JP2014003076A - Package for mounting electronic component and electronic device using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光通信分野等に用いられる光半導体素子等の電子部品を搭載して収納するための電子部品搭載用パッケージおよびそれを用いた電子装置に関する。 The present invention relates to an electronic component mounting package for mounting and storing electronic components such as optical semiconductor elements used in the field of optical communication and the like, and an electronic apparatus using the same.
従来の電子装置に用いられる電子部品搭載用パッケージは、上面に電子部品の搭載部を有する基体と、基体に設けられた端子とを含んでいるものであり、例えば、基体は貫通孔を有しており、封止材が貫通孔に充填されており、端子は封止材を貫通して基体に固定されている。電子部品は、基体の上面に搭載され、例えば蓋体によって覆われる。 An electronic component mounting package used in a conventional electronic device includes a base body having an electronic component mounting portion on an upper surface and terminals provided on the base body. For example, the base body has a through hole. The sealing material is filled in the through hole, and the terminal is fixed to the base body through the sealing material. The electronic component is mounted on the upper surface of the base and is covered with, for example, a lid.
しかしながら、光半導体素子等の電子部品から発生する熱を放散する基体と、電子装置に取り付けられる外部ハウジング部材との接触が不十分なため、より大出力で駆動されるような光半導体素子等の電子部品から発生する熱を十分に放散することが困難なものとなってしまう可能性があった。 However, since the contact between the base that dissipates heat generated from electronic components such as an optical semiconductor element and the external housing member attached to the electronic device is insufficient, an optical semiconductor element or the like that is driven at a higher output It may be difficult to sufficiently dissipate the heat generated from the electronic component.
本発明は上記従来技術の問題点に鑑み案出されたものであり、その目的は、電子部品から発生する熱を効率的に放散することが可能となる電子部品搭載用パッケージおよびそれを用いた電子装置を提供する。 The present invention has been devised in view of the above problems of the prior art, and an object of the present invention is to use an electronic component mounting package capable of efficiently dissipating heat generated from the electronic component and the same. An electronic device is provided.
本発明の一つの態様による電子部品搭載用パッケージは、基体と、端子とを含んでいる。基体は、上面と、下面と、上面から下面にかけて設けられた貫通孔とを含んでいる。端子は、基体に封止材により固定され貫通孔内を通っている。端子は、基体の上面から上方へ突出している上端と、基体の下面から下方へ突出している下端を有している。基体は、その側面に凹凸部が形成されている。 An electronic component mounting package according to an aspect of the present invention includes a base and terminals. The base includes an upper surface, a lower surface, and a through hole provided from the upper surface to the lower surface. The terminal is fixed to the base by a sealing material and passes through the through hole. The terminal has an upper end protruding upward from the upper surface of the base and a lower end protruding downward from the lower surface of the base. As for the base | substrate, the uneven | corrugated | grooved part is formed in the side surface.
本発明の他の態様による電子装置は、上記構成の電子部品搭載用パッケージと、電子部品搭載用パッケージに搭載された電子部品と、基体の上面に接合した蓋体とを含んでいる。 An electronic device according to another aspect of the present invention includes the electronic component mounting package configured as described above, an electronic component mounted on the electronic component mounting package, and a lid bonded to the upper surface of the base.
本発明の一つの態様による電子部品搭載用パッケージにおいて、基体は、その側面に凹凸部が形成されていることから、基体の側面と、電子装置を取り付ける外部ハウジング部材との接触箇所が大きいものとなり、電子部品から発生する熱を効率よく外部に放散することが可能となり、大出力の光半導体素子等の電子部品を安定して駆動することが可能となる。 In the electronic component mounting package according to one aspect of the present invention, since the uneven portion is formed on the side surface of the base body, the contact portion between the side surface of the base body and the external housing member to which the electronic device is attached becomes large. The heat generated from the electronic component can be efficiently dissipated to the outside, and the electronic component such as a high-power optical semiconductor element can be driven stably.
本発明の例示的な実施形態について図面を参照して説明する。 Exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
本発明の実施形態における電子装置は、図1、図2に示されているように、電子部品搭載用パッケージ15と、電子部品搭載用パッケージ15に搭載された電子部品6と、回路基板6aと、温度制御素子11と、PD素子12と、反射鏡13と温度モニタ素子14と、第1の基体1aの上面に接合した蓋体9とを含んでいる。なお、図1において、電子装置は仮想のxyz空間内に設けられており、以下、便宜的に「上方向」とは仮想のz軸の正方向のことをいう。
As shown in FIGS. 1 and 2, the electronic device according to the embodiment of the present invention includes an electronic
電子部品搭載用パッケージ15は、例えば、第1の基体1aと、第1の基体1aの下面に接合された第2の基体1bと、第1の基体1aと第2の基体1bとを貫通するように第2の基体1bに固定された端子5(以下、信号端子5ともいう)と、中継基板6bと、DC端子8とを含んでいる。第1の基体1aは、上面と上下方向に設けられた第1の貫通孔1dとを有している。第1の基体1aまたは第2の基体1b、または第1の基体1a、第2の基体1bの両方には、その側面に凹凸部が形成されている。第2の基体1bは、第1の基体1aの下面に接合されており、上下方向に設けられ第1の貫通孔1dに重なるように配置されている。信号端子5は、第2の貫通孔1fに充填された封止材3により第2の基体1bに固定され第1の貫通孔1d内を通っている。信号端子5は、第1の基体1aの上面よりも上方へ突出している上端と第2の基体1bの下面から下方へ突出している下端とを有している。
The electronic
図1に示された例では、第1の基体1aの上面の中央部を搭載部1cとして、ペルチェ素子等の温度制御素子11および回路基板6aを介して電子部品6が搭載されている。電子部品6の端子はボンディングワイヤ7で回路基板6a上の配線に電気的に接続されている。中継基板6bは、回路基板6aと信号端子5との電気的な接続を中継している。信号端子5の第1の基体1a側の上端部と中継基板6bの信号線路とがろう材等の接合材で電気的に接続され、中継基板6bの上面の信号線路と回路基板6aの配線とがボンディングワイヤ7で電気的に接続されることで、電子部品6と信号端子5とが電気的に接続されている。第2の基体1bは、信号端子5を固定するための第2の貫通孔1f以外に、3つの第2の貫通孔1fが形成されている。DC端子8は、グラウンドとして機能する端子であり、3つの第2の貫通孔1fのそれぞれに2本ずつが封止材3によって固定され、第1の基体1aに形成された、対応する第1の貫通孔1dからDC端子8の端部が突出している。また、電子部品6の端子は、回路基板6aの配線を介して、DC端子8の一つに電気的に接続されている。これによって、信号端子5は電子部品6と外部電気回路(図示せず)との間の入出力信号を伝送する伝送路として機能する。
In the example shown in FIG. 1, an
図1に示された例では、主となる電子部品6がLD素子である例を示しており、PD素子12はLD素子の発振状態をモニタし、反射鏡13はLD素子から発振されたレーザー光を回路基板6a(第1の基体1a)の上面から垂直方向に反射させており、温度モニタ素子14は、回路基板6a上の温度を測定して温度制御素子11へフィードバックしている。回路
基板6a上には、PD素子12,反射鏡13および温度モニタ素子14が搭載されている。そして、DC端子8は、上述したグラウンド用以外に、温度制御素子11,PD素子12,および温度モニタ素子14への電力供給用のもの等がある。
The example shown in FIG. 1 shows an example in which the main
なお、図1に示された例では電子部品6等が搭載された状態がわかるように蓋体9を外した状態を示しているが、図2に示された例のように、破線で示されたような蓋体9を溶接またはろう接で蓋体接合部1eに接合することによって、本発明の実施形態における電子装置が基本的に構成される。図2に示された例の蓋体9は、反射鏡13によって第1の基体1aの上面から垂直方向に反射されたレーザー光を通すための、透光性部材がはめられた窓部を設けた例を示している。
In the example shown in FIG. 1, the state in which the lid 9 is removed is shown so that the state in which the
なお、図1および図2に示された例では、基体は第1の基体1aが第2の基体1bの上面に接合されている構成としているが、第2の基体1bのみからなるものとし、第2の基体1bの上面を搭載部1cとして、ペルチェ素子等の温度制御素子11および回路基板6aを介して電子部品6が搭載されているものとしてもよい。また、1個の電子部品6を、回路基板6aおよび温度制御素子11を介して第1の基体1aの搭載部1cの上に搭載しているが、複数の電子部品6を搭載してもよいし、回路基板6aおよび温度制御素子11を介さずに第1の基体1aの搭載部1cの上に直接搭載してもよいし、ボンディングワイヤ7で電子部品6と信号端子5とを直接接続してもよい。また、信号端子5の数も、電子部品6の数および電子部品6の電極の数に応じて複数であっても構わない。そして、DC端子8の数も、温度制御素子11、PD素子12、温度モニタ素子14等の数に応じて決まるものである。なお、中継基板6bを介して信号端子5と電子部品6をボンディングワイヤ7で接続することで、ボンディングワイヤ7の長さを短くすることができるようになるので、インピーダンスの不整合をより良く抑制することができ好ましい。
In the example shown in FIG. 1 and FIG. 2, the base body is configured such that the first base body 1a is bonded to the upper surface of the second base body 1b. However, the base body is composed only of the second base body 1b. The upper surface of the second base 1b may be the mounting portion 1c, and the
本発明の実施形態における電子部品搭載用パッケージ15は、上面および下面を有しており、上面に設けられた電子部品6の搭載部と上面から下面にかけて設けられた貫通孔1fとを含む基体1と、基体1に封止材3により固定されているとともに貫通孔1f内を通っており、基体1の上面から上方へ突出している上端と基体1の下面から下方へ突出している下端とを有しており、電子部品6が電気的に接続される端子5とを有しており、基体1の側面には、凹凸部が形成されているものである。
The electronic
電子部品搭載用パッケージ15はこのような構成により、基体1は、その側面に凹凸部が形成されていることから、基体1の側面と、電子装置を取り付ける外部ハウジング部材2との接触箇所が大きいものとなり、電子部品6から発生する熱を効率よく外部に放散することができる電子部品搭載用パッケージ15となる。
Since the electronic
また、基体は、第1の基体と第2の基体とを有しており、第1の基体は第2の基体の上面に配置されている場合には、信号端子5は所定のインピーダンスに整合されて第2の基体1bの貫通孔1fに充填した封止材3で固定されることから、信号端子5が通る第1の基体1aの貫通孔1bは、信号端子5とともにエアー同軸構造としてインピーダンスを整合させるためにその径を小さいものとすることができるので、電子部品6の搭載部1cの面積を大きくすることができる。
Further, the base has a first base and a second base. When the first base is disposed on the upper surface of the second base, the
また、図3〜図5に示された例のように、上記構成において、第2の基体1bの外形寸法よりも第1の基体1aの外形寸法の方が大きいときには、第1の基体1aの側面に、電子装置が取り付けられる外部ハウジング部材2を密着させやすくなるので、電子部品6から発生した熱を第1の基体1aを介して外部により放出しやすい電子部品搭載用パッケージ15となる。
Further, as in the example shown in FIGS. 3 to 5, in the above configuration, when the outer dimension of the first base 1a is larger than the outer dimension of the second base 1b, the first base 1a Since the
また、図5に示された例のように、上記構成において、第1の基体1aおよび第2の基体1bの少なくとも一方が、第1の基体1aと第2の基体1bとの接合部に沿った溝10を有するときには、搭載される電子部品6に熱が発生して第1の基体1aと第2の基体1bとの熱膨張係数の差による熱応力が発生しても、この熱応力は溝10によって緩和されて、第1の基体1aと第2の基体1bとの接合部に加わる熱応力は小さいものとなるので、より気密信頼性に優れた高信頼性の電子装置を得ることのできる電子部品搭載用パッケージ15となる。
Further, as in the example shown in FIG. 5, in the above-described configuration, at least one of the first base 1a and the second base 1b is along the joint portion between the first base 1a and the second base 1b. When the
また、図6に示された例のように、上記各構成において、第1の基体1aの下面の搭載部1cに対向する部分から外周部にかけて第1の基体1aよりも熱伝導率が高い接合材4が被着されており、第2の基体1bは、外周部の接合材4で第1の基体1aに接合されているときには、電子部品6から発生した熱が第1の基体1aの下面の接合材4を介して第1の基体1aの側面側に伝導しやすくなるので、より効率よく外部に放出することができる半導体素子収納用パッケージとなる。
Further, as in the example shown in FIG. 6, in each of the above-described configurations, bonding having higher thermal conductivity than the first base body 1 a is performed from the portion facing the mounting portion 1 c on the lower surface of the first base body 1 a to the outer peripheral portion. When the
本発明の実施形態における電子装置は、上記構成のいずれかの本発明の実施形態における電子部品搭載用パッケージ15と、該電子部品搭載用パッケージ15の前記搭載部1cに搭載された電子部品6と、前記第1の基体1aまたは前記第2の基体1bの上面に接合された蓋体9とを有していることから、電子部品6から発生した熱を効率よく第1の基体1aまたは前記第2の基体1bの側面から外部に放出できるので、小型で高出力の電子装置となる。
An electronic device according to an embodiment of the present invention includes an electronic
本発明の実施形態における電子装置は、上記構成において、電子部品6と搭載部1cとの間に温度制御素子11を有しているときには、放熱性が向上しているので、温度制御素子11によってより発熱の大きい電子部品6の温度を一定に保つことができるようになり、温度変化によって発生する電子部品6の特性変化がなくなるので、より特性の安定した電子装置となる。
In the electronic device according to the embodiment of the present invention, in the above configuration, when the
第1の基体1aは搭載される電子部品6またはセラミック製の回路基板6aの熱膨張係数に近いものが好ましく、またコストの安いものとして、例えば、Fe−Mn合金等の鉄系の合金または純鉄等の金属、銅(Cu)または銅系の合金が選ばれる。より具体的には、Fe99.6質量%−Mn0.4質量%系のSPC(Steel Plate Cold)材がある。第1の
基体1aは上述の金属部材に圧延加工または打ち抜き加工等の金属加工方法を施すことによって所定形状に製作され、貫通孔1bはドリル加工または金型による打ち抜き加工によって形成される。また、第1の基体1aが搭載部1cとして突出部を有する形状の場合は、切削加工またはプレス加工することによって形成することができる。
The first base 1a is preferably close to the thermal expansion coefficient of the
第1の基体1aは厚みが0.25〜1mmの平板状であり、その形状には特に制限はないが、例えば直径が3〜6mmの円板状,半径が1.5〜8mmの円周の一部を切り取った半円
板状,一辺が3〜15mmの四角板状等である。
The first substrate 1a has a flat plate shape with a thickness of 0.25 to 1 mm, and the shape thereof is not particularly limited. For example, a part of a circle with a diameter of 3 to 6 mm and a radius of 1.5 to 8 mm is formed. It is a semicircular plate shape cut out, a square plate shape with a side of 3 to 15 mm, or the like.
第1の基体1aの厚みは0.5mm以上が好ましい。厚みが0.5mm未満の場合は、電子部品6を保護するための金属製の蓋体9を金属製の第1の基体1aの上面に接合する際に、接合温度等の接合条件によっては第1の基体1aが曲がったりして変形し易くなる。また、厚みが1mmを超えると、第2の基体1bと接合して得られる電子部品搭載用パッケージ15および電子装置の厚みが不要に厚いものとなり、小型化し難くなるので、第1の基体1aの厚みは1mm以下であるのが好ましい。小型化のためには第1の基体1aの厚みと第2の基体1bの厚みとを加えて2mm以下であるのがよい。
The thickness of the first substrate 1a is preferably 0.5 mm or more. When the thickness is less than 0.5 mm, when the metal lid 9 for protecting the
また、第1の基体1aは、その側面に凹凸部が形成されていると、第1の基体1aの側
面と、電子装置を取り付ける外部ハウジング部材2との接触箇所が大きいものとなり、電子部品6から発生する熱を効率よく外部に放散することができる電子部品搭載用パッケージ15となる。このように、第1の基体1aがその側面に凹凸部を有する場合は、切削加工することによって形成することができる。この場合、図2に示された例のように、電子装置を取り付ける外部ハウジング部材2の内側側面にも凹凸を設けると第1の基体1aの側面と、外部ハウジング部材2との接触箇所が更に大きいものとなり、電子部品6から発生する熱を効率よく外部に放散することができ好ましい。また、この凹凸部を第1の基体1aの側面に螺旋状に形成すると、凹凸部がめねじ状となって容易に電子装置を外部ハウジング部材2に取り付けることが可能となり好ましい。この場合、電子装置を取り付ける外部ハウジング部材2の内側側面にも螺旋状の凹凸を設けると更に電子装置を外部ハウジング部材2に取り付けることが容易となり好ましい。このように、第1の基体1aがその側面に螺旋状の凹凸部を有する場合は、切削加工することによって形成することができる。なお、凹凸部の凹部の深さは0.1〜1mmとするのがよい。これにより、良好に電子装置
を外部ハウジング部材2に取り付けることが可能となり好ましい。
In addition, when the first base 1a has a concavo-convex portion on its side surface, the contact portion between the side surface of the first base 1a and the
搭載部1cの周辺には第1の基体1aの上面から下面にかけて形成された直径が0.23〜1.15mmの第1の貫通孔1dを複数有する。信号端子5が通る第1の貫通孔1dの直径は、中心に信号端子5が貫通することで特性インピーダンスが50Ωのエアー同軸が形成されるような寸法とする。例えば、信号端子5の直径が0.2mmの場合であれば、第1の貫通
孔1dの直径は0.46mmとすればよい。DC端子8が通る第1の貫通孔1dについては、DC端子8は特性インピーダンスの影響を受けないので、DC端子8と第1の基体1aとがショートしない程度に、上記寸法よりも小さくして搭載部1cの面積を大きくするとよい。また、逆に第1の貫通孔1dを上記寸法よりも大きくして、図1に示された例のように複数のDC端子8を貫通させても構わない。この場合は、例えば図1に示された例のように、円形ではなく長円形とすることで搭載部1cの面積を大きくすることができる。上述したように、電子部品6の数および電子部品6の端子の数に応じて信号端子5の数が、また電子部品6以外の他の素子等の数に応じてDC端子8の数が決まるので、それに応じて第1の貫通孔1dも適宜形成すればよい。
A plurality of first through holes 1d having a diameter of 0.23 to 1.15 mm are formed around the mounting portion 1c from the upper surface to the lower surface of the first base 1a. The diameter of the first through hole 1d through which the
また、第1の基体1aの表面には、耐食性に優れ、ろう材との濡れ性に優れた厚さが0.5〜9μmのNi層と厚さが0.5〜5μmのAu層とをめっき法によって順次被着させておくのがよい。これにより、第1の基体1aが酸化腐食するのを有効に防止することができるとともに、電子部品6または回路基板6aあるいは蓋体9等を第1の基体1aに良好にろう付けすることができる。
Further, on the surface of the first substrate 1a, a Ni layer having a thickness of 0.5 to 9 μm and an Au layer having a thickness of 0.5 to 5 μm, which are excellent in corrosion resistance and wettability with a brazing material, are successively deposited by a plating method. It is good to leave it attached. Thereby, it is possible to effectively prevent the first base body 1a from being oxidatively corroded, and it is possible to satisfactorily braze the
第2の基体1bは、第2の貫通孔1f内に封止材3を介して信号端子5およびDC端子8を固定するだけでなく、蓋体9とともに、封止材3および接合材4によって電子部品6を気密に封止する機能を有する。このため、第2の基体1bは、第1の基体1aと第2の基体1bとの接合部が第1の貫通孔1dを取り囲むように、外周部で第1の基体1aと接合されている。少なくとも外周部で接合されていれば気密に封止することができ、第2の基体1bの上面の全面が接合材4によって第1の基体1aの下面に接合されていてもかまわない。
The second base 1b not only fixes the
また、第2の基体1bは、第1の基体1aと同様の厚みが0.25〜1mmの平板状であり、その形状には特に制限はないが、例えば直径が3〜6mmの円板状,半径が1.5〜8m
mの円周の一部を切り取った半円板状,一辺が3〜15mmの四角板状等である。第2の基体1bはその外周部が第1の基体1aの下面に接合されるので、必要な大きさの第2の貫通孔1fが形成されるとともに、外周部が第1の貫通孔1dよりも大きいものであればよい。例えば、図3および図4(a)に示された例のように、平面視の外形が第1の基体1aより一回り小さい第2の基体1bを第1の基体1aの下面に接合することによって、複
数の第1の貫通孔1dをまとめて封止してもよいし、図4(b)に示された例のように、第2の基体1bを複数の第1の貫通孔1dのそれぞれよりも一回り大きい複数個にして、複数の第1の貫通孔1dをそれぞれ封止するようにしてもよい。また、このように第2の基体1bが小さいと、第1の基体1aとの間で熱膨張係数に差がある場合には、発生する熱応力が小さくなるので好ましい。1つの第2の基体1bに電子部品搭載用パッケージ15の全ての信号端子5が固定されていると、第1の基体1aと第2の基体1bとを接合する際に、信号端子5の相対位置が正確に位置決めできるとともに、複数の第1の貫通孔1dと複数の第2の貫通孔1f(およびそれら第2の貫通孔1f内に固定された複数の信号端子5)との位置合わせが一括して行なえるので、組み立て精度の良い電子部品搭載用パッケージ15を効率よく得ることができる。
The second base 1b is a flat plate having a thickness of 0.25 to 1 mm, which is the same as the first base 1a, and there is no particular limitation on the shape thereof. 1.5 ~ 8m
For example, a semi-disc shape obtained by cutting a part of the circumference of m, a square plate shape having a side of 3 to 15 mm, and the like. Since the outer peripheral portion of the second base 1b is bonded to the lower surface of the first base 1a, a second through hole 1f having a necessary size is formed, and the outer peripheral portion is formed from the first through hole 1d. As long as it is large. For example, as in the example shown in FIGS. 3 and 4A, the second base 1b whose outer shape in plan view is slightly smaller than the first base 1a is bonded to the lower surface of the first base 1a. Thus, the plurality of first through holes 1d may be sealed together, or the second base 1b may be sealed with the plurality of first through holes 1d as in the example shown in FIG. 4B. A plurality of first through-holes 1d may be sealed in a plurality larger than each of the plurality of first through-holes 1d. In addition, it is preferable that the second base 1b is small as described above, since the generated thermal stress is small when there is a difference in thermal expansion coefficient between the first base 1a and the first base 1a. When all the
第2の基体1bの厚みは0.5mm以上が好ましい。厚みが0.5mm未満の場合は、外部からの応力によって変形しやすくなり、封止材3による気密性を保ち難くなる。また、厚みが1mmを超えると、第1の基体1aと接合して得られる電子部品搭載用パッケージ15および電子装置の厚みが不要に厚いものとなり、小型化し難くなるので、第2の基体1bの厚みは1mm以下であるのが好ましい。
The thickness of the second substrate 1b is preferably 0.5 mm or more. When the thickness is less than 0.5 mm, it is likely to be deformed by an external stress, and it is difficult to maintain the airtightness by the sealing
第2の基体1bは、信号端子5の固定用として、上面から下面にかけて形成された直径が0.53〜2.65mmの第2の貫通孔1fを有する。第2の基体1bの位置は、信号端子5固定用の第2の貫通孔1fが、信号端子5が通る第1の貫通孔1dと対応して同心円状に位置するように配置する。また、DC端子8の固定用の第2の貫通孔1fは、第1の基体1aと第2の基体1bとを接合した際に、DC端子8が通る第1の貫通孔1dと平面視で重なる位置に、DC端子8と第2の貫通孔1fの内面との間に十分な厚み(0.2mm程度)
の封止材3が入る程度の大きさに形成すればよい。
The second base 1b has a second through hole 1f having a diameter of 0.53 to 2.65 mm formed from the upper surface to the lower surface for fixing the
What is necessary is just to form in the magnitude | size which can enter the sealing
このような第2の基体1bは、封止材3の熱膨張係数に近いものまたはコストの安いものとして、例えば、Fe−Ni−Co合金またはFe−Ni合金等の金属から成るものが好ましい。例えば第2の基体1bがFe−Ni−Co合金から成る場合は、この合金のインゴット(塊)に圧延加工または打ち抜き加工等の金属加工方法を施すことによって所定形状に製作される。その後または同時に、第2の貫通孔1fがドリル加工または金型による打ち抜き加工によって形成される。
Such a second substrate 1b is preferably made of a metal such as an Fe—Ni—Co alloy or an Fe—Ni alloy, for example, having a thermal expansion coefficient close to that of the sealing
また、第2の基体1bは、第1の基体1aと同様に、その側面に凹凸部が形成されていると、第2の基体1bの側面と、電子装置を取り付ける外部ハウジング部材2との接触箇所が大きいものとなり、電子部品6から発生する熱を効率よく外部に放散することができる電子部品搭載用パッケージ15となる。このように、第2の基体1bがその側面に凹凸部を有する場合は、切削加工することによって形成することができる。この場合、図2に示された例のように、電子装置を取り付ける外部ハウジング部材2の内側側面にも凹凸を設けると第2の基体1bの側面と、外部ハウジング部材2との接触箇所が更に大きいものとなり、電子部品6から発生する熱を効率よく外部に放散することができ好ましい。また、この凹凸部を第2の基体1bの側面に螺旋状に形成すると、凹凸部がめねじ状となって容易に電子装置を外部ハウジング部材2に取り付けることが可能となり好ましい。この場合、電子装置を取り付ける外部ハウジング部材2の内側側面にも螺旋状の凹凸を設けると更に電子装置を外部ハウジング部材2に取り付けることが容易となり好ましい。このように、第2の基体1bがその側面に螺旋状の凹凸部を有する場合は、切削加工することによって形成することができる。なお、凹凸部の凹部の深さは第1の基体1aと同様に0.1〜1
mmとするのがよい。これにより、良好に電子装置を外部ハウジング部材2に取り付けることが可能となり好ましい。
Similarly to the first base body 1a, the second base body 1b has an uneven portion formed on the side surface thereof, so that the side surface of the second base body 1b contacts the
It is good to set it as mm. As a result, it is possible to satisfactorily attach the electronic device to the
また、第2の基体1bの表面には第1の基体1aと同様に、耐食性に優れ、ろう材との
濡れ性に優れた厚さが0.5〜9μmのNi層と厚さが0.5〜5μmのAu層とをめっき法によって順次被着させておくのがよい。これにより、第2の基体1bが酸化腐食するのを有効に防止することができるとともに、第2の基体1bを第1の基体1aにろう付けにより良好に接合することができる。
Similarly to the first substrate 1a, the surface of the second substrate 1b has excellent corrosion resistance and wettability with the brazing material. The Ni layer has a thickness of 0.5 to 9 μm and the thickness is 0.5 to 5 μm. It is preferable to sequentially deposit the Au layer by a plating method. Thereby, it is possible to effectively prevent the second base body 1b from being oxidatively corroded and to favorably join the second base body 1b to the first base body 1a by brazing.
溝10の形成は、搭載される電子部品6で発生した熱による、第1の基体1aと第2の基体1bとの間の熱応力を緩和するだけでなく、蓋体9の接合時の衝撃または接合後の熱応力を緩和したり、蓋体接合部1eで発生した熱を放散しやすくしたりするという効果もある。このような効果を奏するには、第1の基体1aおよび第2の基体1bの少なくとも一方に形成されていればよい。また、蓋体9の接合時の熱によって第2の貫通孔1f内の信号端子5の封止性が損なわれないようにするためのものでもあるので、第2の基体1bに溝10が形成される場合は、第2の基体1bの溝10は、第1の基体1aとの接合部と第2の貫通孔1fとの間に形成するとよい。
The formation of the
図5に示された例においては、第1の基体1aと第2の基体1bとの接合部の内側の、第2の基体1bの主面だけに垂直な溝10が形成されているので、第1の基体1aの搭載部1cから側面(外部)への熱伝導を妨げることがないので好ましい。第1の基体1aと第2の基体1bとの間において熱膨張係数の差が大きい場合は、第1の基体1aの下面の、第1の基体1aと第2の基体1bとの接合部の内側に溝を形成してもよい。
In the example shown in FIG. 5, since the
溝10は、第1の基体1aと第2の基体1bとの間で熱膨張係数が異なる場合に熱応力の緩和のために、第1の基体1aと第2の基体1bとの接合部に沿って全周にわたって形成されているのが好ましい。
The
溝10の幅および深さは、この部分で熱応力を緩和したり、蓋体接合部1eで発生した熱を放散したりできるような寸法にすればよく、第1の基体1aおよび第2の基体1bの材質に応じて設定すればよい。第1の基体1aがSPC材で、第2の基体1bがFe−Ni−Co合金であって、図5に示された例のように第2の基体1bの主面に対して垂直に形成される場合は、溝10の深さを第1の基体1aおよび第2の基体1bの厚みよりも0.1〜0.25mm小さい厚みとなるように、すなわち、溝10の底部の厚みが0.1〜0.25mmとなるように形成すると、溝10の部分による応力緩和の効果が大きくなり、かつ気密性も高いので好ましい。溝10の底部の厚みが薄いほど応力緩和の効果は大きいが、溝10の底部の厚みが0.1mm未満となると、溝10の部分での変形が大きくなり、電子部品6を搭載して使用し
た際に、繰り返し熱応力が加わることで溝10の底部に亀裂が入って気密性が低くなりやすい。同様の理由から、溝10の断面形状は、底面と側面とがなす角部に丸みをつけた形状、またはU字形状が好ましい。
The width and depth of the
信号端子5およびDC端子8は、Fe−Ni−Co合金またはFe−Ni合金等の金属から成り、例えば信号端子5がFe−Ni−Co合金から成る場合は、この合金のインゴット(塊)に圧延加工または打ち抜き加工等の金属加工方法を施すことによって、長さが1.5〜22mm、直径が0.1〜0.5mmの線状に製作される。
The
信号端子5およびDC端子8は、少なくとも下端部が第2の基体1bの第2の貫通孔1fから1〜20mm程度突出するように封止材3を介して固定され、上端部は第1の基体1aの第1の貫通孔1dから0〜2mm程度突出させる。
The
DC端子8は、グラウンド用のものであれば第2の基体1bの下面にろう材等を用いて接続してもよい。
The
封止材3は、ガラスおよびセラミックスなどの無機材料から成り、信号端子5およびD
C端子8と第2の基体1bとの絶縁間隔を確保するとともに、信号端子5およびDC端子8を第2の貫通孔1fに固定する機能を有する。このような封止材3の例としては、ホウケイ酸ガラス,ソーダガラス等のガラスおよびこれらのガラスに封止材3の熱膨張係数および比誘電率を調整するためのセラミックフィラーを加えたものが挙げられ、インピーダンスマッチングのためにその比誘電率を適宜選択する。比誘電率を低下させるフィラーとしては、酸化リチウム等が挙げられる。例えば、特性インピーダンスを50Ωとするには、信号端子5の外径が0.2mmの場合であれば、エアー同軸となる第1の貫通孔1dの内径
を0.46mmとし、第2の貫通孔1fの内径を1.75mmとして、封止材3に比誘電率が6.8
であるものを用いればよい。あるいは信号端子5の外径が0.25mmの場合であれば、第1の貫通孔1dの内径を0.57mmとし、第2の貫通孔1fの内径を2.2mmとして、封止材
3の比誘電率が6.8であるものを用いればよい。また、同じく信号端子5の外径が0.25m
mの場合であれば、第2の貫通孔1fの内径を1.65mmとして、封止材3の比誘電率が5であるものを用いてもよい。封止材3の比誘電率が4であれば、同じ外径0.25mmの場合で、第2の貫通孔1fの内径を1.35mmとすれば特性インピーダンスが50Ωとなる。
The sealing
It has a function of securing an insulation interval between the
What is necessary is just to use. Alternatively, if the outer diameter of the
In the case of m, the inner diameter of the second through hole 1f may be 1.65 mm, and the sealing
封止材3の比誘電率が小さいほど、第2の貫通孔1fを小さくしてもインピーダンスを50Ωに整合することができるため、結果として第2の基体1bの上面に接合する第1の基体1aの大きさの小型化に効果的であり、より小型の電子部品収納用パッケージとすることができる。
As the relative dielectric constant of the sealing
DC端子8を固定するための封止材3は、特にインピーダンスを考慮する必要はなく、気密に封止してDC端子8を固定できるものであればよいので、信号端子5を固定するための封止材3と同じものでなくても構わない。信号端子5の固定と同時にDC端子8の固定を行なうためには、信号端子5を固定するための封止材3と同じガラス、あるいは同程度の融点を有するガラスを用いるとよい。
The sealing
封止材3がガラスから成る場合は、内径が信号端子5またはDC端子8の外径よりも大きく、外径が第2の貫通孔1fの内径よりも小さい筒状になるように粉体プレス法または押し出し成形法等で成形されたガラスの封止材3を第2の貫通孔1fに挿入し、信号端子5またはDC端子8をこの封止材3に挿通し、しかる後、所定の温度に加熱して封止材3を溶融させることによって、信号端子5またはDC端子8が封止材3に埋め込まれるとともに第2の貫通孔1fに第2の基体1bと絶縁されて気密に固定される。信号端子5は、第2の貫通孔1fの中心に固定されることで良好な同軸伝送路となり、高周波信号を良好に伝送することができる。
When the sealing
第1の基体1aと第2の基体1bとの接合は、ろう材またははんだあるいはガラス等の、接合とともに気密に封止することが可能な接合材4を用いて行なえばよい。例えば、金(Au)80質量%−錫(Sn)20質量%、金(Au)88質量%−ゲルマニウム(Ge)12質量%または錫(Sn)96.5質量%−銀(Ag)3.5質量%等の合金はんだを用いたはん
だ箔を接合面の形状に金型等で打ち抜いて作製した接合材4を第1の基体1aと第2の基体1bそれぞれの接合面間に挟んで、窒素中で合金はんだの融点以上に加熱して冷却することで、第1の基体1aと第2の基体1bとが接合される。ろう材としては例えば銀ろう材、ガラスとしては低融点ガラスを用いればよい。また、箔を用いる代わりに接合材4のペーストを接合面に塗布して加熱してもよい。
The first base 1a and the second base 1b may be joined using a joining
第1の基体1aの熱伝導率は第2の基体1bの熱伝導率よりも高いので、例えば、SPC材から成る第1の基体1aと、Fe−Ni−Co合金から成る第2の基体1bとを用いた場合は、SPC材の熱伝導率が80W/(m・K)であり、Fe−Ni−Co合金の熱伝導率が30W/(m・K)であるので、熱伝導率の高い第1の基体1aに電子部品6を搭載した電子装置は、その使用時に電子部品6が発する熱を熱伝導率の高い第1の基体1aを
通して外部に良好に放熱することができるので、信頼性の高い電子装置となる。また、蓋体接合部1eで発生した熱は熱伝導率の大きい第1の基体1a内を伝導しやすく、熱伝導率の小さい第2の基体1bへは伝導し難くなり、この熱によって封止材3に割れまたは剥がれなどが生じることがなくなるので好ましい。図2,図3,図5および図6に示された例のように、第2の基体1bが外周部だけで第1の基体1aに接合されている場合は、このような熱の第2の基体1bへの伝導経路が小さいので、封止材3の割れまたは剥がれなどがより生じ難くなる。
Since the thermal conductivity of the first substrate 1a is higher than that of the second substrate 1b, for example, the first substrate 1a made of an SPC material and the second substrate 1b made of an Fe—Ni—Co alloy. Is used, the thermal conductivity of the SPC material is 80 W / (m · K), and the thermal conductivity of the Fe—Ni—Co alloy is 30 W / (m · K). Since the electronic device in which the
また、SPC材から成る第1の基体1aと、Fe−Ni−Co合金から成る第2の基体1bとの組合せの場合は、Fe−Ni−Co合金から成る第2の基体1bの熱膨張係数は4×10−6〜6×10−6/℃であるので、例えば、比誘電率が4と小さく、熱膨張係数が3×10−6/℃とFe−Ni−Co合金の熱膨張係数に近い、SiO2が72質量%、B2O3が25質量%で残りはその他組成であるガラスが封止材3として好適である。封止材3の比誘電率が小さいので第2の貫通孔1fおよび第2の基体1bを小さくすることができ、電子部品搭載用パッケージ15を小型化することができる。このとき、第1の基体1aも小さいものとなるが、第1の基体1aに形成される第1の貫通孔1dは小さいものでよいので、搭載部1c面積の第1の基体1aの上面全体の面積に占める割合を高くすることができ、電子部品6に発生した熱を第1の基体1aに効率よく伝えることができる。また、比誘電率の小さいガラスは、一般的に熱膨張係数が2×10−6〜5×10−6/℃と小さいので、SPC材(熱膨張係数:10×10−6〜12×10−6/℃)に対して、比較的熱膨張係数の小さい(4×10−6〜6×10−6/℃)Fe−Ni−Co合金を第2の基体1bとして用いれば、第2の貫通孔1f内に充填しても、第2の基体1bとの熱膨張差によって剥がれたり、割れたりすることがない。本発明の実施形態における電子部品搭載用パッケージ15は、電子部品6が搭載される第1の基体1aと、信号端子5が封止材3によって固定される第2の基体1bとを、それぞれに必要な特性を有する別々の材質にすることで、小型で信頼性に優れた電子装置が得られるものとなる。
In the case of the combination of the first base 1a made of SPC material and the second base 1b made of Fe—Ni—Co alloy, the thermal expansion coefficient of the second base 1b made of Fe—Ni—Co alloy. Is 4 × 10 −6 to 6 × 10 −6 / ° C., for example, the dielectric constant is as small as 4 and the thermal expansion coefficient is 3 × 10 −6 / ° C., which is the thermal expansion coefficient of the Fe—Ni—Co alloy. A glass having an SiO 2 content of 72 mass%, a B 2 O 3 content of 25 mass%, and the rest being the other composition is suitable as the sealing
第1の基体1aの下面の搭載部1cに対向する部分から外周部にかけて第1の金属部材1aよりも熱伝導率が高い接合材4を被着する場合、接合材4は、図6に示された例のように、第1の基体1aの下面の全面に被着すると、搭載部1cに対向する部分から外周部への熱伝導経路が最大になり、より効率よく放熱できるので好ましい。また、第2の基体1bの上面と第1の基体1aの下面とを全面で接合材4によって接合する場合には、第2の基体1bの貫通孔1f、少なくとも信号端子5が固定される貫通孔1fと重なる部分を避けて第1の基体1aの下面に接合材4を被着させ、封止材3と接合材4とが接しないようにするのが好ましい。このようにすると、接合材4が導電性のろう材である場合には第2の貫通孔1f内の信号端子5と接合材4との間に浮遊容量が発生することを、また、接合材4がガラス等の誘電体である場合には第2の貫通孔1f内の信号端子5と第1の基体1aとの間の浮遊容量が大きくなることを抑えることができるので、浮遊容量によって特性インピーダンスが変動して信号の伝送特性が低下してしまうことがない。
When the
第1の金属部材1aよりも熱伝導率が高い接合材4としては、例えば、第1の金属部材1aがSPC材である場合には、熱伝導率の高い銀を主成分とする銀ろう、例えば、Ag72質量%−Cu28質量%合金(熱伝導率:374W/(m・K))が挙げられる。この銀ろ
うはJIS(日本工業規格)のBAg−8であるが、これ以外の銀ろうでもよく、また、必要に応じて融点および硬度を低下させるために1質量%〜10質量%程度のインジウム(In)を加えたものでもよい。なお、接合材4の熱膨張率は、市販のTMA(Thermo Mechanical Analysis)装置を用いてJISK7197‐1991に準じた測定方法により、接合材4をJISK7197‐1991に準ずる形状に加工して測定される。
As the
このような本発明の実施形態における電子部品搭載用パッケージ15の搭載部1cに電子
部品6を搭載するとともに、第1の基体1aの蓋体接合部1eに蓋体9を接合することにより、本発明の実施形態における電子装置となる。
The
電子部品6としては、LD(レーザーダイオード)またはPD(フォトダイオ−ド)等の光半導体素子、あるいは半導体集積回路素子を含む半導体素子、あるいは水晶振動子または弾性表面波素子等の圧電素子、あるいは圧力センサー素子,容量素子,抵抗器等が挙げられる。
As the
回路基板6aおよび中継基板6bの絶縁基板は、酸化アルミニウム(アルミナ:Al2O3)質焼結体,窒化アルミニウム(AlN)質焼結体等のセラミックス絶縁材料等から成り、絶縁基板が例えば酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、まずアルミナ(Al2O3)またはシリカ(SiO2),カルシア(CaO),マグネシア(MgO)等の原料粉末に適当な有機溶剤,溶媒を添加混合して泥漿状とし、これをドクターブレード法またはカレンダーロール法等によってシート状に成形してセラミックグリーンシート(以下、グリーンシートともいう)を得る。その後、グリーンシートを所定形状に打ち抜き加工するとともに必要に応じて複数枚積層し、これを約1600℃の温度で焼成することによって製作される。また、その後、必要に応じて絶縁基板の主面に研磨加工を施す場合もある。 The insulating substrates of the circuit board 6a and the relay board 6b are made of a ceramic insulating material such as an aluminum oxide (alumina: Al 2 O 3 ) sintered body and an aluminum nitride (AlN) sintered body. In the case of an aluminum sintered body, first, an appropriate organic solvent and solvent are added and mixed to the raw material powder such as alumina (Al 2 O 3 ) or silica (SiO 2 ), calcia (CaO), magnesia (MgO), etc. Then, it is made into a mud shape and formed into a sheet shape by a doctor blade method or a calender roll method to obtain a ceramic green sheet (hereinafter also referred to as a green sheet). Thereafter, the green sheet is punched into a predetermined shape, and a plurality of sheets are laminated as necessary, and the green sheet is fired at a temperature of about 1600 ° C. Thereafter, the main surface of the insulating substrate may be polished as necessary.
この絶縁基板の上面に配線導体を蒸着法およびフォトリソグラフィ法を用いて形成することで、回路基板6aおよび中継基板6bとなる。なお、配線導体は、例えば密着金属層、拡散防止層および主導体層が順次積層された3層構造の導体層から成る。また、回路基板6aおよび中継基板6bに形成される高周波信号の通る配線導体については、信号端子5の第2の貫通孔1f部分と同様に、例えば特性インピーダンスを50Ωに整合させた線路とする。
By forming a wiring conductor on the upper surface of the insulating substrate using a vapor deposition method and a photolithography method, the circuit substrate 6a and the relay substrate 6b are obtained. The wiring conductor is composed of a conductor layer having a three-layer structure in which, for example, an adhesion metal layer, a diffusion prevention layer, and a main conductor layer are sequentially laminated. In addition, the wiring conductor through which the high-frequency signal is formed on the circuit board 6a and the relay board 6b is a line whose characteristic impedance is matched to 50Ω, for example, similarly to the second through hole 1f portion of the
密着金属層は、セラミックス等から成る絶縁基板との密着性を良好とするという観点からは、チタン(Ti),クロム(Cr),タンタル(Ta),ニオブ(Nb),ニッケル−クロム(Ni−Cr)合金,窒化タンタル(Ta2N)等の熱膨張率がセラミックスと近い金属のうち少なくとも1種より成るのが好ましく、その厚みは0.01〜0.2μm程度が
好ましい。密着金属層の厚みが0.01μm未満では、密着金属層を絶縁基板に強固に密着することが困難となる傾向があり、0.2μmを超えると、成膜時の内部応力によって密着金
属層が絶縁基板から剥離し易くなる傾向がある。
From the viewpoint of improving the adhesion with an insulating substrate made of ceramics or the like, the adhesion metal layer is made of titanium (Ti), chromium (Cr), tantalum (Ta), niobium (Nb), nickel-chromium (Ni- It is preferable that at least one kind of metal having a coefficient of thermal expansion close to that of ceramics, such as a Cr) alloy and tantalum nitride (Ta 2 N), and the thickness thereof is preferably about 0.01 to 0.2 μm. If the thickness of the adhesion metal layer is less than 0.01 μm, it tends to be difficult to firmly adhere the adhesion metal layer to the insulating substrate. If the thickness exceeds 0.2 μm, the adhesion metal layer is insulated by the internal stress during film formation. It tends to become easy to peel off.
また、拡散防止層は、密着金属層と主導体層との相互拡散を防ぐという観点からは、白金(Pt),パラジウム(Pd),ロジウム(Rh),ニッケル(Ni),Ni−Cr合金,Ti−W合金等の熱伝導性の良好な金属のうち少なくとも1種より成ることが好ましく、その厚みは0.05〜1μm程度が好ましい。拡散防止層の厚みが0.05μm未満では、ピンホール等の欠陥が発生して拡散防止層としての機能を果たしにくくなる傾向があり、1μmを超えると、成膜時の内部応力によって拡散防止層が密着金属層から剥離し易く成る傾向がある。なお、拡散防止層にNi−Cr合金を用いる場合は、Ni−Cr合金は絶縁基板4との密着性が良好なため、密着金属層を省くことも可能である。
In addition, the diffusion preventing layer is made of platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), nickel (Ni), Ni—Cr alloy, from the viewpoint of preventing mutual diffusion between the adhesion metal layer and the main conductor layer. It is preferably made of at least one metal having good thermal conductivity such as Ti—W alloy, and the thickness is preferably about 0.05 to 1 μm. If the thickness of the diffusion preventing layer is less than 0.05 μm, defects such as pinholes tend to be generated and it becomes difficult to perform the function as the diffusion preventing layer. There is a tendency to easily peel from the adhesion metal layer. When a Ni—Cr alloy is used for the diffusion preventing layer, the Ni—Cr alloy has good adhesion to the insulating
さらに、主導体層は、電気抵抗の小さい金(Au),Cu,Ni,銀(Ag)の少なくとも1種より成ることが好ましく、その厚みは0.1〜5μm程度が好ましい。主導体層の
厚みが0.1μm未満では、電気抵抗が大きなものとなって回路基板6aの配線導体に要求
される電気抵抗を満足できなくなる傾向があり、5μmを超えると、成膜時の内部応力によって主導体層が拡散防止層から剥離し易く成る傾向がある。なお、Auは貴金属で高価であることから、低コスト化の点でなるべく薄く形成することが好ましい。また、Cuは酸化し易いので、その上にNiおよびAuからなる保護層を被覆してもよい。
Furthermore, the main conductor layer is preferably made of at least one of gold (Au), Cu, Ni, and silver (Ag) having a low electric resistance, and the thickness is preferably about 0.1 to 5 μm. If the thickness of the main conductor layer is less than 0.1 μm, the electric resistance becomes large and the electric resistance required for the wiring conductor of the circuit board 6a tends not to be satisfied. Therefore, the main conductor layer tends to be easily separated from the diffusion preventing layer. Since Au is a noble metal and expensive, it is preferably formed as thin as possible in terms of cost reduction. Further, since Cu is easily oxidized, a protective layer made of Ni and Au may be coated thereon.
図1に示された例のような場合は、例えば、回路基板6aおよび中継基板6bは、下面の接地導体層の表面に、200〜400℃の融点を有する半田または金(Au)−錫(Sn)等の低融点ろう材を、スクリーン印刷法を用いてろう材ペーストを印刷したり、フォトリソグラフィ法によって低融点ろう材膜を形成したり、低融点ろう材のプリフォームを配置したりして、200〜400℃の温度で加熱することによって第1の基体1aに固定される。そして、電子部品6は、搭載部1cに接合された回路基板6aに200〜400℃の融点を有するAu−Sn等のろう材によってろう付けされて固定され、その電極をボンディングワイヤ7を介して回路基板6aの配線導体に接続してこの配線導体と信号端子5とをボンディングワイヤ7で接続することによって信号端子5に電気的に接続される。また、例えば、回路基板6aを第1の基体1a上に搭載した後に電子部品6を回路基板6a上に搭載する場合は、回路基板6aの固定には金−錫(Au−Sn)合金または金−ゲルマニウム(Au−Ge)合金をろう材として用い、電子部品6の固定には、これらより融点の低い錫−銀(Sn−Ag)合金または錫−銀−銅(Sn−Ag−Cu)合金のろう材、または融点より低い温度で硬化可能なAgエポキシ等の樹脂製の接着剤を用いればよい。また、電子部品6を回路基板6a上に搭載した後に回路基板6aを第1の基体1a上に搭載してもよく、その場合は上記とは逆に、回路基板6aを第1の基体1a上に搭載する際に用いるろう材の融点の方を低くすればよい。いずれの場合であっても、回路基板6a上または第1の基体1aの搭載部1c上にろう材ペーストを周知のスクリーン印刷法を用いて印刷したり、フォトリソグラフィ法によってろう材層を形成したり、低融点ろう材のプリフォームを載置するなどすればよい。
In the case of the example shown in FIG. 1, for example, the circuit board 6 a and the relay board 6 b are solder or gold (Au) -tin (melting point of 200 to 400 ° C.) on the surface of the ground conductor layer on the lower surface. Sn) or other low melting point brazing material is printed on the brazing material paste using a screen printing method, a low melting point brazing material film is formed by photolithography, or a low melting point brazing material preform is placed. And it fixes to the 1st base | substrate 1a by heating at the temperature of 200-400 degreeC. The
高出力のLD素子を電子部品6として搭載する場合は、電子部品6をより効果的に冷却して、電子部品6の温度変化によって特性が変化しないように、図1および図2に示された例のように、温度制御素子11を電子部品搭載用パッケージ15の搭載部1c上に搭載して、その上に電子部品6を搭載すればよい。搭載の方法は、上記と同様に、低融点ろう材によって固定すればよい。なお、図1、図2ではLD素子からの出力を反射鏡13で上方に反射させる例を示したが、温度制御素子11上にL型の台座を形成し、LD素子から直接上方に出力させてもかまわない。
When a high-power LD element is mounted as the
蓋体9は、平面視で第1の基体1aの上面の外周領域の蓋体接合部1eの形状に沿った外形で、第1の基体1aの上面の搭載部1cに搭載された電子部品6を覆うような空間を有する形状のものである。電子部品6と対向する部分に光を透過させる窓を設けてもよいし、窓に換えて、または窓に加えて光ファイバおよび戻り光防止用の光アイソレータを接合したものでもよい。
The lid body 9 has an outer shape that conforms to the shape of the lid joint portion 1e in the outer peripheral area of the upper surface of the first base body 1a in plan view, and the
蓋体9は、Fe−Ni−Co合金またはFe−Ni合金、Fe−Mn合金等の金属から成り、これらの板材にプレス加工または打ち抜き加工等の周知の金属加工方法を施すことによって作製される。蓋体9は、第1の基体1aの材料と同程度の熱膨張係数を有するものが好ましく、第1の基体1aの材料と同じものを用いるのがより好ましい。蓋体9が窓を有する場合は、電子部品6と対向する部分に孔を設けたものに、平板状またはレンズ状のガラス製の窓部材を低融点ガラスなどによって接合する。
The lid body 9 is made of a metal such as Fe—Ni—Co alloy, Fe—Ni alloy, or Fe—Mn alloy, and is produced by subjecting these plate materials to a known metal working method such as press working or punching. . The lid 9 preferably has the same thermal expansion coefficient as the material of the first base 1a, and more preferably the same as the material of the first base 1a. When the lid 9 has a window, a plate-like or lens-like glass window member is joined to the one provided with a hole in the portion facing the
蓋体9の第1の基体1aの蓋体接合部1eへの接合は、シーム溶接またはYAGレーザー溶接等の溶接またはAu−Snろう材等のろう材によるろう付け等のろう接によって行なわれる。 The lid 9 is joined to the lid joint 1e of the first base body 1a by welding such as seam welding or YAG laser welding, or brazing such as brazing with a brazing material such as an Au-Sn brazing material.
1・・・・・基体
1a・・・・第1の基体
1b・・・・第2の基体
1c・・・・搭載部
1d・・・・第1の貫通孔
1e・・・・蓋体接合部
1f・・・・第2の貫通孔
2・・・・・外部ハウジング部材
3・・・・・封止材
4・・・・・接合材
5・・・・・信号端子
6・・・・・電子部品
6a・・・・回路基板
6b・・・・中継基板
7・・・・・ボンディングワイヤ
8・・・・・DC端子
9・・・・・蓋体
10・・・・・溝
11・・・・・温度制御素子
12・・・・・PD素子
13・・・・・反射鏡
14・・・・・温度モニタ素子
15・・・・・電子部品搭載用パッケージ
DESCRIPTION OF
10 ... Groove
11 ... Temperature control element
12 ... PD element
13 ... Reflector
14 ... Temperature monitor element
15 ・ ・ ・ ・ ・ Electronic component mounting package
Claims (6)
前記基体に封止材により固定されているとともに前記貫通孔内を通っており、前記基体の前記上面から上方へ突出している上端と前記基体の前記下面から下方へ突出している下端とを有しており、前記電子部品が電気的に接続される端子とを備えており、
前記基体の側面には、凹凸部が形成されていることを特徴とする電子部品搭載用パッケージ。 A base including an upper surface and a lower surface, the electronic component mounting portion provided on the upper surface, and a through hole provided from the upper surface to the lower surface;
An upper end fixed to the base by a sealing material and passing through the through-hole, and protruding upward from the upper surface of the base and a lower end protruding downward from the lower surface of the base And a terminal to which the electronic component is electrically connected,
An electronic component mounting package, wherein a concave and convex portion is formed on a side surface of the base.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012135936A JP2014003076A (en) | 2012-06-15 | 2012-06-15 | Package for mounting electronic component and electronic device using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012135936A JP2014003076A (en) | 2012-06-15 | 2012-06-15 | Package for mounting electronic component and electronic device using the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2014003076A true JP2014003076A (en) | 2014-01-09 |
Family
ID=50036004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012135936A Pending JP2014003076A (en) | 2012-06-15 | 2012-06-15 | Package for mounting electronic component and electronic device using the same |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2014003076A (en) |
-
2012
- 2012-06-15 JP JP2012135936A patent/JP2014003076A/en active Pending
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