JP2013225562A - シート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法及びシート切断プログラム - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 18
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67132—Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67282—Marking devices
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- H—ELECTRICITY
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract
【解決手段】本発明の一形態に係るシート切断装置1は、被貼付部材(例えば半導体ウエハ6)に貼り付けられたシート5を、レーザ光Lによって被貼付部材の周縁に沿って切断する。ここで、シート5と被貼付部材との貼付部の縁部近傍でシート5を切断すること、が好ましい。さらに被貼付部材は半導体ウエハ6であって、半導体ウエハ6に熱影響を与えない性質のレーザ光によってシート5を切断すること、が好ましい。
【選択図】図1
Description
本実施の形態のチップ製造装置は、図示を省略するが、ウエハの表面にシートを貼り付けて当該ウエハの裏面を研削し、当該シートを剥離した後に、ウエハの裏面にシートを貼り付けて当該ウエハをダイシングする。ちなみに、ウエハは一般的なウエハと同様に円盤形状であるが、形状は特に限定されない。
本実施の形態のチップ製造装置も、第1の実施の形態のチップ製造装置と略同様の構成とされているが、シート切断装置が高精度にシート5を切断できる構成とされている。なお、以下の説明において重複する説明は省略し、同一の構成要素には同一の符号を付する。
第2の実施の形態のシート切断装置10は、ウエハ6の表面に貼り付けたシート5を切断しているが、本実施の形態のシート切断装置20は、ウエハ6の裏面に貼り付けたシート21を切断している。なお、以下の説明において重複する説明は省略し、同一の構成要素には同一の符号を付する。
第2及び第3の実施の形態では、アライメントマークの位置情報に基づいて支持部2(22)の位置を制御しているが、レーザ光出力部3におけるレーザ光Lのシート5(21)への照射位置を制御しても良い。
上記実施の形態のシート5は、合成樹脂性のシートであったが、ウエハ6の表面又は裏面に貼り付けられる部材であれば特に限定されない。例えば、ウエハ6の表面をモールドするための樹脂層がシートに一体に形成された部材であっても、同様に切断することができる。
上記実施の形態のレーザ光Lは、CO2レーザ光やグリーンレーザ光を用いたが、他のレーザ光を用いても良い。
上記実施の形態では、ウエハに貼り付けられたシートを切断したが、シートが貼り付けられる部材は特に限定されない。
2 支持部
3 レーザ光出力部
4 制御部
5 シート
6 ウエハ
7 フレーム
10 シート切断装置
11 撮像部
12 ウエハ
13 アライメントマーク
20 シート切断装置
21 シート
22 支持部
23 撮像部
L レーザ光
R 湾曲領域
Claims (11)
- 被貼付部材に貼り付けられたシートを、レーザ光によって前記被貼付部材の周縁に沿って切断するシート切断装置。
- 前記シートと前記被貼付部材との貼付部の縁部近傍で前記シートを切断する請求項1に記載のシート切断装置。
- 前記被貼付部材は半導体ウエハであって、前記半導体ウエハに熱影響を与えない性質のレーザ光によって前記シートを切断する請求項1又は2に記載のシート切断装置。
- レーザ光出力手段と、
前記被貼付部材を支持する支持手段と、
前記被貼付部材を撮像する撮像手段と、
前記レーザ光出力手段又は前記支持手段の位置を制御する制御手段と、を備え、
前記被貼付部材にアライメントマークが形成されており、前記撮像手段が撮像した前記アライメントマークの位置情報に基づいて、前記制御手段は前記レーザ光出力手段又は前記支持手段を制御する請求項1乃至3のいずれか1項に記載のシート切断装置。 - 請求項1乃至4のいずれか1項に記載のシート切断装置を備えるチップ製造装置。
- 被貼付部材に貼り付けられたシートを、レーザ光によって前記被貼付部材の周縁に沿って切断するシート切断方法。
- 前記シートと前記被貼付部材との貼付部の縁部近傍で前記シートを切断する請求項6に記載のシート切断方法。
- 前記被貼付部材は半導体ウエハであって、前記半導体ウエハに熱影響を与えない性質のレーザ光によって前記シートを切断する請求項6又は7に記載のシート切断方法。
- 前記被貼付部材に形成されたアライメントマークの位置情報を取得する工程と、
取得した前記アライメントマークの位置情報に基づいて、レーザ光出力手段又は前記被貼付部材を支持する支持手段を制御する工程と、
を備える請求項6乃至8のいずれか1項に記載のシート切断方法。 - 請求項6乃至9のいずれか1項に記載のシート切断方法を備えるチップ製造方法。
- コンピュータに、
被貼付部材に形成されたアライメントマークの位置情報を取得する処理と、
取得した前記アライメントマークの位置情報に基づいて、レーザ光出力手段又は前記被貼付部材を支持する支持手段を制御する処理と、
前記レーザ光出力手段が出射するレーザ光によって前記被貼付部材に貼り付けられたシートを前記被貼付部材の周縁に沿って切断する処理と、
を実行させるシート切断プログラム。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012096494A JP5557352B2 (ja) | 2012-04-20 | 2012-04-20 | シート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法及びシート切断プログラム |
TW102111682A TWI501306B (zh) | 2012-04-20 | 2013-04-01 | 片材切割設備、晶片製造設備、片材切割方法、晶片製造方法及片材切割程式 |
CN201310121336.9A CN103372722B (zh) | 2012-04-20 | 2013-04-09 | 薄片切割装置和方法以及芯片制造装置和方法 |
KR20130040968A KR101484726B1 (ko) | 2012-04-20 | 2013-04-15 | 시트 절단 장치, 칩 제조 장치, 시트 절단 방법, 칩 제조 방법, 및 시트 절단 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독가능한 매체 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012096494A JP5557352B2 (ja) | 2012-04-20 | 2012-04-20 | シート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法及びシート切断プログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013225562A true JP2013225562A (ja) | 2013-10-31 |
JP5557352B2 JP5557352B2 (ja) | 2014-07-23 |
Family
ID=49458892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012096494A Active JP5557352B2 (ja) | 2012-04-20 | 2012-04-20 | シート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法及びシート切断プログラム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5557352B2 (ja) |
KR (1) | KR101484726B1 (ja) |
CN (1) | CN103372722B (ja) |
TW (1) | TWI501306B (ja) |
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-
2012
- 2012-04-20 JP JP2012096494A patent/JP5557352B2/ja active Active
-
2013
- 2013-04-01 TW TW102111682A patent/TWI501306B/zh active
- 2013-04-09 CN CN201310121336.9A patent/CN103372722B/zh active Active
- 2013-04-15 KR KR20130040968A patent/KR101484726B1/ko active IP Right Grant
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI501306B (zh) | 2015-09-21 |
TW201401354A (zh) | 2014-01-01 |
CN103372722A (zh) | 2013-10-30 |
CN103372722B (zh) | 2016-01-20 |
KR101484726B1 (ko) | 2015-01-20 |
KR20130118777A (ko) | 2013-10-30 |
JP5557352B2 (ja) | 2014-07-23 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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