JP2011075938A - 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 - Google Patents
反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011075938A JP2011075938A JP2009229021A JP2009229021A JP2011075938A JP 2011075938 A JP2011075938 A JP 2011075938A JP 2009229021 A JP2009229021 A JP 2009229021A JP 2009229021 A JP2009229021 A JP 2009229021A JP 2011075938 A JP2011075938 A JP 2011075938A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- refractive index
- antireflection film
- fluorine
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【解決手段】透明支持体上に、少なくとも、層(A)及び層(B)をこの順で有する反射防止フィルムであって、
前記層(A)は、(a1)下記一般式(1)で表され、フッ素を35質量%以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が500よりも小さい含フッ素重合性化合物と、(a2)導電性材料と、を含有する組成物から形成される層であり、
前記層(B)は、前記層(A)よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、
反射防止フィルムの表面抵抗率が1×1012Ω/□以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
一般式(1) : Rf{−(L)m−Y}n
(式中、Rfは炭素原子及びフッ素原子を含むn価の基を表す。nは3以上の整数を表す。Lは二価の連結基を表し、mは0又は1を表す。Yは重合性基を表す。)
【選択図】なし
Description
防塵性付与の技術としては、カチオン系やアニオン系の材料を添加することが従来提案されている。しかしながらこのような材料を用いた場合には、フィルム形成用の塗布液中で分離が生じてしまったり、塗布液の塗布時にムラが生じたり、膜の耐擦傷性が悪化するなどの問題を有していた。
透明支持体上に、少なくとも、層(A)及び層(B)をこの順で有する反射防止フィルムであって、
前記層(A)は、(a1)下記一般式(1)で表され、フッ素を35質量%以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が500よりも小さい含フッ素重合性化合物と、(a2)導電性材料と、を含有する組成物から形成される層であり、
前記層(B)は、前記層(A)よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、
反射防止フィルムの表面抵抗率が1×1012Ω/□以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
一般式(1) : Rf{−(L)m−Y}n
(式中、Rfは炭素原子及びフッ素原子を含むn価の基を表す。nは3以上の整数を表す。Lは二価の連結基を表し、mは0又は1を表す。Yは重合性基を表す。)
2.
前記透明支持体と前記層(A)との間に、前記層(A)と接するハードコート層を有することを特徴とする上記1に記載の反射防止フィルム。
3.
前記層(A)の屈折率(nA)と前記ハードコート層の屈折率(nHC)が、下記数式(1)を満たすことを特徴とする上記2に記載の反射防止フィルム。
数式(1) : 0≦|(nA−nHC)/nHC|≦0.05
4.
前記層(B)の屈折率が、波長550nmにおいて、1.33〜1.40であることを特徴とする上記1〜3のいずれかに記載の反射防止フィルム。
5.
前記層(B)の光学膜厚(nd)が、100nm〜200nmであることを特徴とする上記1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルム。
6.
前記導電性材料が、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、燐ドープ酸化錫(PTO)、アンチモン酸亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛(IZO)、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル及び酸化銅からなる群から選択される少なくともいずれかの金属酸化物であることを特徴とする上記1〜5のいずれかに記載の反射防止フィルム。
7.
前記(a1)含フッ素重合性化合物がフッ素を40質量%以上含有することを特徴とする上記1〜6のいずれかに記載の反射防止フィルム。
8.
前記(a1)含フッ素重合性化合物の全ての架橋間分子量の計算値が50よりも大きく300よりも小さいことを特徴とする上記1〜7のいずれかに記載の反射防止フィルム。
9.
前記層(A)が、層(A)の全固形分に対して前記(a2)導電性材料を40質量%以上80質量%以下含有することを特徴とする上記1〜8のいずれかに記載の反射防止フィルム。
10.
前記層(A)の屈折率が、波長550nmにおいて、1.50〜1.60であることを特徴とする上記1〜9のいずれかに記載の反射防止フィルム。
11.
前記層(A)の光学膜厚(nd)が、波長550nmにおいて、200nm〜300nmであることを特徴とする上記1〜10のいずれかに記載の反射防止フィルム。
12.
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも1枚が上記1〜11のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
13.
上記1〜11のいずれかに記載の反射防止フィルム又は上記12に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする画像表示装置。
前記層(A)は、(a1)下記一般式(1)で表され、フッ素を35質量%以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が500よりも小さい含フッ素重合性化合物と、(a2)導電性材料と、を含有する組成物から形成される層であり、
前記層(B)は、前記層(A)よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、
反射防止フィルムの表面抵抗率が1×1012Ω/□以下であることを特徴とする。
一般式(1) : Rf{−(L)m−Y}n
(式中、Rfは炭素原子及びフッ素原子を含むn価の基を表す。nは3以上の整数を表す。Lは二価の連結基を表し、mは0又は1を表す。Yは重合性基を表す。)
本発明の反射防止フィルムにおける層(A)は、透明支持体と層(B)の間に配置される。層(A)は、(a1)下記一般式(1)で表され、フッ素を35質量%以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が500よりも小さい含フッ素重合性化合物と、(a2)導電性材料と、を含有する組成物から形成される層である。
一般式(1) : Rf{−(L)m−Y}n
(式中、Rfは炭素原子及びフッ素原子を含むn価の基を表す。nは3以上の整数を表す。Lは二価の連結基を表し、mは0又は1を表す。Yは重合性基を表す。)
層(A)を形成するための組成物に含まれる、(a1)前記一般式(1)で表され、フッ素を35質量%以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が500よりも小さい含フッ素重合性化合物(以下、(a1)含フッ素重合性化合物とも記載する)について説明する。
Rfにおける水素原子数/フッ素原子数は、低屈折率化のために、1/4以下であることが好ましく、1/9以下であることが更に好ましい。Rfにおける水素原子数/フッ素原子数が1/4以下であると、防汚性が良好になり好ましい。一方、Rfにおける水素原子数/フッ素原子数が1/4を超えると、重合体の屈折率が上がってしまい、塗膜にしたときの平均反射率が上がって好ましくない。
nは3以上の整数を表し、十分な膜強度を得るためには、nは4以上であることが好ましい。Rfは、重合性基がすべて重合(又は架橋)した場合の架橋間分子量がすべて300以下になるような基が好ましく、架橋間分子量については後述する。
一般式(3): Rf2−{C(O)OCH=CH2}n
Rfは、より低い屈折率を発現させるという理由から、実質的に炭素原子とフッ素原子、又は、炭素原子とフッ素原子と酸素原子のみから構成されることが好ましい。実質的に炭素原子とフッ素原子、又は、炭素原子とフッ素原子と酸素原子のみから構成されるとは、フッ素原子数と炭素原子数と酸素原子数の和に対して、その他の原子(例えば水素原子)数が10%以下であることを示す。
一般式(5): Rf21−{Rf22−C(O)OCH=CH2}n
Rf21及びRf22は酸素原子及び水素原子の少なくともいずれかを含んでも良い。また、Rf21及びRf22は鎖状(直鎖又は分岐)又は環状である。
特開2006−28409号公報の段落番号〔0026〕から〔0027〕に記載のX−21〜25、X−27〜31に加えて以下の化合物X−33も好ましく用いることができる。なお、Cfはフッ素含有率(質量%)を表す。
rは一般式(6)中における繰り返し単位(OCF2CF2)の繰り返し数を表し、架橋間分子量の計算値が500より小さくなる範囲で選択でき、好ましくは1又は2であり、より好ましくは1である。一般式(6)で表される多官能含フッ素アクリレートは一つの分子中に―(OCF2CF2)r―OCF2CH2O―で表されるp個の連結基を有するものであるが、1分子中のそれぞれのrは同じであっても異なっていてもよい。rが2以下であると架橋基の密度が高くなり、塗膜の強度を高められるという観点で好ましい。特に塗膜の表層を効率良く効果することが可能であり、防汚耐久性にも優れる。
Rは水素原子、メチル基、フッ素原子又はトリフルオロメチル基を表し、好ましくは水素原子である。
層(A)に含まれる(a2)導電性材料として用いることのできる材料について説明する。層(A)は導電性材料を含有することにより、帯電防止層としてのはたらきを有する。
導電性材料としては、導電性無機材料および導電性有機材料などが挙げられる。導電性無機材料としては、導電性を有する無機化合物が挙げられ、金属、金属の酸化物、金属の窒化物などが好ましい。導電性有機材料としては、透明で導電性を有する、高分子からなる物質であり、単一の素材、もしくは複数の素材の複合体が挙げられる。イオン導電性を示すカチオン性又はアニオン性のポリマー、または電子伝導性を示すπ共役系導電性ポリマーとそれに付随するドーパントの複合体が好ましく用いられる。特にπ共役系導電性ポリマーとそれに付随するドーパントの複合体が好ましい。導電性有機材料の具体例として、特開2008−262187号公報の段落番号〔0165〕から〔0188〕に記載の化合物などが挙げられる。
導電性無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましい。
二種類以上の導電性無機微粒子を帯電防止層内で併用してもよい。
前記(a1)含フッ素重合性化合物と(a2)前記導電性材料以外に層(A)を形成するための組成物に含んでもよい成分について説明する。
層(A)を形成するための組成物には、重合性不飽和基を分子内に有する重合性化合物(モノマー又はオリゴマー)やポリマーをバインダーとして含んでもよい。
重合性化合物は多官能モノマーであることが好ましく、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましい。特に好ましくは1分子内に2つ以上の(メタ)アクリロイル基を含有する化合物が挙げられる。
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
2,2−ビス{4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル}プロパン、2−2−ビス{4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル}プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類;
等を挙げることができる。
バインダーとしては、多官能モノマーや多官能オリゴマーだけでなく、反応性硬化樹脂を反応させてなる、架橋しているポリマーをバインダーとして用いることもできる。ポリマーバインダーについては、特開2008−262187号公報の段落番号〔0194〕〜〔0200〕に記載されており、本発明においても同様である。
層(A)を形成するための組成物に用いられる有機溶媒は、導電性無機酸化物粒子などの導電性材料を分散させる分散媒として用いられる。
有機溶媒の含有量は、導電性材料100質量部に対し、好ましくは、20〜4,000質量部、更に好ましくは、100〜1,000質量部である。溶媒量が20質量部未満であると、粘度が高いため均一の反応が困難であることがあり、4,000質量部を超えると、塗布性が低下することがある。
層(A)の屈折率は、1.50〜1.60であることが好ましく、1.52〜1.58であることが更に好ましい。
層(B)は、前記層(A)よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、層(A)の上に配置される。本発明の反射防止フィルムは、層(B)が最表層である場合が好ましい。
本発明に好適に用いられる層(B)(低屈折率層ともいう)は、化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜により形成することもできるが、後述する低屈折率層形用塗布組成物を用いてオールウェット塗布により形成することが好ましい。低屈折率層中には無機微粒子が含有されることが好ましく、無機微粒子のうちの少なくとも1種は中空粒子であることが好ましく、シリカを主成分とする中空粒子(中空シリカ粒子ともいう)が特に好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が90゜以上であることが好ましい。更に好ましくは95゜以上であり、特に好ましくは100゜以上である。
低屈折率層を形成する塗布組成物は、任意に、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、無機微粒子、光重合開始剤、重合性不飽和基を有する多官能モノマーを含有する。塗布組成物における固形分中の重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤の含有量は、1〜15質量%が好ましく、1〜10質量%が更に好ましく、2〜7質量%が最も好ましい。重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体の含有量は5〜70質量%が好ましく、5〜50質量%が更に好ましく、5〜30質量%が最も好ましい。無機微粒子の含有量は10〜70質量%が好ましく、20〜60質量%が更に好ましく、35〜55質量%が最も好ましい。光重合開始剤の含有量は1〜5質量%が好ましい。重合性不飽和基を有する多官能モノマーの含有量は0〜60質量%であることが好ましく、5〜60質量%であることが更に好ましく、10〜50質量%が特に好ましく、20〜40質量%が最も好ましい。重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤の含有量が1質量%以上であれば防汚性改良効果が得られ、15質量%以下であれば泣き出し等による面状悪化が生じない。無機微粒子が10質量%以上であれば耐擦傷性改良効果が得られ、70質量%以下であれば塗膜の白化等面状が良好である。重合性不飽和基を有する多官能モノマーが5〜60質量%であると耐擦傷性、防汚耐久性、塗布性、屈折率が良好となる。
低屈折率層は、上記塗布組成物を塗布と同時、又は塗布・乾燥後に電離放射線照射(例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。)や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が1体積%以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が0.5体積%以下であり、更に好ましくは酸素濃度が0.1体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が0.05体積%以下、最も好ましくは0.02体積%以下である。
酸素濃度を1体積%以下にする手法としては、大気(窒素濃度約79体積%、酸素濃度約21体積%)を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換(窒素パージ)することである。
本発明の反射防止フィルムにおける低屈折率層は、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、前記含フッ素防汚剤を含有することが好ましい。また、該含フッ素防汚剤は、重合性不飽和基を有することを特徴とし、これによって塗布物のロール状態での保存時のフッ素化合物の裏面転写の抑制及び塗膜の耐擦傷性改良、また、汚れの繰り返しの拭取りに対する耐久性を向上させることができる。従来、防汚性を発現させるためにジメチルシロキサン構造を有するシリコーン化合物を用いることが知られているが、含フッ素防汚剤を使用することで更に優れた防汚性を発現できる場合がある。重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤は、フッ素化合物を含む防汚剤であり、重合性不飽和基に特に制限はないが、不飽和二重結合を有する官能基が好ましく、最も好ましくは、メタアクリロイルオキシ基又はアクリロイルオキシ基である。
(Rf)−[(W)−(RA)n]m
(式中、Rfは(パー)フルオロアルキル基又は(パー)フルオロポリエーテル基、Wは連結基、RAは不飽和二重結合を有する官能基を表す。nは1〜3、mは1〜3の整数を表す。
Rf(CF2CF2)nCH2CH2R2OCOCR1=CH2
水素原子又はメチル基を示し、R2は単結合又はアルキレン基を示し、nは重合度を
示す整数であり、重合度nはk(kは3以上の整数のいずれかを示す)以上である。)
また、含フッ素防汚剤については、特開2007−114772号公報の段落番号〔0129〕〜〔0152〕に記載されており、本発明においても同様である。
低屈折率層に含まれるバインダーとして、含フッ素共重合体化合物を好ましく用いることができる。重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体については、特開2006−28409号公報の段落番号〔0098〕〜〔0112〕に記載されており、本発明においても同様である。
低屈折率層に無機微粒子を用いることが、低屈折率化、耐擦傷性改良の観点から好ましい。該無機粒子は、平均粒子サイズが5〜120nmであれば特に制限はないが、低屈折率化の観点からは、無機の低屈折率粒子が好ましい。
低屈折率化を図るには、多孔質又は中空構造の微粒子を使用することが好ましい。特に中空構造のシリカ粒子を用いることが好ましい。これら粒子の空隙率は、好ましくは10〜80%、更に好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。中空微粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。
中空微粒子の好ましい製造方法を以下に記載する。第1段階として、後処理で除去可能なコア粒子形成、第2段階としてシェル層形成、第3段階としてコア粒子の溶解、必要に応じて第4段階として追加シェル相の形成である。具体的には中空粒子の製造は、例えば特開2001−233611号公報に記載されている中空シリカ微粒子の製造方法に準じて行うことができる。
シェル厚を厚くすることで粒子表面の吸着サイトを減少させ、吸着水量を低減することが可能であり、好ましい。更に導電性の成分でシェルを形成すると導電性も付与することができて好ましい。特に好ましくは、コア粒子としてシリカ系の多孔質又は中空の粒子を用い、シェルとして、ZnO2、Y2O3、Sb2O5、ATO、ITO、SnO2を用いる組み合わせである。被覆粒子については特開2008−242314の段落番号[0033]〜[0040]に記載されており、本発明においても好適に用いることができる。
無機微粒子の表面の処理方法については、特開2008−242314の段落番号[0046]〜[0076]に記載されており、該文献に記載されたオルガノシラン化合物、シロキサン化合物、表面処理の溶媒、表面処理の触媒、金属キレート化合物などは本発明においても好適に用いることができる。
本発明の反射防止フィルムを構成する層には光重合開始剤が含まれることが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤については、特開2008−134585号公報の段落[0141]〜[0159]にも記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
上記全ての層を形成する塗布組成物に使用する溶媒としては、特に限定されないが、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤が好ましく用いられる。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、メチルイソプロピルケトン、エチルイソプロピルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−t−ブチルケトン、ジアセチル、アセチルアセトン、アセトニルアセトン、ジアセトンアルコール、メシチルオキサイド、クロロアセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等をあげることができる。この中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが好ましい。これらの溶媒は単独で用いても、任意の混合比で混合して用いてもよい。
本発明の反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。まず各層を形成するための成分を含有した塗布組成物が調製される。次に、塗布組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法(米国特許2681294号明細書、特開2006−122889号明細書参照)がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
塗布後、光照射あるいは加熱して、塗布組成物から形成される層を硬化する。
本発明の反射防止フィルムにおける透明支持体について詳細に説明する。
本発明の反射防止フィルムの透明支持体としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム(例えば、セルローストリアセテートフィルム(屈折率1.48)、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム)、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー(ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製))、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
透明支持体の厚さは通常25μm〜1000μm程度のものを用いることができるが、好ましくは25μm〜250μmであり、30μm〜90μmであることがより好ましい。
透明支持体の幅は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は100〜5000mmのものが用いられ、800〜3000mmであることが好ましく、1000〜2000mmであることが更に好ましい。透明支持体はロール形態の長尺で取り扱うことができ、通常100m〜5000m、好ましくは500m〜3000mのものである。
透明支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さRaの値が1μm以下であることが好ましく、0.0001〜0.5μmであることが好ましく、0.001〜0.1μmであることが更に好ましい。
その中でも、透明性が高く、光学的に複屈折が少なく、製造が容易であり、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアシレートフィルムが好ましく、セルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。又、透明支持体の厚さは通常25μm〜1000μm程度とする。
全体の置換度に対して6位の水酸基が32%以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には33%以上、特に34%以上であることが好ましい。更にセルロースアシレートの6位アシル基の置換度が0.88以上であることが好ましい。6位水酸基は、アセチル基以外に炭素数3以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、NMRによって求めることができる。
本発明では、ポリエチレンテレフタレートフィルムも、透明性、機械的強度、平面性、耐薬品性及び耐湿性共に優れており、その上安価であり好ましく用いられる。
透明プラスチックフィルムとその上に設けられるハードコート層との密着強度をより向上させるため、透明プラスチックフィルムは易接着処理が施されたされたものであることが更に好ましい。市販されている光学用易接着層付きPETフィルムとしては東洋紡績社製コスモシャインA4100、A4300等が挙げられる。
本発明の反射防止フィルムは、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を有することが好ましい。ハードコート層は透明支持体と層(A)の間に設けられることが好ましい。ハードコート層は層(A)と接するように設けられることがより好ましい。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。更に、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが有する官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。具体的には層(B)において記載した重合性不飽和基を有する多官能モノマーと同様の化合物を好ましく用いることができる。
数式(1) : 0≦|(nA−nHC)/nHC|≦0.05
層(A)とハードコート層の屈折率差を小さくすることで、反射光の色相をニュートラル化できる。層(A)とハードコート層の屈折率差は、0≦|(nA−nHC)/nHC|≦0.03であることがより好ましく、0≦|(nA−nHC)/nHC|≦0.02であることが更に好ましい。数式(1)を満たせば、nA>nHC、nA<nHCいずれでもよい。
本発明の反射防止フィルムは防眩層を有してもよい。防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
マット粒子の分散によって形成される防眩層は、バインダーとバインダー中に分散された透光性粒子とからなる。防眩性を有する防眩層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体、層(A)、層(B)を含む。また、更にハードコート層、防眩層、層(A)よりも屈折率の高い高屈折率層、層(A)より屈折率が低く、層(B)よりも屈折率の高い中屈折率層などの層を含んでいてもよい。
本発明の反射防止フィルムの層構成の例を下記に示す。なお、帯電防止層は層(A)を表し、低屈折率層は層(B)を表す。
・透明支持体/帯電防止層/低屈折率層
・透明支持体/ハードコート層/帯電防止層/低屈折率層
・透明支持体/防眩層/帯電防止層/低屈折率層
・透明支持体/ハードコート層/防眩層/帯電防止層/低屈折率層
・透明支持体/防眩層/ハードコート層/帯電防止層/低屈折率層
・透明支持体/ハードコート層/高屈折率層/帯電防止層/低屈折率層
・基材フィルム/ハードコート層/中屈折率層/帯電防止層/低屈折率層
本発明では、層間の密着性、および生産性の観点から、
・透明支持体/帯電防止層(層(A))/低屈折率層(層(B))
・透明支持体/ハードコート層/帯電防止層/低屈折率層
がより好ましい。
本発明の反射防止フィルムは、表面抵抗率が1×1012Ω/□以下であることを特徴とする。反射防止フィルムの表面抵抗率を1×1012Ω/□以下とすることで、静電気によるゴミの付着を抑止できる。表面抵抗率は1×105〜1×1012Ω/□であることが好ましく、1×105〜1×1011Ω/□であることが更に好ましい。このような表面抵抗率とするためには、前記導電性材料を用いことで達成できる。更に該導電性層を用いた層の上に形成する層の膜厚の合計が1μm以下であることが、帯電防止性を損なわないために好ましい。
反射率は3%以下であることが好ましく、2%以下であることが更に好ましい。L*a*b*色空間において、0≦a*≦3かつ−3≦b*≦3であることが好ましい。
各層の膜厚は光の干渉を利用した反射分光膜厚計“FE−3000”(大塚電子(株)製)や、TEM(透過型電子顕微鏡)による断面観察により測定することができる。反射分光膜厚計でも膜厚と同時に屈折率の測定も可能であるが、膜厚の測定精度を上げるために、別手段で測定した各層の屈折率を用いることが望ましい。各層の屈折率が測定できない場合は、TEMによる膜厚測定が望ましい。その場合は、10箇所以上測定し、平均した値を用いることが望ましい。
反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム(偏光板用保護フィルム)として用いる場合、層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の2枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム(位相差フィルム)は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有し、該保護フィルムの少なくとも1枚が本発明の反射防止フィルムであることを特徴とする。
本発明の画像表示装置は、本発明の反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする。
〔反射防止フィルムの作製〕
(ハードコート層の形成)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
メチルエチルケトン(MEK)900質量部に対して、シクロヘキサノン100質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製)750質量部、シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製)200質量部、光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)50質量部、を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
透明支持体としてトリアセチルセルロースフィルム(厚さ80μm、TD80UF、富士フイルム(株)製、屈折率1.48)上に、前記組成のハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。100℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量150mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、屈折率1.52、厚さ12μmのハードコート層を形成した。
アンチモン含有酸化スズ(ATO)粒子(石原産業(株)製、SN−100P、一次粒径10〜30nm)、分散剤(旭電化工業(株)製、アデカプルロニックTR−701)、及びメタノールを、29.1/0.9/70(質量比)の配合量で混合した(全固形分含量30質量%、全無機含量29.1質量%)。メディア分散機(直径0.1mmのジルコニアビーズ使用)を用いて、ATO粒子を分散させ、ATO分散液を作製した。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記ATO粒子分散液21質量部、下記の含フッ素重合性化合物(フッ素含有率44%、架橋間分子量58)4質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製 イルガキュア184)0.1質量部、メタノール10質量部とメチルイソブチルケトン64.9質量部を室温で2時間攪拌することで帯電防止層用塗布液(A−1)を得た。
上記ハードコート層の上に、帯電防止層用塗布液(A−1)をグラビアコーターを用いて塗布した。90℃で30秒間乾燥した後、紫外線照射により硬化させた。紫外線硬化条件は、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージし、180W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度300mW/cm2、照射量240mJ/cm2とした。
(パーフルオロオレフィン共重合体(1)の合成)
中空シリカ粒子微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業(株)製CS60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.31)500質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン30質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.51質量部を加え混合した後に、イオン交換水9質量部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力30Torrで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度18.2質量%の分散液Sを得た。得られた分散液のIPA残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ0.5%以下であった。
低屈折率層塗布液(B−1)の組成
パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 7質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製)
5質量部
含フッ素重合性化合物M−1 20質量部
中空シリカ粒子分散液S(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)
3質量部
上記の帯電防止層(A−1)の上に、低屈折率層塗布液(B−1)をグラビアコーターを用いて塗布した。90℃で30秒間乾燥した後、紫外線照射により硬化させた。紫外線硬化条件は、酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージし、240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/cm2、照射量600mJ/cm2とした。
各層の膜厚は、各層の積層後に反射分光膜厚計“FE−3000”(大塚電子(株)製)を用いて算出した。算出の際の各層の屈折率は上記アッベ屈折率計で導出した値を使用した。
このようにして求めた各層の屈折率及び光学膜厚を表2に示す。
(帯電防止層用塗布液の調製)
リン含有酸化錫粒子(触媒化成工業(株)製、ELCOM TL−30S、一次粒径10〜30nm)、分散剤(旭電化工業(株)製、アデカプルロニックTR−702)、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)を、28.5/1.5/70.0(質量比)の配合量で混合した(全固形分含量30質量%、全無機含量28.5%)。メディア分散機(直径0.1mmのジルコニアビーズ使用)を用いて、リン含有酸化スズ(PTO)粒子を分散させ、PTO分散液を作製した。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記PTO粒子分散液25質量部、含フッ素重合性化合物(前記化合物M−1、フッ素含有率45%、架橋間分子量224)4質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)0.1質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)70.9質量部を50℃で2時間攪拌することで帯電防止層塗布液(A−2)を得た。
帯電防止層用塗布液として上記(A−2)を用いた以外は実施例1と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム(F−2)を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表2に示す。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記実施例2のPTO粒子分散液25.5質量部、含フッ素重合性化合物(前記化合物X−35、フッ素含有率53%、架橋間分子量406)3.5質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)0.1質量部、PGME70.9質量部を50℃で2時間攪拌することで帯電防止層塗布液(A−3)を得た。
帯電防止層塗布液として上記(A−3)を用いた以外は実施例1と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム(F−3)を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表2に示す。
帯電防止層用塗布液として上記(A−2)を用いて、膜厚を変えた以外は実施例2と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム(F−4)を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表2に示す。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記実施例2のPTO粒子分散液25質量部、DPHA(フッ素含有率0%)4質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)0.1質量部、PGME70.9質量部を50℃で2時間攪拌することで帯電防止層用塗布液(AH−1)を得た。
帯電防止層塗布液として上記(AH−1)を用いた以外は実施例1と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム(FH−1)を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表2に示す。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記実施例2のPTO粒子分散液20質量部、DPHA(フッ素含有率0%)12質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)0.3質量部、PGME67.7質量部を50℃で2時間攪拌することで帯電防止層塗布液(AH−2)を得た。
帯電防止層用塗布液として上記(AH−2)を用いた以外は実施例1と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム(FH−2)を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表2に示す。
酸化ジルコニウム(ZrO2)微粒子含有ハードコート剤(デソライトZ7404[屈折率1.72、固形分濃度:60質量%、酸化ジルコニウム微粒子含量:70質量%(対固形分)、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径:約20nm、溶剤組成:MIBK/MEK=9/1、JSR(株)製])4質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)4質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.1質量部、MEK66.0質量部、MIBK5.9質量部及びシクロヘキサノン20.0質量部を添加して攪拌し、塗布液(AH−3)を調製した。
帯電防止層用塗布液として上記(AH−3)を用いた以外は実施例1と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、ZrO2含有層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム(FH−3)を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表2に示す。
(帯電防止層塗布液の調製)
テトラエトキシシランからなる有機珪素化合物を原料とし、これを加水分解して得られたオリゴマーからなる有機珪素化合物の重合体を得た。この有機珪素化合物の重合体5質量部と、一次粒子系が8nmのATO粒子5質量部とを混合し、塗布液(AH−4)を調製した。
(低屈折率層塗布液の調製)
テトラエトキシシランからなる有機珪素化合物と、フルオロアルキル基を有する有機珪素化合物(1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン)を原料とし、これを加水分解して得られた有機珪素化合物の重合体を5質量部、低屈折率シリカ微粒子5質量部を混合し、低屈折率層用の塗布液(BH−1)を調製した。
(反射防止フィルムの作製)
上記実施例1と同様に作製したハードコート層上に、帯電防止層用塗布液(AH−4)を塗布し、加熱乾燥させることで帯電防止層を形成した。続いて、低屈折率層用塗布液(BH−1)を帯電防止層上に塗布し、加熱乾燥させることで低屈折率層を形成した。各層の屈折率及び光学膜厚を表2に示す。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記実施例2のPTO粒子分散液25質量部、下記の含フッ素重合性化合物(フッ素含有率48%、架橋間分子量580)4質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)0.1質量部、PGME70.9質量部を50℃で2時間攪拌することで帯電防止層塗布液(AH−5)を得た。
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表2に示す。
分光光度計V−550(日本分光(株)製)にアダプターARV−474を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における出射角5度の鏡面反射率を測定し、450〜650nmの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。更に、測定された反射スペクトルから、CIE標準光源D65の5度入射光に対する正反射光の色味を表わすCIE1976L*a*b*色空間のa*値、b*値を算出し、反射光の色味を評価した。
また、蛍光灯の反射光を目視し、顕著な着色が認識されたものを×とし、許容できる程度に着色が感じられたものを○、着色がほとんど感じられないもの◎とした。
25℃、60%RH条件下に試料を2時間置いた後に同条件下で表面抵抗値を円電極法で測定した。
反射防止フィルムの透明支持体側をCRT表面に貼り付け、0.5μm以上の埃及びティッシュペーパー屑を、1ft3(立法フィート)当たり100〜200万個有する部屋で24時間使用した。反射防止フィルム100cm2当たり、付着した埃とティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値が50個未満の場合を◎、50〜199個の場合を○、200〜500個の場合を×、それ以上を××として評価した。
反射防止フィルムの低屈折率層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦11本、横11本の切り込みを入れて合計100個の正方形の升目を刻み、日東電工(株)製のポリエステル粘着テープ“NO.31B”を圧着して密着試験を同じ場所で繰り返し3回行った。剥がれの有無を目視で観察した。剥がれた枡の数がゼロ個を○、5個以下を△、5個より多いものを×とした。
ラビングテスターを用いて、以下の条件でスチールウール擦りテストをおこなうことで、耐擦傷性の指標とすることができる。
評価環境条件:25℃、60%RH
擦り材:スチールウール(日本スチールウール(株)製、ゲレードNo.0000)
試料と接触するテスターの擦り先端部(1cm×1cm)に巻いて、バンド固定。
移動距離(片道):13cm、
擦り速度:13cm/秒、
荷重:500g/cm2、
先端部接触面積:1cm×1cm、
擦り回数:10往復。
◎ :非常に注意深く見ても、全く傷が見えない
○ :非常に注意深く見ると、僅かに弱い傷が見える。
× :注意深く見なくても、傷が見える。
表2に示される通り、本発明の反射防止フィルムは、反射率が低く、かつ反射色相が無色に近く、更にゴミ付着性および密着性に優れることがわかる。
1.5mol/L、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗することにより鹸化処理した、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士フイルム(株)製)と、同様にして鹸化処理した実施例および及び比較例の反射防止フィルムとで、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。
VA型液晶表示装置(LC−37GS10、シャープ(株)製)に設けられている偏光板および及び位相差膜を剥がし、代わりに上記で作製した偏光板を透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けて、実施例及び比較例の反射防止フィルムを有する液晶表示装置を作製した。なお、反射防止フィルムが視認側になるように貼り付けた。
Claims (13)
- 透明支持体上に、少なくとも、層(A)及び層(B)をこの順で有する反射防止フィルムであって、
前記層(A)は、(a1)下記一般式(1)で表され、フッ素を35質量%以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が500よりも小さい含フッ素重合性化合物と、(a2)導電性材料と、を含有する組成物から形成される層であり、
前記層(B)は、前記層(A)よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、
反射防止フィルムの表面抵抗率が1×1012Ω/□以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
一般式(1) : Rf{−(L)m−Y}n
(式中、Rfは炭素原子及びフッ素原子を含むn価の基を表す。nは3以上の整数を表す。Lは二価の連結基を表し、mは0又は1を表す。Yは重合性基を表す。) - 前記透明支持体と前記層(A)との間に、前記層(A)と接するハードコート層を有することを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記層(A)の屈折率(nA)と前記ハードコート層の屈折率(nHC)が、下記数式(1)を満たすことを特徴とする請求項2に記載の反射防止フィルム。
数式(1) : 0≦|(nA−nHC)/nHC|≦0.05 - 前記層(B)の屈折率が、波長550nmにおいて、1.33〜1.40であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記層(B)の光学膜厚(nd)が、100nm〜200nmであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記導電性材料が、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、燐ドープ酸化錫(PTO)、アンチモン酸亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛(IZO)、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル及び酸化銅からなる群から選択される少なくともいずれかの金属酸化物であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記(a1)含フッ素重合性化合物がフッ素を40質量%以上含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記(a1)含フッ素重合性化合物の全ての架橋間分子量の計算値が50よりも大きく300よりも小さいことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記層(A)が、層(A)の全固形分に対して前記(a2)導電性材料を40質量%以上80質量%以下含有することを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記層(A)の屈折率が、波長550nmにおいて、1.50〜1.60であることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記層(A)の光学膜厚(nd)が、波長550nmにおいて、200nm〜300nmであることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも1枚が請求項1〜11のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
- 請求項1〜11のいずれかに記載の反射防止フィルム又は請求項12に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする画像表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009229021A JP2011075938A (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009229021A JP2011075938A (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011075938A true JP2011075938A (ja) | 2011-04-14 |
Family
ID=44019976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009229021A Abandoned JP2011075938A (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011075938A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2013140811A1 (ja) * | 2012-03-23 | 2015-08-03 | 凸版印刷株式会社 | 反射防止フィルム |
JP2018521195A (ja) * | 2015-09-24 | 2018-08-02 | エルジー・ケム・リミテッド | 光硬化性コーティング組成物、低屈折層および反射防止フィルム |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006284761A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置 |
JP2008003122A (ja) * | 2006-06-20 | 2008-01-10 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
JP2008169364A (ja) * | 2006-04-18 | 2008-07-24 | Jsr Corp | 硬化性樹脂組成物及び反射防止膜 |
JP2010169940A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Nikon Corp | 光学多層薄膜、光学素子およびその製造方法 |
-
2009
- 2009-09-30 JP JP2009229021A patent/JP2011075938A/ja not_active Abandoned
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006284761A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置 |
JP2008169364A (ja) * | 2006-04-18 | 2008-07-24 | Jsr Corp | 硬化性樹脂組成物及び反射防止膜 |
JP2008003122A (ja) * | 2006-06-20 | 2008-01-10 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
JP2010169940A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Nikon Corp | 光学多層薄膜、光学素子およびその製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2013140811A1 (ja) * | 2012-03-23 | 2015-08-03 | 凸版印刷株式会社 | 反射防止フィルム |
JP2018521195A (ja) * | 2015-09-24 | 2018-08-02 | エルジー・ケム・リミテッド | 光硬化性コーティング組成物、低屈折層および反射防止フィルム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5690866B2 (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP5114438B2 (ja) | 光学フィルム、その製造方法、偏光板および画像表示装置 | |
JP5271575B2 (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置 | |
JP5656431B2 (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び低屈折率層形成用塗布組成物 | |
EP2042903B1 (en) | Optical film, polarizing plate and image display device | |
US9523795B2 (en) | Antistatic antireflection film, method for manufacturing antistatic antireflection film, polarizing plate and image display device | |
JP5933353B2 (ja) | 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP4990005B2 (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP2005186568A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置 | |
US9346961B2 (en) | Polymerizable composition and antireflective film, polarizing plate and image display device using the same | |
JP5826104B2 (ja) | 光拡散性反射防止フィルム、光拡散性反射防止フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP2007133384A (ja) | 防眩フィルム、偏光板、および画像表示装置 | |
JP2008134585A (ja) | 光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP5690792B2 (ja) | 重合性組成物、それを用いた、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置、並びに撥水ないし撥油膜 | |
JP2009265651A (ja) | 光学フィルム、偏光板、および画像表示装置 | |
JP5663618B2 (ja) | 重合性組成物、それを用いた、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP4961100B2 (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置 | |
JP2010085502A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP2005283730A (ja) | 反射防止フイルム、偏光板、および画像表示装置 | |
JP2011075938A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP2012078539A (ja) | 偏光板及び液晶表示装置 | |
JP5450168B2 (ja) | 帯電防止性の光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP5707438B2 (ja) | 重合性組成物、それを用いた、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP2006023350A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置 | |
JP2012036394A (ja) | 光学フィルムの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111216 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120709 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120914 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20121004 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130924 |
|
A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20131125 |