理以使圖案遮罩50表面(與薄膜基材80接觸之面之相反側之面)排斥塗膜材料。藉由使圖案遮罩50排斥塗膜材料，能抑制塗膜材料之使用量。圖案遮罩50背面(與薄膜基材80接觸之面)亦可具有黏著性以在薄膜基材80上固定圖案遮罩50之位置。又，圖案遮罩50之厚度雖可設為例如5μm~1000μm，但就操作性觀點來看，過薄則越容易破損，過厚則難以使用捲取輥捲取。另一方面，能在厚度5μm~1000μm之範圍內依據塗膜之膜厚適當選定圖案遮罩之厚度，有藉此能容易地進行塗膜之膜厚控制的優點。圖案遮罩50係從圖案遮罩送出輥51送出，被圖案遮罩捲取輥52捲取。
圖案遮罩50，可對應形成於薄膜基材80上之塗膜之形狀(圖 案)而具有各種圖案(空白區域)。例如，如圖25(a)及(b)所示，能使用具有在圖案遮罩之搬送方向(圖25(a)及(b)中以箭頭所圖示之方向)中分斷之圖案(空白區域)50p、50p’之圖案遮罩50、50’。本申請中，所謂「具有在圖案遮罩之搬送方向中分斷之圖案之圖案遮罩」，不僅包含圖25(a)及(b)所示般具有在與搬送方向正交之方向分斷之圖案的圖案遮罩， 還包含具有在相對搬送方向以任意角度交叉之方向分斷之圖案的圖案遮罩、以及形成有複數個任意形狀、例如除了矩形以外還有圓形、橢圓形、多角形之類之形狀之開口部圖案遮罩等。又，如圖25(c)所示，亦可使用具有在圖案遮罩之搬送方向(圖25(c)中以箭頭所圖示之方向)中連續之圖案50p”之圖案遮罩50”。本申請中，所謂「具有在圖案遮罩之搬送方向中連續之圖案之圖案遮罩」，不僅包含圖25(c)所示般具有在與搬送方向平行之方向有圖案(空白區域)及遮罩區域延伸的圖案遮罩，還包含具有在相對搬送方向傾斜之方向有遮罩區域延伸的圖案遮罩、遮罩區域一邊彎曲一邊延伸於搬送方向之圖案遮罩、進一步包含從此等延伸之遮罩區域分支之遮罩區域的圖案遮罩等。如此等圖案遮罩50、50’、50”之圖案遮罩，能藉由例如對帶狀片材進行切割等來形成。
此外，圖案遮罩亦可具有相對搬送方向延伸於平行之方向之 遮罩區域以在薄膜基材80之搬送方向連續地遮蔽(覆蓋)薄膜基材80之與塗敷輥40之液體保持區域40a端部接觸之區域。塗敷裝置140j中，在薄膜基材80之與塗敷輥40之液體保持區域40a端部接觸之區域中，所形成之塗膜之膜厚等雖會不均一，但藉由使用如上述之圖案遮罩50遮蔽薄膜基材80之與塗敷輥40之液體保持區域40a端部接觸之區域，能防止不均一之塗膜形成於薄膜基材80上。
圖案遮罩賦予部170，由圖案遮罩送出輥51與相對塗敷輥 40位於薄膜基材之搬送方向上游側且彼此對向旋轉之一組輥亦即貼合輥54及支撐輥55構成。圖案遮罩賦予部170中，藉由將從圖案遮罩送出輥51 送出之圖案遮罩50疊合於薄膜基材80並夾入貼合輥54與支撐輥55之間，來沿著薄膜基材80之搬送方向對薄膜基材80上賦予圖案遮罩50。
<圖案遮罩剝離部>
圖案遮罩剝離部190，由相對塗敷輥40位於薄膜基材之搬送方向下游側且彼此對向旋轉之一組輥亦即剝離輥56及支撐輥57構成。圖案遮罩剝離部190中，藉由將在剝離輥56與支撐輥57間疊合於薄膜基材80上之狀態下通過之圖案遮罩50往從薄膜基材80分離之方向搬送，圖案遮罩50即從薄膜基材80被剝離。被剝離之圖案遮罩50，能藉由設於脫離薄膜基材80搬送路徑之位置之圖案遮罩捲取輥52來捲取。
其次，說明使用如上述之塗敷裝置140j在薄膜基材80上形 成所欲圖案之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出 輥往圖案遮罩賦予部170送出。在圖案遮罩賦予部170中，以貼合輥54及支撐輥55將從圖案遮罩送出輥51送出之圖案遮罩50與薄膜基材80一起夾入，藉此使圖案遮罩50疊合於薄膜基材80之表面(塗膜形成面)上之既定位置。
其次，將疊合有圖案遮罩50之薄膜基材80搬送至與塗敷輥 40對向之位置(塗敷輥40之正面)。疊合有圖案遮罩50之薄膜基材80一邊往搬送方向移動一邊與塗敷輥40接觸，於薄膜基材80及圖案遮罩50上以既定膜厚形成塗膜84。此外，在圖案遮罩50以排斥塗膜材料之材料形成之情形或於圖案遮罩50表面施有撥液處理之情形，係不於圖案遮罩50上形成 塗膜。
薄膜基材80，其次被搬送至圖案遮罩剝離部190。在疊合有 圖案遮罩50之薄膜基材80通過剝離輥56及支撐輥57間後，將圖案遮罩50往從薄膜基材80離開之方向搬送，將圖案遮罩50從薄膜基材80剝離。 剝離後之圖案遮罩50被以圖案遮罩捲取輥52捲取。由於形成於圖案遮罩50上之塗膜亦與圖案遮罩50一起從薄膜基材80剝離，因此薄膜基材80之與圖案遮罩50疊合之區域成為未形成有塗膜之無塗敷區域，僅於薄膜基材80上之未疊合於圖案遮罩50之區域形成塗膜84。能以此方式在薄膜基材80上形成具有所欲圖案之塗膜84。
塗敷裝置140j，能藉由改變所使用之圖案遮罩50之形狀簡 便地形成具有所欲圖案之塗膜84。例如，藉由使用如圖25(a)及(b)所示之具有在與搬送方向正交之方向分斷之圖案50p、50p’之圖案遮罩50、50’，而能在使薄膜基材80接觸於塗敷輥40之狀態下形成具有在薄膜基材80之搬送方向間歇之(不連續之)圖案的塗膜。為了形成此種在薄膜基材之長度方向(搬送方向)間歇之塗膜圖案，專利文獻1所記載之方法，雖必須以使薄膜基材80相對塗敷輥40分離或接觸之方式移動薄膜基材之搬送路徑，但本實施形態之塗敷裝置140j則無此必要。因此，塗敷裝置140j中，不需要用以控制伴隨薄膜基材之搬送路徑之移動而產生之薄膜基材之張力變動的複雜裝置構成。又，藉由使用如圖25(c)所示之具有在搬送方向連續之圖案之遮罩圖案50”之圖案遮罩50、50”，而能形成具有在薄膜基材80之寬度方向間歇之(不連續之)圖案的塗膜。為了形成此種在薄膜基材之寬度方向間歇之 塗膜圖案，專利文獻1所記載之方法，雖必須以用於外周面上沿周方向形成有槽部之塗敷輥，但本實施形態之塗敷裝置140j則無此必要。因此，藉由使用塗敷裝置140j，能以簡單之裝置構成簡便地形成所欲之不連續之圖案的塗膜。
[第11實施形態]
第11實施形態係說明用以在基材上形成不連續之圖案之塗膜之塗敷裝置140k。塗敷裝置140k如圖11所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以形成塗膜84之塗敷輥40、對塗敷輥40供應塗液(塗膜材料)之塗液供應構件82、在薄膜基材80之搬送方向中相對塗敷輥40位於上游側而對薄膜基材80上賦予圖案遮罩50’之圖案遮罩賦予部170、在薄膜基材80之搬送方向中位於塗敷輥40之下游側以剝離薄膜基材80上之圖案遮罩50’之圖案遮罩剝離部190、在薄膜基材80之搬送方向中位於塗敷輥40上游側且對薄膜基材80上賦予帶狀遮罩11之帶狀遮罩賦予部270、以及在薄膜基材80之搬送方向中位於塗敷輥40下游側且剝離薄膜基材80上之帶狀遮罩11之帶狀遮罩剝離部290。塗敷裝置140k中，圖案遮罩賦予部170、圖案遮罩剝離部190、帶狀遮罩賦予部270及帶狀遮罩剝離部290發揮無塗敷區域形成機構之功能。帶狀遮罩賦予部270及帶狀遮罩剝離部290尤其發揮搬送方向無塗敷區域形成機構之功能。
塗敷裝置140k之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、塗液供應構 件82、圖案遮罩賦予部170及圖案遮罩剝離部190，由於與第10實施形態 之塗敷裝置140j之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、塗液供應構件82、圖案遮罩賦予部170及圖案遮罩剝離部190相同之構成，因此其說明省略。又，塗敷裝置140k之帶狀遮罩賦予部270及帶狀遮罩剝離部290由於與第1實施形態之塗敷裝置140a之帶狀遮罩賦予部270及帶狀遮罩剝離部290相同之構成，因此其說明亦省略。
其次，說明使用如上述之塗敷裝置140k在薄膜基材80上形 成所欲圖案之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出 輥往圖案遮罩賦予部170送出。在圖案遮罩賦予部170中，以貼合輥54及支撐輥55將從圖案遮罩送出輥51送出之圖案遮罩50’與薄膜基材80一起夾入，藉此使圖案遮罩50’疊合於薄膜基材80之表面(塗膜形成面)上之既定位置。
其次，將疊合有圖案遮罩50’之薄膜基材80搬送至帶狀遮 罩賦予部270。在帶狀遮罩賦予部270中，以貼合輥17及支撐輥18將從帶狀遮罩送出輥13送出之帶狀遮罩11與薄膜基材80一起夾入。藉此，對疊合有圖案遮罩50’之薄膜基材80，進一步使帶狀遮罩11疊合於既定位置。
其次，將疊合有圖案遮罩50’及帶狀遮罩11之薄膜基材80 搬送至與塗敷輥40對向之位置(塗敷輥40之正面)。疊合有圖案遮罩50’及帶狀遮罩11之薄膜基材80一邊往搬送方向移動一邊與塗敷輥40接觸，於薄膜基材80、圖案遮罩50’及帶狀遮罩11上以既定膜厚形成塗膜84。此外，在圖案遮罩50’及/或帶狀遮罩11以排斥塗膜材料之材料形成之情形或 於圖案遮罩50’及/或帶狀遮罩11表面施有撥液處理之情形，係不於圖案遮罩50’及/或帶狀遮罩11上形成塗膜。
薄膜基材80，其次被搬送至帶狀遮罩剝離部290。在疊合有 圖案遮罩50’及帶狀遮罩11之薄膜基材80通過剝離輥19及支撐輥20間後，將帶狀遮罩11往從薄膜基材80離開之方向搬送，將帶狀遮罩11從薄膜基材80剝離。剝離後之帶狀遮罩11被以帶狀遮罩捲取輥15捲取。由於形成於帶狀遮罩11上之塗膜亦與帶狀遮罩11一起從薄膜基材80剝離，因此薄膜基材80及圖案遮罩50’之與帶狀遮罩11疊合之區域未形成有塗膜。僅於未與帶狀遮罩11疊合之區域形成塗膜。能以此方式形成在薄膜基材80之搬送方向連續之無塗敷區域。
帶狀遮罩11剝離後之薄膜基材80及圖案遮罩50’，其次 被搬送至圖案遮罩剝離部190。在疊合有圖案遮罩50’之薄膜基材80通過剝離輥56及支撐輥57間後，將圖案遮罩50’往從薄膜基材80離開之方向搬送，將圖案遮罩50’從薄膜基材80剝離。剝離後之圖案遮罩50’被以圖案遮罩捲取輥52捲取。由於形成於圖案遮罩50’上之塗膜亦與圖案遮罩50’一起從薄膜基材80剝離，因此薄膜基材80之與圖案遮罩50’疊合之區域成為未形成有塗膜之無塗敷區域，僅於薄膜基材80上之未疊合於圖案遮罩50’之區域形成塗膜84。
以上述方式於薄膜基材80之與帶狀遮罩11或圖案遮罩50’ 疊合之區域形成無塗敷區域，並於帶狀遮罩11及圖案遮罩50’之任一者均未重疊之區域形成塗膜84。能以此方式在薄膜基材80上形成具有所欲圖案 之塗膜84。
塗敷裝置140k，能藉由改變所使用之圖案遮罩50’之形狀 簡便地形成具有所欲圖案之塗膜84。又，藉由使用具有在與搬送方向正交之方向分斷之圖案之圖案遮罩50’，而能在使薄膜基材80接觸於塗敷輥40之狀態下形成具有在薄膜基材80之搬送方向間歇之(不連續之)圖案的塗膜84。為了形成此種在薄膜基材之長度方向(搬送方向)間歇之塗膜圖案，專利文獻1所記載之方法，雖必須以使薄膜基材80相對塗敷輥40分離或接觸之方式移動薄膜基材80之搬送路徑，但本實施形態之塗敷裝置140k則無此必要。因此，不需要用以控制伴隨薄膜基材之搬送路徑之移動而產生之薄膜基材之張力變動的複雜裝置構成。因此，塗敷裝置140k，能以簡單之裝置構成簡便地形成所欲之不連續圖案的塗膜。
再者，可藉由變更使用之帶狀遮罩11之條數、寬度及相對 於薄膜基材80之寬度方向之位置，來變更連續於薄膜基材80上之搬送方向之無塗敷區域之數目、位置及寬度。因此，例如在對複數個薄膜基材之各個形成連續於搬送方向之無塗敷區域之數目、位置或寬度分別具有不同圖案之塗膜之場合，可藉由變更使用之帶狀遮罩之條數、或使用寬度分別不同之帶狀遮罩、或適當調整帶狀遮罩相對薄膜基材80之寬度方向之位置，來於各薄膜基材上形成所欲圖案之塗膜。此情形下，不需分別準備具有對應各塗膜圖案之無塗敷區域形狀之形狀的圖案遮罩50’，僅變更帶狀遮罩即能變更塗膜之圖案。因此，能使用本實施形態之塗敷裝置140k更簡便地形成具有各種圖案之塗膜。
此外，圖11所示之帶狀遮罩11雖具有直線形狀，但帶狀遮 罩11亦可係曲線或折線狀等形狀，亦可視帶狀遮罩11之形狀形成連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域。
又，圖11中，雖係從薄膜基材80之搬送方向上游側依序形 成圖案遮罩賦予部170、帶狀遮罩賦予部270、帶狀遮罩剝離部290、圖案遮罩剝離部190，但圖案遮罩賦予部170及帶狀遮罩賦予部270之順序以及帶狀遮罩剝離部290及圖案遮罩剝離部190之順序亦可為相反。
[第12實施形態]
第12實施形態係說明用以在基材上形成不連續之圖案之塗膜之塗敷裝置140m。塗敷裝置140m如圖12所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以形成塗膜84之塗敷輥40、對塗敷輥40供應塗液(塗膜材料)之塗液供應構件82、在薄膜基材80之搬送方向中相對塗敷輥40位於上游側而對薄膜基材80上賦予圖案遮罩50’之圖案遮罩賦予部170、在薄膜基材80之搬送方向中位於塗敷輥40之下游側以剝離薄膜基材80上之圖案遮罩50’之圖案遮罩剝離部190、以及在薄膜基材80之搬送方向中位於塗敷輥40上游側且對薄膜基材80上塗敷撥液性材料之撥液材料塗敷部310。塗敷裝置140m中，圖案遮罩賦予部170、圖案遮罩剝離部190及撥液材料塗敷部310發揮無塗敷區域形成機構之功能。撥液材料塗敷部310尤其發揮搬送方向無塗敷區域形成機構之功能。
塗敷裝置140m之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、塗液供應構 件82、圖案遮罩賦予部170及圖案遮罩剝離部190，由於與第10實施形態之塗敷裝置140j之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、塗液供應構件82、圖案遮罩賦予部170及圖案遮罩剝離部190相同之構成，因此其說明省略。又，塗敷裝置140m之撥液材料塗敷部310由於與第2實施形態之塗敷裝置140b之撥液材料塗敷部310相同之構成，因此其說明亦省略。
其次，說明使用如上述之塗敷裝置140m在薄膜基材80上 形成所欲圖案之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出 輥往圖案遮罩賦予部170送出。在圖案遮罩賦予部170中，以貼合輥54及支撐輥55將從圖案遮罩送出輥51送出之圖案遮罩50’與薄膜基材80一起夾入，藉此使圖案遮罩50’疊合於薄膜基材80之表面(塗膜形成面)上之既定位置。
其次，將疊合有圖案遮罩50’之薄膜基材80搬送至撥液材 料塗敷部310。在撥液材料塗敷部310中，使撥液材料塗敷輥22一邊旋轉一邊使保持有撥液性材料之塗敷面接觸於薄膜基材80及圖案遮罩50’之既定位置。藉此，於薄膜基材80圖案遮罩50’上之既定位置形成連續於薄膜基材80之搬送方向之撥液膜26。
其次，將形成有撥液膜26之薄膜基材80搬送至與塗敷輥 40對向之位置(塗敷輥40之正面)。薄膜基材80一邊往搬送方向移動一邊與塗敷輥40接觸。藉此於薄膜基材80及圖案遮罩50’上以既定膜厚形成塗膜84。此時，在薄膜基材80及圖案遮罩50’上之形成有撥液膜26之區域 中，為了排斥塗膜材料而不形成膜，僅於不形成撥液膜26之區域形成塗膜。 以此方式，能依據形成有撥液膜26之區域，形成連續於薄膜基材80之搬送方向之無塗敷區域。此外，在圖案遮罩50’以排斥塗膜材料之材料形成之情形或於圖案遮罩50’表面施有撥液處理之情形，係不於圖案遮罩50’上形成塗膜。
薄膜基材80，其次被搬送至圖案遮罩剝離部190。在疊合有 圖案遮罩50’之薄膜基材80通過剝離輥56及支撐輥57間後，將圖案遮罩50’往從薄膜基材80離開之方向搬送，將圖案遮罩50’從薄膜基材80剝離。剝離後之圖案遮罩50’被以圖案遮罩捲取輥52捲取。由於形成於圖案遮罩50’上之塗膜亦與圖案遮罩50’一起從薄膜基材80剝離，因此薄膜基材80之與圖案遮罩50’疊合之區域成為未形成有塗膜之無塗敷區域，僅於薄膜基材80上之未疊合於圖案遮罩50’之區域形成塗膜84。
以上述方式於薄膜基材80之與圖案遮罩50’疊合之區域及 形成有撥液膜26之區域形成無塗敷區域，並僅於未重疊於圖案遮罩50’且未形成有撥液膜26之區域形成塗膜84。能以此方式在薄膜基材80上形成具有所欲圖案之塗膜84。
塗敷裝置140m，能藉由改變所使用之圖案遮罩50’之形狀 簡便地形成具有所欲圖案之塗膜84。又，塗敷裝置140m藉由使用具有在與搬送方向正交之方向分斷之圖案之圖案遮罩50’，而能在使薄膜基材80接觸於塗敷輥40之狀態下形成具有在薄膜基材80之搬送方向間歇之(不連續之)圖案的塗膜84。為了形成此種在薄膜基材之長度方向(搬送方向)間歇之 塗膜圖案，專利文獻1所記載之方法，雖必須以使薄膜基材80相對塗敷輥40分離或接觸之方式移動薄膜基材80之搬送路徑，但本實施形態之塗敷裝置140m則無此必要。因此，不需要用以控制伴隨薄膜基材之搬送路徑之移動而產生之薄膜基材之張力變動的複雜裝置構成。因此，塗敷裝置140m，能以簡單之裝置構成簡便地形成所欲之不連續圖案的塗膜。
再者，可藉由變更使用之撥液材料塗敷輥22之塗敷面之數 目、寬度及旋轉軸方向之位置，來變更連續於薄膜基材80上之搬送方向之無塗敷區域之數目、位置及寬度。因此，例如在對複數個薄膜基材之各個形成連續於搬送方向之無塗敷區域之數目、位置或寬度分別具有不同圖案之塗膜之場合，可藉由變更使用之撥液材料塗敷輥22之塗敷面之數目、或使用具有寬度分別不同之塗敷面之撥液材料塗敷輥22、或使撥液材料塗敷輥22適當移動於旋轉軸方向，來於各薄膜基材上形成所欲圖案之塗膜。此情形下，不需分別準備具有對應各塗膜圖案之無塗敷區域形狀之形狀的圖案遮罩50’，僅變更撥液材料塗敷輥即能變更塗膜之圖案。因此，能使用本實施形態之塗敷裝置140m更簡便地形成具有各種圖案之塗膜。
[第13實施形態]
第13實施形態係說明用以在基材上形成不連續之圖案之塗膜之塗敷裝置140n。塗敷裝置140n如圖13所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以形成塗膜84之塗敷輥41、對塗敷輥41供應塗液之塗液供應構件82、在薄膜基材80之搬送方向中相對塗敷輥41位於上游側而對薄膜基材80上賦予 圖案遮罩50’之圖案遮罩賦予部170、以及在薄膜基材80之搬送方向中位於塗敷輥41之下游側以剝離薄膜基材80上之圖案遮罩50’之圖案遮罩剝離部190。塗敷裝置140n中，圖案遮罩賦予部170、圖案遮罩剝離部190及塗敷輥41發揮無塗敷區域形成機構之功能。塗敷輥41尤其發揮搬送方向無塗敷區域形成機構之功能。
塗敷裝置140n之薄膜搬送部120a、塗液供應構件82、圖案 遮罩賦予部170及圖案遮罩剝離部190，由於與第10實施形態之塗敷裝置140j之薄膜搬送部120a、塗液供應構件82、圖案遮罩賦予部170及圖案遮罩剝離部190相同之構成，因此其說明省略。又，塗敷裝置140n之塗敷輥41由於與第3實施形態之塗敷裝置140c之塗敷輥41相同之構成，因此其說明亦省略。
其次，說明使用如上述之塗敷裝置140n在薄膜基材80上形 成不連續圖案之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出 輥往圖案遮罩賦予部170送出。在圖案遮罩賦予部170中，以貼合輥54及支撐輥55將從圖案遮罩送出輥51送出之圖案遮罩50’與薄膜基材80一起夾入，藉此使圖案遮罩50’疊合於薄膜基材80之表面(塗膜形成面)上之既定位置。
其次，將疊合有圖案遮罩50’之薄膜基材80搬送至與塗敷 輥41對向之位置(塗敷輥41之正面)搬送。由於在塗敷輥41之液體保持區域41a保持有塗膜材料，因此在薄膜基材80及圖案遮罩50’上之與液體保 持區域41a對向之區域以既定膜厚形成塗膜84。另一方面，由於在塗敷輥41之液體非保持區域41b未保持有塗膜材料，因此在薄膜基材80及圖案遮罩50’上之與液體非保持區域41a對向之區域不形成塗膜84。藉此，能於薄膜基材80及圖案遮罩50’上形成連續於搬送方向之無塗敷區域。此外，在圖案遮罩50’以排斥塗膜材料之材料形成之情形或於圖案遮罩50’表面施有撥液處理之情形，係不於圖案遮罩50’上形成塗膜。
薄膜基材80，其次被搬送至圖案遮罩剝離部190。在疊合有 圖案遮罩50’之薄膜基材80通過剝離輥56及支撐輥57間後，將圖案遮罩50’往從薄膜基材80離開之方向搬送，將圖案遮罩50’從薄膜基材80剝離。剝離後之圖案遮罩50’被以圖案遮罩捲取輥52捲取。由於形成於圖案遮罩50，上之塗膜亦與圖案遮罩50’一起從薄膜基材80剝離，因此薄膜基材80之與圖案遮罩50’疊合之區域成為未形成有塗膜之無塗敷區域，僅於薄膜基材80上之未疊合於圖案遮罩50’之區域形成塗膜84。
以上述方式於薄膜基材80之與圖案遮罩50’疊合之區域及 與塗敷輥41之液體非保持區域41b對向之區域形成無塗敷區域，並於未重疊於圖案遮罩50’且與塗敷輥41之液體保持區域41a對向之區域形成塗膜84。能以此方式在薄膜基材80上形成具有所欲圖案之塗膜84。
塗敷裝置140n，能藉由改變所使用之圖案遮罩50’之形狀 簡便地形成具有所欲圖案之塗膜84。又，塗敷裝置140n藉由使用具有在與搬送方向正交之方向分斷之圖案之圖案遮罩50’，而能在使薄膜基材80接觸於塗敷輥40之狀態下形成具有在薄膜基材80之搬送方向間歇之(不連續 之)圖案的塗膜84。為了形成此種在薄膜基材之長度方向(搬送方向)間歇之塗膜圖案，專利文獻1所記載之方法，雖必須以使薄膜基材80相對塗敷輥40分離或接觸之方式移動薄膜基材80之搬送路徑，但本實施形態之塗敷裝置140n則無此必要。因此，不需要用以控制伴隨薄膜基材之搬送路徑之移動而產生之薄膜基材之張力變動的複雜裝置構成。因此，塗敷裝置140n，能以簡單之裝置構成簡便地形成所欲之不連續圖案的塗膜。
再者，可藉由變更塗敷輥41之液體保持區域之數目、旋轉 軸方向之寬度及位置(亦即變更塗敷輥41之液體非保持區域之數目、旋轉軸方向之寬度及位置)，來變更連續於薄膜基材80上之搬送方向之無塗敷區域之數目、位置及寬度。因此，例如在對複數個薄膜基材之各個形成連續於搬送方向之無塗敷區域之數目、位置或寬度分別具有不同圖案之塗膜之場合，可藉由變更使用之塗敷輥之液體保持區域之數目及旋轉軸方向之寬度、或使塗敷輥適當移動於旋轉軸方向，來於各薄膜基材上形成所欲圖案之塗膜。此情形下，不需分別準備具有對應各塗膜圖案之無塗敷區域形狀之形狀的圖案遮罩50’，僅變更塗敷輥之液體保持區域及液體非保持區域即能變更塗膜之圖案。因此，能使用本實施形態之塗敷裝置140n更簡便地形成具有各種圖案之塗膜。
[第14實施形態]
第14實施形態係說明用以在基材上形成不連續之圖案之塗膜之塗敷裝置140p。塗敷裝置140p如圖14所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120a、於藉由薄膜搬送部120a送出之薄膜基材80上塗敷液體以 形成塗膜84之塗敷輥40、對塗敷輥40供應塗液之塗液供應構件82’、在薄膜基材80之搬送方向中相對塗敷輥40位於上游側而對薄膜基材80上賦予圖案遮罩50’之圖案遮罩賦予部170、以及在薄膜基材80之搬送方向中位於塗敷輥40之下游側以剝離薄膜基材80上之圖案遮罩50’之圖案遮罩剝離部190。塗敷裝置140p中，圖案遮罩賦予部170、圖案遮罩剝離部190及塗液供應構件82’發揮無塗敷區域形成機構之功能。塗液供應構件82’尤其發揮搬送方向無塗敷區域形成機構之功能。
塗敷裝置140p之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、圖案遮罩賦 予部170及圖案遮罩剝離部190，由於與第10實施形態之塗敷裝置140j之薄膜搬送部120a、塗敷輥40、圖案遮罩賦予部170及圖案遮罩剝離部190相同之構成，因此其說明省略。又，塗敷裝置140p之塗液供應構件82’由於與第4實施形態之塗敷裝置140d之塗液供應構件82’相同之構成，因此其說明亦省略。
其次，說明使用如上述之塗敷裝置140p在薄膜基材80上形 成不連續圖案之塗膜84的動作。
首先，開始薄膜搬送部120a之搬送，將薄膜基材80從送出 輥往圖案遮罩賦予部170送出。在圖案遮罩賦予部170中，以貼合輥54及支撐輥55將從圖案遮罩送出輥51送出之圖案遮罩50’與薄膜基材80一起夾入，藉此使圖案遮罩50’疊合於薄膜基材80之表面(塗膜形成面)上之既定位置。
其次，將疊合有圖案遮罩50’之薄膜基材80搬送至與塗敷 輥40對向之位置(塗敷輥40之正面)搬送。由於在塗敷輥40之液體保持區域40a，如上所述形成有保持有藉由兩個以上之塗液供應室82a供應之塗膜材料之區域與未被供應塗膜材料而未保持有塗膜材料之區域。在薄膜基材80及圖案遮罩50’上之與塗敷輥40之保持有塗膜材料之區域對向之區域附著塗膜材料，以既定膜厚形成塗膜84。另一方面，在薄膜基材80及圖案遮罩50’上之與塗敷輥40之未保持有塗膜材料之區域對向之薄膜基材80之區域不形成塗膜84。藉此，能形成連續於薄膜基材80及圖案遮罩50’上之搬送方向之無塗敷區域。此外，在圖案遮罩50’以排斥塗膜材料之材料形成之情形或於圖案遮罩50’表面施有撥液處理之情形，係不於圖案遮罩50’上形成塗膜。
薄膜基材80，其次被搬送至圖案遮罩剝離部190。在疊合有 圖案遮罩50’之薄膜基材80通過剝離輥56及支撐輥57間後，將圖案遮罩50’往從薄膜基材80離開之方向搬送，將圖案遮罩50’從薄膜基材80剝離。剝離後之圖案遮罩50’被以圖案遮罩捲取輥52捲取。由於形成於圖案遮罩50’上之塗膜亦與圖案遮罩50’一起從薄膜基材80剝離，因此薄膜基材80之與圖案遮罩50’疊合之區域成為未形成有塗膜之無塗敷區域，僅於薄膜基材80上之未疊合於圖案遮罩50’之區域形成塗膜84。
以上述方式於薄膜基材80之與圖案遮罩50’疊合之區域及 與塗敷輥40之未保持有液體之區域對向之區域形成無塗敷區域，並於未重疊於圖案遮罩50’且與塗敷輥40之保持有液體之區域對向之區域形成塗膜84。能以此方式在薄膜基材80上形成具有所欲圖案之塗膜84。
塗敷裝置140p，能藉由改變所使用之圖案遮罩50’之形狀 簡便地形成具有所欲圖案之塗膜84。又，塗敷裝置140p藉由使用具有在與搬送方向正交之方向分斷之圖案之圖案遮罩50’，而能在使薄膜基材80接觸於塗敷輥40之狀態下形成具有在薄膜基材80之搬送方向間歇之(不連續之)圖案的塗膜84。為了形成此種在薄膜基材之長度方向(搬送方向)間歇之塗膜圖案，專利文獻1所記載之方法，雖必須以使薄膜基材80相對塗敷輥40分離或接觸之方式移動薄膜基材80之搬送路徑，但本實施形態之塗敷裝置140p則無此必要。因此，不需要用以控制伴隨薄膜基材之搬送路徑之移動而產生之薄膜基材之張力變動的複雜裝置構成。因此，塗敷裝置140p，能以簡單之裝置構成簡便地形成所欲之不連續圖案的塗膜。
再者，可藉由變更所使用之塗液供應室之數目、寬度及在塗 敷輥之旋轉軸方向之位置、塗液供應室間之距離等，來變更連續於薄膜基材80上之搬送方向之無塗敷區域之數目、位置及寬度。因此，例如在對複數個薄膜基材之各個形成連續於搬送方向之無塗敷區域之數目、位置或寬度分別具有不同圖案之塗膜之場合，可藉由變更使用之塗液供應室之數目及寬度、或使之適當移動於塗敷輥之旋轉軸方向，來於各薄膜基材上形成所欲圖案之塗膜。此情形下，不需分別準備具有對應各塗膜圖案之無塗敷區域形狀之形狀的圖案遮罩50’，僅變更塗液供應室即能變更塗膜之圖案。因此，能使用本實施形態之塗敷裝置140p更簡便地形成具有各種圖案之塗膜。
又，亦可取代對一支塗敷輥設置複數個塗液供應室之方式， 使用於各個各設置有一個塗液供應室之複數支塗敷輥。此情形下，係於薄膜基材80之搬送方向不同之位置配置各塗敷輥，並於薄膜基材80之寬度方向彼此分離之位置配置各塗敷輥之塗液供應室。又，亦可使塗液供應室能夠各別獨立移動於塗敷輥之旋轉軸方向。
由上述說明可知，第1~14實施形態之塗敷裝置140a~ 140P，具備於薄膜基材上形成至少於一方向連續之無塗敷區域之無塗敷區域形成機構。
[第15實施形態]
本實施形態中，說明使用如上述之塗敷裝置140a~140d之具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造裝置。具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造裝置100a，如圖15所示，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120、於藉由薄膜搬送部120送出之薄膜基材80上形成凹凸形成材料之塗膜84之塗敷部140A、以及位於塗敷部140A之下游側且對凹凸形成材料之塗膜84轉印凹凸圖案之轉印部160。藉由實施形態之薄膜構件之製造裝置100a，製造具備附有凹凸圖案之凹凸形成材料之薄膜基材(以下稱為薄膜構件)80a。
<薄膜搬送部>
薄膜搬送部120，如圖15所示，主要具有送出帶狀薄膜基材80之送出輥72、設於轉印部160下游而捲取薄膜構件80a之捲取輥87、以及用以將薄膜基材80及薄膜構件80a往搬送方向搬送之搬送輥78。送出輥72與捲取輥87，能旋轉地安裝於能將該等拆裝之支撐台(未圖示)。能藉由送出輥 72與捲取輥87之旋轉驅動將薄膜基材80往搬送方向搬送。
薄膜基材80係為了能夠一邊搬送一邊進行連續處理而為帶 狀或長條狀之薄膜基材。薄膜基材80例如以如矽樹脂、薄膜狀玻璃、聚乙烯對苯二甲酸酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、環烯烴聚合物(COP)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)、聚氨酯(PI)、聚丙烯酸之類的有機材料形成。薄膜基材80可為透明或不透明。為了提高薄膜基材80與形成於其表面之凹凸形成材料之塗膜之密著性，薄膜基材80亦可對表面施加易接著處理。又，亦可於薄膜基材80之表面設置氣體隔離層等。薄膜基材80之尺寸雖能適當設定，但可例如將薄膜基材80之寬度設為50~3000mm、將厚度設為1~500μm。
<塗敷部>
塗敷部140A，藉由上述實施形態之塗敷裝置140a、140b、140c或140d構成，將具有不連續之(分離之)圖案之凹凸形成材料之塗膜84形成於薄膜基材80上。此外，上述實施形態之塗敷裝置140a~140d之搬送部120b為本實施形態之製造裝置之薄膜搬送部120之一部分。
<轉印部>
轉印部160，如圖15所示，具備轉印輥90及與其對向之按壓輥(夾持輥)74。
轉印輥90係於外周面具有凹凸圖案之輥狀(圓柱狀、圓筒狀)模。轉印輥90具有驅動軸，藉由馬達等驅動裝置以軸為中心被旋轉驅動。轉印輥之凹凸圖案之尺寸，雖能視所製造之薄膜構件之尺寸等來適當設 定，但例如可作成直徑為50~1000mm、軸方向長度為50~3000mm。
本實施形態中所使用之轉印輥90，係於表面具有凹凸圖案 之薄板狀模安裝於圓柱狀之基體輥之外周面而構成。作為基體輥之材料能使用例如鐵、銅、鈦、不鏽鋼、鋁等。又，基體輥例如可作成直徑為50~1000mm、軸方向長度為50~3000mm。作為薄板狀模，例如包含以後述方法製造之板狀金屬模或薄膜狀樹脂薄膜等。構成樹脂模之樹脂亦包含天然橡膠或合成橡膠之類的橡膠。薄板狀模之凹凸圖案依所製造之薄膜構件之用途，能作成具有微透鏡陣列構造、光擴散、繞射等功能之構造、由線&間隔構成之條狀構造、圓柱狀、圓錐狀、圓錐台狀、三角柱狀、三角錐狀、三角錐台狀、四角柱狀、四角錐狀、四角錐台狀、多角柱狀、多角錐狀、多角錐台狀等之支柱構造、或孔構造等任意圖案。例如，亦可設為凹凸的間距不均勻，而且在凹凸的方向沒有指向性之不規則的凹凸圖案。作為凹凸的平均間距，例如將薄膜構件使用於可見光之繞射和散射的用途之光學基板製造時，能夠設為100~1500nm的範圍，以200~1200nm的範圍為較佳。 在相同用途中，凹凸的深度分布之平均值(平均高度)係以20~200nm的範圍為佳，以30~150nm的範圍為較佳。凹凸深度的標準偏差係以10~100nm的範圍內為佳，以15~75nm的範圍內為較佳。
從此種凹凸圖案所散射及/或繞射的光線，不是單一或狹窄 區域的波長之光，而是具有較廣區域之波帶，而且散射光及/或被繞射之光線，係沒有指向性而朝向所有的方向。其中，所謂「不規則的凹凸圖案」，係對進行表面的凹凸形狀解析而得到的凹凸解析影像施行2維高速傅里葉 變換處理而得到之傅里葉變換像為顯示圓或圓環狀的花紋，亦即，上述凹凸的方向沒有指向性者之凹凸的間距之分布，係包含似有般的假擬周期結構。因此，在具有此種假擬周期結構之構件，係只要其凹凸間距的分布為將可見光線繞射，就非常適合作為如有機EL元件、LED、ECL等之發光元件等所使用的構件、如太陽電池之光電轉換元件所使用之構件或該等製造用之構件。
可使用一片模作為薄板狀模，將此捲繞於基體輥並加以安 裝。或者，可使用兩片以上之模板作為薄板狀模，安裝成由此等來捲繞基體輥之外周面。薄板狀模之捲繞方向之長度合計，亦可設計成較基體輥之周方向長度短。薄板狀模，能使用接著劑、磁石、或螺絲等固定於基體輥。 又，在使用金屬製模(金屬模)作為薄板狀模之場合，例如係將金屬模捲繞於基體輥，並將金屬模之端部熔接於基體輥，藉此能將金屬模固定於基體輥。 藉由以上述方式將薄板狀模固定於基體輥，能使薄板狀模之端部彼此連結。亦可視必要對凹凸圖案面施加離模處理。
針對具有凹凸圖案之薄板狀模之製造方法例進行說明。最初 進行用以形成模之凹凸圖案之母模圖案之製作。母模之凹凸圖案，較佳為使用例如利用本申請人等在W02012/096368號所記載之嵌段共聚物的自組織化(微相分離)之方法(以下，適宜地稱為「BCP(Block Copolymer)熱退火法」)、在W02013/161454號所記載之嵌段共聚物在溶媒環境氣氛下之自組織化之方法(以下，適宜地稱為「BCP溶媒退火法」)、或W02011/007878A1所揭示之將聚合物膜上的蒸鍍膜加熱、冷卻，而且利用在聚合物表面的皺 紋來形成凹凸之方法(以下，適宜地稱為「BKL(Buckling)法」)。亦可使用光微影法而形成來代替BCP熱退火法、BCP溶媒退火法及BKL法。除此之外，例如亦能藉由切削加工法、電子射線直接描繪法、粒子射線光束加工法、以及操作探針加工法等微細加工法、以及使用了微粒子之自組織化之微細加工法來製作母模之凹凸圖案。在以BCP熱退火法及BCP法形成圖案時，形成圖案的材料係能夠使用任意的材料，以選自由如聚苯乙烯的苯乙烯系聚合物、如聚甲基丙烯酸甲酯的聚甲基丙烯酸烷酯、聚環氧乙烷、聚丁二烯、聚異戊二烯、聚乙烯基吡啶及聚乳酸所組成群組之2種的所所構成之嵌段共聚物為適合。又，亦可對藉由溶媒退火法處理而取得之凹凸圖案照射準分子UV光等紫外線所代表之能量光線之進行之蝕刻、或如RIE(反應性離子蝕刻)之乾蝕刻法之蝕刻。又，亦可對已進行此種蝕刻之凹凸圖案施以加熱處理。
在使用BCP熱退火法、BCP溶媒退火法、或BKL法等形成 圖案的母模之後，如以下進行，使用電鑄法等能夠形成進一步轉印圖案而成之鑄模。最初，能夠在具有藉由無電解鍍覆、濺鍍或蒸鍍等而形成的圖案之母模上形成作為電鑄處理用的導電層之晶種層。為了使後續之電鑄步驟之電流密度均勻，而且為了使藉由在後續之電鑄步驟所堆積之金屬層的厚度成為一定，晶種層係以10nm以上為佳。作為種晶層的材料，例如，能夠使用鎳、銅、金、銀、鉑、鈦、鈷、錫、鋅、鉻、金．鈷合金、金．鎳合金、硼．鎳合金、焊錫、銅、鎳．鉻合金、錫鎳合金、鎳．鈀合金、鎳．鈷．磷合金、或該等的合金等。其次，藉由電鑄(電場鍍覆)在晶種層上堆積 金屬層。金屬層的厚度係例如包含晶種層的厚度，能夠將整體設為10~3000μm的厚度。作為藉由電鑄堆積之金屬層的材料，能夠使用上述金屬種的任一者作為晶種層。所形成的金屬層，從後續之用以形成鑄模的樹脂層之按壓、剝離及洗淨等的處理的容易性而言，以具有適當的硬度及厚度為佳。
將如此進行而得到之含有晶種層的金屬層，從具有凹凸結構 之母模剝離而得到金屬基板。剝離方法係物理性地剝下亦無妨，亦可將形成圖案之材料，使用可將該等溶解之有機溶劑，例如甲苯、四氫呋喃(THF)、氯仿等溶解而除去。在將母模從金屬基板剝離時，能夠藉由洗淨而將殘留的材料成分除去。作為洗淨方法，能夠採用使用界面活性劑等之濕式洗淨和使用紫外線、電漿之乾式洗淨。又，例如，亦可使用黏著劑、接著劑將殘留的材料成分附著除去等。如此進行而夠得到之轉印有來自母模的圖案之金屬基板(金屬模)能作為本實施形態之薄板狀模使用。
進而，能使用所得到之金屬基板，藉由將金屬基板之凹凸構 造(圖案)轉印至薄膜狀支撐基板來製作薄膜狀之樹脂模。例如，在將硬化性樹脂塗敷於支撐基板後，一邊將金屬基板之凹凸構造按壓於樹脂層一邊使樹脂層硬化。作為支撐基板，能夠例如使用由玻璃、矽基板等的無機材料所構成之基板、或聚對酞酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、環烯烴聚合物(COP)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)、聚醯亞胺(PI)、聚丙烯酸等的樹脂基板、由鎳、銅、鋁等金屬材料構成之基材。支撐基板可以透明亦可以不透明，為了提高基板上之密著性，亦可表 面處理或設置易接著層，亦可設置氣體隔離層等。又，支撐基板之厚度可設在1~500μm之範圍。
作為硬化性樹脂，可舉出例如環氧系、丙烯酸系、甲基丙烯 酸系、乙烯醚系、氧雜環丁烷系、胺甲酸酯系、三聚氰胺系、尿素系、聚酯系、酚系、交聯型液晶系、氟系、矽酮系、聚酰胺系等之單體、低聚物、聚合物等各種樹脂。硬化性樹脂的厚度係以0.5~500μm的範圍為佳。厚度小於前述下限時，在硬化樹脂層的表面所形成之凹凸的高度係容易變為不充分，大於前述上限時，在硬化時所產生的樹脂之體積變化的影響變大，有無法良好地形成凹凸形狀之可能性。
作為塗敷硬化性樹脂之方法，能採用例如旋轉塗敷法、噴霧 塗敷法、浸漬塗敷法、滴下法、凹版印刷法、網版印刷法、凸版印刷法、模壓塗敷法(die-coat)、簾流塗敷法、噴墨塗敷法、濺鍍法等的各種塗敷方法。 而且，作為使硬化性樹脂硬化之條件，係依照所使用的樹脂之種類而不同，例如，較佳為硬化溫度為室溫~250℃的範圍，硬化時間為0.5分~3小時。 又，亦可藉由照射如紫外線或電子射線的能量射線來使其硬化，此情形下，照射量較佳為10mJ/cm2~5J/cm2。
其次，從硬化後之硬化樹脂層取下金屬基板。作為取下金屬 基板之方法，不限定於機械式剝離法，能採用公知之方法。以此方式能製得之於支撐基板上形成有凹凸之硬化樹脂層的薄膜狀樹脂模，能作為本實施形態之薄板狀模使用。
又，於以上述方法製得之金屬基板之凹凸構造(圖案)上塗敷 橡膠系樹脂材料，使塗敷之樹脂材料硬化，從金屬基板剝離，藉此能製作轉印有金屬基板之凹凸圖案之橡膠模。所製得之橡膠模能作為本實施形態之薄板狀模使用。
於轉印部160中，按壓輥74與轉印輥90一起將形成有凹凸 形成材料之塗膜84之薄膜基材80夾入，從薄膜基材80背面(形成有凹凸形成材料之塗膜之面之相反側之面)按壓薄膜基材80。又，圖15所示之實施形態中，轉印部160之上游側與下游側之搬送輥78，配置成薄膜基材80捲繞於轉印輥90之大致半周量。本實施形態中，薄膜基材80係在按壓輥74之正面或其附近接觸轉印輥90，在捲繞轉印輥90之約半周量後從轉印輥90離開，從轉印輥90加以剝離。藉此製得薄膜構件80a。又，本實施形態中，在按壓輥74下游側且較從轉印輥90剝離薄膜基材80之位置上游側處具備UV照射光源85。亦可取代UV照射光源85而具備如加熱器之類用以使凹凸形成材料之塗膜84硬化之裝置。
於薄膜構件製造裝置100a，亦可進一步設有用以將從送出 輥72送出之薄膜基材80及被捲取輥87捲取前之薄膜構件80a分別除電之除電器。
薄膜構件製造裝置100a，能進一步具備觀察以塗敷部140A 形成之塗膜之厚度或狀態之檢查裝置或觀察從轉印輥90剝離後之塗膜84之凹凸圖案之檢查裝置等。
[第16實施形態]
本實施形態中，說明使用如上述之塗敷裝置140e~140i之具有凹凸圖 案之帶狀薄膜構件之製造裝置。如圖16所示之製造裝置16b，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120、於藉由薄膜搬送部120送出之薄膜基材80上形成凹凸形成材料之塗膜84之塗敷部140B、以及位於塗敷部140B之下游側且對凹凸形成材料之塗膜84轉印凹凸圖案之轉印部160。 藉由薄膜構件之製造裝置100b，製造具備附有凹凸圖案之凹凸形成材料之薄膜基材(以下稱為薄膜構件)80a。薄膜構件之製造裝置100b，除了塗敷部140B係藉由上述實施形態之塗敷裝置140e、140f、140g、140h、或140i構成以外，係與第15實施形態之薄膜構件之製造裝置100a相同構成。
[第17實施形態]
本實施形態中，說明使用如上述之塗敷裝置140j~140p之具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造裝置。如圖17所示之製造裝置16c，主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120、於藉由薄膜搬送部120送出之薄膜基材80上形成凹凸形成材料之塗膜84之塗敷部140C、以及位於塗敷部140C之下游側且對凹凸形成材料之塗膜84轉印凹凸圖案之轉印部160。 藉由薄膜構件之製造裝置100c，製造具備附有凹凸圖案之凹凸形成材料之薄膜基材(以下稱為薄膜構件)80a。薄膜構件之製造裝置100c，除了塗敷部140C係藉由上述實施形態之塗敷裝置140j、140f、140k、140m、140n或140p構成以外，係與上述之薄膜構件之製造裝置100a相同構成。
[第18實施形態]
參照圖15~17說明第18實施形態中使用上述第15~17實施形態之薄膜構件製造裝置100a~c製造具有凹凸圖案之薄膜構件的方法。
首先，開始搬送部120之搬送，將薄膜基材80從送出輥72 透過搬送輥78往塗敷部140A、140B或140C送出。
在塗敷部140A、140B或140C中，藉由上述塗敷裝置140a ~p之任一者，將具有不連續之圖案之凹凸形成材料之塗膜84形成於薄膜基材80上。藉此，於薄膜基材80上之所欲之不連續區域形成塗膜84。
作為凹凸形成材料，能使用光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、 熱可塑性樹脂，可舉出例如環氧系、丙烯酸系、甲基丙烯酸系、乙烯醚系、氧雜環丁烷系、胺甲酸酯系、三聚氰胺系、尿素系、聚酯系、酚系、交聯型液晶系、氟系、矽酮系、聚酰胺系等之單體、低聚物、聚合物等各種樹脂。
凹凸形成材料，由於需耐熱性優異因此可由無機材料形成， 特別是能使用二氧化矽、Ti系的材或ITO(銦．錫．氧化物)系的材料、ZnO、ZrO2、Al2O3等溶膠凝膠材料。使用溶膠凝膠法在薄膜基板上形成由二氧化矽構成之凹凸圖案層時，係調製金屬烷氧化物(二氧化矽前驅物)的溶膠凝膠材料。作為二氧化矽的前驅物，可使用四甲氧基矽烷(TMOS)、四乙氧基矽烷(TEOS)、四異丙氧基矽烷、四正丙氧基矽烷、四異丁氧基矽烷、四正丁氧基矽烷、四第二丁氧基矽烷、四第三丁氧基矽烷等以四烷氧基矽烷所代表之四烷氧化物單體、甲基三甲氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、丙基三甲氧基矽烷、異丙基三甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷(MTES)、乙基三乙氧基矽烷、丙基三乙氧基矽烷、異丙基三乙氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、甲基三丙氧基矽烷、乙基三丙氧基矽烷、丙基三丙氧 基矽烷、異丙基三丙氧基矽烷、苯基三丙氧基矽烷、甲基三異丙氧基矽烷、乙基三異丙氧基矽烷、丙基三異丙氧基矽烷、異丙基三異丙氧基矽烷、苯基三異丙氧基矽烷、甲苯基三乙氧基矽烷等以三烷氧基矽烷為代表的三烷氧化物單體、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二甲基二丙氧基矽烷、二甲基二異丙氧基矽烷、二甲基二正丁氧基矽烷、二甲基二異丁氧基矽烷、二甲基二第二丁氧基矽烷、二甲基二第三丁氧基矽烷、二乙基二甲氧基矽烷、二乙基二乙氧基矽烷、二乙基二丙氧基矽烷、二乙基二異丙氧基矽烷、二乙基二正丁氧基矽烷、二乙基二異丁氧基矽烷、二乙基第二丁氧基矽烷、二丙基二第三丁氧基矽烷、二丙基二甲氧基矽烷。二丙基二乙氧基矽烷、二丙基二丙氧基矽烷、二丙基二異丙氧基矽烷、二丙基二正丁氧基矽烷、二丙基二異丁氧基矽烷、二丙基二第二丁氧基矽烷、二丙基二第三丁氧基矽烷、二異丙基二甲氧基矽烷、二異丙基二乙氧基矽烷、二異丙基二丙氧基矽烷、二異丙基二異丙氧基矽烷、二異丙基二正丁氧基矽烷、二異丙基二異丁氧基矽烷、二異丙基二第二丁氧基矽烷、二異丙基二第三丁氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二苯基二乙氧基矽烷、二苯基二丙氧基矽烷、二苯基二異丙氧基矽烷、二苯基二正丁氧基矽烷、二苯基二異丁氧基矽烷、二苯基二第二丁氧基矽烷、二苯基二第三丁氧基矽烷等以二烷氧基矽烷為代表之二烷氧化物單體。再者，亦能使用烷基之碳原子數為C4~C18之烷基三烷氧基矽烷或二烷基二烷氧基矽烷。亦能使用乙烯基三甲氧基矽烷或乙烯基三乙氧基矽烷等具有乙烯基之單體、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧 丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷等具有環氧基的單體、對-苯乙烯基三甲氧基矽烷等具有苯乙烯基之單體、3-甲基丙烯酰甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基矽烷等具有甲基丙烯基之單體、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基矽烷等具有丙烯酸基之單體、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基矽烷、3-氨基丙基三甲氧基矽烷、3-氨基丙基三乙氧基矽烷、3-三乙氧基甲矽烷-N-(1,3-二甲基-亞丁基)丙胺、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基矽烷等具有氨基之單體、3-脲基丙基三乙氧基矽烷等具有脲基之單體、3-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷、巰丙基三甲氧基矽烷等具有巰基之單體、雙(三乙氧基丙基)四硫化物等具有硫化基之單體、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等具有異氰酸酯基之單體、將此等單體少量聚合而成之聚合物、以在前述材料的一部分導入官能基和聚合物作為特徵之複合材料等的金屬烷氧化物。又，亦可使用氟置換該等化合物之烷基和苯基的一部分或全部。而且，可舉出金屬乙醯乙酸酯、金屬羧酸酯、氧氯化物、氯化物、該等的混合物等，但是不被該等限定。又，作為金屬種，係除了Si以外，可舉出Ti、Sn、Al、Zn、Zr、In等、該等的混合物等，但是不被該等限定。亦能夠使用適當地混合上述氧化金屬的前驅物而成者。再者，作為二氧化矽之前驅物，亦能使用於分子中與二氧化矽具有親和性、反應性之加水分解基、以及具有撥水性之有機官能基的矽烷偶聯劑。 例如，可舉出正辛基三乙氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷，甲基三甲氧基矽 烷等矽烷單體、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)矽烷、乙烯基甲基二甲氧基矽烷等乙烯基矽烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基矽烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基矽烷等甲基丙烯酸矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷等環氧矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三乙氧基矽烷等巰基矽烷、3-辛酰基硫代-1-丙基三乙氧基矽烷等硫矽烷、3-氨基丙基三乙氧基矽烷、3-氨基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基二甲氧基矽烷、3-(N-苯基)氨基丙基三甲氧基矽烷等氨基矽烷、將此等單體聚合而成之聚合物等。
使用TEOS及MTES的混合物作為凹凸形成材料時，該等混 合比係例如能夠設為以莫耳比計為1：1。該溶膠凝膠材料係藉由使進行水解及聚縮合反應而生成非晶質二氧化矽。為了調整溶液的pH作為合成條件，亦可添加鹽酸等的酸或氨等的鹼。pH係以4以下或10以上為佳。又，為了進行水解，亦可添加水。添加的水量係相對於金屬烷氧化物種，能夠設為以莫耳比計為1.5倍以上。
作為由溶膠凝膠材料的構成之凹凸形成材料之溶液溶劑，例 如可舉出甲醇、乙醇、異丙醇(IPA)、丁醇等的醇類、己烷、庚烷、辛烷、癸烷、環己烷等的脂肪族碳化氫類、苯、甲苯、二甲苯、1,3,5-三甲苯(mesitylene)等的芳香族碳化氫類、二乙基醚、四氫呋喃、二烷等的醚類、丙酮、甲基乙基酮、異佛爾酮、環己酮等的酮類、丁氧基乙基醚、己氧基乙醇、甲氧 基-2-丙醇、苄氧基乙醇等的醚醇穎、乙二醇、丙二醇等的二醇類、乙二醇二甲基醚、二乙二醇二甲基醚、丙二醇一甲基醚乙酸酯等的二醇醚類、乙酸乙酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯等的酯類、苯酚、氯苯酚等的苯酚類、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮等的醯胺類、氯仿、二氯甲烷、四氯乙烷、一氯苯、二氯苯等的鹵素系溶劑、二硫化碳等的含雜元素化合物、水、及該等的混合溶劑。特別是以乙醇及異丙醇為佳，又，在該等混合水而成者亦佳。
作為由溶膠凝膠材料構成之凹凸形成材料之添加物，能夠使 用黏度調整用的聚乙二醇、聚環氧乙烷、羥丙基纖維素、聚乙烯醇、溶液安定劑之三乙醇胺等的醇胺、乙醯丙酮等的β-二酮、β-酮酯、甲醯胺、二甲基甲醯胺、二烷等。又，作為溶膠凝膠材料溶液之添加物，能使用藉由照射準分子UV光等紫外線所代表之能量射線等光而會產生酸或鹼之材料。藉由添加此種材料，能藉由照射光來使溶膠凝膠材料溶液硬化。
形成之凹凸形成材料之塗膜84的厚度係以0.5~500μm的範 圍內為佳。厚度未滿前述下限時，在凹凸形成材料的表面所形成之凹凸的高度係容易變為不充分，超過前述上限時，在硬化時所產生的凹凸形成材料之體積變化的影響變大，有無法良好地形成凹凸形狀之可能性。
其次，於所欲之不連續區域形成有凹凸形成材料之塗膜84 的基材80，被張設於塗敷部140A、140B或140C下游之搬送輥78上而被搬送，搬往轉印部160之轉印輥90及按壓輥74。搬送至按壓輥74下方近處之基材80，對向而疊合於轉印輥90之凹凸圖案，被以按壓輥74按壓，轉 印輥90之凹凸圖案轉印至塗膜84。
亦可對藉由按壓輥74而轉印有凹凸圖案之基材80，在按壓 轉印輥90之狀態下照射來自UV照射光源85之UV光，藉此促進塗膜84之硬化。作為使凹凸形成材料硬化之條件，雖會依照作為凹凸形成材料使用之材料之種類而有所不同，但例如在藉由加熱使凹凸形成材料硬化之場合，較佳為硬化溫度為室溫~250℃的範圍，硬化時間為0.5分~3小時。又，亦可藉由照射如紫外線或電子射線的能量射線來使其硬化，此情形下，照射量較佳為20mJ/cm2~5J/cm2之範圍內。圖15~17所示之例中，能藉由配置於轉印輥90下方之UV照射光源85對凹凸形成材料之塗膜84照射UV光。
將具有硬化後之凹凸形成材料之塗膜84a之薄膜基材(薄膜 構件80a)沿著轉印輥90外周變更行進路徑，其次往從轉印輥90離開之方向搬送而從轉印輥90剝離。此後，將薄膜構件80a捲取於捲取輥87。作為將薄膜構件80a從轉印輥90剝離之方法，不限定於機械式之剝離法，能採用任意之已知方法。例如圖15~17中，藉由將具有硬化後之凹凸形成材料之塗膜(凹凸圖案層)84a之薄膜構件80a在按壓輥74之下游側往從轉印輥90分離之方向搬送，藉此能將薄膜構件80a從轉印輥90剝離。如此，能製得於薄膜基材80上形成有凹凸之具有硬化後之凹凸圖案層84a的薄膜構件80a。凹凸圖案層84a，形成於薄膜基材80上之具有所欲不連續圖案之區域。
其次，參照圖式說明用以製造能防止因輥狀模接縫部產生之 轉印不良及剝離不良等產生之具有凹凸圖案之薄膜構件的方法及製造裝 置。
[第19實施形態]
以第19實施形態說明具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之其他製造方法。 此製造方法，如圖18所示，主要包含於薄膜基材上形成凹凸形成材料之塗膜之塗敷步驟與將轉印輥之凹凸圖案轉印至薄膜基材上之塗膜之轉印步驟，進一步亦可包含準備具有凹凸圖案之轉印輥之步驟。用於此製造方法之裝置一例顯示於圖19。此薄膜構件之製造裝置100d主要包含進行塗敷步驟之塗敷部140D、進行轉印步驟之轉印部160、以及將薄膜基材80對塗敷部140D及轉印部160搬送之搬送部120。以下，說明轉印部160所使用之轉印輥，其次說明各步驟之操作及各部之詳細構造。
<準備轉印輥之步驟>
在本實施形態使用之轉印輥，如圖20所示，係於外周面具有凹凸圖案90p之輥狀(圓柱狀、圓筒狀)模。轉印輥90具有驅動軸90d，藉由馬達等驅動裝置以軸90d為中心旋轉驅動。轉印輥之凹凸圖案90p之尺寸雖能依據所製造之薄膜構件之尺寸等適當設定，但例如可作成直徑為50~1000mm、軸方向長度為50~3000mm。此外，圖20中，轉印輥之凹凸圖案90p雖為了說明而誇大描繪，但實際之轉印輥之凹凸圖案90p係如後述意指微細之凹凸圖案。
在本實施形態使用之轉印輥90，與第15實施形態之薄膜構 件之製造裝置100a之轉印輥90同樣地，於表面具有凹凸圖案90p之薄板狀模90b安裝於圓柱狀之基體輥90a之外周面而構成。基體輥90a之材料及大 小亦可與第15實施形態之薄膜構件之製造裝置100a之基體輥相同。薄板狀模90b之材料及凹凸圖案90p亦可與第15實施形態之薄膜構件之製造裝置100a之薄板狀模相同。薄板狀模90b之捲繞方向之長度，亦可設計成較基體輥90a之周方向長度短。
可使用一片模作為薄板狀模90b，將此捲繞於基體輥90a並 加以安裝。或者，可使用兩片以上之模板作為薄板狀模90b，安裝成由此等來捲繞基體輥90a之外周面。薄板狀模90b，能使用接著劑、磁石、或螺絲等固定於基體輥90a。又，在使用金屬製模(金屬模)作為薄板狀模90b之場合，例如係將金屬模捲繞於基體輥90a，並將金屬模之端部熔接於基體輥90a，藉此能將金屬模固定於基體輥90a。藉由以上述方式將薄板狀模90b固定於基體輥90a，能使薄板狀模90b之端部彼此相連結。在本文中，所謂使薄板狀模90b之端部彼此相連結，不僅意味著薄板狀模90b之端部彼此接觸，亦有薄板狀模90b之端部彼此隔著既定間隔對向的意思。將藉由將薄板狀模90b固定於基體輥90a而彼此相連結之薄板狀模90b之端部彼此之接觸部或對向之端部間之區域稱為「接縫部」90c。此外，於薄板狀模90b之端部，為了將薄板狀模90b安裝於基體輥90a而設有螺絲等的場合，設有該螺絲等之區域亦該當於接縫部90c。亦即，所謂本文中所使用之用語「接縫部」，係指因將薄板狀模90b安裝於基體輥90a而產生之無法作為模之凹凸圖案使用的區域(主要係延伸於基體輥之軸方向的區域)。將兩片模板作為薄板狀模90b使用時，能製得如圖20所示，由具有凹凸圖案90p之兩片模板構成之薄板狀模90b於基體輥90a外周面每隔半周被安裝之轉印輥90。圖20 所示之轉印輥90中，於接縫部90c充填有樹脂。亦可視必要對凹凸圖案面90p施加離模處理。
具有凹凸圖案之薄板狀模90b能使用與第15實施形態相同 之薄膜構件之製造裝置100a之薄板狀模相同的方法來製造。
此外，為了準備轉印輥90，不一定要自己製作，亦可從製 造業者或市場取得將具有凹凸圖案之薄板狀模90b捲繞於基體輥90a且前述薄板狀模90b之端部彼此在前述基體輥90a之外周面上相連結之轉印輥90。
<形成塗膜之步驟>
於帶狀薄膜基材上，將凹凸形成材料以既定厚度間歇地塗敷。藉由間歇地塗敷凹凸形成材料，而於薄膜基材上形成形成有塗膜之塗工部與未形成有塗膜之未塗工部。
作為薄膜基材，能使用與用於第15實施形態之薄膜構件之 製造裝置100a之薄膜基材及凹凸形成材料相同者。作為凹凸形成材料，能使用與在第18實施形態之薄膜構件之製造方法所使用之凹凸形成材料相同者。凹凸形成材料之塗膜厚度，與第18實施形態之薄膜構件之製造方法同樣地較佳為在0.5~500μm之範圍內。
作為塗敷凹凸形成材料之方法，能採用例如凹版塗敷法、網 版印刷法、凸版印刷法、模壓塗敷法(die-coat)等的各種塗敷方法。
為了將凹凸形成材料間歇地塗敷於薄膜基材上，係使在上述 塗敷方法中使用之塗敷輥、塗敷模或塗敷頭等塗敷裝置間歇地動作。例如，在使用凹版塗敷法等使用塗敷輥之塗敷方法之場合，藉由使薄膜基材接觸 於塗敷輥，而能將凹凸形成材料塗敷於薄膜基材。此時，反覆在既定時點使基材薄膜從塗敷輥離開後停止塗敷，其次在既定時點使基材薄膜再度接觸於塗敷輥以再度開始塗敷的動作，即能將凹凸形成材料間歇地塗敷於薄膜基材。在以模壓塗敷法塗敷凹凸形成材料之場合，能藉由對模施加壓力而從模吐出凹凸形成材料以將凹凸形成材料塗敷於薄膜基材。此時，反覆在既定時點截斷施加於模之壓力使來自模之凹凸形成材料之吐出停止，其次在既定時點再度加壓模以使凹凸形成材料吐出而再度開始塗敷的動作，即能將凹凸形成材料間歇地塗敷於薄膜基材。
基材80上之未塗工凹凸形成材料之部分(未塗工部)之薄膜 基材搬送方向之長度，從確實地迴避在轉印輥之接縫部之轉印的觀點來看，亦可設為較轉印輥之圓周方向接縫部之長度大些許。
<轉印步驟>
在轉印步驟中，對形成於基材上之凹凸形成材料之塗膜按壓轉印輥，將轉印輥之凹凸圖案轉印於塗膜。此時，如圖22所示，係以轉印輥90之接縫部90c對向於薄膜基材80中未形成有凹凸形成材料之塗膜之部分(未塗工部)88，且薄膜基材80中形成有凹凸形成材料之塗膜之部分(塗工部)86對向於轉印輥90之薄板狀模90b的配置，使基材80與轉印輥90疊合。疊合於轉印輥90之薄膜基材80，亦可從基材80背面往轉印輥90使用按壓輥(夾持輥)74來按壓。
將基材80按壓於轉印輥90之同時或其後一刻，使凹凸形成 材料之塗膜84硬化。使凹凸形成材料硬化之條件，亦可與第18實施形態之 薄膜構件之製造方法相同。
其次，將具有硬化後之凹凸圖案之凹凸形成材料之塗膜及薄 膜基材從轉印輥剝離。將硬化後之凹凸形成材料之塗膜及薄膜基材從轉印輥剝離之方法，亦可與第18實施形態之薄膜構件之製造方法中之剝離方法相同。
此外，亦可使轉印輥一邊以軸為中心旋轉驅動，一邊檢測其 旋轉速度及接縫部之位置等旋轉狀態。亦可根據檢測出之旋轉狀態之資訊，在上述塗敷步驟中控制塗敷凹凸形成材料之時點。轉印輥之旋轉狀態，能藉由在轉印輥設置反射板等而以光學感測器檢測其位置之方法或使用伺服器馬達或編碼器等來檢測。此外，如後述般，檢測接縫部之步驟並非必須，亦可省略此步驟。
[第20實施形態]
第20實施形態中，說明具有凹凸圖案之薄膜構件之製造裝置。如圖19所示之薄膜構件製造裝置100d，如上所述主要具備連續地送出薄膜基材80之薄膜搬送部120、於藉由薄膜搬送部120送出之薄膜基材80上形成凹凸形成材料之塗膜84之塗敷部140D、以及位於塗敷部140D之下游側且對凹凸形成材料之塗膜84轉印凹凸圖案之轉印部160。又，薄膜構件之製造裝置100d亦可具備控制以塗敷部140D對薄膜基材80上間歇地塗敷凹凸形成材料之時點的控制部。
薄膜搬送部120，如圖19所示，主要可具有送出帶狀薄膜 基材80之送出輥72、設於轉印部160下游而捲取薄膜構件80a之捲取輥87、 以及用以將薄膜基材80及薄膜構件80a往搬送方向搬送之搬送輥78。送出輥72與捲取輥87，亦可能旋轉地安裝於能將該等拆裝之支撐台(未圖示)。 能藉由送出輥72與捲取輥87之旋轉驅動將薄膜基材80往搬送方向搬送。
再者，薄膜搬送部120亦可包含將薄膜基材80之張力保持 於一定之張力控制部130，張力控制部130能由調節輥32、導引輥34及透過調節輥32之支軸安裝之氣缸(未圖示)構成。其構成為來自汽缸之一定大小之力透過支軸施加於調節輥32，調節輥32能移動至來自此氣缸之力與藉由薄膜基材之張力使調節輥32被拉伸之力平衡的位置。藉此，被搬送之薄膜基材80能隨時維持一定之張力。
塗敷部140D，如圖21所詳細圖示，具備塗敷輥40、作動輥 42及貯存有凹凸形成材料之容器82。塗敷輥40係與薄膜基材80表面(塗敷凹凸形成材料之面)對向地對薄膜基材80塗敷凹凸形成材料而形成塗膜84。作動輥42，係擇一地位移至支撐薄膜基材80背面(與形成塗膜84之面相反側之面)以使基材80接觸於塗敷輥40之位置(圖19及圖21中實線所圖示之作動輥42位置，以下適當稱為「接觸位置」)與使基材80從塗敷輥40分離之位置(即圖19及圖21中虛線所圖示之作動輥42位置，以下適當稱為「分離位置」)。
塗敷輥40之尺寸能適當設定。從防止凹凸形成材料從薄膜 基材80左右端部超出而繞入薄膜基材80背面之觀點來看，塗敷輥之塗敷面之旋轉軸方向長度較薄膜基材80寬度小為佳。又，為了於凹凸形成材料之塗膜84全面轉印凹凸圖案，塗敷輥之旋轉軸方向長度可較轉印輥90之凹凸 圖案之軸方向長度小。塗敷輥40，以一部分浸漬於貯存在容器82之液體狀凹凸形成材料之狀態下旋轉的配置來設置。若使塗敷輥40一邊浸漬於凹凸形成材料一邊旋轉，則於塗敷輥40之外周面(側面)保持凹凸形成材料。作動輥42能使用致動器(未圖示)等來變更位置(用以相對凹凸形成材料使前述薄膜基材移動之機構)。在作動輥42位於接觸位置時，塗敷輥40所保持之凹凸形成材料接觸於薄膜基材80，於基材80上形成凹凸形成材料之塗膜84。另一方面，在作動輥42位於分離位置時，由於基材80從塗敷輥40所保持之凹凸形成材料分離，因此於基材80上不形成凹凸形成材料之塗膜。 藉由以此方式切換作動輥42之位置，能於薄膜基材80上形成凹凸形成材料之塗工部86及未塗工部88。
轉印部160如圖22詳細圖示，具備轉印輥90及與其對向之 按壓輥(夾持輥)74。轉印輥90能以上述第19實施形態之薄膜狀構件製造方法中準備轉印輥之步驟之說明所記載的方法來製造，此種轉印輥90具備未形成有凹凸圖案之接縫部90c。按壓輥74，與轉印輥90一起將形成有凹凸形成材料之塗膜84之薄膜基材80夾入，從薄膜基材80背面按壓薄膜基材80。又，圖19及22所示之實施形態中，轉印部160之上游側與下游側之搬送輥78，配置成薄膜基材80捲繞於轉印輥90之大致半周量。本實施形態中，薄膜基材80係在按壓輥74之正面或其附近接觸轉印輥90，在捲繞轉印輥90之約半周量後從轉印輥90離開，從轉印輥90剝離薄膜基材80。又，本實施形態中，在按壓輥74下游側且較從轉印輥90剝離薄膜基材80之位置上游側處具備如UV照射光源85之類用以使凹凸形成材料之塗膜84硬化 的裝置。
第20實施形態之薄膜構件之製造裝置，亦可如圖23所示具 備檢測轉印輥90之接縫部90c位置之檢測裝置及控制部180。例如如圖23所示，於轉印輥之驅動軸90d，在與轉印輥之接縫部90c位置對應之位置設置反射板90e，並以光學感測器62之受光部接收從光學感測器62之光照射部照射之光，而能檢測出其位置及旋轉速度。又，控制部180亦可具備電腦64，該電腦64係根據以光學感測器62檢測出之接縫部90c位置及旋轉速度之資訊、接縫部90c之周方向長度及間隔、以及塗敷輥40至轉印輥90之基材80之距離及搬送速度等來計算與轉印輥90之接縫部90c對向之薄膜基材之位置，根據其計算結果，算出基材80上之形成凹凸形成材料之塗膜之部分(塗工部)與不形成塗膜之部分(未塗工部)之形成位置以在轉印部160中使轉印輥90之接縫部90c對向於薄膜基材80中未形成有凹凸形成材料之塗膜的部分(未塗工部)，並根據其算出結果控制塗敷部140D之作動輥42之位置。
於薄膜構件製造裝置100d，亦可進一步設有用以將從送出 輥72送出之薄膜基材80及被捲取輥87捲取前之薄膜構件80a分別除電之除電器。
薄膜構件製造裝置100d，能進一步具備觀察以塗敷部140D 形成之塗膜之厚度或狀態之檢查裝置或觀察從轉印輥90剝離後之塗膜84之凹凸圖案之檢查裝置等。
說明藉由薄膜構件製造裝置100d處理薄膜基材80的動作。
搬送部120中，薄膜基材80從送出輥72被送出，透過搬送 輥78到達塗敷部140D。
塗敷部140D中，在薄膜基材80上之應形成塗膜84之部分(成 為塗工部之部分)被搬送至塗敷輥40正面時，控制部180控制使作動輥42移動之致動器等，使作動輥42移動至接觸位置(圖19及21中以實線所示之位置)。藉由此作動輥42之移動，基材80一邊往搬送方向移動一邊與塗敷輥40接觸，藉此於基材80上以既定膜厚形成凹凸形成材料之塗膜84。此時，由於張力控制部130之調節輥32構成為會移動至來自氣缸之力與藉由薄膜基材之張力而拉伸調節輥32之力平衡之位置，因此，藉由作動輥42移動增加薄膜基材80拉伸調節輥32的張力，而使調節輥32移動(移動至圖19中實線所示位置)。藉此，薄膜基材80之張力保持於一定。其次，薄膜基材80中不形成塗膜84之部分(成為未塗工部之部分)被搬送至塗敷輥40正面時，控制部180使作動輥42移動至分離位置(圖19及圖21中以虛線所圖示之位置)。藉由此作動輥42之移動，由於移動於搬送方向之基材80從塗敷輥40離開，因此於基材80上形成不形成凹凸形成材料之塗膜之未塗工部。此時，由於張力控制部130之調節輥32從薄膜基材80被拉伸之張力減少，因此調節輥32移動至新的來自氣缸之力與藉由薄膜基材之張力而拉伸調節輥32之力平衡之位置(圖19中虛線所示位置)。藉此，薄膜基材80之張力保持於一定。控制部180藉由如上述般以既定週期反覆變更作動輥42之位置，而在塗敷部140D中進行間歇之塗工。
其次，形成有凹凸形成材料之塗膜84之基材80被張設於塗 敷部140D下游之搬送輥78上而被搬送，搬往轉印部160之轉印輥90及按壓輥74。在轉印部160，搬送來之薄膜基材80疊合於轉印輥90，被以按壓輥74按壓。此時，如圖22所示，係以轉印輥90之接縫部90c對向於薄膜基材80中之凹凸形成材料未塗工部88，且薄膜基材80中之凹凸形成材料塗工部86對向於轉印輥90之薄板狀模90b的配置，使基材80與轉印輥90疊合。藉此，轉印輥90之凹凸圖案90p被按壓於薄膜基材80上之塗工部86，進行凹凸圖案之轉印。此時，由於轉印輥90之接縫部90c對向於薄膜基材80之凹凸形成材料未塗工部88，因此能防止因接縫部90c之凹凸或間隙等使製造之薄膜構件產生缺陷或薄膜基材破損之情事。
其次，藉由按壓輥74而轉印有凹凸圖案之基材80，在按壓 轉印輥90之狀態下照射來自UV照射光源85之UV光，藉此促進塗膜84之硬化。其次，具有硬化後之凹凸形成材料之塗膜之薄膜基材(薄膜構件80a)沿著轉印輥90外周變更行進路徑，其次往從轉印輥90離開之方向搬送而從轉印輥90剝離。此後，將薄膜構件80a捲取於捲取輥87。如此，能製得轉印輥90之凹凸圖案轉印於塗膜之薄膜構件80a。亦能將所製得之薄膜構件80a取代藉由電鑄法形成之金屬模等來使用，將此作為薄板狀模捲繞固定於輥體，來製造其他形態之轉印輥。
此外，於上述薄膜構件之製造裝置100d雖設有檢測轉印輥 90之旋轉狀態之感測器，但此種檢測裝置亦可不組裝於裝置。此情形下，藉由進行例如以下之操作，即能以轉印輥之接縫部與薄膜構件之凹凸形成材料未塗工部疊合之方式間歇地塗敷。首先，從轉印輥90之接縫部之旋轉 方向長度及間隔決定形成於薄膜基材之塗工部及未塗工部之長度。據此，從薄膜基材之搬送速度算出使薄膜基材與塗敷輥接觸及分離之時間及週期。使作動輥以塗敷輥與薄膜基材依照此算出之時間及週期接觸及分離之方式作動。進而，從塗敷輥至轉印輥之薄膜基材之搬送距離及轉印輥之直徑算出薄膜基材之塗敷開始位置(成為塗工部之部分之搬送方向側之端部)位於塗敷輥正面時之轉印輥之接縫部位置(旋轉角度)。其次，使轉印輥之接縫部對齊於上述算出之位置，開始薄膜構件製造裝置之驅動。此外，此情形下，塗敷輥與薄膜基材之接觸及分離之循環係從接觸開始之時點開始。 藉由以上，能使薄膜構件之凹凸形成材料未塗工部與轉印輥之接縫部疊合。
在薄膜構件之製造裝置100d之張力控制部130，藉由調節 輥32之移動將薄膜基材80之張力保持於一定。作為將薄膜基材80之張力保持於一定之張力控制部130，能取代調節輥32而採用各種機構或控制方法。例如，可視薄膜基材80之張力直接控制送出輥72之驅動。此情形下，係取代圖19之張力控制部130中之一對導引輥34與調節輥32而將具備張力偵測功能之如輥之張力感測器(未圖示)設成接觸於薄膜基材80。將此種張力感測器連接於控制送出輥72之驅動之控制裝置、例如旋轉驅動送出輥72之馬達之控制系統，即能將馬達控制成會依照以張力感測器偵測出之張力值使送出輥72之旋轉速度變化。藉此，將薄膜基材80之張力保持於一定以消除因間歇動作產生之薄膜之鬆弛或突出。
作為張力控制部130中將薄膜基材80之張力保持於一定之 其他機構，亦可於送出輥72連接力矩馬達(未圖示)。力矩馬達能配合施加 於送出輥72之負荷之變化來調整旋轉速度或力矩。因此，只要將力矩馬達之力矩設定於一定，則即使施加於薄膜基材80之張力變化，使送出輥旋轉之旋轉力(力矩)亦可隨時保持於一定。藉由使用力矩馬達，亦能省略圖19之張力控制部130中之一對導引輥34與調節輥32。
作為張力控制部中將薄膜基材80之張力保持於一定之其他 機構，亦可於送出輥72設置磁粉離合器(未圖示)。磁粉離合器，係於傳遞馬達原動力之驅動軸(輸入軸)與傳遞其原動力之傳達軸(輸出軸)之接合面存在如鐵粉之磁粉，通常係以從設於離合器之電磁石產生之磁場控制磁粉之密度等來進行控制，據以控制原動力之傳達。此情形下，藉由設定成在對送出輥72施加既定力矩時磁粉離合器會滑出，而能將送出輥72之力矩控制於一定。或者，設置如前述之張力控制部，而能依據施加於薄膜基材80之張力之值調整磁粉密度，據以透過離合器之滑動控制送出輥之力矩。採用此種磁粉離合器時，亦能省略圖19之張力控制部130中之一對導引輥34與調節輥32。
又，在針對從送出輥72送出之薄膜基材80設定之張力與間 歇塗工時之以張力控制部設定之張力相異時，亦可於搬送輥78亦連接上述之張力感測器、力矩馬達、或磁粉離合器來進行送出輥72之張力控制，而在導引輥34側進行張力控制部130之張力控制。
第20實施形態中，雖藉由使用作動輥42之塗敷部140D進 行了間歇之塗工，但塗敷部140D亦可藉由第1~14實施形態之塗敷裝置140a~p之任一者來構成。藉由塗敷部140D由第1~14實施形態之塗敷裝 置140a~p之任一者來構成，由於能形成具有間歇(不連續)之圖案之塗膜，因此能使未塗工部對向於轉印輥90之接縫部90c並疊合來進行凹凸圖案之轉印。
又，能防止因輥狀模接縫部產生之轉印不良及剝離不良等產 生之製造方法及製造裝置不限定於上述第19及第20實施形態，只要係能使未塗工部對向於轉印輥之接縫部並疊合來進行凹凸圖案之轉印之構成即可。
[第21實施形態]
進而，能藉由將使用如上述之方法及製造裝置製造之薄膜構件作為薄膜狀模使用，能製造具備轉印有薄膜構件之凹凸圖案之凹凸構造層的基板。本實施形態中說明此方法。
由於藉由溶膠凝膠法形成轉印有薄膜狀模之凹凸圖案之凹 凸構造層，因此最初係調製溶膠凝膠材料之溶液。凹凸構造層由於需耐熱性優異因此較佳為由無機材料形成，特別是能使用二氧化矽、Ti系的材或ITO(銦．錫．氧化物)系的材料、ZnO、ZrO2、Al2O3等溶膠凝膠材料。作為用以調製溶膠凝膠材料之溶液所使用之金屬烷氧化物(前驅物)能使用與上述之帶狀薄膜構件之製造方法之實施形態中能作為凹凸形成材料使用之金屬烷氧化物(前驅物)、溶媒、以及添加物所例示者相同之材料。
將調製出之溶膠凝膠材料之溶液塗敷於基板上。作為基板， 能夠例如使用由玻璃、石英、矽基板等的無機材料所構成之基板、或聚對酞酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、環烯烴聚合物 (COP)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)、聚醯亞胺(PI)、聚丙烯酸等的樹脂基板。基板可以透明亦可以不透明。將從該基板所得到的凹凸圖案基板使用於製造有機EL元件時，基板係以包括耐熱性、對UV光等的耐光性之基板為佳。從此觀點來看，以由玻璃、石英、矽基板等的無機材料所構成之基板為較佳。尤其是，若基板由無機材料形成，則在基板與凹凸構造層之間的折射率差異較少，就能夠防止在光學基板內非蓄意的折射和反射而言，亦是較佳。為了使基板上密著性提升，亦可進行表面處理和設置易接著層等，為了防止水分、氧等的氣體浸入之目的，亦可設置氣體隔離層等。又，基板亦可於形成凹凸構造層之面之相反側之面形成具有聚光、光擴散等各種光學功能之光學功能層。作為溶膠凝膠材料之塗敷方法，雖能使用桿塗敷法、旋轉塗敷法、噴霧塗敷法、浸漬塗敷法、模壓塗敷法(die-coat)、噴墨塗敷法等的任意塗敷方法，但從能夠於較大面積之基板均一地塗敷溶膠凝膠材料且在溶膠凝膠材料凝膠化前迅速地結束塗敷的觀點來看，較佳為桿塗敷法、模壓塗敷法、以及旋轉塗敷法。此外，因為在後面的步驟，係使用溶膠凝膠材料層形成所需要的凹凸圖案，所以基板表面(有表面處理和易接著層時，亦包含該等)可為平坦，而且該基板本身係不具有所需要的凹凸圖案。所塗敷之溶膠凝膠材料之膜厚可為例如100~500nm。
亦可在溶膠凝膠材料之塗敷後，為了使塗膜(以下亦適當稱 為「溶膠凝膠材料層」)中之溶媒蒸發，而將基板保持在大氣中或減壓狀態下。若此保持時間短，則塗膜之黏度變得過低，在後續之按壓步驟中即無法轉印凹凸圖案，若保持時間過長，則前驅物之聚合反應進展，塗膜之黏 度變得過高，而無法在按壓步驟中轉印凹凸圖案。又，在塗敷溶膠凝膠材料後，伴隨溶媒蒸發之進行亦進行前驅物之聚合反應，溶膠凝膠材料之黏度等物性亦會在短時間變化。從凹凸圖案形成穩定性之觀點來看，較佳為圖案轉印能良好進行之乾燥時間範圍充分廣，此能藉由乾燥溫度(保持溫度)、乾燥壓力、溶膠凝膠材料種、溶膠凝膠材料種之混合比、溶膠凝膠材料調製時所使用之溶媒量(溶膠凝膠材料之濃度)等來調整。
其次，將以上述方法及製造裝置製造之薄膜構件作為凹凸圖 案轉印用之薄膜狀模使用，將薄膜狀模之凹凸圖案轉印於溶膠凝膠材料層，藉此形成凹凸構造層。此時，亦可使用按壓輥將模按壓於溶膠凝膠材料層。在使用按壓輥之輥製程中，與沖壓(PRESS)式相較由於模與塗膜接觸時間短，因此具有能防止因模或基板及設置基板之載台等熱膨脹係數之差造成之圖案扭曲、防止因溶膠凝膠材料溶液中之溶媒之突沸而於圖案中產生氣泡或殘留氣體痕、因與基板(塗膜)線接觸故能使轉印壓力及剝離力較小而較易對應大面積、於按壓時不會有氣泡咬入等優點。又，亦可一邊按壓模一邊加熱基板。作為使用按壓輥將模按壓於溶膠凝膠材料層之例，能如圖24所示，將薄膜狀模80a送入按壓輥122與搬送至其下方近處之基板10之間，藉此能將薄膜狀模80a之凹凸圖案轉印至基板10上之溶膠凝膠材料層12。亦即，將薄膜狀模80a藉由按壓輥122按壓於溶膠凝膠材料層12時，係一邊同步搬送薄膜狀模80a與基板10一邊將薄膜狀模80a覆蓋於基板10上之溶膠凝膠材料層12表面。此時，藉由一邊將按壓輥122按壓於薄膜狀模80a背面(形成有凹凸圖案之面之相反側之面)一邊使之旋轉，薄膜狀模80a 與基板10即一邊行進一邊密著。此外，為了將帶狀之薄膜狀模80a往按壓輥122送入，從捲繞有帶狀之薄膜狀模80a之薄膜輥直接送出薄膜狀模80a來使用係較便利之方式。
將模按壓於溶膠凝膠材料層後，亦可將溶膠凝膠材料層預鍛 燒。藉由預鍛燒使溶膠凝膠材料層之凝膠化進展，使圖案固化，在剝離時難以崩壞。在進行預鍛燒之場合，較佳為在大氣中以40~150℃之溫度加熱。此外，預鍛燒不一定要進行。
在模之按壓或溶膠凝膠材料層之鍛燒後，從溶膠凝膠材料層 剝離模。能採用公知之剝離方法作為模之剝離方法。可一邊加熱一邊剝離模，藉此釋放從溶膠凝膠材料層產生之氣體，能防止於溶膠凝膠材料層內產生氣泡。在使用輥製程時，與沖壓式所使用之板狀模相較，剝離力可較小，能在溶膠凝膠材料層不殘留於模之狀態下容易地將模從溶膠凝膠材料層剝離。尤其是，由於係一邊加熱溶膠凝膠材料層一邊按壓，因此容易進行反應，在按壓後一刻模可容易地從溶膠凝膠材料層剝離。再者，為了提升模剝離性，亦可使用剝離輥。如圖24所示，將剝離輥123設於按壓輥122之下游側，藉由剝離輥123將薄膜狀模80a一邊彈壓於溶膠凝膠材料層12一邊旋轉支撐，藉此能將薄膜狀模80a附著於溶膠凝膠材料層(塗膜)12之狀態維持按壓輥122與剝離輥123間之距離(一定時間)。接著，以在剝離輥123下游側將薄膜狀模80a往剝離輥123上方拉起之方式變更薄膜狀模80a之行進路徑，藉此薄膜狀模80a從形成有凹凸之溶膠凝膠材料層12拉離。此外，亦可在薄膜狀模80a附著於溶膠凝膠材料層12之期間中進行前述溶膠凝膠 材料層12之預鍛燒或加熱。此外，在使用剝離輥123之場合，能例如一邊加熱至40~150℃一邊剝離，藉此能使模80a之剝離更容易。
亦可在從溶膠凝膠材料層剝離模後，使溶膠凝膠材料層硬 化，如此形成凹凸構造層。本實施形態中，能藉由正式鍛燒使溶膠凝膠材料層硬化。藉由正式鍛燒使構成溶膠凝膠材料層(塗膜)之二氧化矽(非晶二氧化矽)中所含之羥基等脫離使溶膠凝膠材料層更牢固。正式煅燒係以在200~1200℃的溫度進行5分鐘~6小時左右為佳。如此使溶膠凝膠材料層硬化，能夠得到具有對應模的凹凸圖案的凹凸圖案之基板、亦即得到由溶膠凝膠材料構成之凹凸構造層直接形成在平坦的基板上而成之基板。此時，凹凸構造層為二氧化矽時，按照煅燒溫度、煅燒時間而成為非晶質或結晶質、或非晶質與結晶質的混合狀態。又，在添加了因照射紫外線等光而產生氧或鹼之材料之場合，於凹凸圖案之轉印時，亦可藉由對凹凸構造層照射例如紫外線或準分子UV等能量射線來使凹凸構造層硬化。
此外，亦可在凹凸構造層表面進行疏水化處理。疏水化處理 的方法係使用已知的方法即可，例如二氧化矽表面時，亦能夠使用二甲基二氯矽烷、三甲基烷氧基矽烷等進行疏水化處理，亦可採用使用六甲基二矽氮烷等的三甲基矽烷基化劑及矽酮油進行疏水化處理之方法，亦可採用使用超臨界二氧化碳之金屬氧化物粉末的表面處理方法。藉由使凹凸構造層表面成為疏水性，在將藉由實施形態之製造方法製造之凹凸圖案基板用於有機EL元件等元件之製造時，由於在製程中能容易地從基板去除水分，因此能防止有機EL元件中之如暗點之類缺陷產生或元件劣化。
又，上述實施形態中，雖使用溶膠凝膠材料作為凹凸構造層 之材料，但除了上述無機材料以外，亦可使用硬化性樹脂材料。作為硬化性樹脂，能使用光硬化及熱硬化、濕氣硬化型、化學硬化型(二液混合)等樹脂。具體而言，可舉出例如環氧系、丙烯酸系、甲基丙烯酸系、乙烯醚系、氧雜環丁烷系、胺甲酸酯系、三聚氰胺系、尿素系、聚酯系、酚系、交聯型液晶系、氟系、矽酮系、聚酰胺系等之單體、低聚物、聚合物等各種樹脂。又，於凹凸構造層表面，為了防止水分、氧等的氣體浸入之目的，亦可設置氣體隔離層等。
在使用硬化性樹脂形成凹凸構造層之場合，例如能在將硬化 性樹脂塗敷於基板後，對塗敷後之硬化性樹脂層一邊按壓具有微細凹凸圖案之模一邊使塗膜硬化，藉此能將模之凹凸圖案轉印於硬化性樹脂層。硬化性樹脂亦可以有機溶劑稀釋後塗敷。作為此種情形所使用之有機溶劑，能選擇溶解硬化前之樹脂者來使用。例如能從甲醇、乙醇、異丙醇(IPA)等醇系溶劑、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮(MIBK)等酮系溶劑等公知者來選擇。作為塗敷硬化性樹脂之方法，能採用例如旋轉塗敷法、噴霧塗敷法、浸漬塗敷法、滴下法、凹版印刷法、網版印刷法、凸版印刷法、模壓塗敷法(die-coat)、簾流塗敷法、噴墨塗敷法、濺鍍法等的各種塗敷方法。作為使硬化性樹脂硬化之條件，係依照所使用的樹脂之種類而不同，例如，較佳為硬化溫度為室溫~250℃的範圍，硬化時間為0.5分~3小時。又，亦可藉由照射如紫外線或電子射線的能量射線來使其硬化，此情形下，照射量較佳為10mJ/cm2~5J/cm2。
又，亦可使用矽烷偶聯劑作為凹凸構造層之材料。藉此，在 使用具有實施形態之凹凸圖案(凹凸構造)之基板來製造有機EL元件之場合，能使凹凸構造層與形成於其上之電極等層之間之密著性提升，在有機EL元件之製程中之洗淨步驟或高溫處理步驟之耐性提升。用於凹凸構造層之矽烷偶聯劑，其種類雖無特別限制，但例如可使用以RSiX3(R為包含選自乙烯基、環氧丙氧基、丙烯酸基、甲基丙烯酸基、氨基、巰基之至少一種之有機官能基，X為鹵元素或烷氧基)所示之有機化合物。作為塗敷矽烷偶聯劑之方法，能採用例如旋轉塗敷法、噴霧塗敷法、浸漬塗敷法、滴下法、凹版印刷法、網版印刷法、凸版印刷法、模壓塗敷法、簾流塗敷法、噴墨塗敷法、濺鍍法等的各種塗敷方法。其後，能製得按照各材料以適當之條件使之乾燥而硬化之膜。例如亦可以100~150℃加熱乾燥15~90分。
凹凸構造層之材料，亦可係使無機材料或硬化性樹脂材料含 有紫外線吸收材料而成者。紫外線吸收材料，有藉由吸收紫外線以將光能量轉換成如熱之無害形態，以抑制膜劣化的作用。作為紫外線吸收劑能使用以往公知之材料，例如苯並***系吸收劑、三嗪系吸收劑、水楊酸衍生物系吸收劑、二苯甲酮系吸收劑等。
以上雖說明了本發明之實施形態，但本發明之塗敷裝置及塗敷方法、具有凹凸圖案之薄膜構件之製造裝置及製造方法、以及使用藉此製造之薄膜構件之具有凹凸圖案之基板之製造方法不限定於上述實施形態，能在申請專利範圍所記載之技術思想之範圍內適當改變。又，本發明之塗敷裝置及薄膜構件之製造裝置不限定於上述實施形態之構成，搬送輥 等各種要素之配置亦可與本申請案圖式所示之配置相異。
例如，本發明之塗敷裝置中，當於塗敷輥之外周面形成液體保持區域及液體非保持區域之場合，液體非保持區域亦可具有平坦之面，亦可被撥液加工。液體非保持區域亦可相對液體保持區域成凹部。又，藉由本發明之塗敷裝置形成之膜，亦可係具有在薄膜基材之長度方向及寬度方向彼此分離之複數個區域的膜。
又，本發明之塗敷裝置中，在無塗敷區域形成機構包含圖案遮罩賦予部與圖案遮罩剝離部，進而包含於薄膜基材上形成在薄膜基材之搬送方向連續之無塗敷區域之搬送方向無塗敷區域形成機構之場合，前述搬送方向無塗敷區域形成機構，亦可包含：帶狀遮罩賦予部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向上游側處，對前述薄膜基材之前述塗膜形成面上賦予沿著前述薄膜基材之搬送方向成帶狀之帶狀遮罩；以及帶狀遮罩剝離部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向下游側處，將前述帶狀遮罩從前述薄膜基材剝離。或者，前述搬送方向無塗敷區域形成機構，亦可包含：撥液材料塗敷部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向上游側處且將撥液性材料塗敷於前述薄膜基材之前述塗膜形成面上。或者，亦可前述塗敷輥包含前述搬送方向無塗敷區域形成機構，前述搬送方向無塗敷區域形成機構包含形成於前述塗敷輥之前述外周面上且於前述塗敷輥之周方向連續之兩個以上之液體保持區域、以及在前述塗敷輥之前述外周面上形成於前述液體保持區域之各個之間的液體非保持區域，前述搬送方向無塗敷區域形成機構包含在前述塗敷輥之旋轉軸方向彼此分 離配置之至少兩個以上之塗液供應室。
本發明之薄膜構件之製造方法之塗敷步驟中，亦可使用於外周面保持有凹凸形成材料之塗敷輥來形成塗工部。又，本發明之薄膜構件之製造方法之塗敷步驟中，可在搬送薄膜基材之期間將薄膜基材之張力保持於一定。再者，本發明之薄膜構件之製造方法，亦可具有準備一轉印輥之步驟，轉印輥係具有凹凸圖案之薄板狀模捲繞於基體輥且該薄板狀模之端部彼此在基體輥之外周面上相連結。在準備轉印輥之步驟中，薄板狀模可為金屬製之模，亦可藉由電鑄法製作金屬製之模。或者，在準備轉印輥之步驟中，薄板狀模可為薄膜狀之樹脂模。又，亦可藉由樹脂充填薄板狀模之接縫部。亦可薄板狀模有兩片以上之模板，在轉印輥中，模板之端部彼此在基體輥之外周面上相連結而被安裝。
本發明之薄膜構件之製造裝置，亦可具備在搬送薄膜基材之期間將前述薄膜基材之張力保持於一定之張力控制部。再者，亦可具備使薄膜基材相對凹凸形成材料移動之移動機構，藉由該移動機構使薄膜基材接觸於凹凸形成材料或從凹凸形成材料使薄膜基材分離。
又，亦可使用藉由本發明之薄膜構件之製造方法製造之薄膜構件製造具有凹凸圖案之基板，該具有凹凸圖案之基板之製造方法，可包含將溶膠凝膠材料層形成於基板上之動作、以及將藉由本發明之薄膜構件之製造方法製造之薄膜構件作為具有凹凸圖案之模使用而將前述模之前述凹凸圖案轉印於前述溶膠凝膠材料層的動作。
本發明之塗敷裝置及具有凹凸圖案之薄膜構件能用於各種 用途，例如能使用於有機EL元件、光學濾光器、微透鏡陣列、稜鏡陣列、光導波路、LED、平面面板顯示器製作用之光學薄膜或偏光元件、繞射光柵或凹凸全像片等光學零件、各種透鏡等光學元件及光學零件、太陽電池、反射防止膜、半導體晶片、圖案介質、資料儲存、電子紙、LSI等製造、防霧用基板、撥水基板、親水基板、製紙、食品製造、DNA分離晶片、免疫分析晶片、細胞培養紙、奈米生物元件等生物領域等中之用途被使用之構件及其製造。除此之外，亦能使用於各種電子元件、尤其是半導體積體電路、平面顯示器、微型電氣機械系統(MEMS)、感測器元件、光碟、高密度記憶體碟等磁性記錄媒體、奈米元件、光學元件、液晶顯示器之薄膜電晶體、有機電晶體、彩色濾光片、條碼層、柱材、液晶配向用之肋材、微透鏡陣列、微反應器、光子液晶等。
[產業上可利用性]
本發明之塗敷裝置，能以更簡便之方法將具有不連續圖案之塗膜形成於基材上。進而，藉由使用本發明之塗敷裝置之薄膜構件之製造裝置，能製造於基材上具有所欲圖案之凹凸圖案形成區域之薄膜構件。又，本發明之具有所欲圖案之凹凸圖案形成區域之薄膜構件之製造方法及製造裝置，係以在薄膜基材之與轉印輥之接縫部對向之部分形成凹凸形成材料之未塗工部之方式將凹凸形成材料間歇地塗敷於薄膜基材上，藉此能減低因轉印部之凹凸等導致之轉印不良及剝離不良等，能在輥製程中有效率地製造薄膜構件。使用將所製造之薄膜構件作為具有可撓性之模而製造之光學基板等具有凹凸圖案之基板，其耐熱性、耐候性及耐蝕性優異，組裝有該光學 基板之元件之製程亦具有耐性，又，能使該等元件之使用壽命較長。因此，此種基板，能非常合適地用於有機EL元件或太陽電池等各種用途。
11‧‧‧帶狀遮罩
13‧‧‧帶狀遮罩送出輥
15‧‧‧帶狀遮罩捲取輥
17‧‧‧貼合輥
18‧‧‧支撐輥
19‧‧‧剝離輥
20‧‧‧支撐輥
40‧‧‧塗敷輥
40a‧‧‧液體保持區域
42‧‧‧作動輥
78‧‧‧搬送輥
80‧‧‧薄膜基材
82‧‧‧塗液供應構件
84‧‧‧塗膜
120a‧‧‧薄膜搬送部
140a‧‧‧塗敷裝置
270‧‧‧帶狀遮罩賦予部
290‧‧‧帶狀遮罩剝離部

Claims (26)

  1. 一種塗敷裝置，係於帶狀薄膜基材之塗膜形成面形成膜，其具備：塗敷輥，於外周面上附著塗膜材料並旋轉；塗液供應構件，係對前述塗敷輥供應前述塗膜材料；薄膜基材搬送部，係一邊使前述薄膜基材之前述塗膜形成面接觸前述塗敷輥、一邊連續地搬送；以及無塗敷區域形成機構，於前述薄膜基材上形成至少於一方向連續之無塗敷區域。
  2. 如申請專利範圍第1項之塗敷裝置，其中，前述無塗敷區域形成機構包含：作動輥，係以前述薄膜基材在接觸前述塗敷輥之位置與從前述塗敷輥分離之位置位移之方式，彈壓向前述薄膜基材並移動，且相對前述塗敷輥在前述薄膜基材之搬送方向上游側或下游側分離設置；以及搬送方向無塗敷區域形成機構，形成連續於前述薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域。
  3. 如申請專利範圍第2項之塗敷裝置，其中，前述搬送方向無塗敷區域形成機構包含：帶狀遮罩賦予部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向上游側處，對前述薄膜基材之前述塗膜形成面上賦予沿著前述薄膜基材之搬送方向成帶狀之帶狀遮罩；以及帶狀遮罩剝離部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向下游側處，將前述帶狀遮罩從前述薄膜基材剝離。
  4. 如申請專利範圍第2項之塗敷裝置，其中，前述搬送方向無塗敷區域形成機構包含：撥液材料塗敷部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬 送方向上游側處且將撥液性材料塗敷於前述薄膜基材之前述塗膜形成面上。
  5. 如申請專利範圍第2項之塗敷裝置，其中，前述塗敷輥包含前述搬送方向無塗敷區域形成機構；前述搬送方向無塗敷區域形成機構，包含形成於前述塗敷輥之前述外周面上且於前述塗敷輥之周方向連續之兩個以上的液體保持區域、以及在前述塗敷輥之前述外周面上形成於前述液體保持區域各個之間的液體非保持區域。
  6. 如申請專利範圍第2項之塗敷裝置，其中，前述塗液供應構件包含前述搬送方向無塗敷區域形成機構；前述搬送方向無塗敷區域形成機構包含在前述塗敷輥之旋轉軸方向彼此分離配置之至少兩個以上之塗液供應室。
  7. 如申請專利範圍第2項之塗敷裝置，其中，前述作動輥，相對前述塗敷輥於前述薄膜基材之搬送方向下游側分離設置。
  8. 如申請專利範圍第2項之塗敷裝置，其具備用以在搬送前述薄膜基材之期間將前述薄膜基材之張力保持於一定之張力控制部。
  9. 如申請專利範圍第1項之塗敷裝置，其中，前述無塗敷區域形成機構包含朝前述薄膜基材之前述塗膜形成面吹出氣體，以使前述薄膜基材與前述塗敷輥成為非接觸之氣刀。
  10. 如申請專利範圍第9項之塗敷裝置，其中，前述無塗敷區域形成機構進一步包含吸引輥，該吸引輥與前述氣刀對向配置，在前述薄膜基材與前述塗敷輥為非接觸時吸引前述薄膜基材並加以保持。
  11. 如申請專利範圍第10項之塗敷裝置，其中，前述吸引輥具有排出氣體之機構。
  12. 如申請專利範圍第10項之塗敷裝置，其中，前述無塗敷區域形成機構進一步包含朝前述薄膜基材之前述塗膜形成面之背面吹出氣體之另一氣刀。
  13. 如申請專利範圍第9項之塗敷裝置，其中，前述無塗敷區域形成機構進一步包含於前述薄膜基材上形成連續於前述薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域之搬送方向無塗敷區域形成機構。
  14. 如申請專利範圍第13項之塗敷裝置，其中，前述搬送方向無塗敷區域形成機構包含：帶狀遮罩賦予部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向上游側處，對前述薄膜基材之前述塗膜形成面上賦予沿著前述薄膜基材之搬送方向成帶狀之帶狀遮罩；以及帶狀遮罩剝離部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向下游側處，將前述帶狀遮罩從前述薄膜基材剝離。
  15. 如申請專利範圍第13項之塗敷裝置，其中，前述搬送方向無塗敷區域形成機構包含：撥液材料塗敷部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向上游側處且將撥液性材料塗敷於前述薄膜基材之前述塗膜形成面上。
  16. 如申請專利範圍第13項之塗敷裝置，其中，前述塗敷輥包含前述搬送方向無塗敷區域形成機構；前述搬送方向無塗敷區域形成機構，包含形成於前述塗敷輥之前述外周面上且於前述塗敷輥之周方向連續之兩個以上的液體保持區域、以及在 前述塗敷輥之前述外周面上形成於前述液體保持區域各個之間的液體非保持區域。
  17. 如申請專利範圍第13項之塗敷裝置，其中，前述塗液供應構件包含前述搬送方向無塗敷區域形成機構；前述搬送方向無塗敷區域形成機構包含在前述塗敷輥之旋轉軸方向彼此分離配置之至少兩個以上之塗液供應室。
  18. 如申請專利範圍第1項之塗敷裝置，其中，前述無塗敷區域形成機構包含：圖案遮罩賦予部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向上游側處，對前述薄膜基材之前述塗膜形成面上賦予圖案遮罩；以及圖案遮罩剝離部，位於較前述塗敷輥靠前述薄膜基材之搬送方向下游側處，將前述圖案遮罩從前述薄膜基材剝離。
  19. 如申請專利範圍第18項之塗敷裝置，其中，前述圖案遮罩，具有在前述圖案遮罩之搬送方向分斷之圖案。
  20. 如申請專利範圍第19項之塗敷裝置，其中，前述圖案遮罩，具有在前述圖案遮罩之搬送方向連續之圖案。
  21. 如申請專利範圍第18項之塗敷裝置，其中，前述無塗敷區域形成機構進一步包含於前述薄膜基材上形成連續於前述薄膜基材之搬送方向之無塗敷區域之搬送方向無塗敷區域形成機構。
  22. 一種具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造裝置，其具備：塗敷部，於帶狀薄膜基材上塗敷凹凸形成材料以形成膜；轉印部，具有具凹凸圖案之轉印輥，將前述凹凸圖案轉印於前述膜；以及 搬送部，從前述塗敷部往前述轉印部連續地搬送前述薄膜基材；前述塗敷部具有申請專利範圍第1至21項中任一項之塗敷裝置。
  23. 如申請專利範圍第22項之薄膜構件之製造裝置，其進一步具備：檢測部，檢測前述轉印輥之旋轉狀態；以及控制部，控制前述塗敷部；前述轉印輥，係具有前述凹凸圖案之薄板狀模捲繞於基體輥且前述薄板狀模之端部彼此在前述基體輥之外周面上相連結的轉印輥；前述控制部，係根據以前述檢測部檢測出之前述旋轉狀態控制前述塗敷部，以在前述轉印部中前述薄膜基材之未塗敷有前述凹凸形成材料之未塗工部對向於前述轉印輥之前述薄板狀模之接縫部之狀態下，前述薄膜基材上之前述膜疊合於前述轉印輥。
  24. 一種使用申請專利範圍第1至21項中任一項之塗敷裝置於薄膜基材上形成塗膜的方法，其包含於前述薄膜基材上形成無塗敷區域之動作。
  25. 一種具有凹凸圖案之帶狀薄膜構件之製造方法，其包含：塗敷步驟，一邊搬送帶狀薄膜基材一邊於該薄膜基材上塗敷凹凸形成材料以形成膜；以及轉印步驟，一邊搬送前述薄膜基材一邊將轉印輥之凹凸圖案轉印於前述膜；在前述塗敷步驟中，係使前述薄膜基材接觸於前述凹凸形成材料以於前述薄膜基材上形成塗敷有前述凹凸形成材料之塗工部，從前述凹凸形成材料使前述薄膜基材分離而形成未塗敷有前述凹凸形成材料之未塗工部，藉此間歇地塗敷前述凹凸形成材料； 在前述轉印步驟中，前述轉印輥係具有前述凹凸圖案之薄板狀模捲繞於基體輥且該薄板狀模之端部彼此在前述基體輥之外周面上相連結的轉印輥，以前述薄膜基材之前述未塗工部對向於前述轉印輥之前述薄板狀模之接縫部之方式，將前述薄膜基材上之前述膜疊合按壓於前述轉印輥。
  26. 如申請專利範圍第25項之薄膜構件之製造方法，其進一步包含檢測步驟，係檢測前述轉印輥之旋轉狀態；根據以前述檢測步驟檢測出之旋轉狀態，控制在前述塗敷步驟中對前述薄膜基材上塗敷前述凹凸形成材料之時點。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI693141B (zh) * 2016-07-08 2020-05-11 南韓商吉佳藍科技股份有限公司 奈米壓印用複製模、其製造方法及奈米壓印用複製模製造裝置
CN111789712A (zh) * 2019-04-01 2020-10-20 尤妮佳股份有限公司 制造吸收性物品的方法
CN113103776A (zh) * 2021-04-09 2021-07-13 福建省铭兴激光科技有限公司 一种喷印制辊装置及制辊方法
CN113613798A (zh) * 2020-03-04 2021-11-05 株式会社东芝 能用于形成器件的涂敷方法以及涂敷装置
CN113967560A (zh) * 2021-12-23 2022-01-25 广州雅策锐设备制造有限公司 一种锂电池涂布设备
CN117183578A (zh) * 2023-11-03 2023-12-08 博感科技(江苏)有限公司 一种可伸缩印刷基材的定位检测方法及印刷方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2559960A (en) * 2017-02-16 2018-08-29 Jetronica Ltd A system for applying a masking material to a substrate
US11666935B2 (en) * 2018-11-15 2023-06-06 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Selectively lifting substrates
EP3722009A1 (en) 2019-03-29 2020-10-14 Airbus Operations GmbH Device and system
EP3750637A1 (en) 2019-03-29 2020-12-16 Airbus Operations GmbH Device for a lacquer transfer
EP3725539A1 (en) 2019-03-29 2020-10-21 Airbus Operations GmbH Device for lacquer transfer
EP3722007A1 (en) 2019-03-29 2020-10-14 Airbus Operations GmbH Device for lacquer transfer
EP3733300A1 (en) 2019-04-11 2020-11-04 Airbus Operations GmbH Device for a lacquer transfer
EP3725422A1 (en) 2019-04-12 2020-10-21 Airbus Operations GmbH Device for lacquer transfer
JP7495266B2 (ja) * 2019-04-18 2024-06-04 住友化学株式会社 電池用セパレータの製造システムおよび製造方法
CN113926641A (zh) * 2021-11-22 2022-01-14 安徽华烨特种材料有限公司 浸胶增强材料表面除胶方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4931017B1 (zh) * 1966-04-18 1974-08-17
JPS59228969A (ja) * 1983-06-11 1984-12-22 Daido Kohan Kk 塗装装置
JP4015305B2 (ja) * 1998-11-13 2007-11-28 東レ株式会社 金属蒸着フィルムの製造方法および製造装置
JP2002263549A (ja) * 2001-03-13 2002-09-17 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 塗工装置及び塗工紙の製造方法
KR101082852B1 (ko) * 2006-10-06 2011-11-11 가부시키가이샤 알박 권취식 진공성막장치
JP2008194632A (ja) * 2007-02-14 2008-08-28 Toppan Printing Co Ltd ダイコーティング装置および塗布方法
JP4836922B2 (ja) * 2007-10-30 2011-12-14 東芝機械株式会社 転写方法及び転写装置
JP2009262070A (ja) * 2008-04-25 2009-11-12 Panasonic Corp 被膜形成装置、被膜形成方法、電池用極板、並びに非水電解液二次電池

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI693141B (zh) * 2016-07-08 2020-05-11 南韓商吉佳藍科技股份有限公司 奈米壓印用複製模、其製造方法及奈米壓印用複製模製造裝置
CN111789712A (zh) * 2019-04-01 2020-10-20 尤妮佳股份有限公司 制造吸收性物品的方法
CN111789712B (zh) * 2019-04-01 2023-01-24 尤妮佳股份有限公司 制造吸收性物品的方法
CN113613798A (zh) * 2020-03-04 2021-11-05 株式会社东芝 能用于形成器件的涂敷方法以及涂敷装置
CN113103776A (zh) * 2021-04-09 2021-07-13 福建省铭兴激光科技有限公司 一种喷印制辊装置及制辊方法
CN113967560A (zh) * 2021-12-23 2022-01-25 广州雅策锐设备制造有限公司 一种锂电池涂布设备
CN113967560B (zh) * 2021-12-23 2022-03-04 广州雅策锐设备制造有限公司 一种锂电池涂布设备
CN117183578A (zh) * 2023-11-03 2023-12-08 博感科技(江苏)有限公司 一种可伸缩印刷基材的定位检测方法及印刷方法
CN117183578B (zh) * 2023-11-03 2024-01-26 博感科技(江苏)有限公司 一种可伸缩印刷基材的定位检测方法及印刷方法

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