JP2013247198A - 磁気抵抗素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】磁性層間のショートを防ぐとともに、磁性層の磁気特性が劣化するのを防ぐ。
【解決手段】磁気抵抗素子は、下地電極11上に積層された磁性層12、絶縁層13及び磁性層14と、磁性層12及び14の側壁に、磁性層12及び14を加工する際に形成された再付着物16とを含む。再付着物16と磁性層12及び14の面内方向端部とには、He、C、F、Ne、Si、P、S、Cl、Ar、Ge、As、Kr、及びSbの群から選択される少なくとも1つの元素が注入されている。
【選択図】 図21
【解決手段】磁気抵抗素子は、下地電極11上に積層された磁性層12、絶縁層13及び磁性層14と、磁性層12及び14の側壁に、磁性層12及び14を加工する際に形成された再付着物16とを含む。再付着物16と磁性層12及び14の面内方向端部とには、He、C、F、Ne、Si、P、S、Cl、Ar、Ge、As、Kr、及びSbの群から選択される少なくとも1つの元素が注入されている。
【選択図】 図21
Description
本発明の実施形態は、磁気抵抗素子及びその製造方法に関する。
磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM:Magnetic Random Access Memory)は、磁化の方向により抵抗値が変化する磁気抵抗(magnetoresistive)効果を利用したMTJ(Magnetic Tunnel Junction)素子を記憶素子として用いている。MTJ素子は、参照層と、記憶層と、参照層及び記憶層に挟まれ、トンネル障壁を作る絶縁層との3層構造を有する。参照層の磁化は一方向に固着されており、書き込み動作を行っても反転しない。一方、記憶層の磁化は書き込み動作により外部から与えられるトルクによって磁化が反転する。
MTJ素子をピラー状に加工する場合、MTJ素子の下地電極が一部エッチング(オーバーエッチング)されるため、MTJ素子の側壁に導電体が再付着し、この再付着物により記憶層及び参照層がショートしてしまう。記憶層及び参照層がショートしてしまうと、MTJ素子にデータを書き込むことができなくなってしまう。
実施形態は、磁性層間のショートを防ぐとともに、磁性層の磁気特性が劣化するのを防ぐことが可能な磁気抵抗素子及びその製造方法を提供する。
実施形態に係る磁気抵抗素子は、下地電極上に積層された第1の磁性層、絶縁層及び第2の磁性層を具備し、前記第1及び第2の磁性層の面内方向端部には、He、C、N、O、F、Ne、Ti、V、Cu、Al、Si、P、S、Cl、Ar、Ga、Ge、As、Kr、Zr、In、Sn、Sb、Pb、及びBiの群から選択される少なくとも1つの元素が注入されている。
実施形態に係る磁気抵抗素子の製造方法は、下地電極上に第1の磁性層、絶縁層及び第2の磁性層が積層された磁気抵抗素子をピラー状に加工する工程と、前記第1及び第2の磁性層の面内方向端部に、磁化を失活するための元素を注入する工程と、前記磁気抵抗素子の側壁に形成された再付着物による前記第1及び第2の磁性層間のショートパスを除去する工程とを具備する。
以下、実施形態について図面を参照して説明する。ただし、図面は模式的または概念的なものであり、各図面の寸法および比率などは必ずしも現実のものと同一とは限らない。以下に示す幾つかの実施形態は、本発明の技術思想を具体化するための装置および方法を例示したものであって、構成部品の形状、構造、配置などによって、本発明の技術思想が特定されるものではない。なお、以下の説明において、同一の機能及び構成を有する要素については、同一符号を付し、重複説明は必要な場合にのみ行う。
[第1の実施形態]
まず、MTJ素子(磁気抵抗素子)の構成について説明する。図1(a)は、第1の実施形態に係るMTJ素子の平面図、図1(b)は、MTJ素子の断面図である。
まず、MTJ素子(磁気抵抗素子)の構成について説明する。図1(a)は、第1の実施形態に係るMTJ素子の平面図、図1(b)は、MTJ素子の断面図である。
MTJ素子は、下から順に、下地電極(下部電極)11、記憶層12、絶縁層(トンネルバリア層)13、参照層14、及びハードマスク層15が積層されて構成されている。記憶層12と参照層14との積層順序は、逆転していても構わない。MTJ素子の平面形状は、例えば円である。
記憶層12及び参照層14はそれぞれ、強磁性材料からなり、膜面に垂直方向の磁気異方性を有し、それらの容易磁化方向は膜面に対して垂直である。すなわち、MTJ素子は、記憶層12及び参照層14の磁化方向がそれぞれ膜面に対して垂直方向を向く、垂直磁化型MTJ素子である。なお、MTJ素子は、記憶層12及び参照層14の磁化方向がそれぞれ面内方向を向く、面内磁化型MTJ素子であってもよい。
記憶層12は、磁化方向が可変である(反転する)。参照層14は、磁化方向が不変である(固着している)。参照層14は、記憶層12よりも十分大きな磁気異方性エネルギーを持つように設計される。また、参照層14は、記憶層12よりも大きなダンピング定数を持つように設計される。磁気異方性やダンピング定数の設定は、材料構成や膜厚を調整することで可能である。このようにして、記憶層12の磁化反転電流を小さくし、参照層14の磁化反転電流を記憶層12のそれよりも大きくする。これにより、所定の書き込み電流に対して、磁化方向が可変の記憶層12と磁化方向が不変の参照層14とを備えたMTJ素子を実現できる。
記憶層12及び参照層14の各々は、例えば、コバルト(Co)、鉄(Fe)、及びニッケル(Ni)の群から選択される1つの元素、又はこの群のうち1つ以上の元素を含む合金から構成される。或いは、記憶層12及び参照層14の各々は、例えば、コバルト(Co)、鉄(Fe)、及びニッケル(Ni)の群から選択される少なくとも1つの元素を含む合金と、ニッケル(Ni)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、及びクロム(Cr)の群から選択される少なくとも1つの元素を含む合金とが交互に積層されて構成される。
下地電極11としては、タンタル(Ta)、窒化チタン(TiN)、ハフニウム(Hf)、又はタングステン(W)などが用いられる。絶縁層13としては、例えば酸化マグネシウム(MgO)が用いられる。ハードマスク層15としては、チタン(Ti)、窒化チタン(TiN)、又は窒化タンタル(TaN)などが用いられる。
ここで、記憶層12の全周囲の端部12Aには、磁化を失活するための元素が注入されている。同様に、参照層14の全周囲の端部14Aには、磁化を失活するための元素が注入されている。すなわち、記憶層12の端部12A及び参照層14の端部14Aは、磁化が失活されている。本実施形態で使う「失活」とは、磁性層の磁化がほぼ消失する場合と、磁性層の磁化が減少する場合とを含むものとする。
MTJ素子を加工する場合、後述するように、MTJ素子の側壁に再付着物が形成され、この再付着物の除去工程、及び/又は再付着物の酸化工程が行われる。この時、MTJ素子の側壁がダメージを受け、記憶層12及び参照層14の磁気特性が劣化する。この結果、記憶層12及び参照層14のダンピング定数が増加(ダンピングダメージと呼ぶ)し、MTJ素子のスピン注入効率が劣化する。このため、本実施形態では、記憶層12の端部12Aに磁化を失活するための元素を注入し、記憶層12の端部12Aの磁化を失活させる。同様に、参照層14の端部14Aに磁化を失活するための元素を注入し、参照層14の端部14Aの磁化を失活させる。これにより、記憶層12の端部12A及び参照層14の端部14Aのダンピングダメージを低減できるため、記憶層12及び参照層14の磁気特性が劣化するのを低減できる。
磁性層の磁化を失活するために使用する元素としては、He(ヘリウム)、C(炭素)、N(窒素)、O(酸素)、F(フッ素)、Ne(ネオン)、Ti(チタン)、V(バナジウム)、Cu(銅)、Al(アルミニウム)、Si(シリコン)、P(リン)、S(硫黄)、Cl(塩素)、Ar(アルゴン)、Ga(ガリウム)、Ge(ゲルマニウム)、As(ヒ素)、Kr(クリプトン)、Zr(ジルコニウム)、In(インジウム)、Sn(スズ)、Sb(アンチモン)、Pb(鉛)、及びBi(ビスマス)の群から選択される少なくとも1つの元素が挙げられる。
本実施形態では、MTJ素子に直接に書き込み電流を流し、この書き込み電流によってMTJ素子の磁化状態を制御するスピン注入書き込み方式が適用される。MTJ素子は、記憶層12と参照層14との磁化の相対関係が平行か反平行かによって、低抵抗状態と高抵抗状態とのいずれかをとることができる。
MTJ素子に対して、記憶層12から参照層14へ向かう書き込み電流を流すと、記憶層12と参照層14との磁化の相対関係が平行になる。この平行状態の場合、MTJ素子の抵抗値は最も低くなり、MTJ素子は低抵抗状態に設定される。MTJ素子の低抵抗状態を、例えばデータ“0”と規定する。
一方、MTJ素子に対して、参照層14から記憶層12へ向かう書き込み電流を流すと、記憶層12と参照層14との磁化の相対関係が反平行になる。この反平行状態の場合、MTJ素子の抵抗値は最も高くなり、MTJ素子は高抵抗状態に設定される。MTJ素子の高抵抗状態を、例えばデータ“1”と規定する。
これにより、MTJ素子を1ビットデータを記憶可能な記憶素子として使用することができる。MTJ素子の抵抗状態とデータとの割り当ては任意に設定可能である。MTJ素子からデータを読み出す場合は、例えば、MTJ素子に読み出し電圧を印加し、この時にMTJ素子に流れる読み出し電流に基づいてMTJ素子の抵抗値を検知する。この読み出し電流は、スピン注入によって磁化反転する閾値よりも十分小さい値に設定される。
(製造方法)
次に、MTJ素子の製造方法について図面を参照しながら説明する。
まず、図2に示すように、選択トランジスタなどの素子に電気的に接続されたコンタクト及び層間絶縁膜(図示せず)上に、下地電極11、記憶層12、絶縁層(トンネルバリア層)13、参照層14、及びハードマスク層15を順に堆積する。続いて、リソグラフィ及び例えばRIE(Reactive Ion Etching)法を用いて、MTJ素子の最終的な平面形状と同じ平面形状になるようにハードマスク層15を加工する。
次に、MTJ素子の製造方法について図面を参照しながら説明する。
まず、図2に示すように、選択トランジスタなどの素子に電気的に接続されたコンタクト及び層間絶縁膜(図示せず)上に、下地電極11、記憶層12、絶縁層(トンネルバリア層)13、参照層14、及びハードマスク層15を順に堆積する。続いて、リソグラフィ及び例えばRIE(Reactive Ion Etching)法を用いて、MTJ素子の最終的な平面形状と同じ平面形状になるようにハードマスク層15を加工する。
続いて、例えばIBE(Ion Beam Etching)法を用い、ハードマスク層15をマスクとして、記憶層12、絶縁層13、及び参照層14をピラー状に加工する。図3は、このMTJ側壁加工を説明する図であり、図3(a)が平面図、図3(b)が断面図である。このMTJ側壁加工において、記憶層12まで正確に加工するために、下地電極11を掘り込むまでIBE工程(オーバーエッチング)を行う。この時、エッチングされた導電体がMTJ素子の側壁に再付着し、MTJ素子の側壁に再付着物16が形成される。再付着物16は、例えば、MTJ素子の全周囲に形成される。再付着物16には、下地電極11及び記憶層12の材料が含まれる。この段階では、記憶層12と参照層14とが再付着物16を介してショートしている。
続いて、MTJ素子の全周囲の端部に、磁性層の磁化を失活するための元素(Ge(ゲルマニウム)やSi(シリコン)など)を注入する。図4は、この元素注入工程を説明する断面図であり、MTJ素子の端部及び再付着物16の一部分を抽出して示した断面図である。MTJ素子の全周囲の端部の様子は図4と同じである。この元素注入工程により、MTJ素子の全周囲の端部と、この端部に接する再付着物16の一部とに、磁化を失活するための元素が注入される。図4に示したサンドハッチングは、磁化を失活するための元素が注入された領域である元素注入領域17を表している。元素注入工程における注入角度は、例えば、膜面に垂直方向に対して0乃至45°の範囲である。
MTJ素子の端部に注入された元素は、失活種として働き、磁性層の端部の磁化を失活させる。すなわち、記憶層12のうち元素が注入された端部12Aは、磁化が失活する。同様に、参照層14のうち元素が注入された端部14Aは、磁化が失活する。
続いて、図5に示すように、例えばIBE法を用いて、MTJ素子の側壁に形成された再付着物16を除去する。これにより、記憶層12及び参照層14間のショートパスが除去されるため、記憶層12及び参照層14がショートするのを防ぐことができる。なお、図5では、再付着物16が完全に除去しきれず、再付着物16の一部がMTJ素子の側壁に残っている。これは、MTJ素子の側壁に再付着物16が一様に再付着することは考え難く、よって、部分的に厚さが異なる再付着物16を完全に除去しきれないことを想定している。
続いて、図6に示すように、部分的に残った再付着物16を酸化する。これにより、再付着物16が絶縁性の酸化物(再付着酸化物)になるため、記憶層12及び参照層14がショートするのを確実に防ぐことができる。
ここで、再付着物の除去工程、及び再付着物の酸化工程のいずれか1つ又は両方により、MTJ素子の側壁がダメージを受け、記憶層12及び参照層14の磁気特性が劣化する。この結果、記憶層12及び参照層14のダンピング定数が増加(ダンピングダメージ)し、MTJ素子のスピン注入効率が劣化する。しかし、本実施形態では、記憶層12のうち元素が注入された端部(失活部分)12Aは、磁化が失活しているので、記憶層12のダンピングダメージを低減できる。同様に、参照層14のうち元素が注入された端部(失活部分)14Aは、磁化が失活しているので、参照層14のダンピングダメージを低減できる。なお、再付着物の除去工程、及び再付着物の酸化工程以外の工程に起因してMTJ素子の側壁がダメージを受けている場合でも、記憶層12及び参照層14のダンピングダメージを低減できる。
なお、再付着物の酸化工程において磁性層(記憶層12及び参照層14)に注入された元素も酸化されるが、この酸化物(GeO2やSiO2など)も失活種として働き、磁性層の端部の磁化を失活する効果を保持するため磁性層のダンピングダメージを低減できる。また、注入元素が酸化されることで、相対的に磁性層の酸化を減少させるので、酸化による磁性層のダンピングダメージを低減できる。
以下に、磁性層のダンピングダメージが低減できる理由について実験結果を参照しながら説明する。なお、以下の実験結果の説明では、下地電極上に磁性層を堆積し、この磁性層に膜面垂直方向、又は膜面垂直方向と0<θ<90の角度で磁化を失活するための元素を注入している。よって、以下でいう磁性層の膜厚とは、図4の横方向の幅を意味している。
図7は、磁化を失活するための元素を注入する前後における磁性層の磁化を説明するグラグである。図7の横軸は、磁性層の膜厚(nm)であり、縦軸は、飽和磁化Msと膜厚tとの積Ms*t(emu/cm2)である。「*」は掛け算記号である。図7には、磁化を失活するための元素を磁性層に注入する前のグラフ(as dep)と、磁化を失活するための元素を磁性層に注入した後のグラフとを載せている。
図7から理解できるように、磁化を失活するための元素を磁性層に注入すると、元素注入前の磁性層に比べて、膜厚2nm程度分の磁化が失活している。この実験結果から、Ge(ゲルマニウム)やSi(シリコン)などの元素を磁性層に注入することで、元素が注入された部分の磁化を失活化できることが分かる。
図8は、再付着物をエッチング及び酸化した場合における磁性層の実効ダンピング定数を説明するグラフである。図8の横軸は、磁性生存層の膜厚(nm)であり、縦軸は、実効ダンピング定数(α effective)である。磁性生存層とは、磁性層のうち磁化が失活されていない部分を指す。また、実効ダンピング定数とは、一部の磁化が失活した磁性層に対して実際に測定したダンピング定数である。図8には、磁性層上に再付着物が形成された状態で、再付着物の除去工程(エッチング工程)及び再付着物の酸化工程を実施していない場合のグラフと、再付着物の除去工程及び再付着物の酸化工程を実施した場合のグラフとを載せている。図8からは、再付着物の除去工程及び再付着物の酸化工程を実施した場合に、磁性層の実効ダンピング定数が増加することが分かる。
図9は、磁化を失活するための元素を注入する前後における磁性層の実効ダンピング定数を説明するグラグである。図9の横軸は、磁性生存層の膜厚(nm)であり、縦軸は、実効ダンピング定数(α effective)である。図8には、磁化を失活するための元素を磁性層に注入する前のグラフ(as dep)と、磁化を失活するための元素を磁性層に注入した後のグラフとを載せている。図9からは、磁化を失活するための元素を磁性層に注入した場合でも、元素注入前に比べて、磁性層の実効ダンピング定数がそれほど増加しないことが分かる。
図7乃至図9の実験結果を総括すると、磁性層(記憶層12及び参照層14)の側壁に形成された再付着物16を除去及び酸化すると、磁性層の端部の磁気特性が劣化してダンピング定数が増加する。しかし、Ge(ゲルマニウム)やSi(シリコン)などの元素を磁性層に注入して磁性層の端部の磁化を失活させることで、磁性層のダンピングダメージを低減できることが裏付けられる。
(効果)
以上詳述したように第1の実施形態では、下地電極11上に記憶層12、絶縁層13及び参照層14が積層されたMTJをピラー状に加工した後、記憶層12及び参照層14の側壁(面内方向端部)に、磁化を失活するための元素を注入して記憶層12の端部12A及び参照層14の端部14Aの磁化を失活させる。そして、磁気抵抗素子の側壁に形成された再付着物16を除去(エッチング)及び酸化するようにしている。
以上詳述したように第1の実施形態では、下地電極11上に記憶層12、絶縁層13及び参照層14が積層されたMTJをピラー状に加工した後、記憶層12及び参照層14の側壁(面内方向端部)に、磁化を失活するための元素を注入して記憶層12の端部12A及び参照層14の端部14Aの磁化を失活させる。そして、磁気抵抗素子の側壁に形成された再付着物16を除去(エッチング)及び酸化するようにしている。
従って第1の実施形態によれば、磁性層間のショートの原因となる再付着物16を除去及び酸化することができるため、磁性層間のショートを防ぐことができる。また、再付着物16の除去工程及び酸化工程によって、磁性層の端部の磁気特性が劣化してダンピング定数が増加することになるが、予め磁性層の端部の磁化を失活化しているので、磁性層の磁気特性が劣化するのを防ぐことができ、かつ磁性層のダンピング定数が増加するのを防ぐことができる。この結果、MTJ素子のスピン注入効率が劣化するのを低減できる。
なお、再付着物16の酸化工程において磁性層に注入された元素も酸化されるが、この元素の酸化物も失活種として働き、磁性層の端部の磁化を失活される効果を保持する。また、注入元素が酸化されることで、相対的に磁性層の酸化を減少させるので、酸化工程によって磁性層のダンピング定数が増加するのを防ぐことができる。
[第2の実施形態]
第2の実施形態は、再付着物の除去工程及び再付着物の酸化工程を実施して記憶層12及び参照層14間のショートパスを除去した後に、記憶層12の端部及び参照層14の端部の磁化を失活化することで、ダンピングダメージを低減するようにしている。
第2の実施形態は、再付着物の除去工程及び再付着物の酸化工程を実施して記憶層12及び参照層14間のショートパスを除去した後に、記憶層12の端部及び参照層14の端部の磁化を失活化することで、ダンピングダメージを低減するようにしている。
以下に、第2の実施形態に係るMTJ素子の製造方法について図面を参照しながら説明する。図3までの製造工程は、第1の実施形態と同じである。
続いて、図10に示すように、例えばIBE法を用いて、MTJ素子の側壁に形成された再付着物16を除去する。これにより、記憶層12及び参照層14間のショートパスが除去されるため、記憶層12及び参照層14がショートするのを防ぐことができる。なお、図10では、再付着物16が完全に除去しきれず、再付着物16の一部がMTJ素子の側壁に残っている。この再付着物の除去工程によって、記憶層12の全周囲の端部12Aは、磁気特性が劣化し、ダンピングダメージが大きくなる。同様に、この再付着物の除去工程によって、参照層14の全周囲の端部14Aは、磁気特性が劣化し、ダンピングダメージが大きくなる。
続いて、図11に示すように、部分的に残った再付着物16を酸化する。これにより、再付着物16が絶縁性の酸化物(再付着酸化物)になるため、記憶層12及び参照層14がショートするのを確実に防ぐことができる。この再付着物の酸化工程によって、記憶層12の端部12A及び参照層14の端部14Aは、よりダンピングダメージが大きくなる。
続いて、図12に示すように、MTJ素子の全周囲の端部に、磁性層の磁化を失活するための元素(Ge(ゲルマニウム)やSi(シリコン)など)を注入する。この元素注入工程により、記憶層12の全周囲の端部12Aと、参照層14の全周囲の端部14Aと、再付着物16の一部とに、磁化を失活するための元素が注入される。図12に示したサンドハッチングは、磁化を失活するための元素が注入された領域である元素注入領域17を表している。
記憶層12のうち元素が注入された端部12Aは、磁化が失活する。同様に、参照層14のうち元素が注入された端部14Aは、磁化が失活する。再付着物の除去工程及び再付着物の酸化工程によって記憶層12の端部及び参照層14の端部のダンピングダメージが大きくなるが、その後、記憶層12の端部及び参照層14の端部の磁化を失活化しているので、記憶層12の端部及び参照層14の端部のダンピングダメージを低減できる。
このように、先に、再付着物16の除去工程及び再付着物16の酸化工程を行い、その後、記憶層12の端部及び参照層14の端部の磁化を失活化するようにした場合でも、第1の実施形態と同じ効果が得られる。
[第3の実施形態]
第3の実施形態は、記憶層12の端部及び参照層14の端部の磁化を失活化した後に、MTJ素子の側壁に形成された再付着物の除去工程のみを行うようにしている。
第3の実施形態は、記憶層12の端部及び参照層14の端部の磁化を失活化した後に、MTJ素子の側壁に形成された再付着物の除去工程のみを行うようにしている。
以下に、第3の実施形態に係るMTJ素子の製造方法について図面を参照しながら説明する。図3までの製造工程は、第1の実施形態と同じである。
続いて、図13に示すように、MTJ素子の全周囲の端部に、磁性層の磁化を失活するための元素(Ge(ゲルマニウム)やSi(シリコン)など)を注入する。この元素注入工程により、記憶層12の全周囲の端部12Aと、参照層14の全周囲の端部14Aと、再付着物16の一部とに、磁性層の磁化を失活するための元素が注入される。図13に示したサンドハッチングは、磁化を失活するための元素が注入された領域である元素注入領域17を表している。記憶層12のうち元素が注入された端部12Aは、磁化が失活する。同様に、参照層14のうち元素が注入された端部14Aは、磁化が失活する。
続いて、図14に示すように、例えばIBE法を用いて、MTJ素子の側壁に形成された再付着物16を除去する。これにより、記憶層12及び参照層14間のショートパスが除去されるため、記憶層12及び参照層14がショートするのを防ぐことができる。
また、再付着物16の除去工程により、MTJ素子の側壁が磁気的ダメージを受ける。しかし、記憶層12の端部及び参照層14の端部は、磁化が失活している。これにより、記憶層12の端部及び参照層14の端部のダンピングダメージを低減できるため、記憶層12及び参照層14の磁気特性が劣化するのを低減できる。
[第4の実施形態]
第4の実施形態は、MTJ素子の側壁に形成された再付着物の除去工程を行った後に、記憶層12の端部及び参照層14の端部の磁化を失活化するようにしている。
第4の実施形態は、MTJ素子の側壁に形成された再付着物の除去工程を行った後に、記憶層12の端部及び参照層14の端部の磁化を失活化するようにしている。
以下に、第4の実施形態に係るMTJ素子の製造方法について図面を参照しながら説明する。図3までの製造工程は、第1の実施形態と同じである。
続いて、図15に示すように、例えばIBE法を用いて、MTJ素子の側壁に形成された再付着物16を除去する。これにより、記憶層12及び参照層14間のショートパスが除去されるため、記憶層12及び参照層14がショートするのを防ぐことができる。この再付着物の除去工程により、MTJ素子の側壁がダメージを受け、記憶層12及び参照層14の磁気特性が劣化する。この結果、記憶層12及び参照層14のダンピングダメージが大きくなり、MTJ素子のスピン注入効率が劣化する。図15に示した記憶層12の端部12A及び参照層14の端部14Aは、ダンピングダメージを受けた領域を示している。
続いて、図16に示すように、MTJ素子の全周囲の端部に、磁性層の磁化を失活するための元素(Ge(ゲルマニウム)やSi(シリコン)など)を注入する。この元素注入工程により、記憶層12の全周囲の端部12Aと、参照層14の全周囲の端部14Aと、再付着物16の一部とに、磁性層の磁化を失活するための元素が注入される。図16に示したサンドハッチングは、磁化を失活するための元素が注入された領域である元素注入領域17を表している。記憶層12のうち元素が注入された端部12Aは、磁化が失活する。同様に、参照層14のうち元素が注入された端部14Aは、磁化が失活する。
第4の実施形態では、再付着物16の除去工程により記憶層12の端部及び参照層14の端部が磁気的ダメージを受けた場合でも、磁気的ダメージを受けた部分の磁化を失活化できる。これにより、記憶層12の端部及び参照層14の端部のダンピングダメージを低減できるため、記憶層12及び参照層14の磁気特性が劣化するのを低減できる。
このように、先に、再付着物16の除去工程を行い、その後、記憶層12の端部及び参照層14の端部の磁化を失活化するようにした場合でも、第3の実施形態と同じ効果が得られる。
[第5の実施形態]
第5の実施形態は、記憶層12の端部及び参照層14の端部の磁化を失活化した後に、MTJ素子の側壁に形成された再付着物の酸化工程のみを行うようにしている。
第5の実施形態は、記憶層12の端部及び参照層14の端部の磁化を失活化した後に、MTJ素子の側壁に形成された再付着物の酸化工程のみを行うようにしている。
以下に、第5の実施形態に係るMTJ素子の製造方法について図面を参照しながら説明する。図3までの製造工程は、第1の実施形態と同じである。
続いて、図17に示すように、MTJ素子の全周囲の端部に、磁性層の磁化を失活するための元素(Ge(ゲルマニウム)やSi(シリコン)など)を注入する。この元素注入工程により、記憶層12の全周囲の端部12Aと、参照層14の全周囲の端部14Aと、再付着物16の一部とに、磁性層の磁化を失活するための元素が注入される。図17に示したサンドハッチングは、磁化を失活するための元素が注入された領域である元素注入領域17を表している。記憶層12のうち元素が注入された端部12Aは、磁化が失活する。同様に、参照層14のうち元素が注入された端部14Aは、磁化が失活する。
続いて、図18に示すように、再付着物16を酸化する。これにより、再付着物16が絶縁性の酸化物(再付着酸化物)になるため、記憶層12及び参照層14がショートするのを防ぐことができる。
また、再付着物16の酸化工程により、MTJ素子の側壁が磁気的ダメージを受ける。しかし、記憶層12の端部及び参照層14の端部は、磁化が失活している。これにより、記憶層12の端部及び参照層14の端部のダンピングダメージを低減できるため、記憶層12及び参照層14の磁気特性が劣化するのを低減できる。
また、再付着物16の酸化工程では、注入元素が酸化されることで、相対的に磁性層(記憶層12及び参照層14)の酸化を減少させることができる。これにより、酸化による磁性層のダンピングダメージを低減できる。
[第6の実施形態]
第6の実施形態は、MTJ素子の側壁に形成された再付着物の酸化工程を行った後に、記憶層12の端部及び参照層14の端部の磁化を失活化するようにしている。
第6の実施形態は、MTJ素子の側壁に形成された再付着物の酸化工程を行った後に、記憶層12の端部及び参照層14の端部の磁化を失活化するようにしている。
以下に、第6の実施形態に係るMTJ素子の製造方法について図面を参照しながら説明する。図3までの製造工程は、第1の実施形態と同じである。
続いて、図19に示すように、再付着物16を酸化する。これにより、再付着物16が絶縁性の酸化物(再付着酸化物)になるため、記憶層12及び参照層14がショートするのを防ぐことができる。この再付着物16の酸化工程により、MTJ素子の側壁が磁気的ダメージを受け、記憶層12及び参照層14の磁気特性が劣化する。この結果、記憶層12及び参照層14のダンピングダメージが大きくなり、MTJ素子のスピン注入効率が劣化する。
続いて、図20に示すように、MTJ素子の全周囲の端部に、磁性層の磁化を失活するための元素(Ge(ゲルマニウム)やSi(シリコン)など)を注入する。この元素注入工程により、記憶層12の全周囲の端部12Aと、参照層14の全周囲の端部14Aと、再付着物16の一部とに、磁性層の磁化を失活するための元素が注入される。図20に示したサンドハッチングは、磁化を失活するための元素が注入された領域である元素注入領域17を表している。
このように、第6の実施形態では、再付着物16の酸化工程により記憶層12の端部及び参照層14の端部が磁気的ダメージを受けた場合でも、磁気的ダメージを受けた部分の磁化を失活化できる。これにより、記憶層12の端部及び参照層14の端部のダンピングダメージを低減できるため、記憶層12及び参照層14の磁気特性が劣化するのを低減できる。
[第7の実施形態]
第7の実施形態は、MTJ素子の側壁に形成された再付着物に特定の元素を注入することで再付着物を高抵抗化し、記憶層12及び参照層14がショートするのを防ぐようにしている。
第7の実施形態は、MTJ素子の側壁に形成された再付着物に特定の元素を注入することで再付着物を高抵抗化し、記憶層12及び参照層14がショートするのを防ぐようにしている。
図21(a)は、第7の実施形態に係るMTJ素子の平面図、図21(b)は、MTJ素子の断面図である。MTJ素子は、下から順に、下地電極(下部電極)11、記憶層12、絶縁層(トンネルバリア層)13、参照層14、及びハードマスク層15が積層されて構成されている。
MTJ素子の側壁には、MTJ素子の側壁加工時に形成される再付着物16が設けられている。再付着物16には、下地電極11及び記憶層12の材料が含まれる。また、再付着物16には、再付着物16の電気抵抗を増大させかつ磁性層の磁化を失活するための元素が注入されている。
さらに、記憶層12の全周囲の端部12Aには、再付着物16に注入された元素と同じ元素が注入されている。同様に、参照層14の全周囲の端部14Aには、再付着物16に注入された元素と同じ元素が注入されている。すなわち、記憶層12の端部12A及び参照層14の端部14Aは、磁化が失活されている。
再付着物16の電気抵抗を増大させかつ磁性層の磁化を失活する元素としては、He(ヘリウム)、C(炭素)、F(フッ素)、Ne(ネオン)、Si(シリコン)、P(リン)、S(硫黄)、Cl(塩素)、Ar(アルゴン)、Ge(ゲルマニウム)、As(ヒ素)、Kr(クリプトン)、及びSb(アンチモン)の群から選択される少なくとも1つの元素が挙げられる。
このような構造を有するMTJ素子では、再付着物16の電気抵抗を増大させることができるので、記憶層12及び参照層14がショートするのを防ぐことができる。
次に、第7の実施形態に係るMTJ素子の製造方法について図面を参照しながら説明する。図3までの製造工程は、第1の実施形態と同じである。
続いて、図22に示すように、再付着物16に、再付着物の電気抵抗を増大させかつ磁性層の磁化を失活するための元素(Ge(ゲルマニウム)やSi(シリコン)など)を注入する。この元素注入工程では、元素を再付着物16の全体に注入する必要がある。このため、記憶層12の端部12A及び参照層14の端部14Aにも元素が注入され、記憶層12の端部12A及び参照層14の端部14Aは、磁化が失活する。
これにより、再付着物16の電気抵抗が増大するため、記憶層12及び参照層14がショートするのを防ぐことができる。また、記憶層12の端部12A及び参照層14の端部14Aは、磁化が失活しているので、記憶層12及び参照層14の磁気特性が劣化することはない。
また、本実施形態では、再付着物16の除去工程及び酸化工程を行う必要がない。これにより、記憶層12及び参照層14の磁気特性が劣化するのを防ぐことができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
11…下地電極、12…記憶層、13…絶縁層、14…参照層、15…ハードマスク層、16…再付着物、17…元素注入領域。
Claims (7)
- 下地電極上に積層された第1の磁性層、絶縁層及び第2の磁性層と、
前記第1及び第2の磁性層の側壁に、前記第1及び第2の磁性層を加工する際に形成された再付着物と、
を具備し、
前記再付着物と前記第1及び第2の磁性層の面内方向端部とには、He、C、F、Ne、Si、P、S、Cl、Ar、Ge、As、Kr、及びSbの群から選択される少なくとも1つの元素が注入されていることを特徴とする磁気抵抗素子。 - 下地電極上に積層された第1の磁性層、絶縁層及び第2の磁性層を具備し、
前記第1及び第2の磁性層の面内方向端部には、He、C、N、O、F、Ne、Ti、V、Cu、Al、Si、P、S、Cl、Ar、Ga、Ge、As、Kr、Zr、In、Sn、Sb、Pb、及びBiの群から選択される少なくとも1つの元素が注入されていることを特徴とする磁気抵抗素子。 - 下地電極上に第1の磁性層、絶縁層及び第2の磁性層が積層された磁気抵抗素子をピラー状に加工する工程と、
前記第1及び第2の磁性層の面内方向端部に、磁化を失活するための元素を注入する工程と、
前記磁気抵抗素子の側壁に形成された再付着物による前記第1及び第2の磁性層間のショートパスを除去する工程と、
を具備することを特徴とする磁気抵抗素子の製造方法。 - 前記ショートパスを除去する工程は、前記再付着物を除去、酸化、又はその両方を行う工程を含むことを特徴とする請求項3に記載の磁気抵抗素子の製造方法。
- 前記元素は、He、C、N、O、F、Ne、Ti、V、Cu、Al、Si、P、S、Cl、Ar、Ga、Ge、As、Kr、Zr、In、Sn、Sb、Pb、及びBiの群から選択される少なくとも1つの元素からなることを特徴とする請求項3又は4に記載の磁気抵抗素子の製造方法。
- 下地電極上に第1の磁性層、絶縁層及び第2の磁性層が積層された磁気抵抗素子をピラー状に加工する工程と、
前記磁気抵抗素子の側壁に形成された再付着物及び前記第1及び第2の磁性層の面内方向端部に、前記再付着物の電気抵抗を高くしかつ磁化を失活するための元素を注入する工程と、
を具備することを特徴とする磁気抵抗素子の製造方法。 - 前記元素は、He、C、F、Ne、Si、P、S、Cl、Ar、Ge、As、Kr、及びSbの群から選択される少なくとも1つの元素からなることを特徴とする請求項6に記載の磁気抵抗素子の製造方法。
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