JP2014070165A - 重合性組成物、それを用いた、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置、並びに撥水ないし撥油膜 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位、及び4つ以上の重合性基を有し、下記一般式(I)又は(II)で表される化合物(A)を含有する重合性組成物。
Rf及びRf’は、各々独立に、パーフルオロアルキレン基を表す。X1及びX2は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。X3及びX4は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
【選択図】なし
Description
そのような反射防止フィルムとして、単層の光学干渉層を有するフィルムが知られている。しかし、更なる低反射化を達成する観点から、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層などの複数の光学干渉層を有する多層型の反射防止フィルムが開発されているのが現状である。
このような多層型の反射防止フィルムは、低反射化を達成し得る反面、各層の層厚や屈折率が変動すると反射色が変化してしまうことがある。特に塗膜の表面に指紋や皮脂が付着すると、拭き取ったとしても油脂成分が僅かに残っているだけで屈折率の変化から、光学干渉層が単層の場合よりも付着跡が色味変化として視認されることが目立ち、映像の視認性が低下しやすい。したがって、多層型の反射防止フィルムでは、指紋や皮脂などの油脂成分に対する高い防汚性が特に要求されている。
しかしながら、これらの化合物はソルベイソレクシス社製のPFPE(フルオロリンクD)を原材料して用いていることから、−(CF2CF2O)m−で表される繰り返し構造と−(CF2O)n−で表される繰り返し構造との2種類の繰り返し構造を有する化合物である。フルオロリンクDは、HOCH2CF2O(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2CH2OHで表される。
なお、特許文献1の段落0020に記載の化合物1の構造において、繰り返し構造が−(CF2CF2O)n−で表されているが、これは誤りであり、実際には、特許文献1の化合物1における繰り返し構造は、−(CF2CF2O)m−で表される繰り返し構造と(CF2O)n−で表される繰り返し構造との2種類の繰り返し構造からなることが分かっている。
PFPE構造同士の疎水性相互作用増加による表面張力低下能の向上を考えれば、−(CF2CF2O)m−構造などの単独構造を有するPFPE構造が望まれていたが、下記製造スキームに示したように、フルオロリンクDの製造プロセスから単一の−(CF2CF2O)m−構造のみからなる繰り返し構造を得ることは困難であった(例えば、非特許文献1参照)。
更に、このようなPFPE構造を有する化合物は、その表面自由エネルギーの低さゆえに、組成物中の塗布溶剤や他の成分に対する溶解性が低くなる傾向にあり、このような化合物を含有する組成物を塗布して形成される塗布膜の塗布面状の向上が求められていた。
パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位、及び4つ以上の重合性基を有し、下記一般式(I)又は(II)で表される化合物(A)を含有する重合性組成物。
Rf及びRf’は、各々独立に、下記一般式(III−1)〜(III−6)のいずれかで表されるパーフルオロアルキレン基を表す。
n1は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、5〜50の整数を表す。n1個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
n2は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、5〜50の整数を表す。n2個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
Rf1、Rf’1、Rf2及びRf’2は、各々独立に、炭素数1〜10のパーフルオロアルキレン基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜10のパーフルオロアルキレン基を表す。
L1は、脂肪族の(p1+1)価の連結基を表し、L2は脂肪族の(p3+1)価の連結基を表す。
L3は、脂肪族の(p6+1)価の連結基を表し、L4は脂肪族の(p8+1)価の連結基を表す。
p2及びp4は、各々独立に、1以上の整数を表す。
p5及びp7は、各々独立に、1以上の整数を表す。
p1及びp3は、各々独立に、2以上の整数を表す。
p6及びp8は、各々独立に、2以上の整数を表す。
Y1及びY2は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよい炭素数4以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する2価以上の連結基を表す。
Y3及びY4は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数4以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する2価以上の連結基を表す。
X1及びX2は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
X3及びX4は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
Rf3〜Rf6、Rf7〜Rf12、Rf13〜Rf20、Rf21〜Rf30、Rf31〜Rf42、及びRf43〜Rf56は、各々独立に、フッ素原子、炭素数1〜10の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜11の直鎖状パーフルオロアルキル基を表す。
〔2〕
前記一般式(III−1)における前記繰り返し単位間で、Rf3〜Rf6で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式(III−2)における前記繰り返し単位間で、Rf7〜Rf12で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式(III−3)における前記繰り返し単位間で、Rf13〜Rf20で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式(III−4)における前記繰り返し単位間で、Rf21〜Rf30で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式(III−5)における前記繰り返し単位間で、Rf31〜Rf42で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式(III−6)における前記繰り返し単位間で、Rf43〜Rf56で表される基の種類及び前記基の数が同一である、〔1〕に記載の重合性組成物。
〔3〕
前記一般式(III−1)における、Rf3〜Rf6の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式(III−2)における、Rf7〜Rf12の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式(III−3)における、Rf13〜Rf20の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式(III−4)における、Rf21〜Rf30の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式(III−5)における、Rf31〜Rf42の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式(III−6)における、Rf43〜Rf56の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基である、〔1〕又は〔2〕に記載の重合性組成物。
〔4〕
上記Rf1、Rf’1、Rf2及びRf’2が、各々独立に、下記式のいずれかで表される基である、〔1〕〜〔3〕のいずれか1項に記載の重合性組成物。
〔5〕
L1、L2、L3、及びL4が、各々独立に、下記式のいずれかで表される連結基である、〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の重合性組成物。
〔6〕
Y1及びY2、並びにY3及びY4が、各々独立に、下記式のいずれかで表される連結基である、〔1〕〜〔5〕いずれか1項に記載の重合性組成物。
*1は、前記一般式(I)中のL1若しくはL2に接続する部位、又は前記一般式(II)中の隣接する酸素原子に接続する部位、*2は前記一般式(I)中のX1若しくはX2に接続する部位、又は前記一般式(II)中のL3若しくはL4に接続する部位を表す。
〔7〕
X1、X2、X3又はX4についての重合性基を有する基が(メタ)アクリロイル基である、〔1〕〜〔6〕のいずれか1項に記載の重合性組成物。
〔8〕
(B)光重合開始剤及び(C)有機溶剤を更に含有する、〔1〕〜〔7〕のいずれか1項に記載の重合性組成物。
〔9〕
透明支持体上に少なくとも1層の低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、該低屈折率層が、〔1〕〜〔8〕のいずれか1項に記載の重合性組成物から形成される、反射防止フィルム。
〔10〕
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムとを有し、該保護フィルムの少なくとも一方が〔9〕に記載の反射防止フィルムである、偏光板。
〔11〕
〔9〕に記載の反射防止フィルム又は〔10〕に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有する、画像表示装置。
〔12〕
〔1〕〜〔8〕のいずれか1項に記載の重合性組成物から形成される撥水ないし撥油膜。
〔13〕
パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位、及び4つ以上の重合性基を有し、下記一般式(I)又は(II)で表される化合物。
Rf及びRf’は、各々独立に、下記一般式(III−1)〜(III−6)のいずれかで表されるパーフルオロアルキレン基を表す。
n1は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、5〜50の整数を表す。n1個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
n2は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、5〜50の整数を表す。n2個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
Rf1、Rf’1、Rf2及びRf’2は、各々独立に、炭素数1〜10のパーフルオロアルキレン基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜10のパーフルオロアルキレン基を表す。
L1は、脂肪族の(p1+1)価の連結基を表し、L2は脂肪族の(p3+1)価の連結基を表す。
L3は、脂肪族の(p6+1)価の連結基を表し、L4は脂肪族の(p8+1)価の連結基を表す。
p2及びp4は、各々独立に、1以上の整数を表す。
p5及びp7は、各々独立に、1以上の整数を表す。
p1及びp3は、各々独立に、2以上の整数を表す。
p6及びp8は、各々独立に、2以上の整数を表す。
Y1及びY2は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよい炭素数4以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する2価以上の連結基を表す。
Y3及びY4は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数4以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する2価以上の連結基を表す。
X1及びX2は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
X3及びX4は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
Rf3〜Rf6、Rf7〜Rf12、Rf13〜Rf20、Rf21〜Rf30、Rf31〜Rf42、及びRf43〜Rf56は、各々独立に、フッ素原子、炭素数1〜10の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜11の直鎖状パーフルオロアルキル基を表す。
〔14〕
透明支持体上に少なくとも1層の低屈折率層を有する反射防止フィルムの製造方法であって、〔1〕〜〔8〕のいずれか1項に記載の重合性組成物を塗布、乾燥することにより該低屈折率層を形成する工程を有する反射防止フィルムの製造方法。
〔15〕
〔1〕〜〔8〕のいずれか1項に記載の重合性組成物から形成される撥水ないし撥油膜の製造方法。
本発明の反射防止フィルムは、前記重合性組成物を用いてなるので、指紋や皮脂等の油脂成分が付着しても拭き取りやすく防汚性に優れ、塗布面状及び耐擦傷性に優れる。
本発明の反射防止フィルムによれば、塗布面状、防汚性及び耐擦傷性に優れる偏光板及び画像表示装置を提供することができる。
Rf及びRf’は、各々独立に、下記一般式(III−1)〜(III−6)のいずれかで表されるパーフルオロアルキレン基を表す。
n1は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、5〜50の整数を表す。n1個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
n2は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、5〜50の整数を表す。n2個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
Rf1、Rf’1、Rf2及びRf’2は、各々独立に、炭素数1〜10のパーフルオロアルキレン基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜10のパーフルオロアルキレン基を表す。
L1は、脂肪族の(p1+1)価の連結基を表し、L2は脂肪族の(p3+1)価の連結基を表す。
L3は、脂肪族の(p6+1)価の連結基を表し、L4は脂肪族の(p8+1)価の連結基を表す。
p2及びp4は、各々独立に、1以上の整数を表す。
p5及びp7は、各々独立に、1以上の整数を表す。
p1及びp3は、各々独立に、2以上の整数を表す。
p6及びp8は、各々独立に、2以上の整数を表す。
Y1及びY2は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよい炭素数4以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する2価以上の連結基を表す。
Y3及びY4は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数4以上の、脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する2価以上の連結基を表す。
X1及びX2は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
X3及びX4は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
Rf3〜Rf6、Rf7〜Rf12、Rf13〜Rf20、Rf21〜Rf30、Rf31〜Rf42、及びRf43〜Rf56は、各々独立に、フッ素原子、炭素数1〜10の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜11の直鎖状パーフルオロアルキル基を表す。
本発明において、前記一般式(I)又は(II)で表される化合物(A)は防汚剤、撥水剤、撥油剤等として機能する。
上記一般式(III−1)〜(III−6)中、Rf3〜Rf6、Rf7〜Rf12、Rf13〜Rf20、Rf21〜Rf30、Rf31〜Rf42、及びRf43〜Rf56についての炭素数1〜10の直鎖状パーフルオロアルキル基としては、炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロヘプチル基、パーフルオロオクチル基などが挙げられ、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロヘプチル基又はパーフルオロオクチル基であることが好ましい。
Rf3〜Rf6、Rf7〜Rf12、Rf13〜Rf20、Rf21〜Rf30、Rf31〜Rf42、及びRf43〜Rf56についての少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜11の直鎖状パーフルオロアルキル基としては、少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましい。また、−CF2−O−(CF2)m1Fで表される基(m1は1〜9の整数を表す。)であることも好ましい。m1は2〜8の整数であることが好ましい。
Rf3〜Rf6、Rf7〜Rf12、Rf13〜Rf20、Rf21〜Rf30、Rf31〜Rf42、及びRf43〜Rf56としては、炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、炭素数2〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
n1、n2は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、各々独立に、5〜50の整数を表し、8〜30の整数であることが好ましい。
同様に、前記一般式(III−2)における前記繰り返し単位間で、Rf7〜Rf12の各々が異なっていてもよいが、Rf7〜Rf12で表される基の種類及び前記基の数が同一であることが好ましい。前記一般式(III−2)における前記繰り返し単位間で、Rf7〜Rf12で表される基の位置が異なる位置異性であってもよい。
同様に、前記一般式(III−3)における前記繰り返し単位間で、Rf13〜Rf20の各々が異なっていてもよいが、Rf13〜Rf20で表される基の種類及び前記基の数が同一であることが好ましい。前記一般式(III−3)における前記繰り返し単位間で、Rf13〜Rf20で表される基の位置が異なる位置異性であってもよい。
同様に、前記一般式(III−4)における前記繰り返し単位間で、Rf21〜Rf30の各々が異なっていてもよいが、Rf21〜Rf30で表される基の種類及び前記基の数が同一であることが好ましい。前記一般式(III−4)における前記繰り返し単位間で、Rf21〜Rf30で表される基の位置が異なる位置異性であってもよい。
同様に、前記一般式(III−5)における前記繰り返し単位間で、Rf31〜Rf42の各々が異なっていてもよいが、Rf31〜Rf42で表される基の種類及び前記基の数が同一であることが好ましい。前記一般式(III−5)における前記繰り返し単位間で、Rf31〜Rf42で表される基の位置が異なる位置異性であってもよい。
同様に、前記一般式(III−6)における前記繰り返し単位間で、Rf43〜Rf56の各々が異なっていてもよいが、Rf43〜Rf56で表される基の種類及び前記基の数が同一であることが好ましい。前記一般式(III−6)における前記繰り返し単位間で、Rf43〜Rf56で表される基の位置が異なる位置異性であってもよい。
同様に、前記一般式(III−2)において、Rf7〜Rf12の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、Rf7〜Rf12の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
同様に、前記一般式(III−3)において、Rf13〜Rf20の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、Rf13〜Rf20の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
同様に、前記一般式(III−4)において、Rf21〜Rf30の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、Rf21〜Rf30の少なくとも1つが炭素数2〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
同様に、前記一般式(III−5)において、Rf31〜Rf42の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、Rf31〜Rf42の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
同様に、前記一般式(III−6)において、Rf43〜Rf56の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、Rf43〜Rf56の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
Rf1、Rf’1、Rf2及びRf’2についての少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜10のパーフルオロアルキレン基としては、炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基等の置換基を有していてもよく、少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜5のパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。
Rf1、Rf’1、Rf2及びRf’2としては炭素数1〜10のパーフルオロアルキレン基であることが好ましく、炭素数1〜5のパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。
上記Rf1、Rf’1、Rf2及びRf’2が、各々独立に、下記式のいずれかで表される基であることがより好ましい。
上記Rf1、Rf’1、Rf2及びRf’2が、各々独立に、下記式のいずれかで表される基であることが更に好ましい。
p5及びp7は、各々独立に、1以上の整数を表し、1〜8の整数であることが好ましく、1〜5の整数であることがより好ましい。
p1及びp3は、各々独立に、2以上の整数を表し、2〜6の整数であることが好ましく、2〜4の整数であることがより好ましく、2又は3であることが更に好ましい。
p6及びp8は、各々独立に、2以上の整数を表し、2〜6の整数であることが好ましく、2〜4の整数であることがより好ましく、2又は3であることが更に好ましい。
L3は、脂肪族の(p6+1)価の連結基を表し、L4は脂肪族の(p8+1)価の連結基を表す。
L1についての脂肪族の(p1+1)価の連結基、L2についての脂肪族の(p3+1)価の連結基、L3についての脂肪族の(p6+1)価の連結基、L4についての脂肪族の(p8+1)価の連結基としては、エーテル結合、カルボニル基及びアミノ基よりなる群から選択される少なくとも1つと、分岐を有する炭化水素鎖とからなる連結基であることが好ましい。
前記分岐を有する炭化水素鎖としては、分岐を有する炭素数3〜10の炭化水素鎖であることが好ましい。
L1、L2、L3、及びL4は、各々独立に、下記式のいずれかで表される連結基であることが更に好ましい。
Rについてのアルキル基としては、炭素数1〜8のアルキル基であることが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
Y3及びY4は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数4以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する2価以上の連結基を表す。
前記一般式(II)で表される化合物(A)が、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数4以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する2価以上の連結基Y3及びY4を有することにより、
従来のPFPE構造を有する化合物が、その表面自由エネルギーの低さゆえに、組成物中の塗布溶剤や他の成分に対する溶解性が低くなる傾向にあったのと比較して、前記一般式(I)又は(II)で表される化合物(A)は、溶剤溶解性が向上し、得られる膜の面状が均質になり面状を良好にすることができる。
なお、一般式(I)の構造については、このようなアミド結合を有することによる分解のおそれは、化学構造上、少ないものと考えられる。
2価以上の連結基Y1、Y2、Y3及びY4の価数としては2価以上であることが好ましく、3価以上であることがより好ましい。価数の上限値としては特に制限はないが、
10価以下であることが好ましい。
2価以上の連結基Y1及びY2が有し得るエーテル結合を有していてもよい炭素数4以上の脂肪族基、Y3及びY4が有し得るエーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数4以上の脂肪族基としては、オリゴ(オキシエチレン基)、オリゴ(オキシプロピレン基)等のオリゴ(オキシアルキレン基)等が挙げられる。炭素数としては4以上であることが好ましく、5以上であることがより好ましい。炭素数の上限値としては特に制限はないが、30以下であることが好ましい。
2価以上の連結基Y1及びY2が有し得るエーテル結合を有していてもよい芳香族基、Y3及びY4が有し得るエーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない芳香族基としては、1,4−フェニレン基、1,3−フェニレン基等のフェニレン基が挙げられる。
*1は、前記一般式(I)中のL1若しくはL2に接続する部位、又は前記一般式(II)中の隣接する酸素原子に接続する部位、*2は前記一般式(I)中のX1若しくはX2に接続する部位、又は前記一般式(II)中のL3若しくはL4に接続する部位を表す。
アルコキシシリル基としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基のいずれでもよいが、トリアルコキシシリル基であることが好ましく、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基などが挙げられる。
アリール基としては、フェニル基などが挙げられる。
ポリオキシアルキレン基としては、ポリオキシエチレン基などが挙げられる。
前記一般式(I)又は(II)で表される化合物(A)の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明の、パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位及び4つ以上の重合性基を有し、前記一般式(I)又は(II)で表される化合物(A)の製造方法としては、前記一般式(I)又は(II)で表される化合物(A)を製造し得る限り特に制限はなく、例えば、前記一般式(I)又は(II)で表される化合物(A)におけるパーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位を、対応するポリエーテル構造を有する繰り返し単位を有する化合物をパーフルオロ化反応で処理するなどにより製造することができる。
一般式(I)で表される化合物についてはパーフルオロポリエーテルに連結基L1及びL2を導入後、連結基(溶剤溶解性基)Y1及びY2を導入することができる。連結基(溶剤溶解性基)Y1及びY2の導入には末端のアルコールと(1)環状エーテル(エチレンオキシド)の開環反応によるアルキレングリコールユニットの導入、(2)ビスフェノールAの芳香環上置換によるビスフェノールユニットの導入等により行うことができる。その後、重合性基を有する基X1及びX2を導入することで製造することができる。
一般式(II)で表される化合物についてはパーフルオロポリエーテルに連結基(溶剤溶解性基)Y3及びY4を導入し、その後、連結基L3及びL4を導入し、最後に重合性基を有する基X3及びX4を導入することにより製造することができる。
前記パーフルオロ化反応としては、公知の方法を用いることができ、例えば、液相フッ素化法、エアロゾルフッ素化法、電解フッ素化法、フッ化コバルトによるフッ素化法などが挙げられ、生成物の収率が高いという利点から、液相フッ素化法がより好ましい。
A1〜A6及びB1〜B6は、各々独立に、水酸基の保護基を表す。
A1〜A6及びB1〜B6についての保護基としては、水酸基を保護し得る限り特に制限はないが、アシル基、アリールカルボニル基、アルキル基などが挙げられる。
R3〜R6、R7〜R12、R13〜R20、R21〜R30、R31〜R42、及びR43〜R56は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜10の直鎖状アルキル基又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜10の直鎖状アルキル基を表す。
k1〜k6は、各々独立に、5〜50の整数を表し、8〜30の整数であることが好ましい。
炭素数1〜10の直鎖状アルキル基としては、炭素数1〜8の直鎖状アルキル基であることが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられる。
少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜10の直鎖状アルキル基としては、−CH2−O−(CH2)m1Hで表される基であることが好ましい。m1は1〜9の整数を表し、1〜8の整数であることが好ましい。
前記一般式(IV−1)〜(IV−6)のいずれかで表される化合物の具体例を以下に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
該溶媒の具体的な例としては、液相フッ素化の溶媒として用いられている公知の溶媒、例えば、FluorinertFC−72(商品名、3M社製)などのパーフルオロカーボン類、GALDEN HT−70(商品名、Solvay Solexis社製)などのエーテル性酸素原子含有パーフルオロカーボン類、パーフルオロトリブチルアミンなどのパーフルオロアミン類、無水フッ化水素などが挙げられる。
前記反応で用いる溶媒としては、前記パーフルオロカーボン類であることが好ましく、沸点85℃以下のパーフルオロカーボン類であることがより好ましい。前記反応で用いる溶媒の質量は、化合物の質量に対して3倍〜10000倍であることが好ましく、5〜1000倍であることがより好ましく、5〜200倍であることが特に好ましい。
フッ素ガスに対して不活性なガスとしては、ヘリウムガスや窒素ガスなどが挙げられるが、経済的な理由から窒素ガスがより好ましい。窒素ガス中のフッ素ガスの体積濃度は、5%以上が好ましく、さらには10%以上がより好ましい。フッ素化反応に用いるフッ素は、パーフルオロ化に供する化合物(例えば、前記一般式(IV−1)〜(IV−6)のいずれかで表される化合物)をパーフルオロ化するために最低限必要な量の1〜100倍が好ましく、1.1〜10倍がより好ましい。パーフルオロ化するために最低限必要なフッ素の量は、パーフルオロ化され得る部分の数と、その部分をパーフルオロ化するために必要なフッ素の分子数の総和から算出される。パーフルオロ化され得る部分及び必要なフッ素の分子数の例としては、炭素−水素結合1箇所に対してフッ素1分子、炭素−炭素二重結合1箇所に対してフッ素1分子、炭素−炭素二重結合1箇所に対してフッ素2分子である。より具体的な例を挙げると、分子中に炭素−水素結合を6箇所及び炭素−炭素二重結合を2箇所及び炭素−炭素三重結合1箇所を有する化合物1モルをパーフルオロ化するために最低限必要なフッ素の量は、10モルと算出される。
R3〜R6、R7〜R12、R13〜R20、R21〜R30、R31〜R42、及びR43〜R56は、前記一般式(IV−1)〜(IV−6)におけるR3〜R6、R7〜R12、R13〜R20、R21〜R30、R31〜R42、及びR43〜R56と同義である。
前記一般式(IV−1)〜(IV−6)のいずれかで表される化合物を得るための前記開環重合反応は「アルキレンオキシド重合体」(海文堂:柴田満太、斉藤政博、秋本新一共編)に基づいて行うことができる。
本発明の重合性組成物は、光重合開始剤(B)を含有することが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤については、特開2008−134585号公報の段落[0141]〜[0159]にも記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
本発明の重合性組成物は有機溶剤(C)を含有することが好ましい。
重合性組成物を形成するための前記各成分を含む組成物を溶解する溶媒としては、特に限定されないが、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤が好ましく用いられる。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、メチルイソプロピルケトン、エチルイソプロピルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−t−ブチルケトン、ジアセチル、アセチルアセトン、アセトニルアセトン、ジアセトンアルコール、メシチルオキサイド、クロロアセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等をあげることができる。この中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが好ましい。これらの溶媒は単独で用いても、任意の混合比で混合して用いてもよい。
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に少なくとも1層の低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、該低屈折率層が、前記重合性組成物から形成される。
(反射防止フィルムの製造方法)
本発明の反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。まず低屈折率層用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法(米国特許第2681294号明細書、特開2006−122889号公報参照)がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
なお、以下に述べるフィルムを構成する層(例えば、ハードコート層、防眩層、中屈折率層、高屈折率層など)を塗設についても、上記と同様の塗布方法を適用することができる。
本発明の反射防止フィルムは、透明な支持体上に、低屈折率層、及び目的に応じて必要な機能層を単独又は複数層設けることにより作製することができる。
好ましい一つの態様としては、透明支持体上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層された反射防止フィルムを挙げることができる。反射防止フィルムは、最も単純な構成では、透明支持体上に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、反射防止層を、透明支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、透明支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、透明支持体側から高屈折率層/低屈折率層の2層のものや、屈折率の異なる3層を、中屈折率層(透明支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する透明支持体上に、中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平8−122504号公報、特開平8−110401号公報、特開平10−300902号公報、特開2002−243906号公報、特開2000−111706号公報等に記載の構成が挙げられる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの(例、特開平10−206603号公報、特開2002−243906号公報等)等が挙げられる。
該中屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.60〜1.65であり、該中屈折率層の厚さが50.0nm〜70.0nmであり、
該高屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.70〜1.74であり、該高屈折率層の厚さが90.0nm〜115.0nmであり、
該低屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.33〜1.38であり、該低屈折率層の厚さが85.0nm〜95.0nmである
ことが好ましい。
構成(1):
中屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.60〜1.64であり、中屈折率層の厚さが55.0nm〜65.0nmであり、
高屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.70〜1.74であり、高屈折率層の厚さが105.0nm〜115.0nmであり、
低屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.33〜1.38であり、低屈折率層の厚さが85.0nm〜95.0nmを有する低屈折率層である反射防止フィルム。
構成(2):
中屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.60〜1.65であり、中屈折率層の厚さが55.0nm〜65.0nmであり、
高屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.70〜1.74であり、高屈折率層の厚さが90.0nm〜100.0nmであり、
低屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.33〜1.38であり、低屈折率層の厚さが85.0nm〜95.0nmである反射防止フィルム。
式(ロ) λ/2×0.66<n2d2<λ/2×0.72
式(ハ) λ/4×0.84<n3d3<λ/4×0.92
本発明において、平均反射率は視認性の観点から1.20%未満であることが好ましく、1.16%未満であることがより好ましい。
また、画像表示装置の表面に設置した場合、平均反射率(鏡面反射率)の平均値を0.5%以下とすることにより、映り込みを著しく低減することができ、好ましい。
各層の膜厚は光の干渉を利用した反射分光膜厚計“FE−3000”(大塚電子(株)製)や、TEM(透過型電子顕微鏡)による断面観察により測定することができる。反射分光膜厚計でも膜厚と同時に屈折率の測定も可能であるが、膜厚の測定精度を上げるために、別手段で測定した各層の屈折率を用いることが望ましい。各層の屈折率が測定できない場合は、TEMによる膜厚測定が望ましい。その場合は、10箇所以上測定し、平均した値を用いることが望ましい。
[透明支持体]
本発明の反射防止フィルムの透明支持体としては、透明基材フィルムが好ましい。透明基材フィルムとしては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム(例えば、セルローストリアセテートフィルム(屈折率1.48)、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム)、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー(ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製))、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
透明支持体の厚さは通常25μm〜1000μm程度のものを用いることができるが、好ましくは25μm〜250μmであり、30μm〜90μmであることがより好ましい。
透明支持体の幅は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は100〜5000mmのものが用いられ、800〜3000mmであることが好ましく、1000〜2000mmであることがさらに好ましい。透明支持体はロール形態の長尺で取り扱うことができ、通常100m〜5000m、好ましくは500m〜3000mのものである。
透明支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さRaの値が1μm以下であることが好ましく、0.0001〜0.5μmであることが好ましく、0.001〜0.1μmであることがさらに好ましい。
透明支持体については、特開2009−98658号公報の段落[0163]〜[0169]に記載されており、本発明においても同様である。
本発明の反射防止フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。本発明においては、ハードコート層を設けなくてもよいが、ハードコート層を設けた方が鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。
好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
又はハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。さらに、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。具体的には下記重合性不飽和基を有する多官能モノマーで挙げた化合物を好ましく用いることができる。
(重合性不飽和基を有する多官能モノマー)
重合性不飽和基を有する多官能モノマーは、重合性不飽和基を3つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。前記重合性不飽和基を有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができる。後述の重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体と併用することで、耐擦傷性あるいは薬品処理後の耐擦傷性を向上させることもできる。
重合性不飽和基を有する多官能モノマーは、フッ素を含んでいないものでも、フッ素を含んでいるものでもよい。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開2009−98658号公報の段落[0114]〜[0122]に記載されており、本発明においても同様である。
本発明におけるハードコート層は、帯電防止性を付与する目的で導電性化合物を含有してもよい。本発明に用いられる導電性化合物は、特に制限はないが、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物が挙げられる。イオン導電性化合物としては、カチオン性、アニオン性、非イオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。電子伝導性化合物としては、芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である電子伝導性化合物が挙げられる。これらの中では帯電防止性能が高く、比較的安価で、更に基材側領域に偏在させる観点から、4級アンモニウム塩基を有する化合物(カチオン系化合物)が好適である。
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
防眩層については特開2009−98658号公報の段落[0178]〜[0189]に記載されており、本発明においても同様である。
高屈折率層の屈折率は、前記のように1.70〜1.74であることが好ましく、1.71〜1.73であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、1.60〜1.64であることが好ましく、1.61〜1.63であることがさらに好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
酸素濃度が好ましくは6体積%以下の雰囲気で硬化性樹脂の架橋反応、又は、重合反応により形成することであり、更に好ましくは酸素濃度が4体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が2体積%以下、最も好ましくは1体積%以下である。
具体的には、中屈折率層、高屈折率層が前記式(I)、式(II)の膜厚と屈折率を満足するように微粒子の種類、樹脂の種類を選択すると共にその配合比率を決め、主な組成を決定することが一例として挙げられる。
本発明における低屈折率層は、屈折率が1.30〜1.47であることが好ましい。多層薄膜干渉型の反射防止フィルム(中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層)の場合の低屈折率層の屈折率は1.33〜1.38であることが望ましく、更に望ましくは1.35〜1.37が望ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が95゜以上であることが好ましい。更に好ましくは102゜以上である。特に、接触角が105°以上であると、指紋に対する防汚性能が著しく良化するため、特に好ましい。また、表面自由エネルギーが25mN/m以下であることがより好ましく、23mN/m以下であることが特に好ましく、20mN/m以下であることが更に好ましい。最も好ましくは、表面自由エネルギーが20mN/m以下である。
低屈折率層は、前記一般式(I)で表される化合物(A)、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、無機微粒子、その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた重合性組成物を塗布と同時、又は塗布・乾燥後に電離放射線照射(例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。)や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が1体積%以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が0.5体積%以下であり、更に好ましくは酸素濃度が0.1体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が0.05体積%以下、最も好ましくは0.02体積%以下である。
前記重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体は、少なくとも一種の含フッ素ビニルモノマーを重合して得ることが好ましい。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等)、(メタ)アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(商品名、大阪有機化学製)やR−2020(商品名、ダイキン製)等)、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明では共重合体のフッ素含率が20〜60質量%となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは25〜55質量%の場合であり、特に好ましくは30〜50質量%の場合である。
前記無機微粒子としては、多孔質又は中空微粒子も好ましい態様として挙げられる。
[多孔質又は中空微粒子の調製方法]
中空微粒子の好ましい製造方法を以下に記載する。第1段階として、後処理で除去可能なコア粒子形成、第2段階としてシェル層形成、第3段階としてコア粒子の溶解、必要に応じて第4段階として追加シェル相の形成である。具体的には中空粒子の製造は、例えば特開2001−233611号公報に記載されている中空シリカ微粒子の製造方法に準じて行うことができる。
透明支持体:トリセルロースアセテートフィルム(屈折率:1.49、膜厚60μm)
ハードコート層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、シリカゾル、光重合開始剤(屈折率1.49、膜厚10μm)
中屈折率層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤(屈折率:1.62、膜厚60nm)
高屈折率層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤(屈折率:1.72、膜厚110nm)
低屈折率層:重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、中空シリカ微粒子、重合性不飽和基を有する多官能モノマー(フッ素を含有する化合物及びフッ素を含有しない化合物)、前記一般式(I)で表される化合物(A)、光重合開始剤(屈折率:1.36、膜厚90nm)
構成(4)
透明支持体:トリセルロースアセテートフィルム(屈折率:1.49、膜厚60μm)
ハードコート層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、シリカゾル、光重合開始剤(屈折率1.49、膜厚10μm)
中屈折率層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、リン含有酸化錫微粒子又はアンチモンドープ酸化錫微粒子、光重合開始剤(屈折率:1.635、膜厚60nm)
高屈折率層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤(屈折率:1.72、膜厚95nm)
低屈折率層:重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、中空シリカ微粒子、重合性不飽和基を有する多官能モノマー(フッ素を含有する化合物及びフッ素を含有しない化合物)、前記一般式(I)で表される化合物(A)、光重合開始剤(屈折率:1.36、膜厚90nm)
本発明の反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム(偏光板用保護フィルム)として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の2枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム(位相差フィルム)は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が前記本発明の反射防止フィルムである。
また、本発明の重合性組成物を用いて撥水ないし撥油膜を形成することができる。
本発明は前記撥水ないし撥油膜に関するものでもある。
化合物(A−1)の合成
下記合成スキーム1の通り製造した。
「アルキレンオキシド重合体」(海文堂:柴田満太、斉藤政博、秋本新一共編)に基づいてエポキシ環を開環重合して得られるポリブチレングリコール(平均分子量:700)60.0g、1,4-ジオキサン150mL、水酸化カリウム0.90gをとり、0℃で撹拌させながら、アクリロニトリル21.4gを滴下したのち、40℃で8時間撹拌させた。反応液に酢酸エチル200mL、ヘキサン200mLを添加し、1規定の塩酸、水、重層水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し化合物(1)を得た。収量59.96g、収率85.0%。
(工程2)
三口フラスコに化合物(1)60.0g、メタノール300mLをとり、0℃の浴中に設置した。反応容器の出口に、ガストラップ(水、1規定の水酸化ナトリウム水溶液)をそれぞれ設置した。塩化水素ガス(純度99.7%以上、東亜合成株式会社製)を100mL/分の速度で吹き込んだ。塩化水素が溶液中に飽和したところで、塩化水素ガスを30mL/分の速度で30分間吹き込んだ。塩化水素ガス吹き込み終了後、TLCにより化合物(1)の消失を確認した。反応液に水100mLを添加したのち、15分間撹拌を行った。2規定の水酸化ナトリウム水溶液を加えてpH7に調整し、酢酸エチルを300mL、ヘキサン700mLで希釈後、有機層を取り出した。有機層を水、重層水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物(2)を得た。収量47.16g、収率73.0%。
三口フラスコに水素化ホウ素ナトリウム12.2g、テトラヒドロフラン150mLを取り、0℃で撹拌しながら、テトラヒドロフラン30mLで希釈した化合物(2)60.0gをフラスコ中に滴下した。滴下終了後、室温(25℃)に戻しそのまま1時間撹拌させた。反応液を酢酸エチル500mLで希釈後、1規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物(3)を得た。収量53.84g、収率95.5%。
(工程4)
三口フラスコに化合物(3)60.0g、酢酸エチル150mL、ピリジン12.0gを取り、0℃で攪拌させながら、7H−ドデカフルオロヘプタン酸塩化物50.21gを加えた後、室温(25℃)に戻しそのまま4時間攪拌させた。反応液を酢酸エチル150mL、ヘキサン350mLで希釈後、1規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物(4)を得た。収量73.95g、収率70.3%。
フッ素樹脂製反応容器に含フッ素溶媒FC−72(Fluorinert、3M社製)300mL、フッ化ナトリウム38.8gを取り、ヘリウム雰囲気下、0℃の浴中に設置した。反応容器の出口には、フッ化ナトリウムペレット充填層、及び−40℃に保持した冷却器を直列に設置した。250mL/分の速度でヘリウムガスを1時間吹き込んだ後、窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガス(以下、単に希釈フッ素ガスという)を250mL/分の速度で10分間吹き込んだ。続いて希釈フッ素ガスを250mL/分の速度で吹き込みながら、化合物(4)6.0g、含フッ素溶媒AK−225(アサヒクリン、旭硝子株式会社製)12g、ヘキサフルオロベンゼン0.15g溶液を4.0mL/時間の速度で添加した。添加終了後、希釈フッ素ガスを250mL/分の速度で15分間吹き込んだ。この後、希釈フッ素ガスを250mL/分の速度で吹き込みながら、ヘキサフルオロベンゼン10mLを10mL/時間の速度で添加した。添加終了後、希釈フッ素ガスを250mL/分の速度で15分間吹き込み、さらにヘリウムガスを250mL/分の速度で1時間吹き込み、反応容器中の残存フッ素ガスを追い出した。GC及びGC−MS分析により、ペルフルオロ化が完全に進行したことを確認した。
反応液から固形物を濾別した後、フッ化ナトリウム38.8gを加え、室温下で攪拌させたメタノール溶液300mL中に反応液を滴下した。2.5時間攪拌させた後、固形物を濾別した。反応液に含フッ素溶媒FC−72を300mLを加え、重層水、水、飽和食塩水で洗浄した。その後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。精製は減圧蒸留により行い、化合物(5)を得た。収量4.97g、収率50.4%。
三口フラスコに水素化ホウ素ナトリウム0.45g、テトラヒドロフラン15mLを取り、0℃で撹拌しながら、テトラヒドロフラン5mLで希釈した化合物(5)6.0gをフラスコ中に滴下した。滴下終了後、室温(25℃)に戻しそのまま1時間撹拌させた。反応液を酢酸エチル50mLで希釈後、1規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物(6)を得た。収量5.47g、収率93.3%。
(工程7)
フラスコに化合物(6)4.0g、1,4−ジオキサン15mL、炭酸カリウム0.90g、エピクロロヒドリン0.33gを取り、40℃で6時間攪拌させた。反応液を酢酸エチル15mL、ヘキサン35mLで希釈後、1規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。次に、濃縮物に水酸化カリウム0.37g、水3g、1,4−ジオキサン30mLを取り、80℃で6時間撹拌した。室温に戻した反応液に酢酸エチル50mLを加え、水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物(7)を得た。収量3.54g、収率83.4%。
窒素ガスで満たした三口フラスコに化合物(7)3.0g、水素化カリウム0.10g、テトラヒドロフラン(脱水)20mLを取り、溶液中に窒素ガスを導入しながら3時間撹拌した。その後、エチレンオキシドを0.51g導入した後、室温で12時間撹拌した。反応液を酢酸エチル50mLで希釈後、1規定の塩酸、重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物(8)を得た。収量3.07g、収率85.1%。
(工程9)
三口フラスコに化合物(8)3.0g、ピリジン0.38g、酢酸エチル10mLを取り、0℃で攪拌させながら、塩化アクリロイル0.38gを加えた後、室温(25℃)に戻しそのまま4時間攪拌させた。反応液を酢酸エチル50mLで希釈後、1規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物(A−1)を得た。収量2.98g、収率93.0%。
化合物(A−2)の合成
下記合成スキーム2の通り製造した。
(工程7)
窒素ガスで満たした三口フラスコに化合物(7)4.0g、水素化カリウム0.12g、テトラヒドロフラン(脱水)20mLを取り、溶液中に窒素ガスを導入しながら3時間撹拌した。その後、エチレンオキシドを0.65g導入した後、室温で12時間撹拌した。反応液を酢酸エチル50mLで希釈後、1規定の塩酸、重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物(9)を得た。収量3.92g、収率85.1%。
(工程8)
フラスコに化合物(9)3.0g、エピクロロヒドリン0.22g、炭酸カリウム0.61g、1,4−ジオキサン20mLを取り、40℃で6時間攪拌させた。反応液を酢酸エチル15mL、ヘキサン35mLで希釈後、1規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。次に、濃縮物に水酸化カリウム0.25g、水2g、テトラヒドロフラン20mLを取り、80℃で6時間撹拌した。反応液に酢酸エチル50mLを加え、水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物(10)を得た。収量2.68g、収率85.0%。
(工程9)
三口フラスコに化合物(10)3.0g、酢酸エチル10mL、ピリジン0.41gを取り、0℃で攪拌させながら、塩化アクリロイル0.42gを加えた後、室温(25℃)に戻しそのまま4時間攪拌させた。反応液を酢酸エチル50mLで希釈後、1規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物(A−2)を得た。収量3.03g、収率94.0%。
〔反射防止フィルムの作製〕
下記に示す通りに、各層形成用の塗布液を調製し、各層を形成して、実施例1〜11及び比較例1〜3の反射防止フィルムを作製した。
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
メチルエチルケトン900質量部に対して、シクロヘキサノン100質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製)750質量部、シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製)200質量部、光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)50質量部、を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液Aを調製した。
ZrO2微粒子含有ハードコート剤(デソライトZ7404[屈折率1.72、固形分濃度:60質量%、酸化ジルコニウム微粒子含量:70質量%(対固形分)、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径:約20nm、溶剤組成:メチルイソブチルケトン/メチルエチルケトン=9/1、JSR(株)製])5.1質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)1.5質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.05質量部、メチルエチルケトン66.6質量部、メチルイソブチルケトン7.7質量部及びシクロヘキサノン19.1質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Aを調製した。
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)4.5質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.14質量部、メチルエチルケトン66.5質量部、メチルイソブチルケトン9.5質量部及びシクロヘキサノン19.0質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Bを調製した。
下記表2に示す各試料の屈折率となるように、中屈折率用塗布液Aと中屈折率用塗布液Bとを適量混合し、中屈折率塗布液Cを調製した。
ZrO2微粒子含有ハードコート剤(デソライトZ7404[屈折率1.72、固形分濃度:60質量%、酸化ジルコニウム微粒子含量:70質量%(対固形分)、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径:約20nm、溶剤組成:メチルイソブチルケトン/メチルエチルケトン=9/1、JSR(株)製])15.7質量部に、メチルエチルケトン61.9質量部、メチルイソブチルケトン3.4質量部、シクロヘキサノン1.1質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液Aを調製した。
(パーフルオロオレフィン共重合体(1)の合成)
内容量100mlのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル40ml、ヒドロキシエチルビニルエーテル14.7g及び過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン(HFP)25gをオートクレーブ中に導入して65℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が65℃に達した時点の圧力は、0.53MPa(5.4kg/cm2)であった。該温度を保持し8時間反応を続け、圧力が0.31MPa(3.2kg/cm2)に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから2回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー28gを得た。次に該ポリマーの20gをN,N−ジメチルアセトアミド100mlに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド11.4gを滴下した後、室温で10時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体(1)を19g得た。得られたポリマーの屈折率は1.422、質量平均分子量は50000であった。
中空シリカ粒子微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業(株)製CS60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.31)500質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン30質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.51質量部加え混合した後に、イオン交換水9質量部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力30Torrで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度18.2質量%の分散液Aを得た。得られた分散液AのIPA(イソプロピルアルコール)残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ0.5質量%以下であった。
各成分を下記表1のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分濃度5質量%の低屈折率層用塗布液Ln1〜Ln14を作製した。
なお、下記(AC−1)は、特開2009−256597号公報に記載の化合物1、
下記(AC−2)は、特許4556151号に記載のフッ素化合物(3)、
下記(AC−3)は、特表2004−527782号公報に記載の化合物である。
また、前述の通り、特開2009−256597号公報に記載の化合物1(AC−1)実際には、下記(AC−1’)の構造である。
・P−1:パーフルオロオレフィン共重合体(1)
・DPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(日本化薬(株)製)
・分散液A:前記中空シリカ粒子分散液A(アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランで表面修飾した中空シリカ粒子ゾル、固形分濃度18.2%)
・Irg127:光重合開始剤イルガキュア127(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)
・M−1:下記含フッ素多官能アクリレート(フッ素含有率44.9質量%、4官能)
層厚60μmの透明支持体としてのトリアセチルセルロースフィルム(TD60UL、富士フイルム(株)製、屈折率1.48)上に、前記ハードコート層用塗布液Aをグラビアコーターを用いて塗布した。100℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量150mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ10μmのハードコート層Aを形成した。
低屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/cm2、照射量600mJ/cm2の照射量とした。
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表3に示す。
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行うことで、耐擦傷性の指標とすることができる。
評価環境条件:25℃、60%RH
こすり材:スチールウール(日本スチールウール(株)製、グレードNo.0000)
試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)に巻いて、バンド固定。
移動距離(片道):13cm、
こすり速度:13cm/秒、
荷重:500g/cm2、
先端部接触面積:1cm×1cm、
こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を評価した。
A :非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
B :非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
C :弱い傷が見える。
D :中程度の傷が見える。
E :一目見ただけで分かる傷がある。
接触角計[“CA−X”型接触角計、協和界面科学(株)製]を用い、乾燥状態(20℃/65%RH)で、液体として純水を使用して直径1.0mmの液滴を針先に作り、これをフィルムの表面に接触させてフィルム上に液滴を作った。フィルムと液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を接触角とし、測定した。また、水の代わりにヨウ化メチレンを用いて接触角を測定し、以下の式より表面自由エネルギーを求めた。
表面自由エネルギー(γsv:単位、mN/m)とはD.K.Owens:J.Appl.Polym.Sci.,13,1741(1969)を参考に、反射防止フィルム上で実験的に求めた純水H2Oとヨウ化メチレンCH2I2のそれぞれの接触角θH2O、θCH2I2から以下の連立方程式a,bより求めたγsdとγshの和で表される値γsv(=γsd+γsh)で定義した。
a.1+cosθH2O=
2√γsd(√γH2O d/γH2O v)+2√γsh(√γH2O h/γH2O v)
b.1+cosθCH2I2=
2√γsd(√γCH2I2 d/γCH2I2 v)+2√γsh(√γCH2I2 h/γCH2I2 v)
γH2O d=21.8、γH2O h=51.0、γH2O v=72.8、
γCH2I2 d=49.5、γCH2I2 h=1.3、γCH2I2 v=50.8
算出された実施例1〜11及び比較例1〜3の表面自由エネルギーについて、比較例1の表面自由エネルギーを100として、実施例1〜11及び比較例2、3の反射防止フィルムの表面自由エネルギーを、その相対値として下記表3に示した。
防汚剤 100mgをメチルエチルケトン5gに溶解させ、目視にて溶解性を確認した。
A:防汚剤が完全に溶解している。
B:防汚剤が一部溶けず濁っている。
C:防汚剤が溶けていない。
フィルムをガラス面上に粘着剤で固定し、25℃60RH%の条件下で黒マジック「マッキー極細(商品名:ZEBRA製)」のペン先(細)にて直径5mmの円形を3周書き込み、10秒後に10枚重ねに折り束ねたベンコット(商品名、旭化成(株))でベンコットの束がへこむ程度の荷重で2往復拭き取る。マジック跡が拭き取りで消えなくなるまで前記の書き込みと拭き取りを前記条件で繰り返し、拭き取りできた回数により防汚性を評価した。消えなくなるまでの回数は10回以上であることが好ましく、15回以上であることが更に好ましい。
試料の裏側に油性黒インキを塗った後、塗布面に指を押し付け指紋を付着させた。付着した指紋をティッシュペーパーで10往復拭き取り、付着した指紋の残り跡を観察し評価した。
A:指紋の付着跡が完全に見えない。
B:指紋の付着跡がわずかに見えるが気にならない。
C:指紋の付着跡が見え、気になる。
D:指紋の拭き取り跡がはっきりと視認でき気になる。
E:指紋が拭き取れない
試料の裏側に油性黒インキを塗った後、塗布面に指を押し付け指紋を付着させた。付着した指紋をティッシュペーパーで拭き取り、付着した指紋の残り跡が完全に見えなくなるまでの拭き取り回数(往復)を評価した。少ない回数で完全に見えなくなるものが好ましい。
上記のように低屈折率層用塗布液を塗布して得た低屈折率層のハジキ状の点欠陥を拡大鏡を用いて目視にてA〜Cで評価した。
A:点欠陥がほとんどなく、均一かつ平滑な低屈折率層ができている。
B:低屈折率層表面に点欠陥が少し見られる。
C:低屈折率層表面に点欠陥が多数見られる。
一方、一般式(I)又は(II)で表される化合物(A)を使用した実施例1〜11は、防汚剤の溶剤溶解性が高く、低屈折率層の面状に優れ、相対表面自由エネルギーも低く、防汚耐久性も高く、指紋拭取り性にも優れることがわかる。
Claims (15)
- パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位、及び4つ以上の重合性基を有し、下記一般式(I)又は(II)で表される化合物(A)を含有する重合性組成物。
上記一般式(I)及び(II)中、
Rf及びRf’は、各々独立に、下記一般式(III−1)〜(III−6)のいずれかで表されるパーフルオロアルキレン基を表す。
n1は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、5〜50の整数を表す。n1個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
n2は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、5〜50の整数を表す。n2個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
Rf1、Rf’1、Rf2及びRf’2は、各々独立に、炭素数1〜10のパーフルオロアルキレン基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜10のパーフルオロアルキレン基を表す。
L1は、脂肪族の(p1+1)価の連結基を表し、L2は脂肪族の(p3+1)価の連結基を表す。
L3は、脂肪族の(p6+1)価の連結基を表し、L4は脂肪族の(p8+1)価の連結基を表す。
p2及びp4は、各々独立に、1以上の整数を表す。
p5及びp7は、各々独立に、1以上の整数を表す。
p1及びp3は、各々独立に、2以上の整数を表す。
p6及びp8は、各々独立に、2以上の整数を表す。
Y1及びY2は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよい炭素数4以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する2価以上の連結基を表す。
Y3及びY4は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数4以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する2価以上の連結基を表す。
X1及びX2は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
X3及びX4は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
上記一般式(III−1)〜(III−6)中、
Rf3〜Rf6、Rf7〜Rf12、Rf13〜Rf20、Rf21〜Rf30、Rf31〜Rf42、及びRf43〜Rf56は、各々独立に、フッ素原子、炭素数1〜10の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜11の直鎖状パーフルオロアルキル基を表す。 - 前記一般式(III−1)における前記繰り返し単位間で、Rf3〜Rf6で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式(III−2)における前記繰り返し単位間で、Rf7〜Rf12で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式(III−3)における前記繰り返し単位間で、Rf13〜Rf20で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式(III−4)における前記繰り返し単位間で、Rf21〜Rf30で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式(III−5)における前記繰り返し単位間で、Rf31〜Rf42で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式(III−6)における前記繰り返し単位間で、Rf43〜Rf56で表される基の種類及び前記基の数が同一である、請求項1に記載の重合性組成物。
- 前記一般式(III−1)における、Rf3〜Rf6の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式(III−2)における、Rf7〜Rf12の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式(III−3)における、Rf13〜Rf20の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式(III−4)における、Rf21〜Rf30の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式(III−5)における、Rf31〜Rf42の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式(III−6)における、Rf43〜Rf56の少なくとも1つが炭素数1〜8の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜9の直鎖状パーフルオロアルキル基である、請求項1又は2に記載の重合性組成物。
- 前記Rf1、Rf’1、Rf2及びRf’2が、各々独立に、下記式のいずれかで表される基である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の重合性組成物。
上記式中、n3は1〜10の整数を表す。 - L1、L2、L3、及びL4が、各々独立に、下記式のいずれかで表される連結基である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の重合性組成物。
上記式中、Rはアルキル基を表し、*は、前記一般式(I)中の隣接する酸素原子に接続する部位、又は前記一般式(II)中のY3若しくはY4に接続する部位、**は前記一般式(I)中のY1若しくはY2に接続する部位、又は前記一般式(II)中のX3若しくはX4に接続する部位を表す。 - Y1及びY2、並びにY3及びY4が、各々独立に、下記式のいずれかで表される連結基である、請求項1〜5いずれか1項に記載の重合性組成物。
*1は、前記一般式(I)中のL1若しくはL2に接続する部位、又は前記一般式(II)中の隣接する酸素原子に接続する部位、*2は前記一般式(I)中のX1若しくはX2に接続する部位、又は前記一般式(II)中のL3若しくはL4に接続する部位を表す。 - X1、X2、X3又はX4についての重合性基を有する基が(メタ)アクリロイル基である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の重合性組成物。
- (B)光重合開始剤及び(C)有機溶剤を更に含有する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の重合性組成物。
- 透明支持体上に少なくとも1層の低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、該低屈折率層が、請求項1〜8のいずれか1項に記載の重合性組成物から形成される、反射防止フィルム。
- 偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムとを有し、該保護フィルムの少なくとも一方が請求項9に記載の反射防止フィルムである、偏光板。
- 請求項9に記載の反射防止フィルム又は請求項10に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有する、画像表示装置。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の重合性組成物から形成される撥水ないし撥油膜。
- パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位、及び4つ以上の重合性基を有し、下記一般式(I)又は(II)で表される化合物。
上記一般式(I)及び(II)中、
Rf及びRf’は、各々独立に、下記一般式(III−1)〜(III−6)のいずれかで表されるパーフルオロアルキレン基を表す。
n1は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、5〜50の整数を表す。n1個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
n2は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、5〜50の整数を表す。n2個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
Rf1、Rf’1、Rf2及びRf’2は、各々独立に、炭素数1〜10のパーフルオロアルキレン基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜10のパーフルオロアルキレン基を表す。
L1は、脂肪族の(p1+1)価の連結基を表し、L2は脂肪族の(p3+1)価の連結基を表す。
L3は、脂肪族の(p6+1)価の連結基を表し、L4は脂肪族の(p8+1)価の連結基を表す。
p2及びp4は、各々独立に、1以上の整数を表す。
p5及びp7は、各々独立に、1以上の整数を表す。
p1及びp3は、各々独立に、2以上の整数を表す。
p6及びp8は、各々独立に、2以上の整数を表す。
Y1及びY2は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよい炭素数4以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する2価以上の連結基を表す。
Y3及びY4は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数4以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する2価以上の連結基を表す。
X1及びX2は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
X3及びX4は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
上記一般式(III−1)〜(III−6)中、
Rf3〜Rf6、Rf7〜Rf12、Rf13〜Rf20、Rf21〜Rf30、Rf31〜Rf42、及びRf43〜Rf56は、各々独立に、フッ素原子、炭素数1〜10の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも1つのエーテル結合を有する炭素数2〜11の直鎖状パーフルオロアルキル基を表す。 - 透明支持体上に少なくとも1層の低屈折率層を有する反射防止フィルムの製造方法であって、請求項1〜8のいずれか1項に記載の重合性組成物を塗布、乾燥することにより該低屈折率層を形成する工程を有する反射防止フィルムの製造方法。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の重合性組成物から形成される撥水ないし撥油膜の製造方法。
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---|---|
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014167596A (ja) * | 2012-03-30 | 2014-09-11 | Fujifilm Corp | 重合性組成物、それを用いた、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
WO2016163478A1 (ja) * | 2015-04-07 | 2016-10-13 | 日産化学工業株式会社 | 防眩性コーティング用硬化性組成物 |
WO2016163479A1 (ja) * | 2015-04-07 | 2016-10-13 | 日産化学工業株式会社 | 耐擦傷性コーティング用硬化性組成物 |
WO2019107026A1 (ja) * | 2017-11-29 | 2019-06-06 | Dic株式会社 | 含フッ素活性エネルギー線硬化性樹脂、撥液剤、これを含む樹脂組成物及び硬化膜 |
CN114466881A (zh) * | 2019-09-26 | 2022-05-10 | 大金工业株式会社 | 含氟代聚醚基化合物 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010053084A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Fujifilm Corp | 重合性含フッ素化合物、それを用いた反射防止膜、反射防止フィルム、画像表示装置および含フッ素アルコール |
JP2010083813A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Fujifilm Corp | 含フッ素多官能化合物、反射防止膜及び反射防止フィルム |
JP2011162572A (ja) * | 2010-02-04 | 2011-08-25 | Dic Corp | フッ素化合物及びそれを用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物 |
JP2012072232A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Dic Corp | 重合性フッ素系化合物、それを用いた活性エネルギー線硬化型組成物及びその硬化物 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4321404A (en) * | 1980-05-20 | 1982-03-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Compositions for providing abherent coatings |
US4705699A (en) * | 1983-09-19 | 1987-11-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of coating magnetic recording media with perfluoropolyether compositions which are soluble in non-fluorinated solvents |
EP0770634B1 (en) * | 1995-10-23 | 2004-09-15 | Océ-Technologies B.V. | Lengthened difunctional perfluoropolyether oils and rubbers prepared therewith |
CN100540586C (zh) * | 2002-05-24 | 2009-09-16 | 3M创新有限公司 | 含有氟化聚合物的含氟化合物组合物和利用其处理纤维底物 |
JP4779293B2 (ja) * | 2003-10-21 | 2011-09-28 | Tdk株式会社 | ハードコート剤組成物及びこれを用いた光情報媒体 |
JP5206464B2 (ja) | 2008-03-26 | 2013-06-12 | Jsr株式会社 | パーフルオロポリエーテル基、ウレタン基及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物 |
JP5284674B2 (ja) * | 2008-04-16 | 2013-09-11 | 株式会社Nippo | 粉体散布装置 |
JP2010152311A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-07-08 | Fujifilm Corp | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
KR101235227B1 (ko) | 2008-08-08 | 2013-02-20 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 불소 화합물 및 그것을 사용한 활성 에너지선 경화형 수지 조성물 |
JP2013076029A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Tdk Corp | ハードコート剤組成物及びこれを用いたハードコートフィルム |
US9346961B2 (en) * | 2012-03-30 | 2016-05-24 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition and antireflective film, polarizing plate and image display device using the same |
-
2012
- 2012-09-28 JP JP2012217846A patent/JP5690792B2/ja active Active
-
2013
- 2013-09-26 US US14/038,193 patent/US9458269B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010053084A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Fujifilm Corp | 重合性含フッ素化合物、それを用いた反射防止膜、反射防止フィルム、画像表示装置および含フッ素アルコール |
JP2010083813A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Fujifilm Corp | 含フッ素多官能化合物、反射防止膜及び反射防止フィルム |
JP2011162572A (ja) * | 2010-02-04 | 2011-08-25 | Dic Corp | フッ素化合物及びそれを用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物 |
JP2012072232A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Dic Corp | 重合性フッ素系化合物、それを用いた活性エネルギー線硬化型組成物及びその硬化物 |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014167596A (ja) * | 2012-03-30 | 2014-09-11 | Fujifilm Corp | 重合性組成物、それを用いた、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
KR102345843B1 (ko) | 2015-04-07 | 2021-12-31 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 방현성 코팅용 경화성 조성물 |
CN107406564B (zh) * | 2015-04-07 | 2020-05-22 | 日产化学工业株式会社 | 耐擦伤性涂覆用固化性组合物 |
CN107406564A (zh) * | 2015-04-07 | 2017-11-28 | 日产化学工业株式会社 | 耐擦伤性涂覆用固化性组合物 |
KR20170134577A (ko) * | 2015-04-07 | 2017-12-06 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 방현성 코팅용 경화성 조성물 |
KR20170135878A (ko) * | 2015-04-07 | 2017-12-08 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 내찰상성 코팅용 경화성 조성물 |
JPWO2016163479A1 (ja) * | 2015-04-07 | 2018-02-01 | 日産化学工業株式会社 | 耐擦傷性コーティング用硬化性組成物 |
WO2016163479A1 (ja) * | 2015-04-07 | 2016-10-13 | 日産化学工業株式会社 | 耐擦傷性コーティング用硬化性組成物 |
WO2016163478A1 (ja) * | 2015-04-07 | 2016-10-13 | 日産化学工業株式会社 | 防眩性コーティング用硬化性組成物 |
JPWO2016163478A1 (ja) * | 2015-04-07 | 2018-02-01 | 日産化学工業株式会社 | 防眩性コーティング用硬化性組成物 |
KR102332177B1 (ko) | 2015-04-07 | 2021-11-29 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 내찰상성 코팅용 경화성 조성물 |
KR20200085785A (ko) * | 2017-11-29 | 2020-07-15 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 함불소 활성 에너지선 경화성 수지, 발액제, 이것을 포함하는 수지 조성물 및 경화막 |
WO2019107026A1 (ja) * | 2017-11-29 | 2019-06-06 | Dic株式会社 | 含フッ素活性エネルギー線硬化性樹脂、撥液剤、これを含む樹脂組成物及び硬化膜 |
TWI796387B (zh) * | 2017-11-29 | 2023-03-21 | 日商迪愛生股份有限公司 | 含氟活性能量線硬化性樹脂及其製造方法、撥液劑、包含其之樹脂組成物及硬化膜 |
KR102520617B1 (ko) * | 2017-11-29 | 2023-04-10 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 함불소 활성 에너지선 경화성 수지, 발액제, 이것을 포함하는 수지 조성물 및 경화막 |
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