JP2014016607A - 反射防止材料 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 透光性を有する基材表面の少なくとも一部に設けてなるバインダー、シリカ粒子、空気溜りからなるコーティング膜からなり、バインダー/シリカ粒子の比率が質量比で3/97〜20/80であると共に、前記バインダーは重合性官能基を有する化合物の重合処理物であり、かつ前記シリカ粒子は表面に重合性官能基を有しているシリカ粒子の重合処理物であることを特徴とする反射防止材料である。
【選択図】 図1
Description
n0:空気の屈折率、n1:膜の屈折率、n2:支持体の屈折率であり、空気の屈折率n0=1、支持体をPETフィルム(n2=1.63)としたとき、n1 2−n0n2=n1 2−1.63からn1 2=1.63(膜の屈折率:n1=1.28)で反射率Rmin=0が期待できる。
(1)透光性を有する基材表面の少なくとも一部に設けてなるバインダー、シリカ粒子、空気溜りからなるコーティング膜でからなり、バインダー/シリカ粒子の比率が質量比で3/97〜20/80であると共に、前記バインダーは重合性官能基を有する化合物の重合処理物であり、かつ前記シリカ粒子は表面に重合性官能基を有しているシリカ粒子の重合処理物であることを特徴とする反射防止材料、
(2)前項記載のバインダーが、重合性官能基を少なくとも1つ含有する化合物(a)の重合処理物、または前記化合物(a)と重合性官能基を少なくとも1つ含有する含フッ素有機高分子化合物(b)との混合物の重合処理物を含み、かつ前項記載のシリカ粒子が、重合性官能基を少なくとも1つ有するシランカップリング剤で表面処理されてなるシリカ粒子の重合処理物である上記(1)項に記載の反射防止材料、
(3)前項記載のシリカ粒子が基材表面から2層で配列しており、基材側である1層目はシリカ粒子が敷き詰められていると共に、前記基材と前記シリカ粒子間に前記空気溜りを有しており、かつ2層目のシリカ粒子は前記1層目のシリカ粒子の一部を覆っていると共に、前記1層目のシリカ粒子と前記2層目のシリカ粒子間に前記空気溜りを有する上記(1)または(2)項に記載の反射防止材料、
(4)コーティング膜において、2層目のシリカ粒子数は、1層目のシリカ粒子数に対して10〜90%の存在比率で配列してなる上記(3)項に記載の反射防止材料、
(5)基材から1層目のシリカ粒子の上端までの距離H1と、前記基材から2層目のシリカ粒子の上端までの距離H2が下記式(2)を満たす上記(3)または(4)項に記載の反射防止材料、
1.5≦H2/H1≦2.1 …(2)
(6)表面処理前のシリカ粒子の平均粒径が60〜150nmであると共に、その粒度分布の変動係数CV値が35%以下である上記(1)〜(5)項のいずれか1項に記載の反射防止材料、
(7)基材の裏面を黒色化した場合の反射波形において、400nmおよび800nmにおける反射率が、それぞれ3.5%以下であって、反射率の最小値が0.8%以下であり、かつそのピーク位置が460〜720nmの領域にある上記(1)〜(6)項のいずれか1項に記載の反射防止材料、および
(8)ヘーズ値が、下記式(4)を満たす上記(1)〜(6)項のいずれか1項に記載の反射防止材料、
│反射防止フィルムのヘーズ値−透光性を有する基材のヘーズ値│≦1.5…(4)
を提供するものである。
[反射防止材料の構造]
本発明の反射防止材料は、透光性を有する基材表面の少なくとも一部に設けてなるバインダー、シリカ粒子、空気溜りからなるコーティング膜からなり、バインダー/シリカ粒子の比率が質量比で3/97〜20/80であると共に、前記バインダーは重合性官能基を有する化合物の重合処理物であり、かつ前記シリカ粒子は表面に重合性官能基を有しているシリカ粒子の重合処理物であることを特徴とする。
(透光性を有する基材)
本発明の反射防止材料において、支持体として用いられる透光性を有する基材(以下、透光性基材と称することがある。)としては、JIS K 7136に準拠して測定される全光線透過率が30%以上の光学用プラスチック、およびガラス、セラミックスを使用することができる。このようなプラスチックとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルペンテン、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリイミド、フッ素樹脂、ポリアミド、アクリル樹脂、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィン樹脂等のプラスチックフィルム、シート、又は射出成型や圧縮成型による成型品を挙げることができる。また、ガラスとしては、JIS R 3202に定められるフロート板ガラス、磨き板ガラス、すり板ガラス、または石英ガラス等を挙げることができる。セラミックスとしてはアルミナやPLZT(チタン酸ジルコン酸ランタン鉛)、イットリア、スピネルなどの酸化物系のほか、窒化物、炭化物及び硫化物系セラミックスなどを挙げることができる。
(バインダー)
本発明の反射防止材料におけるコーティング膜を構成するバインダーは、重合性官能基を少なくとも1つ含有する化合物(a)の重合処理物、または前記化合物(a)と重合性官能基を少なくとも1つ含有する含フッ素有機高分子化合物(b)との混合物の重合処理物を含むものであるのが好ましい。
(シリカ粒子)
本発明の反射防止材料においては、コーティング膜を構成する成分として、前述したバインダーと共に、表面に重合性官能基を有するシリカ粒子が用いられる。
<シリカ粒子の表面処理方法>
次に、前記のシランカップリング剤によるシリカ粒子表面の処理方法の例について説明する。
○シランカップリング剤の最小被覆面積
Stuart−briegledの分子モデルを用いることで、計算することができる。その際の計算式は、下記に示される。
平均粒径90nmの水分散シリカ粒子スラリー500g(固形分濃度16質量%)に対して、イソプロピルアルコール500gを加え、次いで3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン4.6gを添加したのち、30℃にて4時間攪拌し表面処理を行った。
90nmシリカ粒子の体積=3.8×10−16cm3/個
シリカ粒子の密度=2.2g/cm3
シリカ粒子の質量=80g
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン分子量=248.4
シリカ粒子の総表面積(m2)=80g/シリカ粒子の密度(g/cm3)/90nm
シリカ粒子の体積(cm3/個)×90nmシリカ粒子の表面積(m2/個)
=[80/2.2/(3.8×10−16)]×2.5×10−14
=2.4×10−3
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン必要量(g)
=シリカ粒子の総表面積(m2)×60%/最小被覆面積(m2/g)
=2.4×10−3×60/100/(78.3×1000/248.4)
=4.6
表面処理反応の確認は、メチルイソブチルケトン20gにスラリー0.2gを添加することで行った。表面処理が不十分な場合、シリカ粒子は凝集し沈殿する。一方、表面処理反応が進行した場合、シリカ粒子はメチルイソブチルケトン中で安定に分散する。
なお、重合処理前のシリカ粒子の平均粒径および粒度分布の変動係数CV値は、以下に示す方法に従って測定した値である。
<シリカ粒子の平均粒径の測定方法>
シリカ粒子濃度が1質量%になるようにイソプロピルアルコール(IPA)で希釈した後、シリカ粒子液を電子顕微鏡用試料台に1滴垂らし乾燥させサンプルを作製した。このサンプルを走査型電子顕微鏡にて50,000倍にて観察し、電子顕微鏡画像から画像処理ソフトを用いて得られた画像からシリカ粒子の平均粒径を計算した。
<シリカ粒子のCV値の測定方法>
シリカ粒子濃度が1質量%になるようにIPAで希釈した後、シリカ粒子液を電子顕微鏡用試料台に1滴垂らし乾燥させサンプルを作製した。このサンプルを走査型電子顕微鏡にて50,000倍にて観察し、電子顕微鏡画像から画像処理ソフトを用いて得られた画像からシリカ粒子の平均粒径と標準偏差を計算した後、CV値を前記の式によって計算した。
(空気溜り)
本発明の反射防止材料におけるコーティング膜には、前述したバインダーおよびシリカ粒子と共に、膜の屈折率を低下させるために、空気溜りが存在することが必要である。
次に、本発明の反射防止材料について、以下に示すシミュレーションを行い、より詳しく説明する。
[シミュレーション1]
前記の特許文献1に記載された中空構造のシリカ粒子を透明樹脂マトリックス中に分散させた膜や、特許文献2に記載された空気層を有するシリカ粒子および/または多孔質シリカ粒子を含むコーティング膜は、膜中の空気層が均一に分布しているため、一定の屈折率を有すると考えられる。
[シミュレーション2]
シリコンアルコキシドバインダーと平均粒径84nmシリカ粒子(宇部日東化成社製、「ハイプレシカ」、CV値=18%)を質量比5/95で調製した塗料を2層目のシリカ粒子数が1層目のシリカ粒子数に対して50%となるよう塗布厚を調整すると共に、透光性基材の裏面は黒色化処理するものとして、シミュレーションを行った。
400nm反射率=0.97%、800nm反射率=0.88%
1層目のみ敷き詰めたときのシリカ粒子数762、2層目のシリカ粒子数427、(427/762)×100=56(%)
シリカ粒子数:走査型電子顕微鏡画像(50,000倍)を画像処理ソフトMac−View、マウンテック社にて計測
なお、実証の結果の反射スペクトル(FILMETRICS社製、分光光度計「F20」で測定)を図3に示すと共に、得られた反射防止材料におけるコーティング膜の走査型電子顕微鏡(JSM−6700F、日本電子社製)画像を図4に示す。
[シミュレーション3]
図5は、基材から、1層目のシリカ粒子および2層目のシリカ粒子の各高さを示す説明図であって、h=3.64r(r=シリカ粒子の半径)、0≦h1<1.64r、1.64r≦h2<2.00r、2.00r≦h3<3.64rの関係を満たす場合、基材からの高さhと各高さにおける断面形状から屈折率を計算すると、屈折率は図6で示すグラフとなり、本構造で屈折率をシミュレーションすると、反射スペクトルは、図7に示すようになる。
(1)400nmおよび800nmにおける反射率の測定
サンプル裏面に粘着剤付き黒色PETフィルム(くっきりミエール、巴川製紙所社製)をラミネートしサンプルとした。
9点 0.3≦R<0.6
8点 0.6≦R<0.9
7点 0.9≦R<1.2
6点 1.2≦R<1.5
5点 1.5≦R<1.8
4点 1.8≦R<2.1
3点 2.1≦R<2.4
2点 2.4≦R<2.7
1点 2.7≦R<3.0
0点 3.0≦R
(2)ボトムピークにおける反射率および波長測定
サンプル裏面に粘着剤付き黒色PETフィルム(くっきりミエール、巴川製紙所社製)をラミネートしサンプルとした。
9点 0.1≦Rmin<0.2
8点 0.2≦Rmin<0.3
7点 0.3≦Rmin<0.4
6点 0.4≦Rmin<0.5
5点 0.5≦Rmin<0.6
4点 0.6≦Rmin<0.7
3点 0.7≦Rmin<0.8
2点 0.8≦Rmin<0.9
1点 0.9≦Rmin<1.0
0点 1.0≦Rmin、またはピークが複数ある(基材由来の干渉波形(例えばハードコート層付PETフィルム)は除く)、または可視光領域(400〜800nm)に存在しない時波長dに対して以下の式に従い11段階で評価した。
9点 540≦d<550、570≦d<580
8点 530≦d<540、580≦d<590
7点 520≦d<530、590≦d<600
6点 510≦d<520、600≦d<610
5点 500≦d<510、610≦d<620
4点 490≦d<500、620≦d<630
3点 480≦d<490、630≦d<640
2点 470≦d<480、640≦d<650
1点 460≦d<470、650≦d<660
0点 d<460、660≦d、またはピークが複数ある(基材由来の干渉波形(例えばハードコート層付PETフィルム)は除く)、または可視光領域(400〜800nm)に存在しない時
(3)△Hz測定
50mm×50mmに切り出したサンプルおよび未処理の基材を準備した。
△Hzに対して以下の式に従い11段階で評価した。
9点 0.2≦△Hz<0.4
8点 0.4≦△Hz<0.6
7点 0.6≦△Hz<0.8
6点 0.8≦△Hz<1.0
5点 1.0≦△Hz<1.2
4点 1.2≦△Hz<1.4
3点 1.4≦△Hz<1.6
2点 1.6≦△Hz<1.8
1点 1.8≦△Hz<2.0
0点 2.0≦△Hz
(4)摺動耐久性
40mm×80mmに切り出したサンプルを準備した。10mm×20mm(2.0cm2)のステンレス製治具にガーゼ(白十字製、ガーゼタイプI)を固定し、2,000gの加重(1,000g/cm2)をかけながら、ストローク長60mmで100往復の摺動試験を行った。摺動試験後のサンプルを目視で評価した。
B:10本未満の傷
C:10本以上の傷または剥離
(5)総合判定
(1)、(2)、(3)各評価点の平均値と(4)の結果から総合判定を行った。
○:6.0≦(1)〜(3)の平均値、かつ、(4)の判定がB
×:(1)〜(3)の平均値<6.0
×:(4)の判定がC
接触角計(エルマ販売社製、G−1−1000)を用いて、蒸留水(和光純薬社製)に対する接触角を測定した。
重合性官能基を含有する化合物(a)であるトリメチロールプロパントリメタクリレート(新中村化学工業製、TMPT)25.00gをエチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル75.00gと混合して、固形分濃度25質量%のバインダー液[(B)−1成分]を調製した。
調製例2 バインダー成分−2(B−2)の調製
重合性官能基を含有する化合物(a)であるジペンタエリスリトールポリアクリレート(新中村化学工業製、A−9550)25.00gをエチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル75.00gと混合して、固形分濃度25質量%のバインダー液[(B)−2成分]を調製した。
調製例3 バインダー成分−3(B−3)の調製
重合性官能基を含有する化合物(a)であるウレタンアクリレート(日本合成化学製、UV−7600B)25.00gをエチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル75.00gと混合して、固形分濃度25質量%のバインダー液[(B)−3成分]を調製した。
調製例4 バインダー成分−4(B−4)の調製
重合性官能基を含有する化合物(a)であるトリメチロールプロパントリメタクリレート(新中村化学工業製、TMPT)12.50gと、重合性官能基を含有する含フッ素有機高分子化合物(b)であるハイパーテックFA−200(日産化学工業製)12.50gにエチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル75.00gを混合して、固形分濃度25質量%のバインダー液 [(B)−4成分]を調製した。
調製例5 バインダー成分−5(B−5)の調製
重合性官能基を含有する化合物(a)であるトリメチロールプロパントリメタクリレート(新中村化学工業製、TMPT)12.50gと、重合性官能基を含有する含フッ素有機高分子化合物(b)であるメガファックRS−75(DIC製)(固形分濃度40%)31.25gにエチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル56.25gを混合して、固形分濃度25質量%のバインダー液[(B)−5成分]を調製した。
調製例6 シリカ粒子スラリー(S−1)の調製
水に分散した固形分濃度16質量%のシリカ粒子スラリー(宇部日東化成社製、ハイプレシカ)500gに対して、イソプロピルアルコール(IPA)500gを添加した。そこに、シランカップリング剤3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(MPTMS) 5.1gを添加し、30℃にて4時間攪拌した。得られた反応溶液にエチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル(ETB)400gを添加し、エバポレーターにて水、IPAを溜去した。残渣法による固形分濃度測定後、ETBを添加することで固形分濃度16質量%のETB溶液を得た。
<平均粒径の測定>
表面処理前のシリカ粒子スラリーを1質量%にIPAで希釈した後、電子顕微鏡用試料台に1滴垂らし乾燥させサンプルを作製した。走査型電子顕微鏡(JSM−6700F、日本電子社製)にて50,000倍にて観察した。
<CV値の測定>
表面処理前のシリカ粒子スラリーを1質量%にIPAで希釈した後、電子顕微鏡用試料台に1滴垂らし乾燥させサンプルを作製した。走査型電子顕微鏡(JSM−6700F、日本電子社製)にて50,000倍にて観察した。
CV値(%)=(標準偏差/平均粒径)×100
調製例7 塗工液の調整
以下の手順で塗工液(P−1〜P−19)を調製した。
反射防止材料の作製方法および積層状態の確認方法として、1層目のシリカ粒子の配列検討を行った。この参考例はバーコート法による反射防止材料の作製方法、および積層状態の確認方法であるが、他のコーティング方法(例えば、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、スリットコート法、スプレーコート法、ディップコート法)による反射防止材料の作製方法、および積層状態の確認方法も同様に行うことができる。
前記「1層目のシリカ粒子の配列検討」から得られた塗工条件に対して、目的の積層状態となるようバーNo.または濃度を調整することで塗工した。
<積層状態の計算>
画像処理ソフト(Mac−View、マウンテック社製)によって得られた1層目、2層目のシリカ粒子数から1層目のシリカ粒子数に対する2層目のシリカ粒子数比率を計算した。
実施例1
ハードコート層付きPETフイルム(以下:HC付PET)(基材:コスモシャインA4100、塗工面=易接着面、東洋紡製、HC材料:紫外線硬化樹脂(日本合成化学社製、紫光 UV−1700B)、光重合開始剤(長瀬産業社製、ダロキュア 1173)、硬化後厚み3μm)を準備した。HC面にコロナ処理(50dyne/cm)を行った後、表2に示す塗工液P−1を2層目のシリカ粒子数が1層目のシリカ粒子数に対して50%となるようバーコート法で塗布した。120℃オーブンにて1分間乾燥した後、高圧水銀ランプ(積算光量500mJ/cm2、アイミニグランテージ、アイグラフィックス製)を照射することで反射防止材料を作製した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例2
2層目のシリカ粒子数が1層目のシリカ粒子数に対して15%に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例3
2層目のシリカ粒子数が1層目のシリカ粒子数に対して85%に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例4
塗工液をP−2に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例5
塗工液をP−3に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例6
塗工液をP−4に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例7
塗工液をP−5に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例8
塗工液をP−6に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例9
塗工液をP−7に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例10
塗工液をP−8に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例11
塗工液をP−9に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例12
塗工液をP−10に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例13
塗工液をP−11に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例14
塗工液をP−12に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例15
塗工液をP−13に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例16
塗工液をP−14に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例17
塗工液をP−18に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
実施例18
塗工液をP−19に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
比較例1
塗工液をP−15に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
比較例2
塗工液をP−16に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
比較例3
塗工液をP−17に替えた以外は実施例1と同様の操作を実施した。用いられた塗工液およびシリカ粒子スラリーの種類を表4に、得られた反射防止材料の評価結果を表5、表6に示す。
1 透光性基材
2 バインダー層
3a 1層目のシリカ粒子
3b 2層目のシリカ粒子
4a バインダー層2と1層目のシリカ粒子3aとの間に存在する空気溜り
4b 1層目のシリカ粒子3aと2層目のシリカ粒子3bとの間に存在する空気溜り
Claims (8)
- 透光性を有する基材表面の少なくとも一部に設けてなるバインダー、シリカ粒子、空気溜りからなるコーティング膜からなり、バインダー/シリカ粒子の比率が質量比で3/97〜20/80であると共に、前記バインダーは重合性官能基を有する化合物の重合処理物であり、かつ前記シリカ粒子は表面に重合性官能基を有しているシリカ粒子の重合処理物であることを特徴とする反射防止材料。
- 前項記載のバインダーが、重合性官能基を少なくとも1つ含有する化合物(a)の重合処理物、または前記化合物(a)と重合性官能基を少なくとも1つ含有する含フッ素有機高分子化合物(b)との混合物の重合処理物を含み、かつ前項記載のシリカ粒子が、重合性官能基を少なくとも1つ有するシランカップリング剤で表面処理されてなるシリカ粒子の重合処理物である請求項1に記載の反射防止材料。
- 前項記載のシリカ粒子が基材表面から2層で配列しており、基材側である1層目はシリカ粒子が敷き詰められていると共に、前記基材と前記シリカ粒子間に前記空気溜りを有しており、かつ2層目のシリカ粒子は前記1層目のシリカ粒子の一部を覆っていると共に、前記1層目のシリカ粒子と前記2層目のシリカ粒子間に前記空気溜りを有する請求項1または2に記載の反射防止材料。
- コーティング膜において、2層目のシリカ粒子数は、1層目のシリカ粒子数に対して10〜90%の存在比率で配列してなる請求項3に記載の反射防止材料。
- 基材から1層目のシリカ粒子の上端までの距離H1と、前記基材から2層目のシリカ粒子の上端までの距離H2が下記式(2)を満たす請求項3または4に記載の反射防止材料。
1.5≦H2/H1≦2.1 …(2) - 表面処理前のシリカ粒子の平均粒径が60〜150nmであると共に、その粒度分布の変動係数CV値が35%以下である請求項1〜5のいずれか1項に記載の反射防止材料。
- 基材の裏面を黒色化した場合の反射波形において、400nmおよび800nmにおける反射率が、それぞれ3.5%以下であって、反射率の最小値が0.8%以下であり、かつそのピーク位置が460〜720nmの領域にある請求項1〜6のいずれか1項に記載の反射防止材料。
- ヘーズ値が、下記式(4)を満たす請求項1〜6のいずれか1項に記載の反射防止材料。
│反射防止フィルムのヘーズ値−透光性を有する基材のヘーズ値│≦1.5…(4)
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