JP2013243310A - 表面保護テープ及びウエーハの加工方法 - Google Patents
表面保護テープ及びウエーハの加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013243310A JP2013243310A JP2012116817A JP2012116817A JP2013243310A JP 2013243310 A JP2013243310 A JP 2013243310A JP 2012116817 A JP2012116817 A JP 2012116817A JP 2012116817 A JP2012116817 A JP 2012116817A JP 2013243310 A JP2013243310 A JP 2013243310A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- adhesive layer
- resin
- annular
- outer peripheral
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 title claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 50
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 39
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 39
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 74
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 11
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 10
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- -1 polyethylene vinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Dicing (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
【解決手段】デバイス領域とデバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを表面に有するウエーハ11の表面保護テープ10であって、略透明な材質から形成された基材シート12と、ウエーハ11の外周余剰領域と対応する環状粘着層14と、を備え、環状粘着層14は、環状のシート材16と、シート材16の一方の面上に配設される第1の粘着層18と、シート材16の他方の面上に配設さる第2の粘着層20と、を含み、第1の粘着層18は紫外線の照射によって粘着力が低下し、第2の粘着層20は粘着力の変化はなく、表面保護テープ10に、基材シート12側から紫外線を照射して表面保護テープ10の基材シート12を環状粘着層14から剥離し、ウエーハ11に外周余剰領域に貼着された環状粘着層14のみを残存可能とする。
【選択図】図3
Description
11 半導体ウエーハ
12 基材シート
14 環状粘着層
15 バンプ付きデバイス
17 デバイス領域
18 第1粘着層
19 外周余剰領域
20 第2粘着層
21 バンプ
32 紫外線ランプ
38 樹脂
48 バイト工具
52 切削ブレード
Claims (3)
- 複数のデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを表面に有するウエーハの表面に貼着される表面保護テープであって、
ウエーハと同等の直径を有する略透明な材質から形成された基材シートと、該基材シートの片面の周辺部に配設され該ウエーハの該外周余剰領域と対応する環状粘着層と、を備え、
該環状粘着層は、該外周余剰領域と対応する環状のシート材と、該シート材の一方の面上に配設され該シート材と該基材シートとを接着する第1の粘着層と、該シート材の他方の面上に配設され該シート材と該ウエーハとを接着する第2の粘着層と、を含み、
該第1の粘着層は紫外線の照射によって粘着力が低下し、
該第2の粘着層は紫外線の照射による粘着力の変化はなく、
該ウエーハに貼着された該表面保護テープに、該基材シート側から紫外線を照射して該表面保護テープの該基材シートを該環状粘着層から剥離し、該ウエーハに該外周余剰領域に貼着された該環状粘着層のみを残存可能なことを特徴とする表面保護テープ。 - 複数のデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを表面に有するウエーハの加工方法であって、
請求項1記載の表面保護テープをウエーハの表面に貼着する貼着ステップと、
該貼着ステップを実施した後、該表面保護テープを介して該ウエーハをチャックテーブルで保持し、露出した該ウエーハの裏面を研削する研削ステップと、
該基材シート側から該表面保護テープに紫外線を照射する紫外線照射ステップと、
該紫外線照射ステップを実施した後、該表面保護テープの該基材シートを該環状粘着層から剥離して該ウエーハの該外周余剰領域に該環状粘着層を残存させる剥離ステップと、
該外周余剰領域に残存した該環状粘着層と該ウエーハの該デバイス領域の表面とから画成される円形凹部に樹脂を充填して固化させ、樹脂モールドウエーハを形成する樹脂封入ステップと、
該樹脂封入ステップ実施後、モールド樹脂の表面をバイトで切削して該モールド樹脂を一様な厚みに形成する切削ステップと、
該切削ステップ実施後、該樹脂モールドウエーハを個々のデバイスチップに分割する分割ステップと、
を備えたことを特徴とするウエーハの加工方法。 - 該デバイス領域に形成された各デバイスは複数のバンプを有しており、
該樹脂封入ステップでは、該バンプが埋没するまで該円形凹部中に樹脂を充填し、
該切削ステップでは、該モールド樹脂を該バンプとともに切削することにより該バンプの高さを一様に揃えることを特徴とする請求項2記載のウエーハの加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012116817A JP5907805B2 (ja) | 2012-05-22 | 2012-05-22 | 表面保護テープ及びウエーハの加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012116817A JP5907805B2 (ja) | 2012-05-22 | 2012-05-22 | 表面保護テープ及びウエーハの加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013243310A true JP2013243310A (ja) | 2013-12-05 |
JP5907805B2 JP5907805B2 (ja) | 2016-04-26 |
Family
ID=49843904
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012116817A Active JP5907805B2 (ja) | 2012-05-22 | 2012-05-22 | 表面保護テープ及びウエーハの加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5907805B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016107630A1 (en) * | 2014-12-29 | 2016-07-07 | Karl Heinz Priewasser | Protective sheeting for use in processing a semiconductor-sized wafer and semiconductor-sized wafer processing method |
KR20180121365A (ko) * | 2017-04-28 | 2018-11-07 | 가부시기가이샤 디스코 | 웨이퍼의 가공 방법 |
JP7455470B2 (ja) | 2020-03-13 | 2024-03-26 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008235527A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Fujitsu Ltd | 部品内蔵基板の製造方法 |
JP2009141265A (ja) * | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Lintec Corp | 表面保護用シートおよび半導体ウエハの研削方法 |
JP2010027686A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Lintec Corp | 表面保護用シートおよび半導体ウエハの研削方法 |
JP2010174067A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 表面保護用粘着テープ |
-
2012
- 2012-05-22 JP JP2012116817A patent/JP5907805B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008235527A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Fujitsu Ltd | 部品内蔵基板の製造方法 |
JP2009141265A (ja) * | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Lintec Corp | 表面保護用シートおよび半導体ウエハの研削方法 |
JP2010027686A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Lintec Corp | 表面保護用シートおよび半導体ウエハの研削方法 |
JP2010174067A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 表面保護用粘着テープ |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016107630A1 (en) * | 2014-12-29 | 2016-07-07 | Karl Heinz Priewasser | Protective sheeting for use in processing a semiconductor-sized wafer and semiconductor-sized wafer processing method |
CN107112256A (zh) * | 2014-12-29 | 2017-08-29 | 卡尔·海因茨·普利瓦西尔 | 在处理半导体尺寸晶片中使用的保护片及半导体尺寸晶片处理方法 |
US9905453B2 (en) | 2014-12-29 | 2018-02-27 | Disco Corporation | Protective sheeting for use in processing a semiconductor-sized wafer and semiconductor-sized wafer processing method |
KR20180121365A (ko) * | 2017-04-28 | 2018-11-07 | 가부시기가이샤 디스코 | 웨이퍼의 가공 방법 |
KR102450305B1 (ko) | 2017-04-28 | 2022-09-30 | 가부시기가이샤 디스코 | 웨이퍼의 가공 방법 |
JP7455470B2 (ja) | 2020-03-13 | 2024-03-26 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5907805B2 (ja) | 2016-04-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5877663B2 (ja) | ウエーハの研削方法 | |
JP2017079291A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
CN103700584A (zh) | 表面保护部件以及加工方法 | |
JP6344971B2 (ja) | サポートプレート、サポートプレートの形成方法及びウェーハの加工方法 | |
KR20210075049A (ko) | 웨이퍼 가공 방법 및 중간 부재 | |
JP2010135356A (ja) | ウエーハのダイシング方法 | |
JP2012134231A (ja) | 積層デバイスの製造方法及び積層デバイス | |
JP6071702B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2013041973A (ja) | 板状物の研削方法 | |
JP5840003B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP5907805B2 (ja) | 表面保護テープ及びウエーハの加工方法 | |
JP6685592B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
US10431496B2 (en) | Device chip package manufacturing method | |
TW201528359A (zh) | 裝置晶圓之加工方法 | |
JP2015041687A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6209097B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP6016569B2 (ja) | 表面保護テープの剥離方法 | |
JP6230354B2 (ja) | デバイスウェーハの加工方法 | |
JP2014007332A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2011124265A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6558541B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2021002625A (ja) | パッケージデバイスチップの製造方法 | |
JP2018113394A (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP2017112269A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2015103569A (ja) | デバイスチップの形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150423 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160316 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160322 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160322 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5907805 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |