JP2011075938A - 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、反射率が低く、かつ反射光の着色が低減した優れた反射防止機能、帯電防止機能を有し、さらに、耐擦傷性や密着性、および生産性に優れた反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】透明支持体上に、少なくとも、層（Ａ）及び層（Ｂ）をこの順で有する反射防止フィルムであって、
前記層（Ａ）は、（ａ１）下記一般式（１）で表され、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さい含フッ素重合性化合物と、（ａ２）導電性材料と、を含有する組成物から形成される層であり、
前記層（Ｂ）は、前記層（Ａ）よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、
反射防止フィルムの表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
一般式（１） ： Ｒｆ｛−（Ｌ）ｍ−Ｙ｝ｎ
（式中、Ｒｆは炭素原子及びフッ素原子を含むｎ価の基を表す。ｎは３以上の整数を表す。Ｌは二価の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｙは重合性基を表す。）
【選択図】なし
【解決手段】透明支持体上に、少なくとも、層（Ａ）及び層（Ｂ）をこの順で有する反射防止フィルムであって、
前記層（Ａ）は、（ａ１）下記一般式（１）で表され、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さい含フッ素重合性化合物と、（ａ２）導電性材料と、を含有する組成物から形成される層であり、
前記層（Ｂ）は、前記層（Ａ）よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、
反射防止フィルムの表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
一般式（１） ： Ｒｆ｛−（Ｌ）ｍ−Ｙ｝ｎ
（式中、Ｒｆは炭素原子及びフッ素原子を含むｎ価の基を表す。ｎは３以上の整数を表す。Ｌは二価の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｙは重合性基を表す。）
【選択図】なし
Description
本発明は、反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた偏光板及び、該反射防止フィルム又は該偏光板をディスプレイの最表面に用いた画像表示装置に関する。
反射防止フィルムは一般に、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようにディスプレイの最表面に配置される。
このような反射防止フィルムは、最表面に適切な膜厚の低屈折率層、場合により支持体との間に適宜高屈折率層、中屈折率層、ハードコート層などを形成することにより作製できる。低い反射率を実現するために低屈折率層にはできるだけ屈折率の低い材料が望まれる。また反射防止フィルムは最表面に用いられることから画像表示装置の保護膜としての機能（例えば、汚れやほこりが付着しにくいことや、耐擦傷性が強いこと）が期待される。厚さ１００ｎｍ前後の薄膜において高い耐擦傷性を実現するためには、皮膜自体の強度、及び下層への密着性が必要である。
ディスプレイ表面に従来の反射防止フィルムを使用した場合には環境中の埃が付着し易いという問題を有しており、改良技術が求められていた。
防塵性付与の技術としては、カチオン系やアニオン系の材料を添加することが従来提案されている。しかしながらこのような材料を用いた場合には、フィルム形成用の塗布液中で分離が生じてしまったり、塗布液の塗布時にムラが生じたり、膜の耐擦傷性が悪化するなどの問題を有していた。
防塵性付与の技術としては、カチオン系やアニオン系の材料を添加することが従来提案されている。しかしながらこのような材料を用いた場合には、フィルム形成用の塗布液中で分離が生じてしまったり、塗布液の塗布時にムラが生じたり、膜の耐擦傷性が悪化するなどの問題を有していた。
また、特許文献１には、導電性の粒子を含有する所謂帯電防止層を設けることが記載されている。この方法は、屈折率調整層（高屈折率層、低屈折率層など）の他に新たに層を設けることが必要であり製造時の設備や時間の負荷が大きいという問題を有している。また、従来一般に用いられている帯電防止のための導電性粒子は、粒子の屈折率が１．６〜２．２程度のものが多く、これら粒子を含有する帯電防止層の屈折率が上がってしまう。帯電防止層の屈折率が高いと、隣接層との屈折率の違いにより意図せぬ干渉ムラが生じたり、反射色の色味が強くなるなどの問題点があり、改良が望まれていた。
特許文献２には反射色の色付きを低減させる方法として、帯電防止層とその下地となるハードコート層の屈折率を近づけることが開示されている。しかしながら、該文献に記載の技術では、光硬化性のアクリレート樹脂からなるハードコート層上に、熱硬化性樹脂からなる帯電防止層を積層させており、層間の密着性を付与するためには、帯電防止層を形成させる前に、ハードコート層表面にアルカリ処理を施す必要があった。ハードコート層と帯電防止層の形成の間にアルカリ処理を施すことは、製造工程が多くなり、更に、異物が混入しやすくなるために、生産性の低下や欠陥の発生による得率の低下を招くという問題があった。
導電性粒子を含む低屈折率層の形成方法として、シリカ粒子表面を導電性金属酸化物で被覆した粒子を低屈折率層に使用することが特許文献３や特許文献４に開示されている。しかしながら、該粒子は製造工程が煩雑で、高価であるという問題があった。
本発明は、反射率が低く、かつ反射光の着色が低減した優れた反射防止機能、帯電防止機能を有し、更に、耐擦傷性や密着性、および生産性に優れた反射防止フィルムを提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
１．
透明支持体上に、少なくとも、層（Ａ）及び層（Ｂ）をこの順で有する反射防止フィルムであって、
前記層（Ａ）は、（ａ１）下記一般式（１）で表され、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さい含フッ素重合性化合物と、（ａ２）導電性材料と、を含有する組成物から形成される層であり、
前記層（Ｂ）は、前記層（Ａ）よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、
反射防止フィルムの表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
一般式（１） ： Ｒｆ｛−（Ｌ）ｍ−Ｙ｝ｎ
（式中、Ｒｆは炭素原子及びフッ素原子を含むｎ価の基を表す。ｎは３以上の整数を表す。Ｌは二価の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｙは重合性基を表す。）
２．
前記透明支持体と前記層（Ａ）との間に、前記層（Ａ）と接するハードコート層を有することを特徴とする上記１に記載の反射防止フィルム。
３．
前記層（Ａ）の屈折率（ｎＡ）と前記ハードコート層の屈折率（ｎＨＣ）が、下記数式（１）を満たすことを特徴とする上記２に記載の反射防止フィルム。
数式（１） ： ０≦｜（ｎＡ−ｎＨＣ）／ｎＨＣ｜≦０．０５
４．
前記層（Ｂ）の屈折率が、波長５５０ｎｍにおいて、１．３３〜１．４０であることを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
５．
前記層（Ｂ）の光学膜厚（ｎｄ）が、１００ｎｍ〜２００ｎｍであることを特徴とする上記１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
６．
前記導電性材料が、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、燐ドープ酸化錫（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル及び酸化銅からなる群から選択される少なくともいずれかの金属酸化物であることを特徴とする上記１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
７．
前記（ａ１）含フッ素重合性化合物がフッ素を４０質量％以上含有することを特徴とする上記１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
８．
前記（ａ１）含フッ素重合性化合物の全ての架橋間分子量の計算値が５０よりも大きく３００よりも小さいことを特徴とする上記１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
９．
前記層（Ａ）が、層（Ａ）の全固形分に対して前記（ａ２）導電性材料を４０質量％以上８０質量％以下含有することを特徴とする上記１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１０．
前記層（Ａ）の屈折率が、波長５５０ｎｍにおいて、１．５０〜１．６０であることを特徴とする上記１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１１．
前記層（Ａ）の光学膜厚（ｎｄ）が、波長５５０ｎｍにおいて、２００ｎｍ〜３００ｎｍであることを特徴とする上記１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１２．
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも１枚が上記１〜１１のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
１３．
上記１〜１１のいずれかに記載の反射防止フィルム又は上記１２に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする画像表示装置。
透明支持体上に、少なくとも、層（Ａ）及び層（Ｂ）をこの順で有する反射防止フィルムであって、
前記層（Ａ）は、（ａ１）下記一般式（１）で表され、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さい含フッ素重合性化合物と、（ａ２）導電性材料と、を含有する組成物から形成される層であり、
前記層（Ｂ）は、前記層（Ａ）よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、
反射防止フィルムの表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
一般式（１） ： Ｒｆ｛−（Ｌ）ｍ−Ｙ｝ｎ
（式中、Ｒｆは炭素原子及びフッ素原子を含むｎ価の基を表す。ｎは３以上の整数を表す。Ｌは二価の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｙは重合性基を表す。）
２．
前記透明支持体と前記層（Ａ）との間に、前記層（Ａ）と接するハードコート層を有することを特徴とする上記１に記載の反射防止フィルム。
３．
前記層（Ａ）の屈折率（ｎＡ）と前記ハードコート層の屈折率（ｎＨＣ）が、下記数式（１）を満たすことを特徴とする上記２に記載の反射防止フィルム。
数式（１） ： ０≦｜（ｎＡ−ｎＨＣ）／ｎＨＣ｜≦０．０５
４．
前記層（Ｂ）の屈折率が、波長５５０ｎｍにおいて、１．３３〜１．４０であることを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
５．
前記層（Ｂ）の光学膜厚（ｎｄ）が、１００ｎｍ〜２００ｎｍであることを特徴とする上記１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
６．
前記導電性材料が、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、燐ドープ酸化錫（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル及び酸化銅からなる群から選択される少なくともいずれかの金属酸化物であることを特徴とする上記１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
７．
前記（ａ１）含フッ素重合性化合物がフッ素を４０質量％以上含有することを特徴とする上記１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
８．
前記（ａ１）含フッ素重合性化合物の全ての架橋間分子量の計算値が５０よりも大きく３００よりも小さいことを特徴とする上記１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
９．
前記層（Ａ）が、層（Ａ）の全固形分に対して前記（ａ２）導電性材料を４０質量％以上８０質量％以下含有することを特徴とする上記１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１０．
前記層（Ａ）の屈折率が、波長５５０ｎｍにおいて、１．５０〜１．６０であることを特徴とする上記１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１１．
前記層（Ａ）の光学膜厚（ｎｄ）が、波長５５０ｎｍにおいて、２００ｎｍ〜３００ｎｍであることを特徴とする上記１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１２．
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも１枚が上記１〜１１のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
１３．
上記１〜１１のいずれかに記載の反射防止フィルム又は上記１２に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする画像表示装置。
本発明によれば、反射率が低く、かつ反射光の着色が低減した優れた反射防止機能、帯電防止機能を有し、更に、耐擦傷性や密着性、および生産性に優れた反射防止フィルムを提供することができる。
以下、本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の記載により制限されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に、少なくとも、層（Ａ）及び層（Ｂ）をこの順で有する反射防止フィルムであって、
前記層（Ａ）は、（ａ１）下記一般式（１）で表され、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さい含フッ素重合性化合物と、（ａ２）導電性材料と、を含有する組成物から形成される層であり、
前記層（Ｂ）は、前記層（Ａ）よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、
反射防止フィルムの表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下であることを特徴とする。
一般式（１） ： Ｒｆ｛−（Ｌ）ｍ−Ｙ｝ｎ
（式中、Ｒｆは炭素原子及びフッ素原子を含むｎ価の基を表す。ｎは３以上の整数を表す。Ｌは二価の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｙは重合性基を表す。）
前記層（Ａ）は、（ａ１）下記一般式（１）で表され、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さい含フッ素重合性化合物と、（ａ２）導電性材料と、を含有する組成物から形成される層であり、
前記層（Ｂ）は、前記層（Ａ）よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、
反射防止フィルムの表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下であることを特徴とする。
一般式（１） ： Ｒｆ｛−（Ｌ）ｍ−Ｙ｝ｎ
（式中、Ｒｆは炭素原子及びフッ素原子を含むｎ価の基を表す。ｎは３以上の整数を表す。Ｌは二価の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｙは重合性基を表す。）
以下、本発明の反射防止フィルムについて説明する。
［層（Ａ）］
本発明の反射防止フィルムにおける層（Ａ）は、透明支持体と層（Ｂ）の間に配置される。層（Ａ）は、（ａ１）下記一般式（１）で表され、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さい含フッ素重合性化合物と、（ａ２）導電性材料と、を含有する組成物から形成される層である。
一般式（１） ： Ｒｆ｛−（Ｌ）ｍ−Ｙ｝ｎ
（式中、Ｒｆは炭素原子及びフッ素原子を含むｎ価の基を表す。ｎは３以上の整数を表す。Ｌは二価の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｙは重合性基を表す。）
本発明の反射防止フィルムにおける層（Ａ）は、透明支持体と層（Ｂ）の間に配置される。層（Ａ）は、（ａ１）下記一般式（１）で表され、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さい含フッ素重合性化合物と、（ａ２）導電性材料と、を含有する組成物から形成される層である。
一般式（１） ： Ｒｆ｛−（Ｌ）ｍ−Ｙ｝ｎ
（式中、Ｒｆは炭素原子及びフッ素原子を含むｎ価の基を表す。ｎは３以上の整数を表す。Ｌは二価の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｙは重合性基を表す。）
（含フッ素重合性化合物）
層（Ａ）を形成するための組成物に含まれる、（ａ１）前記一般式（１）で表され、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さい含フッ素重合性化合物（以下、（ａ１）含フッ素重合性化合物とも記載する）について説明する。
層（Ａ）を形成するための組成物に含まれる、（ａ１）前記一般式（１）で表され、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さい含フッ素重合性化合物（以下、（ａ１）含フッ素重合性化合物とも記載する）について説明する。
一般式（１）において、Ｒｆは「含フッ素コア部」を表し、少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び／又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、ｎ価のフッ化炭化水素基を表す。
Ｒｆにおける水素原子数／フッ素原子数は、低屈折率化のために、１／４以下であることが好ましく、１／９以下であることが更に好ましい。Ｒｆにおける水素原子数／フッ素原子数が１／４以下であると、防汚性が良好になり好ましい。一方、Ｒｆにおける水素原子数／フッ素原子数が１／４を超えると、重合体の屈折率が上がってしまい、塗膜にしたときの平均反射率が上がって好ましくない。
ｎは３以上の整数を表し、十分な膜強度を得るためには、ｎは４以上であることが好ましい。Ｒｆは、重合性基がすべて重合（又は架橋）した場合の架橋間分子量がすべて３００以下になるような基が好ましく、架橋間分子量については後述する。
Ｒｆにおける水素原子数／フッ素原子数は、低屈折率化のために、１／４以下であることが好ましく、１／９以下であることが更に好ましい。Ｒｆにおける水素原子数／フッ素原子数が１／４以下であると、防汚性が良好になり好ましい。一方、Ｒｆにおける水素原子数／フッ素原子数が１／４を超えると、重合体の屈折率が上がってしまい、塗膜にしたときの平均反射率が上がって好ましくない。
ｎは３以上の整数を表し、十分な膜強度を得るためには、ｎは４以上であることが好ましい。Ｒｆは、重合性基がすべて重合（又は架橋）した場合の架橋間分子量がすべて３００以下になるような基が好ましく、架橋間分子量については後述する。
Ｒｆで表される「含フッ素コア部」の特に代表的なものとして、下記の具体例が挙げられる。
一般式（１）において、Ｙは重合性基を表し、ラジカル、カチオン、又は縮合重合性の基であることが好ましく、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アルコキシシリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２から選ばれる基であることがより好ましい。これらの中でも、重合性の観点から、ラジカル又はカチオン重合性を有する（メタ）アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２から選ばれる基が更に好ましく、ラジカル重合性を有する（メタ）アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２から選ばれる基が特に好ましい。層（Ａ）を形成するための組成物は光硬化性組成物であることが、膜の耐擦傷性や耐湿熱性を得るために好ましい。
Ｌは二価の連結基を表し、好ましくは、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、炭素数１〜１０のアルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−又はＮ（Ｒ）−を組み合わせて得られる基、炭素数６〜１０のアリーレン基と−Ｏ−、−Ｓ−又はＮ（Ｒ）−を組み合わせて得られる基を表す。Ｒは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。Ｌがアルキレン基又はアリーレン基を表す場合、Ｌで表されるアルキレン基及びアリーレン基はハロゲン原子で置換されていることが好ましく、フッ素原子で置換されていることが好ましい。
（ａ１）含フッ素重合性化合物としてより好ましいのは、屈折率及び重合性の観点から、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さいモノマーであって、かつ下記一般式式（２）又は（３）で表されるものである。
一般式（２）： Ｒｆ２−｛ＣＨ２−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２｝ｎ
一般式（３）： Ｒｆ２−｛Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２｝ｎ
一般式（３）： Ｒｆ２−｛Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２｝ｎ
一般式（２）及び（３）中、Ｒｆ２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含むｎ価の基を表し、ｎは３以上の整数を表す。Ｒｆ２は鎖状（直鎖又は分岐）又は環状である。
Ｒｆは、より低い屈折率を発現させるという理由から、実質的に炭素原子とフッ素原子、又は、炭素原子とフッ素原子と酸素原子のみから構成されることが好ましい。実質的に炭素原子とフッ素原子、又は、炭素原子とフッ素原子と酸素原子のみから構成されるとは、フッ素原子数と炭素原子数と酸素原子数の和に対して、その他の原子（例えば水素原子）数が１０％以下であることを示す。
Ｒｆは、より低い屈折率を発現させるという理由から、実質的に炭素原子とフッ素原子、又は、炭素原子とフッ素原子と酸素原子のみから構成されることが好ましい。実質的に炭素原子とフッ素原子、又は、炭素原子とフッ素原子と酸素原子のみから構成されるとは、フッ素原子数と炭素原子数と酸素原子数の和に対して、その他の原子（例えば水素原子）数が１０％以下であることを示す。
また、（ａ１）含フッ素重合性化合物として、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さいモノマーであって、かつ下記一般式（４）又は（５）で表されるものも好ましい。
一般式（４）： Ｒｆ２１−｛Ｒｆ２２−ＣＨ２−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２｝ｎ
一般式（５）： Ｒｆ２１−｛Ｒｆ２２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２｝ｎ
一般式（５）： Ｒｆ２１−｛Ｒｆ２２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２｝ｎ
（一般式（４）及び（５）中、Ｒｆ２１は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含むｎ価の基を表し、Ｒｆ２２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含む２価の基を表す。ｎは３以上の整数を表す。ただし、Ｒｆ２１は末端に−ＣＨ２ＯＨを含まない。）
Ｒｆ２１及びＲｆ２２は酸素原子及び水素原子の少なくともいずれかを含んでも良い。また、Ｒｆ２１及びＲｆ２２は鎖状（直鎖又は分岐）又は環状である。
Ｒｆ２１及びＲｆ２２は酸素原子及び水素原子の少なくともいずれかを含んでも良い。また、Ｒｆ２１及びＲｆ２２は鎖状（直鎖又は分岐）又は環状である。
ここで、架橋間分子量の計算値とは、（ａ１）含フッ素重合性化合物の重合性不飽和基が全て重合した重合体において、炭素原子、ケイ素原子、及び酸素原子のうち少なくともいずれかが合わせて３個以上置換した炭素原子を（ａ）、炭素原子及び酸素原子のうち少なくともいずれかが合わせて３個以上が置換したケイ素原子を（ｂ）、とするときに、（ａ）と（ａ）、（ｂ）と（ｂ）、又は（ａ）と（ｂ）で挟まれた原子団の原子量の合計をいう。例えば、後述する含フッ素多官能モノマーの内、Ｘ−２２を例に挙げて説明する。Ｘ−２２の重合性基が全て重合したと仮定すると、下記Ｘ−２２−１のように表される。
この場合、上記で定義した架橋間分子量の計算の対象となる部分構造は破線で囲まれた部分であり、架橋間分子量の計算値はそれぞれＣ２Ｆ４Ｏ＝１１６．０、とＣ５Ｈ２Ｆ６Ｏ３＝２２４．１であり、いずれも５００未満となる。
また、架橋間分子量の計算値は、以下のようにも表すことができる。すなわち、架橋間分子量の計算値は、３個以上の重合性不飽和基の各々と、炭素原子、ケイ素原子、又は酸素原子を含む２価以上の連結基を介して結合するとともに、前記連結基中の炭素原子、ケイ素原子、又は酸素原子に直接結合する炭素原子を（ａ）、炭素原子及び酸素原子のうち少なくともいずれかが合わせて３個以上置換したケイ素原子を（ｂ）、重合性不飽和基の不飽和結合を形成する２つの炭素原子のうち、前記（ａ）の炭素原子により近い炭素原子を（ｃ）、とするときに、（ａ）と（ａ）、（ｂ）と（ｂ）、（ｃ）と（ｃ）、（ａ）と（ｂ）、（ａ）と（ｃ）、又は（ｂ）と（ｃ）で挟まれた原子団の原子量の合計をいう。例えば、後述する含フッ素多官能モノマーの内、Ｘ−２２を例に挙げて説明する。Ｘ−２２について、上記定義における（ａ）又は（ｃ）に相当する炭素原子は以下のように表される。
この場合、上記で定義した架橋間分子量の計算の対象となる部分構造は破線で囲まれた部分であり、架橋間分子量の計算値はそれぞれＣ２Ｆ４Ｏ＝１１６．０、とＣ５Ｈ２Ｆ６Ｏ３＝２２４．１であり、いずれも５００未満となる。
架橋間分子量の計算値は５０よりも大きく５００よりも小さいことが好ましく、５０よりも大きく４００より小さいことが更に好ましく、５０よりも大きく３００よりも小さいことが最も好ましい。架橋間分子量が５００以上になると塗膜の硬度が低下することがある。また、５０よりも小さくなると、フッ素含率の低下により屈折率が増加してしまう。
より低い屈折率とするために、フッ素は１分子中３５質量％以上含有することが好ましく、４０質量％以上含有することがより好ましい。
（ａ１）含フッ素重合性化合物として具体例を以下に示すが、これらに限定されない。
特開２００６−２８４０９号公報の段落番号〔００２６〕から〔００２７〕に記載のＸ−２１〜２５、Ｘ−２７〜３１に加えて以下の化合物Ｘ−３３も好ましく用いることができる。なお、Ｃｆはフッ素含有率（質量％）を表す。
特開２００６−２８４０９号公報の段落番号〔００２６〕から〔００２７〕に記載のＸ−２１〜２５、Ｘ−２７〜３１に加えて以下の化合物Ｘ−３３も好ましく用いることができる。なお、Ｃｆはフッ素含有率（質量％）を表す。
また、特開２００６−２８４７６１号公報の段落番号〔００６２〕から〔００６５〕に記載の下記Ｍ−１〜Ｍ−１６も好ましく用いることができる。
また、以下に示す化合物ＭＡ１〜ＭＡ２０も好ましく用いることができる。
また、下記化合物Ｘ−３４、Ｘ−３５、及びＭＸ１も用いることができる。
また、（ａ１）含フッ素重合性化合物として、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さいモノマーであって、かつ下記一般式（６）で表されるものも好ましい。
式中Ｒｆ３は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含む（ｐ＋ｑ）価の基を表し、ｐは２〜１０の整数、ｑは１〜８の整数で、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１１の整数を表す。Ｒｆ３は直鎖であっても分岐していてもよく、また、環構造、エーテル結合を有していてもよい。Ｒｆ３は炭素原子及びフッ素原子のみからなる（ｐ＋ｑ）価の基、又は、炭素原子、フッ素原子及び酸素原子のみからなる（ｐ＋ｑ）価の基であることがより好ましい。Ｒｆ３の好ましい炭素数としては１〜２０であり、より好ましくは１〜１０である。以下にＲｆ３の好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
ｐは好ましくは３〜６の整数であり、この時、好ましくはｑは１〜３の整数であり、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜６の整数である。
ｒは一般式（６）中における繰り返し単位（ＯＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し数を表し、架橋間分子量の計算値が５００より小さくなる範囲で選択でき、好ましくは１又は２であり、より好ましくは１である。一般式（６）で表される多官能含フッ素アクリレートは一つの分子中に―（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｒ―ＯＣＦ２ＣＨ２Ｏ―で表されるｐ個の連結基を有するものであるが、１分子中のそれぞれのｒは同じであっても異なっていてもよい。ｒが２以下であると架橋基の密度が高くなり、塗膜の強度を高められるという観点で好ましい。特に塗膜の表層を効率良く効果することが可能であり、防汚耐久性にも優れる。
Ｒは水素原子、メチル基、フッ素原子又はトリフルオロメチル基を表し、好ましくは水素原子である。
ｒは一般式（６）中における繰り返し単位（ＯＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し数を表し、架橋間分子量の計算値が５００より小さくなる範囲で選択でき、好ましくは１又は２であり、より好ましくは１である。一般式（６）で表される多官能含フッ素アクリレートは一つの分子中に―（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｒ―ＯＣＦ２ＣＨ２Ｏ―で表されるｐ個の連結基を有するものであるが、１分子中のそれぞれのｒは同じであっても異なっていてもよい。ｒが２以下であると架橋基の密度が高くなり、塗膜の強度を高められるという観点で好ましい。特に塗膜の表層を効率良く効果することが可能であり、防汚耐久性にも優れる。
Ｒは水素原子、メチル基、フッ素原子又はトリフルオロメチル基を表し、好ましくは水素原子である。
一般式（６）で表される多官能含フッ素アクリレートは１種用いても２種以上を用いてもよい。以下に一般式（６）で表される多官能含フッ素アクリレートの具体的化合物例を示す。ここでは代表例としてｒ＝１の場合を示すが、これらに限定されるものではない。
前記一般式（６）で表される多官能含フッ素アクリレートは国際公開第９０／０３３５３号や国際公開第００／５６６９４号に記載の液相フッ素化反応を利用して容易に合成することができる。
上記例示化合物のフッ素含有率と架橋間分子量（２つ以上ある場合は大きい方）は以下の通りである。
上記例示化合物の他に、重合性基としてエポキシ基やアルコキシシリル基を有す、特開２００６−２８４０９号公報の段落番号〔００２６〕から〔００２７〕に記載のＸ−２６、Ｘ−３２、特開２００６−２８４７６１号公報の段落番号〔００６５〕に記載のＭ−１５、以下の化合物（ＭＡ−６、１６）等も好ましく用いることができる。
中でも高い耐擦傷性と低屈折率性、防汚耐久性に優れた塗膜を得るという観点からＭ−１を用いることが特に好ましい。
本発明における（ａ１）含フッ素重合性化合物は、分子内のフッ素含有率が高いため、屈折率が低い。従って、従来の重合性化合物を用いた場合よりも、少ない添加量で層の屈折率を低下させることができる。そのため、高い屈折率を有する導電性粒子を層内に密に分散させても層の屈折率を低くすることができ、導電性を損なわずに低屈折率化が達成できる。
本発明における（ａ１）含フッ素重合性化合物は、層（Ａ）だけでなく、層（Ｂ）の構成成分としても好ましく使用することができる。
これらの（ａ１）含フッ素重合性化合物の製造方法としては、エステル結合、ジアルコキシ基、および／またはハロゲン原子を有する化合物を、液相フッ素化することにより、８０ｍｏｌ％以上、好ましくは９０ｍｏｌ％以上の水素原子をフッ素原子に置換した後、３つ以上の重合性基を導入する方法が好適である。液相フッ素化については、例えば、米国特許第５０９３４３２号明細書に記載されている。
液相フッ素化に供される化合物としては、液相フッ素化する際に用いるフッ素系の溶媒に溶解するか、または、液体であることが要求されるが、それ以外は特に制限は無い。こうした溶解性や反応性の観点から、予めフッ素を含有する化合物を用いても良い。また、エステル結合、ジアルコキシ基、および／またはハロゲン原子を有する化合物は、液相フッ素化後に重合性基を導入する際の反応点とすることができるため、好適である。液相フッ素化によってフッ素原子の導入を行うことにより、後から導入する重合性基以外の部分のフッ素含有率を極めて高くすることが可能であり、屈折率が極めて低い重合性化合物を得ることができる。
（ａ１）含フッ素重合性化合物の分子量は５，０００より小さいことが好ましい。分子量が５，０００より小さいと、組成物に含まれる他の素材との相溶性が低下せず、組成物の粘度が上昇しにくいため、面状故障が発生しにくい。また、分子量は２００より大きいと、重合前に該化合物が揮散しにくくなるために好ましい。
組成物中の固形分に対する（ａ１）含フッ素重合性化合物の含有量は、１０〜８０質量％であることが好ましい。（ａ１）含フッ素重合性化合物の含有量が１０質量％以上であれば、屈折率が高くならず、更に膜強度が低下しないため好ましい。８０質量％以下であれば、十分な帯電防止性を得ることができるため好ましい。十分な低屈折率、膜強度、及び帯電防止性を得るためには、２０〜７０質量％であることが更に好ましい。
（導電性材料）
層（Ａ）に含まれる（ａ２）導電性材料として用いることのできる材料について説明する。層（Ａ）は導電性材料を含有することにより、帯電防止層としてのはたらきを有する。
導電性材料としては、導電性無機材料および導電性有機材料などが挙げられる。導電性無機材料としては、導電性を有する無機化合物が挙げられ、金属、金属の酸化物、金属の窒化物などが好ましい。導電性有機材料としては、透明で導電性を有する、高分子からなる物質であり、単一の素材、もしくは複数の素材の複合体が挙げられる。イオン導電性を示すカチオン性又はアニオン性のポリマー、または電子伝導性を示すπ共役系導電性ポリマーとそれに付随するドーパントの複合体が好ましく用いられる。特にπ共役系導電性ポリマーとそれに付随するドーパントの複合体が好ましい。導電性有機材料の具体例として、特開２００８−２６２１８７号公報の段落番号〔０１６５〕から〔０１８８〕に記載の化合物などが挙げられる。
層（Ａ）に含まれる（ａ２）導電性材料として用いることのできる材料について説明する。層（Ａ）は導電性材料を含有することにより、帯電防止層としてのはたらきを有する。
導電性材料としては、導電性無機材料および導電性有機材料などが挙げられる。導電性無機材料としては、導電性を有する無機化合物が挙げられ、金属、金属の酸化物、金属の窒化物などが好ましい。導電性有機材料としては、透明で導電性を有する、高分子からなる物質であり、単一の素材、もしくは複数の素材の複合体が挙げられる。イオン導電性を示すカチオン性又はアニオン性のポリマー、または電子伝導性を示すπ共役系導電性ポリマーとそれに付随するドーパントの複合体が好ましく用いられる。特にπ共役系導電性ポリマーとそれに付随するドーパントの複合体が好ましい。導電性有機材料の具体例として、特開２００８−２６２１８７号公報の段落番号〔０１６５〕から〔０１８８〕に記載の化合物などが挙げられる。
導電性材料を含む層を形成する方法は、例えば、導電性微粒子と（ａ１）含フッ素重合性化合物を含む導電性塗布液を塗布する方法、透明で導電性を有する高分子からなる透明導電性材料を塗布する方法、等の従来公知の方法を挙げることができる。導電性材料を含む層は、透明支持体上に直接又は透明支持体との接着を強固にするプライマー層を介して形成することができる。塗布方法は、特に限定されず、塗布液の特性や塗工量に応じて、例えば、ロールコート、グラビアコート、バーコート、押出しコート等の公知の方法より最適な方法を選択して行えばよい。
導電性材料を含む層（Ａ）は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、ヘイズが１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。波長５５０ｎｍの光の透過率が、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、６５％以上であることが更に好ましく、７０％以上であることが最も好ましい。
層（Ａ）は、導電性無機微粒子及び（ａ１）含フッ素重合性化合物を溶媒と混合して得られる塗布組成物を用いて形成することが好ましい。この場合には、導電性無機微粒子は、金属の酸化物又は窒化物から形成することが好ましい。金属の酸化物又は窒化物の例には、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、窒化チタン、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル及び酸化銅が含まれる。酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。導電性無機微粒子は、これらの金属の酸化物又は窒化物を主成分とし、更に他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖ及びハロゲン原子が含まれる。酸化錫及び酸化インジウムの導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｐ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖ及びハロゲン原子から選ばれる少なくともいずれかを添加することが好ましい。より具体的には、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、リンドープ酸化錫（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル及び酸化銅からなる群から選択される一又は二以上の金属酸化物の組み合わせが挙げられる。錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫（ＰＴＯ）が特に好ましい。ＡＴＯ中のＳｂの割合は、３〜２０質量％であることが好ましい。ＩＴＯ中の錫の割合は、５〜２０質量％であることが好ましい。
層（Ａ）に用いる導電性無機微粒子の一次粒子の平均粒子径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、５〜１００ｎｍであることが更に好ましく、５〜７０ｎｍであることが最も好ましい。形成される帯電防止層中の導電性無機微粒子の平均粒子径は、１〜２００ｎｍであり、５〜１５０ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることが更に好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。導電性無機微粒子の平均粒子径は、粒子の質量を重みとした平均径であり、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
導電性無機微粒子を表面処理してもよい。表面処理は、無機化合物又は有機化合物を用いて実施する。表面処理に用いる無機化合物の例には、アルミナ及びシリカが含まれる。シリカ処理が特に好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。具体的には、後述する層（Ｂ）における｛無機微粒子の表面処理方法｝に記載の方法が好適に用いられる。また、特開２００８−３１３２７の段落番号［０１０１］〜［０１２２］に記載の方法も好ましく用いることができる。二種類以上の表面処理を組み合わせて実施してもよい。
導電性無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましい。
二種類以上の導電性無機微粒子を帯電防止層内で併用してもよい。
導電性無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましい。
二種類以上の導電性無機微粒子を帯電防止層内で併用してもよい。
層（Ａ）中の導電性無機微粒子などの導電性材料の割合は、全固形分中２０〜９０質量％であることが好ましく、２５〜８５質量％であることがより好ましく、３０〜８０質量％であることが更に好ましく、４０〜８０質量％であることが最も好ましい。無機微粒子の該範囲より小さいと、十分な帯電防止能を発現できず、また、該範囲より大きいと、十分な膜強度が得られない。
導電性無機微粒子は、分散物の状態で帯電防止層の形成に使用する。導電性無機微粒子の分散媒体は、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が含まれる。トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。導電性無機微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散できる。分散機の例には、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。
導電性無機化合物粒子は有機溶媒中アルコキシシラン化合物と反応させることが好ましい。導電性無機化合物粒子とアルコキシシラン化合物とを予め反応させた反応液を用いることによって、保存安定性及び硬化性に優れるという効果が得られる。
上記導電性無機酸化物粒子の粉体としての市販品としては、例えば、三菱マテリアル（株）製商品名：Ｔ−１（ＩＴＯ）、ＥＰ ＳＰ２（ＰＴＯ）、三井金属（株）製商品名：パストラン（ＩＴＯ、ＡＴＯ）、石原産業（株）製商品名：ＳＮ−１００Ｐ（ＡＴＯ）、シーアイ化成（株）製商品名：ナノテックＩＴＯ、日産化学工業（株）製商品名：ＡＴＯ、ＦＴＯ、触媒化成工業（株）製 商品名：ＥＬＣＯＭ ＴＬ−３０Ｓ（ＰＴＯ）等を挙げることができる。
導電性無機酸化物粒子は、その表面に酸化ケイ素を担持してなるものが、アルコキシシラン化合物と特に効果的に反応することから好ましい。このような酸化ケイ素を担時する方法としては、例えば、特許第２８５８２７１号公報に開示されており、酸化錫及び酸化アンチモンの水和物の共沈物を生成させた後、ケイ素化合物を沈着させ、分別、焼成する工程により製造することができる。
その表面に酸化ケイ素を担持してなる導電性無機酸化物粒子の市販品としては、例えば、石原産業（株）製商品名：ＳＮ−１００Ｐ（ＡＴＯ）、及びＳＮＳ−１０Ｍ、ＦＳＳ−１０Ｍ等を挙げることができる。
無機酸化物粒子は、粉体又は溶媒に分散した状態で用いることができるが、均一分散性が得易いことから、溶媒中に分散した状態で用いることが好ましい。粉体である場合に、溶媒に均一分散させるために分散剤を用いてもよい。粉体状の粒子の分散剤としては、例えば、旭電化工業（株）製界面活性剤であるＴＲ７０１、ＴＲ７０２、ＴＲ７０４等が挙げられる。
導電性無機酸化物粒子を有機溶媒に分散した市販品としては、例えば、石原産業（株）製商品名：ＳＮＳ−１０Ｍ（ＭＥＫ分散のアンチモンドープ酸化錫）、ＦＳＳ−１０Ｍ（イソプロピルアルコール分散のアンチモンドープ酸化錫）、日産化学工業（株）製商品名：セルナックスＣＸ−Ｚ４０１Ｍ（メタノール分散のアンチモン酸亜鉛）、セルナックスＣＸ−Ｚ２００ＩＰ（イソプロピルアルコール分散のアンチモン酸亜鉛）、触媒化成工業（株）製 商品名：ＥＬＣＯＭ ＪＸ−１００１ＰＴＶ（プロピレングリコールモノメチルエーテル分散のリン含有酸化錫）等を挙げることができる。
（その他の成分）
前記（ａ１）含フッ素重合性化合物と（ａ２）前記導電性材料以外に層（Ａ）を形成するための組成物に含んでもよい成分について説明する。
層（Ａ）を形成するための組成物には、重合性不飽和基を分子内に有する重合性化合物（モノマー又はオリゴマー）やポリマーをバインダーとして含んでもよい。
重合性化合物は多官能モノマーであることが好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましい。特に好ましくは１分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物が挙げられる。
前記（ａ１）含フッ素重合性化合物と（ａ２）前記導電性材料以外に層（Ａ）を形成するための組成物に含んでもよい成分について説明する。
層（Ａ）を形成するための組成物には、重合性不飽和基を分子内に有する重合性化合物（モノマー又はオリゴマー）やポリマーをバインダーとして含んでもよい。
重合性化合物は多官能モノマーであることが好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましい。特に好ましくは１分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物が挙げられる。
フッ素原子及び重合性不飽和基を分子内に有する重合性化合物として、特開２００８−１３４５８５号公報の段落番号〔００５４〕から〔００７９〕に記載の化合物、特許３８９００２２号公報の段落番号〔０００８〕から〔００１７〕に記載の化合物、特開平１１−８０３１２号公報の段落番号〔００１１〕から〔００１３〕に記載の化合物などが挙げられる。
フッ素原子を含まない重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
等を挙げることができる。
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
等を挙げることができる。
更にはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。更に好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、特開２００９−９８６５８号公報の段落番号〔０１１９〕に記載されており、本発明においても同様である。
更に、３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等もあげられる。
モノマーバインダーとしては、例えば特開２００５−７６００５号、同２００５−３６１０５号に記載されたデンドリマーや、例えば特開２００５−６０４２５号記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
（ポリマーバインダー）
バインダーとしては、多官能モノマーや多官能オリゴマーだけでなく、反応性硬化樹脂を反応させてなる、架橋しているポリマーをバインダーとして用いることもできる。ポリマーバインダーについては、特開２００８−２６２１８７号公報の段落番号〔０１９４〕〜〔０２００〕に記載されており、本発明においても同様である。
バインダーとしては、多官能モノマーや多官能オリゴマーだけでなく、反応性硬化樹脂を反応させてなる、架橋しているポリマーをバインダーとして用いることもできる。ポリマーバインダーについては、特開２００８−２６２１８７号公報の段落番号〔０１９４〕〜〔０２００〕に記載されており、本発明においても同様である。
（有機溶媒）
層（Ａ）を形成するための組成物に用いられる有機溶媒は、導電性無機酸化物粒子などの導電性材料を分散させる分散媒として用いられる。
有機溶媒の含有量は、導電性材料１００質量部に対し、好ましくは、２０〜４，０００質量部、更に好ましくは、１００〜１，０００質量部である。溶媒量が２０質量部未満であると、粘度が高いため均一の反応が困難であることがあり、４，０００質量部を超えると、塗布性が低下することがある。
層（Ａ）を形成するための組成物に用いられる有機溶媒は、導電性無機酸化物粒子などの導電性材料を分散させる分散媒として用いられる。
有機溶媒の含有量は、導電性材料１００質量部に対し、好ましくは、２０〜４，０００質量部、更に好ましくは、１００〜１，０００質量部である。溶媒量が２０質量部未満であると、粘度が高いため均一の反応が困難であることがあり、４，０００質量部を超えると、塗布性が低下することがある。
有機溶媒としては、例えば、常圧での沸点が２００℃以下の溶媒を挙げることができる。具体的には、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、炭化水素類、アミド類が用いられ、これらは、１種単独で又は２種以上を組合わせて用いることができる。中でも、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類が好ましい。
ここで、アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブタノール、ｎ―ブタノール、ｔｅｒｔ―ブタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等を挙げることができる。ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。エーテル類としては、例えば、ジブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等を挙げることができる。エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等を挙げることができる。炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレン等を挙げることができる。アミド類としては、例えば、ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ―メチルピロリドン等を挙げることができる。中でも、イソプロピルアルコール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、乳酸エチル等が好ましい。
また、層（Ａ）には、その他の添加剤を含んでもよい。
反射色相をニュートラル化するためには、層（Ａ）の光学膜厚（ｎｄ）は２００ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、２２５〜２７５ｎｍであることが更に好ましい。
層（Ａ）の屈折率は、１．５０〜１．６０であることが好ましく、１．５２〜１．５８であることが更に好ましい。
層（Ａ）の屈折率は、１．５０〜１．６０であることが好ましく、１．５２〜１．５８であることが更に好ましい。
［層（Ｂ）］
層（Ｂ）は、前記層（Ａ）よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、層（Ａ）の上に配置される。本発明の反射防止フィルムは、層（Ｂ）が最表層である場合が好ましい。
本発明に好適に用いられる層（Ｂ）（低屈折率層ともいう）は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜により形成することもできるが、後述する低屈折率層形用塗布組成物を用いてオールウェット塗布により形成することが好ましい。低屈折率層中には無機微粒子が含有されることが好ましく、無機微粒子のうちの少なくとも１種は中空粒子であることが好ましく、シリカを主成分とする中空粒子（中空シリカ粒子ともいう）が特に好ましい。
層（Ｂ）は、前記層（Ａ）よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、層（Ａ）の上に配置される。本発明の反射防止フィルムは、層（Ｂ）が最表層である場合が好ましい。
本発明に好適に用いられる層（Ｂ）（低屈折率層ともいう）は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜により形成することもできるが、後述する低屈折率層形用塗布組成物を用いてオールウェット塗布により形成することが好ましい。低屈折率層中には無機微粒子が含有されることが好ましく、無機微粒子のうちの少なくとも１種は中空粒子であることが好ましく、シリカを主成分とする中空粒子（中空シリカ粒子ともいう）が特に好ましい。
低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
本発明の反射防止フィルムの好ましい態様のひとつは、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、含フッ素防汚剤を最表面となる層（Ｂ）に含有する態様である。該含フッ素防汚剤は、重合性不飽和基を有することを特徴とし、これによって塗布物のロール状態での保存時のフッ素化合物の裏面転写の抑制及び塗膜の耐擦傷性改良、また、汚れの繰り返しの拭取りに対する耐久性を向上させることができる。
（低屈折率層形用塗布組成物）
低屈折率層を形成する塗布組成物は、任意に、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、無機微粒子、光重合開始剤、重合性不飽和基を有する多官能モノマーを含有する。塗布組成物における固形分中の重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤の含有量は、１〜１５質量％が好ましく、１〜１０質量％が更に好ましく、２〜７質量％が最も好ましい。重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体の含有量は５〜７０質量％が好ましく、５〜５０質量％が更に好ましく、５〜３０質量％が最も好ましい。無機微粒子の含有量は１０〜７０質量％が好ましく、２０〜６０質量％が更に好ましく、３５〜５５質量％が最も好ましい。光重合開始剤の含有量は１〜５質量％が好ましい。重合性不飽和基を有する多官能モノマーの含有量は０〜６０質量％であることが好ましく、５〜６０質量％であることが更に好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましく、２０〜４０質量％が最も好ましい。重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤の含有量が１質量％以上であれば防汚性改良効果が得られ、１５質量％以下であれば泣き出し等による面状悪化が生じない。無機微粒子が１０質量％以上であれば耐擦傷性改良効果が得られ、７０質量％以下であれば塗膜の白化等面状が良好である。重合性不飽和基を有する多官能モノマーが５〜６０質量％であると耐擦傷性、防汚耐久性、塗布性、屈折率が良好となる。
低屈折率層を形成する塗布組成物は、任意に、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、無機微粒子、光重合開始剤、重合性不飽和基を有する多官能モノマーを含有する。塗布組成物における固形分中の重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤の含有量は、１〜１５質量％が好ましく、１〜１０質量％が更に好ましく、２〜７質量％が最も好ましい。重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体の含有量は５〜７０質量％が好ましく、５〜５０質量％が更に好ましく、５〜３０質量％が最も好ましい。無機微粒子の含有量は１０〜７０質量％が好ましく、２０〜６０質量％が更に好ましく、３５〜５５質量％が最も好ましい。光重合開始剤の含有量は１〜５質量％が好ましい。重合性不飽和基を有する多官能モノマーの含有量は０〜６０質量％であることが好ましく、５〜６０質量％であることが更に好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましく、２０〜４０質量％が最も好ましい。重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤の含有量が１質量％以上であれば防汚性改良効果が得られ、１５質量％以下であれば泣き出し等による面状悪化が生じない。無機微粒子が１０質量％以上であれば耐擦傷性改良効果が得られ、７０質量％以下であれば塗膜の白化等面状が良好である。重合性不飽和基を有する多官能モノマーが５〜６０質量％であると耐擦傷性、防汚耐久性、塗布性、屈折率が良好となる。
（低屈折率層の形成）
低屈折率層は、上記塗布組成物を塗布と同時、又は塗布・乾燥後に電離放射線照射（例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。）や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が０．５体積％以下であり、更に好ましくは酸素濃度が０．１体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が０．０５体積％以下、最も好ましくは０．０２体積％以下である。
酸素濃度を１体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
低屈折率層は、上記塗布組成物を塗布と同時、又は塗布・乾燥後に電離放射線照射（例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。）や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が０．５体積％以下であり、更に好ましくは酸素濃度が０．１体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が０．０５体積％以下、最も好ましくは０．０２体積％以下である。
酸素濃度を１体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
（含フッ素防汚剤）
本発明の反射防止フィルムにおける低屈折率層は、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、前記含フッ素防汚剤を含有することが好ましい。また、該含フッ素防汚剤は、重合性不飽和基を有することを特徴とし、これによって塗布物のロール状態での保存時のフッ素化合物の裏面転写の抑制及び塗膜の耐擦傷性改良、また、汚れの繰り返しの拭取りに対する耐久性を向上させることができる。従来、防汚性を発現させるためにジメチルシロキサン構造を有するシリコーン化合物を用いることが知られているが、含フッ素防汚剤を使用することで更に優れた防汚性を発現できる場合がある。重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤は、フッ素化合物を含む防汚剤であり、重合性不飽和基に特に制限はないが、不飽和二重結合を有する官能基が好ましく、最も好ましくは、メタアクリロイルオキシ基又はアクリロイルオキシ基である。
本発明の反射防止フィルムにおける低屈折率層は、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、前記含フッ素防汚剤を含有することが好ましい。また、該含フッ素防汚剤は、重合性不飽和基を有することを特徴とし、これによって塗布物のロール状態での保存時のフッ素化合物の裏面転写の抑制及び塗膜の耐擦傷性改良、また、汚れの繰り返しの拭取りに対する耐久性を向上させることができる。従来、防汚性を発現させるためにジメチルシロキサン構造を有するシリコーン化合物を用いることが知られているが、含フッ素防汚剤を使用することで更に優れた防汚性を発現できる場合がある。重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤は、フッ素化合物を含む防汚剤であり、重合性不飽和基に特に制限はないが、不飽和二重結合を有する官能基が好ましく、最も好ましくは、メタアクリロイルオキシ基又はアクリロイルオキシ基である。
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖（例えば−ＣＦ２ＣＦ３，−ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ，−ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＦ３，−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ等）であっても、分岐構造（例えばＣＨ（ＣＦ３）２，ＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）２，ＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦ３，ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＦ２）５ＣＦ２Ｈ等）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等）であっても良く、エーテル結合を有していても良い（例えばＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３，ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ，ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｃ８Ｆ１７，ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物は、更に低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタアクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業（株）製、Ｒ−２０２０、Ｍ−２０２０、Ｒ−３８３３、Ｍ−３８３３、オプツールＤＡＣ（以上商品名）、大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７９Ａ、ディフェンサＭＣＦ−３００、ＭＣＦ−３２３（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
また、本発明において重合性不飽和基を有する含フッ素化合物の好ましい態様（一般式（Ｆ））について詳細に述べる。該重合性化合物はモノマー、オリゴマー、ポリマーいずれでも良い。
好ましい第１の態様として、下記一般式（Ｆ）で表される化合物を挙げることができる。
一般式（Ｆ）：
（Ｒｆ）−［（Ｗ）−（ＲＡ）ｎ］ｍ
（式中、Ｒｆは（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基、Ｗは連結基、ＲＡは不飽和二重結合を有する官能基を表す。ｎは１〜３、ｍは１〜３の整数を表す。
（Ｒｆ）−［（Ｗ）−（ＲＡ）ｎ］ｍ
（式中、Ｒｆは（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基、Ｗは連結基、ＲＡは不飽和二重結合を有する官能基を表す。ｎは１〜３、ｍは１〜３の整数を表す。
一般式（Ｆ）で表される化合物において、Ｗとしては、例えばアルキレン、アリーレン、ヘテロアルキレン、又はそれらの組み合わさった連結基を表す。それらの連結基は、更に、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、スルホンアミド等やそれらの組み合わさった官能基を含有しても良い。
一般式（Ｆ）において、ｎとｍが同時に１である場合について、以下の好ましい態様の具体例として（Ｆ−１）〜（Ｆ−３）が挙げられる。
一般式（Ｆ−１）：
Ｒｆ（ＣＦ２ＣＦ２）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｒ２ＯＣＯＣＲ１＝ＣＨ２
Ｒｆ（ＣＦ２ＣＦ２）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｒ２ＯＣＯＣＲ１＝ＣＨ２
（式中、Ｒｆは、炭素数が１〜１０であるフルオロアルキル基のいずれかを示し、Ｒ１は
水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は単結合又はアルキレン基を示し、ｎは重合度を
示す整数であり、重合度ｎはｋ（ｋは３以上の整数のいずれかを示す）以上である。）
水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は単結合又はアルキレン基を示し、ｎは重合度を
示す整数であり、重合度ｎはｋ（ｋは３以上の整数のいずれかを示す）以上である。）
一般式（Ｆ−１）におけるフッ素原子を含むテロマー型アクリレートとしては、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類等が挙げられる。
また、含フッ素防汚剤については、特開２００７−１１４７７２号公報の段落番号〔０１２９〕〜〔０１５２〕に記載されており、本発明においても同様である。
また、含フッ素防汚剤については、特開２００７−１１４７７２号公報の段落番号〔０１２９〕〜〔０１５２〕に記載されており、本発明においても同様である。
（重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体）
低屈折率層に含まれるバインダーとして、含フッ素共重合体化合物を好ましく用いることができる。重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体については、特開２００６−２８４０９号公報の段落番号〔００９８〕〜〔０１１２〕に記載されており、本発明においても同様である。
低屈折率層に含まれるバインダーとして、含フッ素共重合体化合物を好ましく用いることができる。重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体については、特開２００６−２８４０９号公報の段落番号〔００９８〕〜〔０１１２〕に記載されており、本発明においても同様である。
本発明に好ましく用いることのできるポリマーの好ましい分子量は、質量平均分子量が５０００以上、好ましくは１００００〜５０００００、最も好ましくは１５０００〜２０００００である。平均分子量の異なるポリマーを併用することで塗膜面状の改良や耐傷性の改良を行うこともできる。
低屈折率層（Ｂ）に含まれるバインダーは、層（Ａ）に含まれるバインダーと共有結合しうる重合性基を有すことが層間密着を確保するために好ましい。低屈折率層（Ｂ）及び層（Ａ）はバインダーとして（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましく、分子内に複数の重合性基を有す多官能（メタ）アクリレート化合物を含むことが更に好ましい。
［無機微粒子］
低屈折率層に無機微粒子を用いることが、低屈折率化、耐擦傷性改良の観点から好ましい。該無機粒子は、平均粒子サイズが５〜１２０ｎｍであれば特に制限はないが、低屈折率化の観点からは、無機の低屈折率粒子が好ましい。
低屈折率層に無機微粒子を用いることが、低屈折率化、耐擦傷性改良の観点から好ましい。該無機粒子は、平均粒子サイズが５〜１２０ｎｍであれば特に制限はないが、低屈折率化の観点からは、無機の低屈折率粒子が好ましい。
無機粒子としては、低屈折率であることからフッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点でシリカ微粒子が好ましい。これら無機粒子のサイズ（１次粒径）は、５〜１２０ｎｍが好ましく、より好ましくは１０〜１００ｎｍ、２０〜１００ｎｍ、最も好ましくは４０〜９０ｎｍである。
無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であってもよい。
無機微粒子の塗設量は、１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ２〜８０ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ２〜６０ｍｇ／ｍ２である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。
（多孔質又は中空の微粒子）
低屈折率化を図るには、多孔質又は中空構造の微粒子を使用することが好ましい。特に中空構造のシリカ粒子を用いることが好ましい。これら粒子の空隙率は、好ましくは１０〜８０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。中空微粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。
低屈折率化を図るには、多孔質又は中空構造の微粒子を使用することが好ましい。特に中空構造のシリカ粒子を用いることが好ましい。これら粒子の空隙率は、好ましくは１０〜８０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。中空微粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。
多孔質又は中空粒子がシリカの場合には、微粒子の屈折率は、１．１０〜１．４０が好ましく、更に好ましくは１．１５〜１．３５、最も好ましくは１．１５〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。
多孔質又は中空シリカの塗設量は、１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ２〜８０ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ２〜６０ｍｇ／ｍ２である。少なすぎると、低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、空腔部の割合が減り屈折率の低下が見込めず、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが不定形であってもよい。
また、中空シリカは粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
本発明において中空シリカの比表面積は、２０〜３００ｍ２／ｇが好ましく、更に好ましくは３０〜１２０ｍ２／ｇ、最も好ましくは４０〜９０ｍ２／ｇである。表面積は窒素を用いＢＥＴ法で求めることができる。
本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、更に好ましくは３５ｎｍ以上１００ｎｍ以下、最も好ましくは４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。
［多孔質又は中空微粒子の調製方法］
中空微粒子の好ましい製造方法を以下に記載する。第１段階として、後処理で除去可能なコア粒子形成、第２段階としてシェル層形成、第３段階としてコア粒子の溶解、必要に応じて第４段階として追加シェル相の形成である。具体的には中空粒子の製造は、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に記載されている中空シリカ微粒子の製造方法に準じて行うことができる。
中空微粒子の好ましい製造方法を以下に記載する。第１段階として、後処理で除去可能なコア粒子形成、第２段階としてシェル層形成、第３段階としてコア粒子の溶解、必要に応じて第４段階として追加シェル相の形成である。具体的には中空粒子の製造は、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に記載されている中空シリカ微粒子の製造方法に準じて行うことができる。
多孔質粒子の好ましい製造方法は、第１段階としてアルコキシドの加水分解や縮合の程度、共存物質の種類や量を制御し多孔質のコア粒子を製造し、第２段階としてその表面にシェル層を形成する方法である。具体的には多孔質粒子の製造は、例えば、特開２００３−３２７４２４号、同２００３−３３５５１５号、同２００３−２２６５１６号、同２００３−２３８１４０号等の各公報に記載された方法で行うことができる。
（被覆粒子）
シェル厚を厚くすることで粒子表面の吸着サイトを減少させ、吸着水量を低減することが可能であり、好ましい。更に導電性の成分でシェルを形成すると導電性も付与することができて好ましい。特に好ましくは、コア粒子としてシリカ系の多孔質又は中空の粒子を用い、シェルとして、ＺｎＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、ＡＴＯ、ＩＴＯ、ＳｎＯ２を用いる組み合わせである。被覆粒子については特開２００８−２４２３１４の段落番号［００３３］〜［００４０］に記載されており、本発明においても好適に用いることができる。
シェル厚を厚くすることで粒子表面の吸着サイトを減少させ、吸着水量を低減することが可能であり、好ましい。更に導電性の成分でシェルを形成すると導電性も付与することができて好ましい。特に好ましくは、コア粒子としてシリカ系の多孔質又は中空の粒子を用い、シェルとして、ＺｎＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、ＡＴＯ、ＩＴＯ、ＳｎＯ２を用いる組み合わせである。被覆粒子については特開２００８−２４２３１４の段落番号［００３３］〜［００４０］に記載されており、本発明においても好適に用いることができる。
［無機微粒子の表面処理方法］
無機微粒子の表面の処理方法については、特開２００８−２４２３１４の段落番号［００４６］〜［００７６］に記載されており、該文献に記載されたオルガノシラン化合物、シロキサン化合物、表面処理の溶媒、表面処理の触媒、金属キレート化合物などは本発明においても好適に用いることができる。
無機微粒子の表面の処理方法については、特開２００８−２４２３１４の段落番号［００４６］〜［００７６］に記載されており、該文献に記載されたオルガノシラン化合物、シロキサン化合物、表面処理の溶媒、表面処理の触媒、金属キレート化合物などは本発明においても好適に用いることができる。
［光重合開始剤］
本発明の反射防止フィルムを構成する層には光重合開始剤が含まれることが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤については、特開２００８−１３４５８５号公報の段落［０１４１］〜［０１５９］にも記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
本発明の反射防止フィルムを構成する層には光重合開始剤が含まれることが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤については、特開２００８−１３４５８５号公報の段落［０１４１］〜［０１５９］にも記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」（ＣＧＩ−４０３／Ｉｒｇ１８４＝７／３混合開始剤）、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」、“ＯＸＥ０１”等；日本化薬（株）製の「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ−１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２−ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」、「カヤキュアーＭＣＡ」など；サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴＯ４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、バインダー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトン及びチオキサントンなどを挙げることができる。更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を１種以上組み合わせて用いてもよい。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製の「カヤキュアー（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）」などが挙げられる。
（溶媒）
上記全ての層を形成する塗布組成物に使用する溶媒としては、特に限定されないが、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤が好ましく用いられる。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、メチルイソプロピルケトン、エチルイソプロピルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−ｔ−ブチルケトン、ジアセチル、アセチルアセトン、アセトニルアセトン、ジアセトンアルコール、メシチルオキサイド、クロロアセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等をあげることができる。この中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが好ましい。これらの溶媒は単独で用いても、任意の混合比で混合して用いてもよい。
上記全ての層を形成する塗布組成物に使用する溶媒としては、特に限定されないが、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤が好ましく用いられる。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、メチルイソプロピルケトン、エチルイソプロピルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−ｔ−ブチルケトン、ジアセチル、アセチルアセトン、アセトニルアセトン、ジアセトンアルコール、メシチルオキサイド、クロロアセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等をあげることができる。この中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが好ましい。これらの溶媒は単独で用いても、任意の混合比で混合して用いてもよい。
また、補助溶媒として、適宜、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、又はフッ素系溶剤（フッ素系アルコールなど）を用いることができる。これらの溶媒は単独で用いても、任意の混合比で混合して用いてもよい。
低屈折率層（Ｂ）の屈折率は、波長５５０ｎｍにおいて、１．３３〜１．４０であることが好ましい。屈折率を該範囲とすることで反射率を低くすることができる。更に、反射色相をニュートラル化するためには、低屈折率層（Ｂ）の光学膜厚（ｎｄ）は１００〜２００ｎｍであることが好ましい。屈折率は１．３３〜１．３８であり、また、光学膜厚は１００〜１５０ｎｍであることが更に好ましい。
また、低屈折率層には、その他の添加剤を含んでもよい。例えば界面活性剤などが挙げられる。
（塗布方式）
本発明の反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。まず各層を形成するための成分を含有した塗布組成物が調製される。次に、塗布組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号明細書参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
塗布後、光照射あるいは加熱して、塗布組成物から形成される層を硬化する。
本発明の反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。まず各層を形成するための成分を含有した塗布組成物が調製される。次に、塗布組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号明細書参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
塗布後、光照射あるいは加熱して、塗布組成物から形成される層を硬化する。
［透明支持体］
本発明の反射防止フィルムにおける透明支持体について詳細に説明する。
本発明の反射防止フィルムの透明支持体としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製））、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
透明支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度のものを用いることができるが、好ましくは２５μｍ〜２５０μｍであり、３０μｍ〜９０μｍであることがより好ましい。
透明支持体の幅は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は１００〜５０００ｍｍのものが用いられ、８００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２０００ｍｍであることが更に好ましい。透明支持体はロール形態の長尺で取り扱うことができ、通常１００ｍ〜５０００ｍ、好ましくは５００ｍ〜３０００ｍのものである。
透明支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さＲａの値が１μｍ以下であることが好ましく、０．０００１〜０．５μｍであることが好ましく、０．００１〜０．１μｍであることが更に好ましい。
本発明の反射防止フィルムにおける透明支持体について詳細に説明する。
本発明の反射防止フィルムの透明支持体としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製））、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
透明支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度のものを用いることができるが、好ましくは２５μｍ〜２５０μｍであり、３０μｍ〜９０μｍであることがより好ましい。
透明支持体の幅は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は１００〜５０００ｍｍのものが用いられ、８００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２０００ｍｍであることが更に好ましい。透明支持体はロール形態の長尺で取り扱うことができ、通常１００ｍ〜５０００ｍ、好ましくは５００ｍ〜３０００ｍのものである。
透明支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さＲａの値が１μｍ以下であることが好ましく、０．０００１〜０．５μｍであることが好ましく、０．００１〜０．１μｍであることが更に好ましい。
（セルロースアシレートフィルム）
その中でも、透明性が高く、光学的に複屈折が少なく、製造が容易であり、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアシレートフィルムが好ましく、セルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。又、透明支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度とする。
その中でも、透明性が高く、光学的に複屈折が少なく、製造が容易であり、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアシレートフィルムが好ましく、セルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。又、透明支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度とする。
本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることが更に好ましい。
また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の値が１．０に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることが更に好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
一般に、セルロースアシレートの２，３，６位の水酸基は全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。更にセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。更にセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。
本発明ではセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４、実施例、合成例１、段落番号００４８〜００４９、合成例２、段落番号００５１〜００５２、合成例３に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
（ポリエチレンテレフタレートフィルム）
本発明では、ポリエチレンテレフタレートフィルムも、透明性、機械的強度、平面性、耐薬品性及び耐湿性共に優れており、その上安価であり好ましく用いられる。
透明プラスチックフィルムとその上に設けられるハードコート層との密着強度をより向上させるため、透明プラスチックフィルムは易接着処理が施されたされたものであることが更に好ましい。市販されている光学用易接着層付きＰＥＴフィルムとしては東洋紡績社製コスモシャインＡ４１００、Ａ４３００等が挙げられる。
本発明では、ポリエチレンテレフタレートフィルムも、透明性、機械的強度、平面性、耐薬品性及び耐湿性共に優れており、その上安価であり好ましく用いられる。
透明プラスチックフィルムとその上に設けられるハードコート層との密着強度をより向上させるため、透明プラスチックフィルムは易接着処理が施されたされたものであることが更に好ましい。市販されている光学用易接着層付きＰＥＴフィルムとしては東洋紡績社製コスモシャインＡ４１００、Ａ４３００等が挙げられる。
（ハードコート層）
本発明の反射防止フィルムは、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を有することが好ましい。ハードコート層は透明支持体と層（Ａ）の間に設けられることが好ましい。ハードコート層は層（Ａ）と接するように設けられることがより好ましい。
本発明の反射防止フィルムは、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を有することが好ましい。ハードコート層は透明支持体と層（Ａ）の間に設けられることが好ましい。ハードコート層は層（Ａ）と接するように設けられることがより好ましい。
ハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．７０である。本発明では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも１層あるので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。
フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、更に好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが有する官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。具体的には層（Ｂ）において記載した重合性不飽和基を有する多官能モノマーと同様の化合物を好ましく用いることができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが有する官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。具体的には層（Ｂ）において記載した重合性不飽和基を有する多官能モノマーと同様の化合物を好ましく用いることができる。
ハードコート層に含まれるバインダーは、層（Ａ）に含まれるバインダーと共有結合しうる重合性基を有すことが層間の密着性を確保するために好ましい。ハードコート層及び層（Ａ）はバインダーとして（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましく、分子内に複数の重合性基を有す多官能（メタ）アクリレート化合物を含むことが更に好ましい。
ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。
本発明では、層（Ａ）の屈折率（ｎＡ）とハードコート層の屈折率（ｎＨＣ）が、下記数式（１）を満たすことが好ましい。
数式（１） ： ０≦｜（ｎＡ−ｎＨＣ）／ｎＨＣ｜≦０．０５
層（Ａ）とハードコート層の屈折率差を小さくすることで、反射光の色相をニュートラル化できる。層（Ａ）とハードコート層の屈折率差は、０≦｜（ｎＡ−ｎＨＣ）／ｎＨＣ｜≦０．０３であることがより好ましく、０≦｜（ｎＡ−ｎＨＣ）／ｎＨＣ｜≦０．０２であることが更に好ましい。数式（１）を満たせば、ｎＡ＞ｎＨＣ、ｎＡ＜ｎＨＣいずれでもよい。
数式（１） ： ０≦｜（ｎＡ−ｎＨＣ）／ｎＨＣ｜≦０．０５
層（Ａ）とハードコート層の屈折率差を小さくすることで、反射光の色相をニュートラル化できる。層（Ａ）とハードコート層の屈折率差は、０≦｜（ｎＡ−ｎＨＣ）／ｎＨＣ｜≦０．０３であることがより好ましく、０≦｜（ｎＡ−ｎＨＣ）／ｎＨＣ｜≦０．０２であることが更に好ましい。数式（１）を満たせば、ｎＡ＞ｎＨＣ、ｎＡ＜ｎＨＣいずれでもよい。
（防眩層）
本発明の反射防止フィルムは防眩層を有してもよい。防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
本発明の反射防止フィルムは防眩層を有してもよい。防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
防眩性を形成する方法としては、特開平６−１６８５１号公報に記載のような表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法、特開２０００−２０６３１７号公報に記載のように電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法、特開２０００−３３８３１０号公報に記載のように乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の質量比が減少することにより透光性微粒子及び透光性樹脂とをゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法、特開２０００−２７５４０４号記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法などが知られており、これら公知の方法を利用することができる。
本発明で用いることができる防眩層は好ましくはハードコート性を付与することのできるバインダー、防眩性を付与するための透光性粒子、及び溶媒を成分として含有し、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものであることが好ましい。
マット粒子の分散によって形成される防眩層は、バインダーとバインダー中に分散された透光性粒子とからなる。防眩性を有する防眩層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。
マット粒子の分散によって形成される防眩層は、バインダーとバインダー中に分散された透光性粒子とからなる。防眩性を有する防眩層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。
（反射防止フィルムの層構成）
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体、層（Ａ）、層（Ｂ）を含む。また、更にハードコート層、防眩層、層（Ａ）よりも屈折率の高い高屈折率層、層（Ａ）より屈折率が低く、層（Ｂ）よりも屈折率の高い中屈折率層などの層を含んでいてもよい。
本発明の反射防止フィルムの層構成の例を下記に示す。なお、帯電防止層は層（Ａ）を表し、低屈折率層は層（Ｂ）を表す。
・透明支持体／帯電防止層／低屈折率層
・透明支持体／ハードコート層／帯電防止層／低屈折率層
・透明支持体／防眩層／帯電防止層／低屈折率層
・透明支持体／ハードコート層／防眩層／帯電防止層／低屈折率層
・透明支持体／防眩層／ハードコート層／帯電防止層／低屈折率層
・透明支持体／ハードコート層／高屈折率層／帯電防止層／低屈折率層
・基材フィルム／ハードコート層／中屈折率層／帯電防止層／低屈折率層
本発明では、層間の密着性、および生産性の観点から、
・透明支持体／帯電防止層（層（Ａ））／低屈折率層（層（Ｂ））
・透明支持体／ハードコート層／帯電防止層／低屈折率層
がより好ましい。
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体、層（Ａ）、層（Ｂ）を含む。また、更にハードコート層、防眩層、層（Ａ）よりも屈折率の高い高屈折率層、層（Ａ）より屈折率が低く、層（Ｂ）よりも屈折率の高い中屈折率層などの層を含んでいてもよい。
本発明の反射防止フィルムの層構成の例を下記に示す。なお、帯電防止層は層（Ａ）を表し、低屈折率層は層（Ｂ）を表す。
・透明支持体／帯電防止層／低屈折率層
・透明支持体／ハードコート層／帯電防止層／低屈折率層
・透明支持体／防眩層／帯電防止層／低屈折率層
・透明支持体／ハードコート層／防眩層／帯電防止層／低屈折率層
・透明支持体／防眩層／ハードコート層／帯電防止層／低屈折率層
・透明支持体／ハードコート層／高屈折率層／帯電防止層／低屈折率層
・基材フィルム／ハードコート層／中屈折率層／帯電防止層／低屈折率層
本発明では、層間の密着性、および生産性の観点から、
・透明支持体／帯電防止層（層（Ａ））／低屈折率層（層（Ｂ））
・透明支持体／ハードコート層／帯電防止層／低屈折率層
がより好ましい。
（反射防止フィルムの特性）
本発明の反射防止フィルムは、表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下であることを特徴とする。反射防止フィルムの表面抵抗率を１×１０１２Ω／□以下とすることで、静電気によるゴミの付着を抑止できる。表面抵抗率は１×１０５〜１×１０１２Ω／□であることが好ましく、１×１０５〜１×１０１１Ω／□であることが更に好ましい。このような表面抵抗率とするためには、前記導電性材料を用いことで達成できる。更に該導電性層を用いた層の上に形成する層の膜厚の合計が１μｍ以下であることが、帯電防止性を損なわないために好ましい。
本発明の反射防止フィルムは、表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下であることを特徴とする。反射防止フィルムの表面抵抗率を１×１０１２Ω／□以下とすることで、静電気によるゴミの付着を抑止できる。表面抵抗率は１×１０５〜１×１０１２Ω／□であることが好ましく、１×１０５〜１×１０１１Ω／□であることが更に好ましい。このような表面抵抗率とするためには、前記導電性材料を用いことで達成できる。更に該導電性層を用いた層の上に形成する層の膜厚の合計が１μｍ以下であることが、帯電防止性を損なわないために好ましい。
反射防止フィルムの鏡面反射率及び色味の測定は、分光光度計“Ｖ−５５０”（日本分光（株）製）にアダプター“ＡＲＶ−４７４”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角θ（θ＝５〜４５°、５°間隔）における出射角−θの鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。更に、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の各入射角の入射光に対する正反射光の色味を表すＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値を算出し、反射光の色味を評価することができる。
反射率は３％以下であることが好ましく、２％以下であることが更に好ましい。Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間において、０≦ａ＊≦３かつ−３≦ｂ＊≦３であることが好ましい。
反射率は３％以下であることが好ましく、２％以下であることが更に好ましい。Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間において、０≦ａ＊≦３かつ−３≦ｂ＊≦３であることが好ましい。
各層の屈折率の測定は、各層の塗布液を３〜５μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定することができる。本明細書では、「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ、部品番号：ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。
各層の膜厚は光の干渉を利用した反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子（株）製）や、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）による断面観察により測定することができる。反射分光膜厚計でも膜厚と同時に屈折率の測定も可能であるが、膜厚の測定精度を上げるために、別手段で測定した各層の屈折率を用いることが望ましい。各層の屈折率が測定できない場合は、ＴＥＭによる膜厚測定が望ましい。その場合は、１０箇所以上測定し、平均した値を用いることが望ましい。
各層の膜厚は光の干渉を利用した反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子（株）製）や、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）による断面観察により測定することができる。反射分光膜厚計でも膜厚と同時に屈折率の測定も可能であるが、膜厚の測定精度を上げるために、別手段で測定した各層の屈折率を用いることが望ましい。各層の屈折率が測定できない場合は、ＴＥＭによる膜厚測定が望ましい。その場合は、１０箇所以上測定し、平均した値を用いることが望ましい。
本発明の反射防止フィルムは、製造時の形態がフィルムをロール状に巻き取った形態をしているのが好ましい。その場合に、反射色の色味のニュートラリティーを得るためには、任意の１０００ｍ長の範囲の層厚の平均値ｄ（平均値）、最小値ｄ（最小値）、及び最大値ｄ（最大値）をパラメーターとする下記式（６）で算出される層厚分布の値が、層各層につき、５％以下であるのが好ましく、より好ましくは４％以下、更に好ましくは３％以下、より更に好ましくは２．５％以下、２％以下が特に好ましい。
式（６） ： （最大値ｄ−最小値ｄ）×１００／平均値ｄ
［偏光板用保護フィルム］
反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。
本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、（１）予め鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の反射防止フィルムを構成する各層（例、高屈折率層、低屈折率層、好適にはハードコート層など、すなわち反射防止フィルムのうち、透明支持体を除いた層。以下「反射防止層」ともいう。）を塗設する手法、（２）透明支持体の一方の面に反射防止層を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理する手法、（３）透明支持体の一方の面に反射防止層の一部を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理した後に残りの層を塗設する手法、の３手法があげられるが、（１）は反射防止層を塗設するべき面まで親水化され、透明支持体と反射防止層との密着性の確保が困難となるため、（２）の手法が特に好ましい。
［偏光板］
次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有し、該保護フィルムの少なくとも１枚が本発明の反射防止フィルムであることを特徴とする。
次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有し、該保護フィルムの少なくとも１枚が本発明の反射防止フィルムであることを特徴とする。
本発明の偏光板の好ましい実施形態の一例を示す。好ましい態様の偏光板は、偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）の少なくとも一方に、本発明の反射防止フィルムを有する。すなわち反射防止フィルムの透明支持体が、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成である。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記反射防止フィルムを用いて形成されており、該偏光板の反射防止フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする。
本発明の画像表示装置は、本発明の反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする。
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによっていささかも限定して解釈されるものではない。
＜実施例１＞
〔反射防止フィルムの作製〕
（ハードコート層の形成）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）９００質量部に対して、シクロヘキサノン１００質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製）７５０質量部、シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製）２００質量部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５０質量部、を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
透明支持体としてトリアセチルセルロースフィルム（厚さ８０μｍ、ＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記組成のハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、屈折率１．５２、厚さ１２μｍのハードコート層を形成した。
〔反射防止フィルムの作製〕
（ハードコート層の形成）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）９００質量部に対して、シクロヘキサノン１００質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製）７５０質量部、シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製）２００質量部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５０質量部、を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
透明支持体としてトリアセチルセルロースフィルム（厚さ８０μｍ、ＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記組成のハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、屈折率１．５２、厚さ１２μｍのハードコート層を形成した。
（層（Ａ）（帯電防止層）用塗布液の調製）
アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）粒子（石原産業（株）製、ＳＮ−１００Ｐ、一次粒径１０〜３０ｎｍ）、分散剤（旭電化工業（株）製、アデカプルロニックＴＲ−７０１）、及びメタノールを、２９．１／０．９／７０（質量比）の配合量で混合した（全固形分含量３０質量％、全無機含量２９．１質量％）。メディア分散機（直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ使用）を用いて、ＡＴＯ粒子を分散させ、ＡＴＯ分散液を作製した。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記ＡＴＯ粒子分散液２１質量部、下記の含フッ素重合性化合物（フッ素含有率４４％、架橋間分子量５８）４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製 イルガキュア１８４）０．１質量部、メタノール１０質量部とメチルイソブチルケトン６４．９質量部を室温で２時間攪拌することで帯電防止層用塗布液（Ａ−１）を得た。
アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）粒子（石原産業（株）製、ＳＮ−１００Ｐ、一次粒径１０〜３０ｎｍ）、分散剤（旭電化工業（株）製、アデカプルロニックＴＲ−７０１）、及びメタノールを、２９．１／０．９／７０（質量比）の配合量で混合した（全固形分含量３０質量％、全無機含量２９．１質量％）。メディア分散機（直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ使用）を用いて、ＡＴＯ粒子を分散させ、ＡＴＯ分散液を作製した。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記ＡＴＯ粒子分散液２１質量部、下記の含フッ素重合性化合物（フッ素含有率４４％、架橋間分子量５８）４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製 イルガキュア１８４）０．１質量部、メタノール１０質量部とメチルイソブチルケトン６４．９質量部を室温で２時間攪拌することで帯電防止層用塗布液（Ａ−１）を得た。
（帯電防止層の形成）
上記ハードコート層の上に、帯電防止層用塗布液（Ａ−１）をグラビアコーターを用いて塗布した。９０℃で３０秒間乾燥した後、紫外線照射により硬化させた。紫外線硬化条件は、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージし、１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２とした。
上記ハードコート層の上に、帯電防止層用塗布液（Ａ−１）をグラビアコーターを用いて塗布した。９０℃で３０秒間乾燥した後、紫外線照射により硬化させた。紫外線硬化条件は、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージし、１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２とした。
（層（Ｂ）（低屈折率層）用塗布液の調製）
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ２）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ２）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２であった。
（中空シリカ粒子分散液の調製）
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部を加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ｓを得た。得られた分散液のＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５％以下であった。
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部を加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ｓを得た。得られた分散液のＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５％以下であった。
各成分を下記のように混合し、ＭＥＫに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液（Ｂ−１）を作製した。
低屈折率層塗布液（Ｂ−１）の組成
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） ７質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製）
５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
３質量部
低屈折率層塗布液（Ｂ−１）の組成
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） ７質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製）
５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
３質量部
（低屈折率層の形成）
上記の帯電防止層（Ａ−１）の上に、低屈折率層塗布液（Ｂ−１）をグラビアコーターを用いて塗布した。９０℃で３０秒間乾燥した後、紫外線照射により硬化させた。紫外線硬化条件は、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージし、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２とした。
上記の帯電防止層（Ａ−１）の上に、低屈折率層塗布液（Ｂ−１）をグラビアコーターを用いて塗布した。９０℃で３０秒間乾燥した後、紫外線照射により硬化させた。紫外線硬化条件は、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージし、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２とした。
以上のようにして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（Ｆ−１）を作製した。なお、各層の屈折率の測定は、各層の塗布液を約４μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定した。「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ 部品番号：ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。
各層の膜厚は、各層の積層後に反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子（株）製）を用いて算出した。算出の際の各層の屈折率は上記アッベ屈折率計で導出した値を使用した。
このようにして求めた各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
各層の膜厚は、各層の積層後に反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子（株）製）を用いて算出した。算出の際の各層の屈折率は上記アッベ屈折率計で導出した値を使用した。
このようにして求めた各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
＜実施例２＞
（帯電防止層用塗布液の調製）
リン含有酸化錫粒子（触媒化成工業（株）製、ＥＬＣＯＭ ＴＬ−３０Ｓ、一次粒径１０〜３０ｎｍ）、分散剤（旭電化工業（株）製、アデカプルロニックＴＲ−７０２）、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を、２８．５／１．５／７０．０（質量比）の配合量で混合した（全固形分含量３０質量％、全無機含量２８．５％）。メディア分散機（直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ使用）を用いて、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）粒子を分散させ、ＰＴＯ分散液を作製した。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記ＰＴＯ粒子分散液２５質量部、含フッ素重合性化合物（前記化合物Ｍ−１、フッ素含有率４５％、架橋間分子量２２４）４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）０．１質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）７０．９質量部を５０℃で２時間攪拌することで帯電防止層塗布液（Ａ−２）を得た。
（帯電防止層用塗布液の調製）
リン含有酸化錫粒子（触媒化成工業（株）製、ＥＬＣＯＭ ＴＬ−３０Ｓ、一次粒径１０〜３０ｎｍ）、分散剤（旭電化工業（株）製、アデカプルロニックＴＲ−７０２）、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を、２８．５／１．５／７０．０（質量比）の配合量で混合した（全固形分含量３０質量％、全無機含量２８．５％）。メディア分散機（直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ使用）を用いて、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）粒子を分散させ、ＰＴＯ分散液を作製した。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記ＰＴＯ粒子分散液２５質量部、含フッ素重合性化合物（前記化合物Ｍ−１、フッ素含有率４５％、架橋間分子量２２４）４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）０．１質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）７０．９質量部を５０℃で２時間攪拌することで帯電防止層塗布液（Ａ−２）を得た。
（反射防止フィルムの作製）
帯電防止層用塗布液として上記（Ａ−２）を用いた以外は実施例１と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（Ｆ−２）を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
帯電防止層用塗布液として上記（Ａ−２）を用いた以外は実施例１と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（Ｆ−２）を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
＜実施例３＞
紫外線を遮蔽した容器中において、上記実施例２のＰＴＯ粒子分散液２５．５質量部、含フッ素重合性化合物（前記化合物Ｘ−３５、フッ素含有率５３％、架橋間分子量４０６）３．５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）０．１質量部、ＰＧＭＥ７０．９質量部を５０℃で２時間攪拌することで帯電防止層塗布液（Ａ−３）を得た。
帯電防止層塗布液として上記（Ａ−３）を用いた以外は実施例１と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（Ｆ−３）を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記実施例２のＰＴＯ粒子分散液２５．５質量部、含フッ素重合性化合物（前記化合物Ｘ−３５、フッ素含有率５３％、架橋間分子量４０６）３．５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）０．１質量部、ＰＧＭＥ７０．９質量部を５０℃で２時間攪拌することで帯電防止層塗布液（Ａ−３）を得た。
帯電防止層塗布液として上記（Ａ−３）を用いた以外は実施例１と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（Ｆ−３）を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
＜実施例４＞
帯電防止層用塗布液として上記（Ａ−２）を用いて、膜厚を変えた以外は実施例２と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（Ｆ−４）を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
帯電防止層用塗布液として上記（Ａ−２）を用いて、膜厚を変えた以外は実施例２と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（Ｆ−４）を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
＜比較例１＞
紫外線を遮蔽した容器中において、上記実施例２のＰＴＯ粒子分散液２５質量部、ＤＰＨＡ（フッ素含有率０％）４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）０．１質量部、ＰＧＭＥ７０．９質量部を５０℃で２時間攪拌することで帯電防止層用塗布液（ＡＨ−１）を得た。
帯電防止層塗布液として上記（ＡＨ−１）を用いた以外は実施例１と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（ＦＨ−１）を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記実施例２のＰＴＯ粒子分散液２５質量部、ＤＰＨＡ（フッ素含有率０％）４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）０．１質量部、ＰＧＭＥ７０．９質量部を５０℃で２時間攪拌することで帯電防止層用塗布液（ＡＨ−１）を得た。
帯電防止層塗布液として上記（ＡＨ−１）を用いた以外は実施例１と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（ＦＨ−１）を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
＜比較例２＞
紫外線を遮蔽した容器中において、上記実施例２のＰＴＯ粒子分散液２０質量部、ＤＰＨＡ（フッ素含有率０％）１２質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）０．３質量部、ＰＧＭＥ６７．７質量部を５０℃で２時間攪拌することで帯電防止層塗布液（ＡＨ−２）を得た。
帯電防止層用塗布液として上記（ＡＨ−２）を用いた以外は実施例１と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（ＦＨ−２）を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記実施例２のＰＴＯ粒子分散液２０質量部、ＤＰＨＡ（フッ素含有率０％）１２質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）０．３質量部、ＰＧＭＥ６７．７質量部を５０℃で２時間攪拌することで帯電防止層塗布液（ＡＨ−２）を得た。
帯電防止層用塗布液として上記（ＡＨ−２）を用いた以外は実施例１と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（ＦＨ−２）を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
＜比較例３＞
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶剤組成：ＭＩＢＫ／ＭＥＫ＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）４質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）４質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．１質量部、ＭＥＫ６６．０質量部、ＭＩＢＫ５．９質量部及びシクロヘキサノン２０．０質量部を添加して攪拌し、塗布液（ＡＨ−３）を調製した。
帯電防止層用塗布液として上記（ＡＨ−３）を用いた以外は実施例１と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、ＺｒＯ２含有層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（ＦＨ−３）を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶剤組成：ＭＩＢＫ／ＭＥＫ＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）４質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）４質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．１質量部、ＭＥＫ６６．０質量部、ＭＩＢＫ５．９質量部及びシクロヘキサノン２０．０質量部を添加して攪拌し、塗布液（ＡＨ−３）を調製した。
帯電防止層用塗布液として上記（ＡＨ−３）を用いた以外は実施例１と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、ＺｒＯ２含有層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（ＦＨ−３）を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
＜比較例４＞
（帯電防止層塗布液の調製）
テトラエトキシシランからなる有機珪素化合物を原料とし、これを加水分解して得られたオリゴマーからなる有機珪素化合物の重合体を得た。この有機珪素化合物の重合体５質量部と、一次粒子系が８ｎｍのＡＴＯ粒子５質量部とを混合し、塗布液（ＡＨ−４）を調製した。
（低屈折率層塗布液の調製）
テトラエトキシシランからなる有機珪素化合物と、フルオロアルキル基を有する有機珪素化合物（１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン）を原料とし、これを加水分解して得られた有機珪素化合物の重合体を５質量部、低屈折率シリカ微粒子５質量部を混合し、低屈折率層用の塗布液（ＢＨ−１）を調製した。
（反射防止フィルムの作製）
上記実施例１と同様に作製したハードコート層上に、帯電防止層用塗布液（ＡＨ−４）を塗布し、加熱乾燥させることで帯電防止層を形成した。続いて、低屈折率層用塗布液（ＢＨ−１）を帯電防止層上に塗布し、加熱乾燥させることで低屈折率層を形成した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
（帯電防止層塗布液の調製）
テトラエトキシシランからなる有機珪素化合物を原料とし、これを加水分解して得られたオリゴマーからなる有機珪素化合物の重合体を得た。この有機珪素化合物の重合体５質量部と、一次粒子系が８ｎｍのＡＴＯ粒子５質量部とを混合し、塗布液（ＡＨ−４）を調製した。
（低屈折率層塗布液の調製）
テトラエトキシシランからなる有機珪素化合物と、フルオロアルキル基を有する有機珪素化合物（１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン）を原料とし、これを加水分解して得られた有機珪素化合物の重合体を５質量部、低屈折率シリカ微粒子５質量部を混合し、低屈折率層用の塗布液（ＢＨ−１）を調製した。
（反射防止フィルムの作製）
上記実施例１と同様に作製したハードコート層上に、帯電防止層用塗布液（ＡＨ−４）を塗布し、加熱乾燥させることで帯電防止層を形成した。続いて、低屈折率層用塗布液（ＢＨ−１）を帯電防止層上に塗布し、加熱乾燥させることで低屈折率層を形成した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
＜比較例５＞
紫外線を遮蔽した容器中において、上記実施例２のＰＴＯ粒子分散液２５質量部、下記の含フッ素重合性化合物（フッ素含有率４８％、架橋間分子量５８０）４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）０．１質量部、ＰＧＭＥ７０．９質量部を５０℃で２時間攪拌することで帯電防止層塗布液（ＡＨ−５）を得た。
紫外線を遮蔽した容器中において、上記実施例２のＰＴＯ粒子分散液２５質量部、下記の含フッ素重合性化合物（フッ素含有率４８％、架橋間分子量５８０）４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）０．１質量部、ＰＧＭＥ７０．９質量部を５０℃で２時間攪拌することで帯電防止層塗布液（ＡＨ−５）を得た。
帯電防止層用塗布液として上記（ＡＨ−５）を用いた以外は実施例１と同様にして、透明支持体の上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルム（ＦＨ−５）を作製した。各層の屈折率及び光学膜厚を表２に示す。
（反射防止フィルムの評価）
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表２に示す。
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表２に示す。
（１）鏡面反射率及び色味
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。更に、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味を表わすＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のａ＊値、ｂ＊値を算出し、反射光の色味を評価した。
また、蛍光灯の反射光を目視し、顕著な着色が認識されたものを×とし、許容できる程度に着色が感じられたものを○、着色がほとんど感じられないもの◎とした。
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。更に、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味を表わすＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のａ＊値、ｂ＊値を算出し、反射光の色味を評価した。
また、蛍光灯の反射光を目視し、顕著な着色が認識されたものを×とし、許容できる程度に着色が感じられたものを○、着色がほとんど感じられないもの◎とした。
（２）表面抵抗値測定
２５℃、６０％ＲＨ条件下に試料を２時間置いた後に同条件下で表面抵抗値を円電極法で測定した。
２５℃、６０％ＲＨ条件下に試料を２時間置いた後に同条件下で表面抵抗値を円電極法で測定した。
（３）ゴミ付着性
反射防止フィルムの透明支持体側をＣＲＴ表面に貼り付け、０．５μｍ以上の埃及びティッシュペーパー屑を、１ｆｔ３（立法フィート）当たり１００〜２００万個有する部屋で２４時間使用した。反射防止フィルム１００ｃｍ２当たり、付着した埃とティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値が５０個未満の場合を◎、５０〜１９９個の場合を○、２００〜５００個の場合を×、それ以上を××として評価した。
反射防止フィルムの透明支持体側をＣＲＴ表面に貼り付け、０．５μｍ以上の埃及びティッシュペーパー屑を、１ｆｔ３（立法フィート）当たり１００〜２００万個有する部屋で２４時間使用した。反射防止フィルム１００ｃｍ２当たり、付着した埃とティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値が５０個未満の場合を◎、５０〜１９９個の場合を○、２００〜５００個の場合を×、それ以上を××として評価した。
（４）密着性評価
反射防止フィルムの低屈折率層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて合計１００個の正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ“ＮＯ．３１Ｂ”を圧着して密着試験を同じ場所で繰り返し３回行った。剥がれの有無を目視で観察した。剥がれた枡の数がゼロ個を○、５個以下を△、５個より多いものを×とした。
反射防止フィルムの低屈折率層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて合計１００個の正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ“ＮＯ．３１Ｂ”を圧着して密着試験を同じ場所で繰り返し３回行った。剥がれの有無を目視で観察した。剥がれた枡の数がゼロ個を○、５個以下を△、５個より多いものを×とした。
（５）耐擦傷性評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でスチールウール擦りテストをおこなうことで、耐擦傷性の指標とすることができる。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
擦り材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００）
試料と接触するテスターの擦り先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、
擦り速度：１３ｃｍ／秒、
荷重：５００ｇ／ｃｍ２、
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
擦り回数：１０往復。
ラビングテスターを用いて、以下の条件でスチールウール擦りテストをおこなうことで、耐擦傷性の指標とすることができる。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
擦り材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００）
試料と接触するテスターの擦り先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、
擦り速度：１３ｃｍ／秒、
荷重：５００ｇ／ｃｍ２、
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
擦り回数：１０往復。
擦り終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、擦り部分の傷を、以下の基準で評価した。
◎ ：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない
○ ：非常に注意深く見ると、僅かに弱い傷が見える。
× ：注意深く見なくても、傷が見える。
◎ ：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない
○ ：非常に注意深く見ると、僅かに弱い傷が見える。
× ：注意深く見なくても、傷が見える。
表２において、「ハードコート層との屈折率差」は、帯電防止層（Ａ）の屈折率（ｎＡ）と前記ハードコート層の屈折率（ｎＨＣ）について、｛（ｎＡ−ｎＨＣ）／ｎＨＣ｝×１００として算出したものである。
表２に示される通り、本発明の反射防止フィルムは、反射率が低く、かつ反射色相が無色に近く、更にゴミ付着性および密着性に優れることがわかる。
表２に示される通り、本発明の反射防止フィルムは、反射率が低く、かつ反射色相が無色に近く、更にゴミ付着性および密着性に優れることがわかる。
（偏光板の作製）
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗することにより鹸化処理した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）と、同様にして鹸化処理した実施例および及び比較例の反射防止フィルムとで、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗することにより鹸化処理した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）と、同様にして鹸化処理した実施例および及び比較例の反射防止フィルムとで、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。
（液晶表示装置の作製）
ＶＡ型液晶表示装置（ＬＣ−３７ＧＳ１０、シャープ（株）製）に設けられている偏光板および及び位相差膜を剥がし、代わりに上記で作製した偏光板を透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けて、実施例及び比較例の反射防止フィルムを有する液晶表示装置を作製した。なお、反射防止フィルムが視認側になるように貼り付けた。
ＶＡ型液晶表示装置（ＬＣ−３７ＧＳ１０、シャープ（株）製）に設けられている偏光板および及び位相差膜を剥がし、代わりに上記で作製した偏光板を透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けて、実施例及び比較例の反射防止フィルムを有する液晶表示装置を作製した。なお、反射防止フィルムが視認側になるように貼り付けた。
上記ようにして作製された実施例の反射防止フィルム付き偏光板及び画像表示装置は、それぞれ貼り付けた反射防止フィルムと同様、実施例は比較例に比べ、優れた反射防止性、防塵性、耐擦傷性、及び密着性を示した。
Claims (13)
- 透明支持体上に、少なくとも、層（Ａ）及び層（Ｂ）をこの順で有する反射防止フィルムであって、
前記層（Ａ）は、（ａ１）下記一般式（１）で表され、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さい含フッ素重合性化合物と、（ａ２）導電性材料と、を含有する組成物から形成される層であり、
前記層（Ｂ）は、前記層（Ａ）よりも低い屈折率を有する低屈折率層であり、
反射防止フィルムの表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
一般式（１） ： Ｒｆ｛−（Ｌ）ｍ−Ｙ｝ｎ
（式中、Ｒｆは炭素原子及びフッ素原子を含むｎ価の基を表す。ｎは３以上の整数を表す。Ｌは二価の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｙは重合性基を表す。） - 前記透明支持体と前記層（Ａ）との間に、前記層（Ａ）と接するハードコート層を有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
- 前記層（Ａ）の屈折率（ｎＡ）と前記ハードコート層の屈折率（ｎＨＣ）が、下記数式（１）を満たすことを特徴とする請求項２に記載の反射防止フィルム。
数式（１） ： ０≦｜（ｎＡ−ｎＨＣ）／ｎＨＣ｜≦０．０５ - 前記層（Ｂ）の屈折率が、波長５５０ｎｍにおいて、１．３３〜１．４０であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記層（Ｂ）の光学膜厚（ｎｄ）が、１００ｎｍ〜２００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記導電性材料が、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、燐ドープ酸化錫（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル及び酸化銅からなる群から選択される少なくともいずれかの金属酸化物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記（ａ１）含フッ素重合性化合物がフッ素を４０質量％以上含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記（ａ１）含フッ素重合性化合物の全ての架橋間分子量の計算値が５０よりも大きく３００よりも小さいことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記層（Ａ）が、層（Ａ）の全固形分に対して前記（ａ２）導電性材料を４０質量％以上８０質量％以下含有することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記層（Ａ）の屈折率が、波長５５０ｎｍにおいて、１．５０〜１．６０であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記層（Ａ）の光学膜厚（ｎｄ）が、波長５５０ｎｍにおいて、２００ｎｍ〜３００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも１枚が請求項１〜１１のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
- 請求項１〜１１のいずれかに記載の反射防止フィルム又は請求項１２に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする画像表示装置。
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| JP2009229021A JP2011075938A (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2013140811A1 (ja) * | 2012-03-23 | 2015-08-03 | 凸版印刷株式会社 | 反射防止フィルム |
| JP2018521195A (ja) * | 2015-09-24 | 2018-08-02 | エルジー・ケム・リミテッド | 光硬化性コーティング組成物、低屈折層および反射防止フィルム |
Citations (4)
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| JP2006284761A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置 |
| JP2008003122A (ja) * | 2006-06-20 | 2008-01-10 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2008169364A (ja) * | 2006-04-18 | 2008-07-24 | Jsr Corp | 硬化性樹脂組成物及び反射防止膜 |
| JP2010169940A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Nikon Corp | 光学多層薄膜、光学素子およびその製造方法 |
-
2009
- 2009-09-30 JP JP2009229021A patent/JP2011075938A/ja not_active Abandoned
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