JP2014089427A - 反射型表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】表示品質に優れた透明電極越しに表示素子を観察するタイプの反射型表示装置、及び、その製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも一方が透明である対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、一方の基板が透明であり、当該一方の基板上の少なくとも表示領域の全面に透明共通電極が配置されており、他方の基板上に前記透明共通電極に対向するように画素電極が配置されると共に所定のパターンで隔壁が配置されており、前記隔壁上に平面視で当該隔壁に対応するパターンで補助電極が配置されており、前記隔壁及び前記補助電極で区画された各領域をセルとして、各セルの中に前記表示媒体が配置されている。
【選択図】図１

Description

本発明は、電子ペーパー等に応用されている反射型表示装置に関する。

反射型表示装置として、最近、表示媒体に含まれる電気応答性材料として電気泳動体を用いた電気泳動表示装置が広く用いられている。電気泳動表示装置とは、空気中または溶媒中の電気泳動体（通常は電気泳動する粒子）の電気的な泳動、すなわち粒子移動を利用して情報を表示する装置である。通常、２枚の基板間に電界を与えることで電気的な泳動の状態が制御され、それによって所望の表示が実現されるように構成される。電気泳動体としては、荷電粒子の他、荷電粉体をも利用され得る。その場合、当該荷電粉体は気体中を電気的に泳動する。

電気泳動表示装置は、近年では特に、電子ペーパーとしての応用が注目されている。電子ペーパーとして応用する場合には、印刷物レベルの視認性（目にやさしい）、情報書き換えの容易性、低消費電力、軽量といった利点を享受できる。

電気泳動表示装置では、しかし、粒子や粉体の沈降や偏在に起因して、表示の不良、特にコントラストの低下が生じることがある。この現象を防止するべく、上下の電極基板間に隔壁を形成して、電気泳動する粒子や粉体の泳動空間、すなわち移動空間を微小な空間に分割することが採用されている。この微小な空間は、セルあるいは画素と呼ばれている。各セルの中に、電気泳動体を含むインキやガス（表示媒体）が封入されている。

また、透明電極越しに表示素子を観察する反射型表示装置において、補助電極を併用して十分な低抵抗値を実現することが提案されている。例えば特許文献１（特許４９０２９５６号公報）では、隔壁の上方（奥方）に補助電極を配置することが提案されている。補助電極は金属製であって非透明であるため、補助電極の更に上方（奥方）に遮光層を配置することによって隠蔽されるのが通常である。遮光層の配置に関しては、例えば特許文献２乃至５に種々の開示がなされている。

特許４９０２９５６号公報 特開２００８−０３３３３５号公報 特開２００８−１０７７４９号公報 特開２０１０−１４５５２８号公報 特開２０１０−２５６７２６号公報

本件発明者は、透明電極越しに表示素子を観察する反射型表示装置について鋭意研究を重ねるうち、以下のような知見を得るに至った。

透明電極越しに表示素子を観察する反射型表示装置においては、観察側から見ると、表示素子領域、隔壁領域、補助電極領域、遮光領域が、当該順序で存在する。これらの各領域は、パターニングにより形成される。従って、各パターニングのアライメント精度が重要で、アライメントがずれると、各パターンの境界にモアレが生じて、表示品質を大きく損ねてしまう。特に高精細かつ大画面の反射型表示装置を製造する際には、より一層アライメント精度が重要である。

アライメントのずれを回避するためには、一つには、各パターンの線幅等のサイズに余裕を持たせることが考えられる。しかしながら、その場合、表示画素の開口率が低減されてしまうというデメリットがある。

本発明は、このような事情に基づいて行われたものであり、その目的は、表示品質に優れた透明電極越しに表示素子を観察するタイプの反射型表示装置を提供することにある。

本発明は、少なくとも一方が透明である対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、一方の基板が透明であり、前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う透明共通電極と、補助電極と、所定のパターンの隔壁とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、前記補助電極は、前記隔壁上に平面視で当該隔壁に対応するパターンで設けられており、前記隔壁及び前記補助電極で区画された各領域をセルとして、各セルの中に前記表示媒体が配置されていることを特徴とする反射型表示装置である。

本発明によれば、隔壁上に平面視で当該隔壁に対応するパターンで補助電極が設けられているため、すなわち、隔壁と補助電極とが高いアライメント精度で積層されているため、モアレの発生が抑制され、優れた表示品質を提供することができる。

補助電極は、一般には、低抵抗値を実現する材料からなるため、非透明電極である。すなわち、補助電極は、透明共通電極の体積抵抗値よりも低い体積抵抗値を有していることが好ましい。

また、「白」を重視する反射型表示装置においては、補助電極の反射率は当該反射型表示装置の表示画素の明表示反射率以上であることが好ましい。

逆に、「黒」を重視する反射型表示装置においては、補助電極の反射率は当該反射型表示装置の表示画素の暗表示反射率以下であることが好ましい。

また、補助電極上には、光拡散層が設けられていることが好ましい。この場合、補助電極が強く視認されることが抑制され、結果的に表示品質を向上させる。また、光拡散層は補助電極の画素電極と反対側の面に積層されてもよい。配置される位置は補助電極に接する位置でも、離れた位置でも良い。

また、補助電極が接着層を介して透明共通電極に接着されている場合には、接着層は、低抵抗であることが好ましい。具体的には、接着層は、１×１０^９Ωｃｍ以下の体積抵抗値を有していることが好ましい。接着層の体積抵抗値が１×１０^９Ωｃｍを超える場合には、画素電極に印加した電圧の一部しか表示媒体に印加されず、コントラストなどの表示品質の低下又は駆動電圧の増大という不都合がある。

また、接着層は、光拡散機能を有してもよい。接着層が有する光拡散機能とは、当該接着層内を透過しようとする光を拡散させる機能であり、これにより接着層が強く視認されることが抑制される。

また、本発明は、少なくとも一方が透明である対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置、を製造する方法であって、少なくとも表示領域の全面に透明共通電極が形成された透明な一方の基板上に、補助電極用の材料からなる補助電極層を形成する補助電極層形成工程と、前記補助電極層上に所定のパターンで隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記隔壁をマスクとして利用して前記補助電極層をエッチングすることによって、前記隔壁の下に平面視で当該隔壁と同一のパターンで補助電極を残存させると共に、前記隔壁が形成されていない領域の補助電極層を除去して前記透明共通電極を露出させる補助電極形成工程と、を備えたことを特徴とする反射型表示装置の製造方法である。

本発明によれば、隔壁の下に平面視で当該隔壁と同一のパターンで補助電極が形成されるため、すなわち、隔壁と補助電極とが高いアライメント精度で積層されるため、モアレの発生が抑制され、優れた表示品質を提供することができる。

あるいは、本発明は、少なくとも一方が透明である対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置、を製造する方法であって、透明な一方の基板の少なくとも表示領域の全面に形成される透明共通電極に対向するように、他方の基板上に画素電極層を形成する画素電極層形成工程と、前記他方の基板上に所定のパターンで隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記隔壁上に補助電極用の材料からなる補助電極層を成膜する補助電極層形成工程と、前記補助電極層をエッチングすることによって、前記隔壁上に平面視で当該隔壁と同一のパターンとなるように補助電極を整形して形成する補助電極形成工程と、を備えたことを特徴とする反射型表示装置の製造方法である。

本発明によれば、隔壁上に平面視で当該隔壁と同一のパターンで補助電極が整形されるため、すなわち、隔壁と補助電極とが高いアライメント精度で積層されるため、モアレの発生が抑制され、優れた表示品質を提供することができる。

あるいは、本発明は、少なくとも一方が透明である対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置、を製造する方法であって、透明な一方の基板の少なくとも表示領域の全面に形成される透明共通電極に対向するように、他方の基板上に画素電極を形成する画素電極形成工程と、前記他方の基板上に所定のパターンで逆テーパ形状の隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記隔壁上に補助電極を成膜する補助電極形成工程と、を備えたことを特徴とする反射型表示装置の製造方法である。

本発明によれば、隔壁上に平面視で当該隔壁と同一のパターンで補助電極が整形されるため、すなわち、隔壁と補助電極とが高いアライメント精度で積層されるため、モアレの発生が抑制され、優れた表示品質を提供することができる。

本発明の反射型表示装置によれば、隔壁と補助電極とが高いアライメント精度で積層されているため、モアレの発生が抑制され、優れた表示品質を提供することができる。

また、本発明の反射型表示装置の製造方法によれば、隔壁と補助電極とが高いアライメント精度で積層されるため、モアレの発生が抑制され、優れた表示品質を提供することができる。

図１は、本発明の第１の実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。 図２は、図１の隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。 図３は、隔壁の頂面の幅の定義について説明する図である。 図４は、図１の接着層形成工程の一例を概略的に示す図である。 図５は、図１の表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。 図６は、図１の対向基板接着工程において、一方の基板上に他方の基板が接着される様子を示す断面図である。 図７は、本発明の第２の実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。 図８は、図７の隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。 図９は、図７の対向基板接着工程において、他方の基板上に一方の基板が接着される様子を示す断面図である。

図１乃至図９において、一方の基板１１と他方の基板１６の各面上には、それぞれ電極が設けられている。本実施の形態においては、一方の基板１１が視認側に配置され、他方の基板１６が非視認側に配置される。

一方の基板１１としては、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の透明フィルムや透明ガラスに、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の透明電極を付したものが、典型的に用いられ得る。透明電極は、塗工法や蒸着法等によって形成され得る。本実施の形態の透明電極は、アクティブマトリクス駆動の共通透明電極１１ｅとして形成されている。

一方の基板１１の厚みは、１０μｍ〜１ｍｍが好適である。１０μｍよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、１ｍｍよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、５０μｍ〜３００μｍ程度である。

一方の基板１１の表面には、メッキ処理による酸化防止処理が施されてもよい。また、一方の基板１１の裏面（外側）には、バリア層が設けられてもよい。バリア層の機能は、インキが水分を吸着することによる表示劣化を防止することである。バリア層は、本実施形態では視認側に配置される一方の基板に設けられる場合には、透明である必要があり、無機膜を蒸着することで得られる。あるいは、予めバリア層が形成されたフィルムが貼り合わせられてもよい。

一方の基板１１は、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。

他方の基板１６としては、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス（ガラエポ）等の表面に金属等の導電性材料によって画素電極１６ｅが形成されたものが用いられ得る。画素電極１６ｅとしては、本実施の形態では、アクティブマトリクス駆動用のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層に対応する画素電極１６ｅが用いられている。例えば、アルミニウムからなる画素電極１６ｅが、メタルマスクを用いたスパッタリング法によって、アルゴンガス雰囲気０．５Ｐａという条件下で成膜され得る。

他方の基板１６は、光透過性の基材が用いられてもよく、さらに光透過性で不透明な基材であってもよく、電極面とは異なるもう一方の面を粗面化した不透明なガラス基材、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス（ガラエポ）等が用いられ得る。本実施の形態では、他方の基板１６は、視認側と反対側の位置に配置されるため、透明である必要性はない。しかし、熱膨張特性など一方の基板１１と同じ物性が必要とされる場合は、一方の基板１１と同様の透明部材が使用され得る。

他方の基板１６の厚みも、一方の基板１１の厚みと同様に、１０μｍ〜１ｍｍが好適である。１０μｍよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、１ｍｍよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、５０μｍ〜３００μｍ程度である。

他方の基板１６には、更なる機能層が付加され得る。例えば、他方の基板１６の表面に、バリアフィルムが貼付され得る。予め透明無機膜のバリア層が蒸着等で形成された透明フィルムが他方の基板１６として採用されても、これと同様の機能を発揮できる。あるいは、他方の基板１６の表面に、紫外線カットフィルムが貼付され得る。他方の基板１６の表面に他の紫外線カット処理が施されても、これと同様の機能を発揮できる。その他の表面コート層として、ＡＧ層（防眩層）、ＨＣ層（傷防止層）、ＡＲ層（反射防止層）などが付加され得る。

他方の基板１６も、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。

＜反射型表示装置の製造方法１＞
図１は、本発明の第１の実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。

まず、図１に示すように、透明な一方の基板１１の共通透明電極１１ｅ上に、補助電極用の材料からなる補助電極層３１が積層される（補助電極層形成工程）。補助電極層３１は、共通透明電極１１ｅの抵抗値を下げることに限界があることを考慮して、低抵抗値の補助電極３２を形成するために設けられる層である。補助電極３２が駆動電極としての機能を支援することによって、共通透明電極１１ｅとして、抵抗値に拘わらず、より透明度の高い材料を採用することができる。表示領域６０の外部に配線されるコンタクト配線も、補助電極３２に直結するように設計されることが好ましい。

本実施の形態の補助電極層３１は、遮光層を兼ねている。すなわち、本実施の形態の補助電極層３１は、非透明電極である。補助電極層３１の具体的な材料としては、抵抗が低くて割れにくい、すなわち延性がある材料が採用される。例えば、アルカリエッチング可能なアルミニウムや、チタン、金、銀、銅等が採用される。当該材料の体積抵抗値は、１×１０^−４Ωｃｍ未満であることが好ましい。当該材料の体積抵抗値が１×１０^−４Ωｃｍを超えると、共通透明電極１１ｅの内で電圧差が生じて、表示領域内で表示媒体に印加される電圧に差が生じて、表示ムラが生じるという不都合がある。一般に、体積抵抗値の測定方法としては、４端子４探針法（ＭＣＰ−Ｔ６1０型、三菱化学アナリテック社製）が知られている。例えば、透明共通電極１１ｅの体積抵抗値は、１×１０^−４Ω・ｃｍであり、補助電極層３１の体積抵抗値は、３×１０^−６Ω・ｃｍである。

また、反射型表示装置が白黒表示であって白表示を優先するならば、銀などの無色で反射率の高い金属配線が用いられ得る。この場合、例えば、表示画素の明表示反射率は、４０％であり、補助電極３２の反射率は、６０％である。各反射率の測定方法としては、ＳＣＩ方式やＳＣＥ方式が知られている。

逆に、反射型表示装置が白黒表示であって黒表示を優先するならば、クロムなどの暗色で反射率の低い金属配線が用いられ得る。補助電極層３１としては、共通透明電極１１ｅとの密着度や反射率の調整等のために，金属膜の積層体によって構成されてもよい。この場合、例えば、表示画素の暗表示反射率は、１０％であり、補助電極３２の反射率は、５％である。

次に、補助電極層３１上に所定のパターンで隔壁１２が形成される（隔壁形成工程）。図２は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。図２に示すように、まず、一般には水平方向に載置される一方の基板１１の補助電極層３１の上面に、例えばフォトリソグラフィ法（紫外線（ＵＶ）照射による露光→現像→焼成）によって、所定のパターンの隔壁１２が形成される。隔壁１２は、少なくとも表示領域６０において、後述する複数のセルを規定する部材である。表示領域６０の外部は、外周領域７０と称される。

隔壁１２は、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、常温硬化性樹脂等によって構成可能であり、隔壁１２の形成方法は、フォトリソグラフィ法の他、エンボス加工などの型転写方法も採用され得る。さらに、所望のパターンの構造物を隔壁として製造しておいて、それを一方の基板１１に貼り付けるという方法も採用され得る。

隔壁１２の頂面の幅は、９μｍ〜５０μｍ、好ましくは９μｍ〜２０μｍである。９μｍというのは、隔壁１２が倒れることなくパターニングできる線幅の下限である。隔壁１２の頂面の幅が９μｍ未満である場合、隔壁１２の長さが６０μｍ以上に亘るようなパターンでは、少なくとも隔壁１２の一部が倒れたり、剥がれたり、剥がれた隔壁１２が基板上を移動したりする。そうなった場合には、隔壁１２による粒子の移動を防ぐという機能が失われ、表示品質が劣化してしまう。一方、好適な範囲の上限である５０μｍというのは、目視したときに隔壁１２が目立ち過ぎない上限である。

ここで、隔壁１２の頂面の幅の定義を、図３に示す。頂面の角が丸まっていなければ、図３（ａ）や図３（ｂ）に示すように、頂面の幅はそのまま定義される。一方、頂面の角が丸まっている場合には、図３（ｃ）や図３（ｄ）に示すように、頂面の延長面と壁面の延長面との交線間の幅として理解される。評価のための測定方法としては、隔壁１２が形成された一方の基板１１を硬化性樹脂にて包埋し、ミクロートーム（大和光機工業株式会社製：ＦＸ−８０１）により隔壁１２の断面を切り出し、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって撮影した画像に基づいて各幅を測定することができる。

隔壁１２のパターン形状は、円、格子、ハニカム状（六角形）、その他の多角形など、基本的に任意である。開口率は、７０％以上が好ましく、特に９０％以上が好ましい。高開口率であるほど、表示可能領域が広くなるため、高コントラストを得ることができる。

隔壁１２の厚みは、５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１０μｍ〜５０μｍである。５μｍ以下では、充填するインキ量が少なく、十分な表示特性、特にコントラストが得られない一方、５０μｍ以上では、パネルの厚みが厚すぎて、駆動電圧が上昇し過ぎてしまう。低駆動電圧で良好な表示特性が得られるという観点から、１０μｍ〜５０μｍの範囲の厚みが好適である。

セルのサイズ（ピッチＬ）は、表示パネルの大きさにもよるが、０．０５〜１ｍｍピッチ、好ましくは０．１〜０．５ｍｍピッチである。ここで、ピッチとは、隣接するセルの中心点間の距離、すなわち、隣接するセルを重ねるべく移動させるのに必要な距離を意味している。

次に、図１に示すように、隔壁１２をマスクとして利用して、補助電極層３１がエッチングされる（エッチング工程）。これにより、隔壁１２の下に平面視で当該隔壁１２と同一のパターンでのみ補助電極層３１が残存されて補助電極３２となり、同時に、隔壁１２が形成されていない領域の補助電極層３１は除去されて、透明共通電極層１１ｅが露出される。このエッチング工程によって、隔壁１２と補助電極３２との極めて高精度なアライメントが実現される。このエッチング工程は、酸によるエッチングも、アルカリによるエッチングも採用され得る。もっとも、隔壁に対応するパターンとしては、平面視で隔壁と同一のパターンの他、駆動性能に影響しない程度に一部の隔壁上を除いたパターンであってもよい。

また、このエッチング工程により、隔壁１２形成時の有機物残渣も完全に除去される。これにより、後述する表示媒体としてのインキ１３が有機物残渣によって経年劣化することが回避される。

製造方法１の場合、他方の基板１６（対向基板）と隔壁１２との接着は必ずしも必要ではないが、接着することで表示パネルの機械的強度が増すため、接着されても良い。その場合、隔壁１２上に接着層２２が形成される（接着層形成工程）。この接着層形成工程では、例えば転写法や印刷法により、ポリエステル系熱可塑性接着剤のようなヒートシール剤が、１μｍ〜１００μｍの厚みで形成される。好ましくは、１μｍ〜５０μｍの厚みで形成され、特に好ましくは、１μｍ〜２０μｍの厚みで形成される。

転写法として典型的な熱転写法の一例について具体的な説明を補足すれば、図４に示すように、例えばＰＥＴフィルム上に２０μｍの厚みでポリエステル系熱可塑性接着剤のようなヒートシール剤を形成した転写シートを用意し、この転写シートのヒートシール剤の面を隔壁上に常温で１ｋＰａの圧力でラミネートする。これをヒートシール剤の軟化温度以上の温度である例えば１２０℃に保たれたホットプレート上において１分間加熱し、その後転写シートを剥離する。これにより、隔壁１２上に例えば６μｍ程度の接着層２２が形成される。

なお、接着層（ヒートシール剤）２２としては、熱可塑性材料を用いたものが好ましく、加熱により軟化して、冷却すると固化する性質を有し、冷却と加熱を繰り返した場合に、塑性が可逆的に保たれる材料である。

熱可塑性材料からなるヒートシール剤２２を接着層として用いた場合には、転写フィルム基材上の固化しているヒートシール剤２２をその軟化温度を超える温度にまで加熱することにより軟化させて、隔壁頂面のみに確実にヒートシール剤２２を熱転写することもできる。また、熱転写後のヒートシール剤２２は常温まで冷却して再び固化することにより、タック、すなわちねばつきが無くなるため、取り扱いの便宜が極めて良い。また、タック、すなわちねばつきが無いことによって、セル内に充填された表示媒体としてのインキ１３がヒートシール剤２２と接着してしまうことがない。そして、再び隔壁上面のヒートシール剤２２をその軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることにより、タック、すわなちねばつきを有するようになるため、他方の基板に確実に接着される。他方の基板との接着後のヒートシール剤は、再び常温においてはタック、すなわちねばつきが無いため、やはり表示媒体としてのインキ１３がヒートシール剤２２と接着してしまうことがなく、表示品質の低下のおそれもない。

具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリウレタンなどの熱可塑性ベースポリマーや、天然ゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン共重合体などの熱可塑性エラストマーを主成分とし、粘着性付与樹脂や可塑剤を配合した樹脂が主に使用される。なお、製造方法1においては、接着層に導電性があると画素電極間が短絡し表示動作不具合が生じるため、接着層としては電気抵抗値が高い材料が用いられることが好ましい。具体的には、体積抵抗値で１×１０^９Ωｃｍ以上であることが好ましい。

接着材の体積抵抗値の測定方法としては、半導体パラメーター（４１５６Ｃプレシジョン半導体パラメータ・アナライザ、アジレント社製）を用いて、面積A＝４[ｃｍ^２]の電極で厚さｄ＝２０[μｍ]の接着材をはさんだキャパシタ素子の両端の電極間に電圧V [V]を印加してそのときの電流I[A]を測ることで、接着材の電気抵抗をR [Ω]を求めることができる。体積抵抗率ρ[Ω・ｃｍ]を求める式は以下のとおりである。
R=V/I、R＝ρ×ｄ÷A、ρ＝R×A÷ｄ

隔壁１２とヒートシール剤２２との密着性を上げるために、隔壁１２に紫外線照射やプラズマ処理などにより表面処理が施されてもよいし、プライマーが形成されてもよい。あるいは、ヒートシール剤２２の方にシランカップリング剤が添加されてもよい。

次に、表示領域６０を囲むように表示領域外周シール６１が配置される（表示領域外周シール配置工程）。表示領域外周シール６１の配置方法の一例について具体的な説明を補足すれば、当該表示領域外周シール６１は、例えば紫外線硬化性樹脂のような接着剤を、ディスペンサを用いて線幅０．５ｍｍ、高さ５０μｍで線状に塗布することによって配置される。

表示領域外周シール６１は、紫外線硬化性樹脂の他に、熱硬化性樹脂、常温硬化性樹脂、ヒートシール樹脂等によっても構成可能である。また、表示領域外周シール６１は、ディスペンサの他に、各種の印刷法によって、あるいは、熱圧着によっても配置可能であり、他方の基板１６上に配置されてもよい。

次に、一方の基板１１上に表示媒体としてのインキ１３が配置される（表示媒体配置工程）。図５は、表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。ここでは、（１）ディスペンサ４１あるいはインクジェット、ダイコートからインキ１３が滴下され（インキ滴下工程）、（２）アプリケータ４２あるいはドクターブレード、ドクターナイフ、中央スキージによって面内均一となるようにインキ１３が塗工される（インキ塗布工程）。なお、インキ１３は、他方の基板１６上に配置されてもよい。

表示媒体としては、少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が用いられ得る。電気応答性材料としては、電荷粒子材料、液晶材料があり、電荷粒子材料には白や黒、カラーなどの色づけされた粒子が電場に応答して移動するいわゆる電気泳動材料、または、粒子が二色に色分けされ電場により回転するツイストボールに代表される材料、または、電場により移動するナノ粒子材料等がある。一方、液晶材料は、ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）で知られる透過と散乱を電気的に制御する材料や、液晶に色素を混合した材料、コレステリック液晶材料などがある。これらの電気応答性を有し光学特性を変化させる材料は、種類を問わずセルに隔離する必要があり、本発明の適用対象である。

その後、隔壁１２上の接着層２２と、一方の基板１１に対して対向する他方の基板１６とが接着される（対向基板接着工程）。これにより、表示媒体（インキ１３）が各セル内に封止される。

対向基板接着工程は、図６に示すように、接着層として塗工されたヒートシール剤２２及び表示領域外周シール６１を加熱させて接着力を得るようになっている。具体的には、ラミネータ９１によって所定の熱圧着圧力（ラミネート圧力）を付与しながら、ヒートシール剤２２及び表示領域外周シール６１を周辺からその軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることによって、隔壁１２と他方の基板１６とを接着する。もっとも、他の熱圧着の態様が採用されてもよい。

対向基板接着工程では、一方の基板１１と他方の基板１６との間でセル内に気泡が残らないように、他方の基板１６をカールさせて、一方の側（図６の場合、左側）から対向する他方の側（図６の場合、右側）に向けて、ラミネータ９１によって一方の基板１１と他方の基板１６とが互いに押圧される部位を移動させ、一方の基板１１上の余剰のインキを、表示領域外周シール６１で囲まれた領域から押し出しながら貼り合わせる。その後、表示領域外周シール６１を硬化させることによって表示領域の外周が封止され、マザーパネル基板８１が製造される。

その後、図１に示すように、マザーパネル基板８１は、ギロチン、上刃スライド装置、レーザカット装置、レーザーカッター等の断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され、所望の反射型表示装置の製造が完了する。

以上のように、本実施の形態によれば、エッチング工程において、隔壁１２の下に平面視で当該隔壁１２と同一のパターンでのみ補助電極層３１が残存されて補助電極３２となるため、隔壁１２と補助電極３２との極めて高精度なアライメントが実現される。これにより、いわゆるモアレの発生が抑制され、優れた表示品質を提供することができる。

また、接着層のヒートシール剤２２は、熱可塑性材料からなる場合においては、常温においてはタック、すなわちねばつきが無いため、取り扱いの便宜が極めて良い。また、タック、すなわちねばつきが無いことによって、その後の表示媒体配置工程が容易である。具体的には、スキージあるいはドクターブレード、ドクターナイフ等を用いて表示媒体を配置しても、表示媒体（インキ１３）がヒートシール剤２２と接着してしまうことがない。

なお、一方の基板１１の電極（不図示）と他方の基板１６の電極（不図示）との間に所定の電界（電圧）が与えられる際、表示媒体であるインキ１３中の電気応答性材料が駆動され、文字パターン等の所定の情報が表示される。その後、電界が与えられなくなっても、新たな電界が両基板間に与えられるまで、当該情報表示状態が維持される。

また、光拡散層が、補助電極の画素電極と反対側の面に直接形成されても良く、基材を挟んで視認側の位置に配置されても良い。この場合、補助電極が強く視認されることが抑制され、結果的に表示品質を向上させる。光拡散層は、一般的なＡＧ（アンチグレア）層でも良く、屈折率の異なる材料の複合体や、空気界面側に凹凸を有する層でも良い。また、接着層２２が、光拡散機能を有してもよい。接着層が有する光拡散機能とは、当該接着層内を透過しようとする光を拡散させる機能であり、これにより接着層が強く視認されることが抑制される。

＜反射型表示装置の製造方法２＞
図７は、本発明の第２の実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。

まず、図７に示すように、透明であっても透明でなくてもよい他方の基板１６上に、所望の画素電極１６ｅが形成される（画素電極形成工程）。

次に、例えば画素電極１６ｅのパターンと重ならないように、所定のパターンで隔壁１２が形成される（隔壁形成工程）。

図８は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。図８に示すように、まず、一般には水平方向に載置される他方の基板１６の例えばＴＦＴ層の上面に、例えばフォトリソグラフィ法（紫外線（ＵＶ）照射による露光→現像→焼成）によって、所定のパターンの隔壁１２が形成される。隔壁１２は、少なくとも表示領域６０において、後述する複数のセルを規定する部材である。表示領域６０の外部は、外周領域７０と称される。

その他の隔壁１２の詳細については、反射型表示装置の製造方法１において述べたことが適用可能である。

そして、表示領域６０における隔壁１２のパターンに対応したメタルマスクを用いて、表示領域６０における隔壁１２上に、補助電極用の材料からなる補助電極層３１が成膜される（補助電極層形成工程）。ここで、メタルマスクを用いても、隔壁１２の側面及び画素電極１６ｅ上に、僅かに補助電極層３１が成膜されてしまう。補助電極層３１の詳細については、反射型表示装置の製造方法１において述べたことが適用可能である。

次に、図７に示すように、補助電極層３１がエッチングされる（エッチング工程）。これにより、隔壁１２の側面に薄く成膜されてしまっていた補助電極層３１が除去されて、隔壁１２上に平面視で当該隔壁１２と同一のパターンとなるように補助電極３２が形成される。もっとも、このエッチング工程は、隔壁１２を逆テーパ形状に形成してその側面に補助電極層３１が成膜されないようにしておけば、省略することも可能である。ここで、逆テーパ形状とは、本実施の形態では他方の基板１６側の隔壁１２の頂面の幅が一方の基板１１側の隔壁１２の頂面の幅よりも小さくなるような形状であり、他方の基板１６側に行くに従って断面積が小さくなるような形状を意味する。

また、このエッチング工程により、隔壁１２が形成されていない領域に成膜されてしまっていた補助電極層３１が除去されて、画素電極１６ｅが所望に露出される。

ここで、画素電極形成工程と補助電極層形成工程とを同時に行うことが可能であることに言及しておく。この場合、画素電極形成工程は、隔壁形成工程の後に実施されることになり、画素電極と補助電極層とは、主成分が同一である材料から形成されることになる。

ここで、画素電極と補助電極層の性能に影響しない限りにおいては、僅かに不純物が含まれていてもよい。また、この場合、エッチング工程によって、画素電極１６ｅの厚みが所望に調整されることになる。

以上のエッチング工程によって、隔壁１２と補助電極３２との極めて高精度なアライメントが実現される。エッチング工程は、酸によるエッチングでも、アルカリによるエッチングでもよい。

また、このエッチング工程により、隔壁１２の形成時の有機物残渣も完全に除去される。これにより、後述する表示媒体としてのインキ１３が有機物残渣によって経年劣化することが回避される。

次に、補助電極３２上に接着層２２が形成される（接着層形成工程）。この接着層形成工程では、例えば転写法や印刷法により、カーボンブラックを添加したポリエステル系熱可塑性接着剤のようなヒートシール剤が、１μｍ〜１００μｍの厚みで形成される。好ましくは、１μｍ〜５０μｍの厚みで形成され、特に好ましくは、１μｍ〜２０μｍの厚みで形成される。本実施の形態の接着層２２は、導電性を有することが必要である。導電性を付与するにはその接着材料自体の電気抵抗が低い場合もあるが、一般的には接着材料は高電気抵抗であり、導電性材料を添加することで導電性を付与する。導電性材料に特に制限はないが、接着材料に容易に混合することができる粉末状のものが好ましく、カーボンブラック粉末やアンチモンなどからなる導電性酸化金属を含有する粉末が使用することができる。

さらに、本実施の形態の接着層２２は、光拡散層としても機能させることもできる。上述の導電性酸化金属を含有する粉末が混入すると接着層内で散乱が発生し、光拡散として機能できるし、中空粒子など接着材料と屈折率の異なる材料を添加することでも光拡散が可能である。接着層が有する光拡散機能とは、当該接着層内を透過しようとする光を拡散させる機能であり、これにより接着層が強く視認されることが抑制される。

次に、表示領域６０を囲むように表示領域外周シール６１が配置される（表示領域外周シール配置工程）。表示領域外周シール６１の詳細についても、反射型表示装置の製造方法１において述べたことが適用可能である。

次に、他方の基板１６上に表示媒体としてのインキ１３が配置される（表示媒体配置工程）。もっとも、インキ１３は、一方の基板１１上に配置されてもよい。インキ１３の詳細についても、反射型表示装置の製造方法１において述べたことが適用可能である。

その後、補助電極３２上の接着層２２と、他方の基板１６に対して対向する一方の基板１１とが接着される（対向基板接着工程）。これにより、表示媒体（インキ１３）が各セル内に封止される。

その後、図７に示すように、マザーパネル基板８２は、ギロチン、上刃スライド装置、レーザカット装置、レーザーカッター等の断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され、所望の反射型表示装置の製造が完了する。

以上のように、本実施の形態によれば、エッチング工程において、隔壁１２の上に平面視で当該隔壁１２と同一のパターンでのみ補助電極層３１が残存されて補助電極３２となるため、隔壁１２と補助電極３２との極めて高精度なアライメントが実現される。これにより、いわゆるモアレの発生が抑制され、優れた表示品質を提供することができる。

また、接着層のヒートシール剤２２は、熱可塑性材料からなる場合においては、常温においてはタック、すなわちねばつきが無いため、取り扱いの便宜が極めて良い。また、タック、すなわちねばつきが無いことによって、その後の表示媒体配置工程が容易である。具体的には、スキージあるいはドクターブレード、ドクターナイフ等を用いて表示媒体を配置しても、表示媒体（インキ１３）がヒートシール剤２２と接着してしまうことがない。

なお、一方の基板１１の電極（不図示）と他方の基板１６の電極（不図示）との間に所定の電界（電圧）が与えられる際、表示媒体であるインキ１３中の電気応答性材料が駆動され、文字パターン等の所定の情報が表示される。その後、電界が与えられなくなっても、新たな電界が両基板間に与えられるまで、当該情報表示状態が維持される。

＜反射型表示装置の実施例＞
次に、実際に行われた実施例について説明する。

＜実施例１＞
まず、本発明の第１の実施の形態による反射型表示装置の製造方法の具体的な実施例について説明する。

一方の基板１１として、４００ｍｍ×５００ｍｍ×厚さ０．１ｍｍのＰＥＴフィルム（東洋紡製Ａ４１００）の一方の面に共通透明電極１１ｅとして酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）蒸着膜（厚さ０．０５μｍ）が設けられた基板が用意された。共通透明電極１１ｅは、スパッタリング、真空蒸着法、ＣＶＤ法などの一般的な成膜方法によって形成され、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の他に、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等によっても形成され得る。

次に、当該一方の基板１１上に、補助電極層３１が金属成膜法によって５０ｎｍの厚さで形成された。補助電極層３１の材料としては、抵抗が低くて割れにくい、すなわち延性がある材料が採用される。本例では、アルカリエッチング可能なアルミニウムが採用されたが、チタン、金、銀、銅等でもよい。また、当該材料の体積抵抗値は、１×１０^−４Ωｃｍ未満であることが好ましい。

次に、当該補助電極層３１の上に、ネガ型感光性樹脂材料（デュポンＭＲＣドライフィルムレジスト（株）製のドライフィルムレジスト）を２０μｍの厚さにラミネートして１００℃、１分間の条件で加熱し、次いで露光マスクを使用して露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ^２ ）し、その後、１％ＫＯＨ水溶液を用いた現像を３０秒行い、１２０℃、６０分間の条件で焼成することで、線幅２０μｍでセルピッチ１７５μｍの格子状パターンの隔壁１２が、表示領域６０に対応する領域に形成された。すなわち、本実施例は、いわゆる多面付けタイプでなく、表示領域６０は単一であった。なお、外周領域７０に対応する領域には、隔壁１２は形成されなかった。

そして、隔壁１２をマスクとして利用して、混酸アルミ液（和光純薬工業株式会社製）を用いて、補助電極層３１がエッチングされた。これにより、隔壁１２の下に平面視で当該隔壁１２と同一のパターンでのみ補助電極層３１が残存されて補助電極３２となり、同時に、隔壁１２が形成されていない領域の補助電極層３１は除去されて、透明共通電極層１１ｅが露出された。このエッチング工程によって、隔壁１２と補助電極３２との極めて高精度なアライメントが実現された。

続いて、一方の基板１１の表示領域６０の各々の外周を囲むように、ディスペンサを用いて紫外線硬化性樹脂（イーエッチシー社製：ＬＣＢ−６１０）が切れ目なく塗工されて、表示領域外周シール６１が形成された。

次いで、表示媒体として、以下の成分を有するインキ１３が用いられ、ディスペンサ４１から滴下されて、アプリケータ４２（テスター産業製）にて、一方の基板１１の表面より５０μｍのギャップにてインキ１３が塗工された。

＜インキ成分＞
・電気泳動粒子（二酸化チタン）・・・６０重量部
・分散液 ・・・４０重量部
続いて、他方の基板１６として、４２０ｍｍ×３００ｍｍ×厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス（日本電気硝子製ＯＡ−１０Ｇ）に、Ｃｕ電極等の画素電極１６ｅを含む各種電極がパターン状に形成されたものが用いられた。各種電極のパターン形成は、一般的なエッチング法によって形成された。

そして、大気中にて、一方の基板１１の隔壁１２上に他方の基板１６を重ね合わせて、ラミネータ９１で一定の圧力をさらに付与しつつ、一方の基板１１と他方の基板１６とが密着された（図６参照）。このとき、両基板の間に気泡が残らないように、他方の基板１６はカールされた状態で、図６に示すように、一方の基板１１及び他方の基板１６の左側から対向する右側に向けて、表示領域外周シール６１で囲まれた空間の容積を超える余剰のインキを押し出しながら、貼り合わされた。この結果、セル内には規定量のインクのみが充填された。（知財コメント→他の関連案件と同様に、図６について他方の基板１６をカールさせた図面に変更願います。）
その後、紫外線を露光（露光量７００ｍＪ／ｃｍ^２ ）して表示領域外周シール６１を硬化させた（外周封止処理）。

以上により作製されたマザーパネル基板８１は、必要に応じて断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され、また、一方の基板１１の視認側表面にＡＧフィルムが貼合されて、表示パネルが作製された。

以上のようにして得られた表示パネルに対して表示品質を評価したが、極めて良好であった。特に、表示画素以外の領域が高反射領域となっていて、白表示時の表示品質が極めて良好であった。また、隔壁部分が視認されることがなく、高開口率がパネル全面にわたって確認された。

＜比較例１−１＞
前記実施例１に対して、補助電極３２の形成について、エッチング法を用いる代わりに、隔壁１２の形成と同様のフォトリソ法を用いた。その他は前記実施例１と同じ工程で、表示パネルを作製した。

結果として、補助電極３２のパターンと隔壁１２のパターンとのアライメントにずれが生じてしまった。ずれの程度は、最大で２０μｍにも達していた。この結果、モアレが視認されてしまうことになり、表示パネルとしての表示品質は良くなかった。

＜比較例１−２＞
前記比較例１−１に対して、補助電極３２のパターンに必ず隔壁１２のパターンが収まるように、補助電極３２のパターンの線幅を６０μｍとした。その他は前記比較例１−１と同じ工程で、表示パネルを作製した。

結果として、補助電極３２のパターンに隔壁１２のパターンが収まって、モアレが視認されることは無かった。しかしながら、補助電極３２のパターンの占有面積が増大してしまったため、開口率が低下して、像表示コントラストが低下してしまった。

＜実施例２＞
次に、本発明の第２の実施の形態による反射型表示装置の製造方法の具体的な実施例について説明する。

他方の基板１６として、４００ｍｍ×５００ｍｍ×厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス（日本電気硝子製ＯＡ−１０Ｇ）に、ＴＦＴ層が形成されたものが用いられた。ＴＦＴ層の最上部の層間絶縁層には、２０μｍのコンタクトホールが１７５μｍピッチで形成され、当該コンタクトホールは、スイッチングトランジスタのドレイン電極上に配置された。

そして、当該コンタクトホールを塞がないような所定のパターンで、当該他方の基板１６の上に、ネガ型感光性樹脂材料（デュポンＭＲＣドライフィルムレジスト（株）製のドライフィルムレジスト）を２０μｍの厚さにラミネートして１００℃、１分間の条件で加熱し、次いで露光マスクを使用して露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ^２ ）し、その後、１％ＫＯＨ水溶液を用いた現像を３０秒行い、１２０℃、６０分間の条件で焼成することで、線幅２０μｍでセルピッチ１７５μｍの格子状パターンの隔壁１２が、表示領域６０に対応する領域に形成された。すなわち、本実施例は、いわゆる多面付けタイプでなく、表示領域６０は単一であった。もっとも、図５に示すような４面付けタイプの４つの表示領域６０の各領域に形成されてもよい。なお、外周領域７０に対応する領域には、隔壁１２は形成されなかった。

次に、本実施例では、画素電極形成工程と補助電極層形成工程とが同時に行われた。すなわち、それら電極の材料としてのアルミニウムが、スパッタリング法によってアルゴンガス雰囲気０．５Ｐａという成膜条件下で１００ｎｍの厚みで成膜された。この成膜工程の際、表示領域以外の部分は、メタルマスクで覆われた。この成膜工程の結果、隔壁１２の側面にも２０ｎｍ程度の厚みでアルミニウムが成膜してしまった。

次に、補助電極層３１が５０ｎｍ程度エッチングされた。これにより、隔壁１２の側面に薄く成膜されてしまっていた補助電極層３１が完全に除去されて、隔壁１２上に平面視で当該隔壁１２と同一のパターンとなるように５０ｎｍの厚みの補助電極３２が残存されて形成された。また、このエッチング工程により、画素電極１６ｅも５０ｎｍの厚みで形成された。

一方、転写フィルム基材２１として厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人・デュポン社製）が用いられ、これにカーボンブラックを添加したヒートシール剤２２（東洋紡製バイロン６３０）が厚さ２０μｍでダイコーダにて塗布され、乾燥された。これにより、２０μｍの接着層２２を有するロール状の転写フィルム２０が作製された。なお、ヒートシール剤２２の軟化温度は約１１０℃であった。

そして、補助電極３２の上面に転写フィルム２０が載せられた状態で、１ｋＰａ程度の押圧力をさらに付与しつつ、ヒートシール剤２２の周辺がその軟化温度を超える温度、例えば１２０℃程度にまで加熱され、その結果、ヒートシール剤２２が補助電極３２の頂面の全面に熱転写された。補助電極３２の頂面からヒートシール剤２２の頭頂部までの高さは、約１０μｍであった。

続いて、他方の基板１６の表示領域６０の各々の外周を囲むように、ディスペンサを用いて紫外線硬化性樹脂（イーエッチシー社製：ＬＣＢ−６１０）が切れ目なく塗工されて、表示領域外周シール６１が形成された。

次いで、表示媒体として、以下の成分を有するインキ１３が用いられ、ディスペンサ４１から滴下されて、アプリケータ４２（テスター産業製）にて、他方の基板１６の表面より５０μｍのギャップにてインキ１３が塗工された。

＜インキ成分＞
・電気泳動粒子（二酸化チタン）・・・６０重量部
・分散液 ・・・４０重量部
続いて、一方の基板１１として、４００ｍｍ×５００ｍｍ×厚さ０．１ｍｍのＰＥＴフィルム（東洋紡製Ａ４１００）の一方の面に共通透明電極１１ｅとして酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）蒸着膜（厚さ０．０５μｍ）が設けられた基板が用意された。共通透明電極１１ｅは、スパッタリング、真空蒸着法、ＣＶＤ法などの一般的な成膜方法によって形成され、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の他に、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等によっても形成され得る。

そして、大気中にて、他方の基板１６の補助電極３２上の接着層２２の上に一方の基板１１を重ね合わせて、ラミネータ９１で一定の熱圧着圧力をさらに付与しつつ、他方の基板１６の補助電極３２と一方の基板１１とが密着された（図９参照）。このとき、両基板の間に気泡が残らないように、一方の基板１１はカールされた状態で、一方の基板１１及び他方の基板１６の左側から右側に向けて、表示領域外周シール６１で囲まれた空間の容積を超える余剰のインキを押し出しながら、貼り合わされた。この結果、セル内には規定量のインクのみが充填された。

熱圧着時の温度は、接着層２２及び表示領域外周シール６１の軟化温度又は溶融温度より高い、１１１℃〜１５０℃、好ましくは１１０℃〜１２０℃であり、本実施例では１１０℃であった。また、熱圧着圧力は、０．０１ＭＰａ〜０．７ＭＰａが好ましく、特には０．１ＭＰａ〜０．４ＭＰａが好ましく、本実施例では０．４ＭＰａであった。

その後、紫外線を露光（露光量７００ｍＪ／ｃｍ^２ ）して表示領域外周シール６１を硬化させた（外周封止処理）。

以上により作製されたマザーパネル基板８２は、断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され、また、一方の基板１１の視認側表面にＡＧフィルムが貼合されて、表示パネルが作製された。

以上のようにして得られた表示パネルに対して表示品質を評価したが、極めて良好であった。特に、表示画素以外の領域が高反射領域となっていて、白表示時の表示品質が極めて良好であった。また、隔壁部分が視認されることがなく、高開口率がパネル全面にわたって確認された。

＜実施例３＞
前記実施例２に対して、隔壁１２を逆テーパ形状（具体的には、高さ２０μｍ、頂部直径２０μｍ、底部直径１５μｍ）に形成して、エッチング工程を省略した、その他は前記実施例２と同じ工程で、表示パネルを作製した。

以上のようにして得られた表示パネルに対して表示品質を評価したが、極めて良好であった。特に、表示画素以外の領域が高反射領域となっていて、白表示時の表示品質が極めて良好であった。また、隔壁部分が視認されることがなく、高開口率がパネル全面にわたって確認された。

１１ 一方の基板
１１ｅ 共通透明電極
１２ 隔壁
１３ インキ（表示媒体）
１６ 他方の基板
１６ｅ 画素電極
２２ ヒートシール剤
３１ 補助電極層
３２ 補助電極
４１ ディスペンサ
４２ アプリケータ
５１ 断裁装置
６０ 表示領域
６１ 表示領域外周シール
７０ 外周領域
８１、８２ マザーパネル基板
９１ ラミネータ

Claims (12)

1. 少なくとも一方が透明である対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、
   一方の基板が透明であり、
   前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う透明共通電極と、補助電極と、所定のパターンの隔壁とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、
   前記補助電極は、前記隔壁上に平面視で当該隔壁に対応するパターンで設けられており、
   前記隔壁及び前記補助電極で区画された各領域をセルとして、各セルの中に前記表示媒体が配置されている
   ことを特徴とする反射型表示装置。
2. 前記補助電極は、前記透明共通電極の体積抵抗値よりも低い体積抵抗値を有している
   ことを特徴とする請求項１に記載の反射型表示装置。
3. 前記補助電極は、非透明電極である
   ことを特徴とする請求項２に記載の反射型表示装置。
4. 前記補助電極の反射率は、当該反射型表示装置の表示画素の明表示反射率以上である
   ことを特徴とする請求項３に記載の反射型表示装置。
5. 前記補助電極の反射率は、当該反射型表示装置の表示画素の暗表示反射率以下である
   ことを特徴とする請求項３に記載の反射型表示装置。
6. 前記補助電極上に、光拡散層が設けられている
   ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の反射型表示装置。
7. 前記補助電極または前記光拡散層は、接着層を介して前記透明共通電極に接着されている
   ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の反射型表示装置。
8. 前記接着層は、光拡散機能を有している
   ことを特徴とする請求項７に記載の反射型表示装置。
9. 前記画素電極と前記補助電極とが、主成分が同一である材料から形成されている
   ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の反射型表示装置。
10. 少なくとも一方が透明である対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所定の表示をする、反射型表示装置、を製造する方法であって、
    少なくとも表示領域の全面に透明共通電極が形成された透明な一方の基板上に、補助電極用の材料からなる補助電極層を形成する補助電極層形成工程と、
    前記補助電極層上に所定のパターンで隔壁を形成する隔壁形成工程と、
    前記隔壁をマスクとして利用して前記補助電極層をエッチングすることによって、前記隔壁の下に平面視で当該隔壁に対応するパターンで補助電極を残存させると共に、前記隔壁が形成されていない領域の補助電極層を除去して前記透明共通電極層を露出させる補助電極形成工程と、
    を備えたことを特徴とする反射型表示装置の製造方法。
11. 少なくとも一方が透明である対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所定の表示をする、反射型表示装置、を製造する方法であって、
    透明な一方の基板の少なくとも表示領域の全面に形成される透明共通電極に対向するように、他方の基板上に画素電極を形成する画素電極形成工程と、
    前記他方の基板上に所定のパターンで隔壁を形成する隔壁形成工程と、
    前記隔壁上に補助電極用の材料からなる補助電極層を成膜する補助電極層形成工程と、
    前記補助電極層をエッチングすることによって、前記隔壁上に平面視で当該隔壁に対応するパターンとなるように補助電極を形成する補助電極形成工程と、
    を備えたことを特徴とする反射型表示装置の製造方法。
12. 少なくとも一方が透明である対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所定の表示をする、反射型表示装置、を製造する方法であって、
    透明な一方の基板の少なくとも表示領域の全面に形成される透明共通電極に対向するように、他方の基板上に画素電極を形成する画素電極形成工程と、
    前記他方の基板上に所定のパターンで逆テーパ形状の隔壁を形成する隔壁形成工程と、
    前記隔壁上に補助電極を成膜する補助電極形成工程と、
    を備えたことを特徴とする反射型表示装置の製造方法。

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