JP2014006324A - 液晶シール剤及びそれを用いた液晶表示セル - Google Patents
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Abstract
保存安定性、液晶への低溶出性等の未硬化時の各種特性や接着強度、耐熱性、耐湿性等の各種硬化物特性、特に常温接着強度、耐湿信頼性試験後の接着強度に優れ、液晶汚染性が良好な液晶滴下工法用液晶シール剤を提供すること。
【解決手段】
硬化性樹脂(I)を含有する液晶シール剤であって、反応性基当量が400以上800以下である硬化性樹脂(I−A)が全硬化性樹脂(I)成分中の10質量%以上20質量%以下を占めることを特徴とする液晶シール剤。
【選択図】なし
Description
1)
硬化性樹脂(I)を含有する液晶シール剤であって、反応性基当量が400以上800以下である硬化性樹脂(I−A)が全硬化性樹脂(I)成分中の10質量%以上20質量%以下を占めることを特徴とする液晶滴下工法用液晶シール剤、
2)
硬化性樹脂(I)中に、さらにレゾルシンジグリシジルエーテルのエポキシ(メタ)アクリレート(I−B)を含有する上記1)に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤、
3)
更に、アゾ重合開始剤(II)を含有する上記1)又は2)に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤、
4)
上記アゾ重合開始剤(II)が分子量1000以上12000以下の高分子アゾ重合開始剤である上記3)に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤、
5)
上記アゾ重合開始剤(II)が4,4’−アゾビス(4−シアノペンタン酸)とポリエチレングリコールの重縮合物である上記3)又は4)に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤、
6)
更に、カルボジイミド骨格(−N=C=N−)を有する化合物(III)を含有する上記1)乃至5)のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤、
7)
上記カルボジイミド骨格(−N=C=N−)を有する化合物(III)がジシクロヘキシルカルボジイミドである上記6)に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤、
8)
更に、オキシムエステル構造を有する光ラジカル重合開始剤(IV)を含有する上記1)乃至7)のいずれか1項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤、
9)
上記オキシムエステル構造を有する光ラジカル重合開始剤(IV)が1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]である上記8)に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤、
10)
更に、熱硬化剤(V)、シランカップリング剤(VI)を含有する上記1)乃至9)のいずれか1項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤、
11)
2枚の基板により構成される液晶表示セルにおいて、一方の基板に形成された上記1)乃至10)のいずれか1項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤堰の内側に液晶を滴下した後、もう一方の基板を貼り合わせ、その後熱により硬化することを特徴とする液晶表示セルの製造方法、
12)
上記1)乃至10)のいずれか1項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤を硬化して得られる硬化物でシールされた液晶表示セル、
に関する。
硬化性樹脂(I)は特に限定されるものではなく、エポキシ樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ビニル樹脂等を挙げる事ができるが、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル化エポキシ樹脂(エポキシ(メタ)アクリレート)の混合物、(メタ)アクリル化エポキシ樹脂(エポキシ(メタ)アクリレート)、部分(メタ)アクリル化エポキシ樹脂(部分エポキシ(メタ)アクリレート)が特に好適に用いられる。硬化性樹脂(I)は、何れも液晶に対する汚染性、溶解性が低いものが好ましく、好適なエポキシ樹脂の例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、レゾルシンジグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン骨格を有するフェノールノボラック型エポキシ樹脂、その他、二官能フェノール類のジグリシジルエーテル化物、二官能アルコール類のジグリシジルエーテル化物、およびそれらのハロゲン化物、水素添加物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。(メタ)アクリル化エポキシ樹脂、部分(メタ)アクリル化エポキシ樹脂は、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の周知の反応により得ることができる。例えば、エポキシ樹脂に所定の当量比の(メタ)アクリル酸と触媒(例えば、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン等)と、重合防止剤(例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、フェノチアジン、ジブチルヒドロキシトルエン等)を添加して、例えば80〜110℃でエステル化反応を行うことにより得られる。原料となるエポキシ樹脂としては、特に限定されるものではないが、2官能以上のエポキシ樹脂が好ましく、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、レゾルシンジグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン骨格を有するフェノールノボラック型エポキシ樹脂、その他、二官能フェノール類のジグリシジルエーテル化物、二官能アルコール類のジグリシジルエーテル化物、およびそれらのハロゲン化物、水素添加物などが挙げられる。
この成分(I−A)としては、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等の通常のエポキシ樹脂の高分子量体やそのエポキシ樹脂のエポキシアクリレート(アクリル酸付加物)等が挙げられる。具体例としては、エポトートRTMYD−011、YD−012(新日鉄化学株式会社製)、jERRTM−1001、1002、1003(三菱化学株式会社製)等やそのエポキシアクリレート(アクリル酸付加物)等が挙げられる。なお、本明細書において上付きのRTMは登録商標を意味する。
また、成分(I−A)の硬化性樹脂(I)中含有率が10質量%未満の場合、上記架橋密度の最適なバランスがとれず、本願発明の効果を充分に奏さず、また20質量%を超えると架橋密度の最適なバランスがとれないだけでなく、最適粘度の調製も困難となる。より好ましくは12質量%以上18質量%以下であり、さらに好ましくは14質量%以上16質量%以下である。
成分(I−B)は成分(I)中、50質量%以上80質量%以下である場合が好ましく、60質量%以上80質量%以下である場合が更に好ましく、60質量%以上70質量%以下である場合が特に好ましい。
アゾ重合開始剤(II)の液晶シール剤中に占める含有量は、本発明の液晶シール剤の総量を100質量部とした場合、0.1〜5質量%が好適であり、更に好ましくは0.5〜4質量%含有する場合である。また2種類以上を混合して用いても良い。
カルボジイミド骨格(−N=C=N−)を有する化合物(III)の液晶シール剤中に占める含有量は、本発明の液晶シール剤の総量を100質量部とした場合、0.1〜5質量%が好適であり、更に好ましくは0.5〜4質量%含有する場合である。また2種類以上を混合して用いても良い。
[ビスフェノールA型エポキシ樹脂のエポキシアクリレートの合成]
ビスフェノールA型エポキシ樹脂475.9g(製品名:jER−1001、三菱化学株式会社製)をトルエン266.8gに溶解し、これに重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン0.2gを加え、60℃まで昇温した。その後、エポキシ基の100%当量のアクリル酸72.1gを加え更に80℃まで昇温し、これに反応触媒であるトリメチルアンモニウムクロライド0.2gを添加して、98℃で約30時間攪拌し、反応液を得た。この反応液を水洗し、トルエンを留去することにより、目的とするビスフェノールA型のエポキシアクリレート540gを得た(KAYARADRTM1001AC)。得られたエポキシアクリレートの反応性基当量は理論値で548である。
[レゾルシンジグリシジルエーテルのエポキシアクリレートの合成]
レゾルシンジグリシジルエーテル181.2g(ナガセケムテックス株式会社製)をトルエン266.8gに溶解し、これに重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン0.8gを加え、60℃まで昇温した。その後、エポキシ基の100%当量のアクリル酸117.5gを加え更に80℃まで昇温し、これに反応触媒であるトリメチルアンモニウムクロライド0.6gを添加して、98℃で約30時間攪拌し、反応液を得た。この反応液を水洗し、トルエンを留去することにより、目的とするレゾルシンジグリシジルエーテルのエポキシアクリレート293gを得た。得られたエポキシアクリレートの反応性基当量は理論値で183である。
下記表1に示す割合で硬化性樹脂(I)とオキシムエステル構造を有する光ラジカル重合開始剤(IV)を90℃で加熱溶解させた後、室温まで冷却し、アゾ重合開始剤(II)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(III)、シランカップリング剤(IV)、熱硬化剤(V)、無機フィラーを添加し、攪拌した後、3本ロールミルにて分散させ、金属メッシュ(635メッシュ)で濾過し、液晶シール剤実施例1〜3を調製した。また同様の工程により、表1に示す材料を混合して比較例1、2を調製した。
得られた液晶シール剤100gにスペーサとして5μmのグラスファイバー1gを添加して混合撹拌を行う。この液晶シール剤を50mm×50mmのガラス基板上に塗布し、その液晶シール剤上に1.5mm×1.5mmのガラス片を貼り合わせUV照射機により3000mJ/cm2の紫外線を照射後、オーブンに投入して120℃1時間熱硬化させた。ガラス片のせん断接着強度をボンドテスター(SS−30WD:西進商事株式会社製)にて測定した。結果を表1に示す。
上記の液晶シール剤接着強度テストと同一の測定サンプルを作成する。その測定サンプルを121℃、2気圧、湿度100%の条件で、プレッシャークッカー試験機(TPC−411:タバイエスペック株式会社製)に12時間投入したサンプルを上記ボンドテスターにて測定した。その結果を表1に示す。
透明電極付き基板に配向膜液(PIA−5540−05A;チッソ株式会社製)を塗布、焼成し、ラビング処理を施した。この基板に得られた液晶シール剤を貼り合せ後の線幅が1mmとなるようにメインシールおよびダミーシールをディスペンスし、次いで液晶(JC−5015LA;チッソ株式会社製)の微小滴をシールパターンの枠内に滴下した。更にもう一枚のラビング処理済み基板に面内スペーサ(ナトコスペーサKSEB−525F;ナトコ株式会社製;貼り合せ後のギャップ幅5μm)を散布、熱固着し、貼り合せ装置を用いて真空中で先の液晶滴下済み基板と貼り合せた。大気開放してギャップ形成した後、シールパターン枠内のみマスクをしてUV照射機により50mJ/cm2の紫外線を照射後、オーブンに投入して120℃1時間熱硬化させ評価用液晶テストセルを作成した。
◎:シールへの液晶の差込みが0.2mm未満であり、液晶の封止には問題が無いレベルである。
○:シールへの液晶の差込みが0.2mm以上0.4mm未満であり、液晶の封止には問題が無いレベルである。
△:シールへの液晶の差込みが0.4mm以上0.6mm未満であり、液晶の封止には問題が無いレベルである。
×:シールへの液晶の差込みが0.6mm以上1.0mm未満であり、液晶の封止には問題が無いレベルである。
××:シールが決壊しセルが形成できない。
◎:液晶の配向乱れがシールから0.2mm未満である。
○:液晶の配向乱れがシールから0.2mm以上0.4mm未満である。
△:液晶の配向乱れがシールから0.4mm以上0.6mm未満である。
×:液晶の配向乱れがシールから0.6mm以上1.0mm未満である。
××:シールが決壊しセルが形成出来ない。
Claims (12)
- 硬化性樹脂(I)を含有する液晶シール剤であって、反応性基当量が400以上800以下である硬化性樹脂(I−A)が全硬化性樹脂(I)成分中の10質量%以上20質量%以下を占めることを特徴とする液晶滴下工法用液晶シール剤。
- 硬化性樹脂(I)中に、さらにレゾルシンジグリシジルエーテルのエポキシ(メタ)アクリレート(I−B)を含有する請求項1に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
- 更に、アゾ重合開始剤(II)を含有する請求項1又は2に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
- 前記アゾ重合開始剤(II)が分子量1000以上12000以下の高分子アゾ重合開始剤である請求項3に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
- 前記アゾ重合開始剤(II)が4,4’−アゾビス(4−シアノペンタン酸)とポリエチレングリコールの重縮合物である請求項3又は4に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
- 更に、カルボジイミド骨格(−N=C=N−)を有する化合物(III)を含有する請求項1乃至5のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
- 前記カルボジイミド骨格(−N=C=N−)を有する化合物(III)がジシクロヘキシルカルボジイミドである請求項6に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
- 更に、オキシムエステル構造を有する光ラジカル重合開始剤(IV)を含有する請求項1乃至7のいずれか1項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
- 前記オキシムエステル構造を有する光ラジカル重合開始剤(IV)が1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]である請求項8に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
- 更に、熱硬化剤(V)、シランカップリング剤(VI)を含有する請求項1乃至9のいずれか1項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
- 2枚の基板により構成される液晶表示セルにおいて、一方の基板に形成された請求項1乃至10のいずれか1項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤堰の内側に液晶を滴下した後、もう一方の基板を貼り合わせ、その後熱により硬化することを特徴とする液晶表示セルの製造方法。
- 請求項1乃至10のいずれか1項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤を硬化して得られる硬化物でシールされた液晶表示セル。
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JP2017125149A (ja) * | 2016-01-15 | 2017-07-20 | 住友ベークライト株式会社 | 封止用樹脂組成物および電子装置 |
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2012
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