JP2013225562A - シート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法及びシート切断プログラム - Google Patents

シート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法及びシート切断プログラム Download PDF

Info

Publication number
JP2013225562A
JP2013225562A JP2012096494A JP2012096494A JP2013225562A JP 2013225562 A JP2013225562 A JP 2013225562A JP 2012096494 A JP2012096494 A JP 2012096494A JP 2012096494 A JP2012096494 A JP 2012096494A JP 2013225562 A JP2013225562 A JP 2013225562A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sheet
sheet cutting
wafer
attached
laser light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012096494A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5557352B2 (ja
Inventor
Yoichiro Taga
洋一郎 多賀
Kazumasa Nishiwaki
一雅 西脇
Masao Senda
昌男 千田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Engineering Ltd
Original Assignee
NEC Engineering Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Engineering Ltd filed Critical NEC Engineering Ltd
Priority to JP2012096494A priority Critical patent/JP5557352B2/ja
Priority to TW102111682A priority patent/TWI501306B/zh
Priority to CN201310121336.9A priority patent/CN103372722B/zh
Priority to KR20130040968A priority patent/KR101484726B1/ko
Publication of JP2013225562A publication Critical patent/JP2013225562A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5557352B2 publication Critical patent/JP5557352B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67282Marking devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

【課題】ウエハの破損を抑制できるシート切断装置を提供する。
【解決手段】本発明の一形態に係るシート切断装置1は、被貼付部材(例えば半導体ウエハ6)に貼り付けられたシート5を、レーザ光Lによって被貼付部材の周縁に沿って切断する。ここで、シート5と被貼付部材との貼付部の縁部近傍でシート5を切断すること、が好ましい。さらに被貼付部材は半導体ウエハ6であって、半導体ウエハ6に熱影響を与えない性質のレーザ光によってシート5を切断すること、が好ましい。
【選択図】図1

Description

本発明は、シート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法及びシート切断プログラムに関する。
チップを製造する際に、半導体ウエハ(以下、単にウエハという場合がある。)を研削したり、ウエハをダイシングしたり、する工程が含まれる。このように、ウエハを研削するにあたり、ウエハの表面が研削液で汚染されないように、ウエハの表面(回路面)を保護するためのバックグラインド(BG)テープ等の保護テープやウエハの裏面を保護するためのLCテープが貼り付けられる。また、ウエハを研削した後に当該ウエハをダイシングするにあたり、個片化されたチップが飛散しないように、ウエハの裏面にダイシングテープが貼り付けられる。なお、以降、保護テープ、LCテープ、ダイシングテープ等を総称してシートと記述する。
ここで、ウエハを研削するとき、ウエハの表面を保護するシートが暴れ、当該シートが剥離してウエハの表面が汚染されたり、ウエハとシートとの貼付端にクラック等の破損が生じたり、しないように、ウエハの周縁に沿ってシートが切断される。このとき、ウエハの周縁に極めて近い位置でシートを切断することが好ましい。
例えば、特許文献1のシート切断方法は、ウエハの周縁形状を撮像し、当該撮像データに基づいて、カッター刃を制御してシートを切断している。
特開2007−288010号公報
特許文献1のシート切断方法は、カッター刃によってシートを切断しているため、カッター刃がウエハに接触して、ウエハを破損させる可能性がある。
本発明の目的は、上述した課題を解決するためになされたものであり、シートが貼り付けられる被貼付部材の破損を抑制できるシート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法、シート切断プログラムを提供することである。
本発明の一形態に係るシート切断装置は、被貼付部材に貼り付けられたシートを、レーザ光によって前記被貼付部材の周縁に沿って切断する。
本発明の一形態に係るシート切断方法は、被貼付部材に貼り付けられたシートを、レーザ光によって前記被貼付部材の周縁に沿って切断する。
本発明の一形態に係るシート切断プログラムは、コンピュータに、被貼付部材に形成されたアライメントマークの位置情報を取得する処理と、取得した前記アライメントマークの位置情報に基づいて、レーザ光出力手段又は前記被貼付部材を支持する支持手段を制御する処理と、前記レーザ光出力手段が出射するレーザ光によって前記被貼付部材に貼り付けられたシートを前記被貼付部材の周縁に沿って切断する処理と、を実行させる。
本発明によれば、シートが貼り付けられる被貼付部材の破損を抑制できるシート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法、シート切断プログラムを提供することができる。
本発明の第1の実施の形態に係るシート切断装置を示す模式図である。 本発明の第1の実施の形態に係るシート切断装置における、支持部を示す模式図である。 本発明の第1の実施の形態に係るシート切断装置における、異なるレーザ光切断部を示す模式図である。 本発明の第1の実施の形態に係るシート切断装置の動作を示すフローチャート図である。 シートの好ましい切断位置を示す模式図である。 本発明の第2の実施の形態に係るシート切断装置を示す模式図である。 本発明の第2の実施の形態に係るシート切断装置で用いる、ウエハを示す模式図である。 ウエハに形成されるアライメントマークを示す図である。 本発明の第2の実施の形態に係るシート切断装置の動作を示すフローチャート図である。 本発明の第3の実施の形態に係るシート切断装置を示す模式図である。
本発明の実施の形態に係るシート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法及びシート切断プログラムについて説明する。但し、本発明が以下の実施の形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載及び図面は、適宜、簡略化されている。
<第1の実施の形態>
本実施の形態のチップ製造装置は、図示を省略するが、ウエハの表面にシートを貼り付けて当該ウエハの裏面を研削し、当該シートを剥離した後に、ウエハの裏面にシートを貼り付けて当該ウエハをダイシングする。ちなみに、ウエハは一般的なウエハと同様に円盤形状であるが、形状は特に限定されない。
つまり、本実施の形態では、チップ製造装置内において、ウエハに貼り付けたシート(特に表面保護シート)を切断する装置に特徴を有する。そのため、以下の説明においては、シート切断装置に関して詳細に説明し、その他に関しては説明を省略する。
具体的に云うと、図1に示すように、シート切断装置1は、支持部2、レーザ光出力部3、制御部4を備えている。
支持部2は、表面にシート5が貼り付けられたウエハ6を支持する。本実施の形態の支持部2は、ウエハ6の表面側が上側に配置されるように支持する。ちなみに、シート5としては、一般的に用いられるシートを用いることができる。つまり、シート5は、例えば合成樹脂製のシート部材であり、ウエハ6の表面に熱圧着される。
このような支持部2は、図2に示すように、例えばX軸方向、Y軸方向及びZ軸方向に移動可能であって、且つX軸とY軸とを含む平面内で、ウエハ6の略中心を軸として回転(回転角度θ)する構成とされていることが好ましい。
レーザ光出力部3は、支持部2の上方に配置されている。レーザ光出力部3は、一般的なレーザ光出力部と同様に、レーザ発振器、反射鏡及び集光レンズ等を備えている。ちなみに、レーザ光出力部3としては、例えば図1に示すように、レーザ光出力部3の移動軌跡に倣ってレーザ光Lの照射位置を移動させるタイプのものや、図3に示すように、レーザ光出力部3を固定し、レーザ光Lの照射位置自体を移動させるタイプのものなどの何れのタイプのものであっても問わない。
このレーザ光出力部3は、ウエハ6の表面に貼り付けられたシート5を当該ウエハ6の周縁に沿って切断するために、レーザ光Lを出射する。つまり、レーザ光出力部3は、レーザ光Lをウエハ6の周縁近傍に照射する。なお、シート5は、図3に示すように、フレーム7に貼り付けられ、レーザ光Lによってシート5を切断する際に当該シート5が張った状態とされる。このフレーム7の中空部分にウエハ6が配置される。
このとき、支持部2を固定し、レーザ光出力部3におけるレーザ光Lの出射位置を制御部4によって制御することで、レーザ光Lにおけるシート5への照射位置を制御しても良い。又はレーザ光出力部3におけるレーザ光Lの出射位置を固定し、支持部2を制御部4によって位置制御することで、レーザ光Lにおけるシート5への照射位置を制御しても良い。
レーザ光Lの出力は、制御部4によって制御される。レーザ光Lの出力は、例えばシート5の材質、厚さ等を考慮して適宜設定される。例えば、レーザ光の出力が大きいと、シート5の溶融速度が速く切断部分が再凝固してシート5を良好に切断できず、レーザ光の出力が小さいと、シート5の溶融速度が遅く迅速にシート5を切断できないので、適度な溶融速度となるように、レーザ光の出力が設定される。
ここで、レーザ光Lがシート5を透過してウエハ6に照射されても、レーザ光Lはウエハ6に悪影響を与えないことが好ましい。例えば一般的なウエハ6はシリコンで構成されているため、レーザ光Lとして、COレーザ光やグリーンレーザ光等を用いることが好ましい。
制御部4は、上述のように支持部2又はレーザ光出力部3を制御する。制御部4は、支持部2やレーザ光出力部3の制御を、当該制御部4内に格納されたプログラムに基づいて実行しても良く、ハードウエア資源を用いて実行しても良い。
このようなシート切断装置1は、図4に示すように動作する。先ず図示を省略した搬送機構が、表面にシート5が貼り付けられたウエハ6を支持部2に載置する(S1)。
次に、制御部4は、出射されるレーザ光Lが所定の出力となるようにレーザ光出力部3を制御する(S2)。それと共に、レーザ光Lがウエハ6の周縁近傍に照射されるように、支持部2又はレーザ光出力部3の位置を制御する(S3)。これにより、レーザ光出力部3から出射されたレーザ光Lは、ウエハ6の周縁近傍に照射される。
そして、制御部4は、レーザ光Lの照射位置がウエハ6の周縁近傍に沿って、つまりウエハ6の円周方向に移動するように、支持部2又はレーザ光出力部3を制御する(S4)。これにより、シート5におけるレーザ光Lの照射部分は溶融し、シート5はレーザ光Lにおける照射部分の外方部分、つまりウエハ6の周縁より外方に突出した部分がウエハ6の周縁より内方に配置された部分から切断される。
レーザ光Lの照射位置がウエハ6の周縁近傍を一周すると、制御部4はレーザ光出力部3によるレーザ光Lの出射を停止させると共に、支持部2又はレーザ光出力部3の制御を終了させる(S5)。これにより、シート5はウエハ6の周縁より外方に突出した部分が除去される。
このようにレーザ光Lによってシート5を切断するので、シート5を切断する際にウエハ6を破損することを抑制できる。
ここで、図5に示すように、一般的なウエハ6の側面は湾曲した形状とされており、ウエハ6を研削する際に、シート5とウエハ6との貼付端近傍に応力集中が生じる。そのため、シート5におけるウエハ6との貼付端から突出する部分を少なくするために、貼付端近傍でシート5を切断することが好ましい。例えば、上下方向から見てウエハ6における湾曲領域Rで当該シート5を切断することが好ましい。この場合、一般的なシート切断装置のようにカーター刃によってウエハ6を破損することがないので、ウエハ6を健全な状態で、シート5をウエハ6との接触端に極めて近い位置で切断することができる。よって、ウエハ6を研削する際の当該ウエハ6の破損を抑制することができる。ここで、シート5とウエハ6との貼付端より内方でシート5を切断しても良い。
<第2の実施の形態>
本実施の形態のチップ製造装置も、第1の実施の形態のチップ製造装置と略同様の構成とされているが、シート切断装置が高精度にシート5を切断できる構成とされている。なお、以下の説明において重複する説明は省略し、同一の構成要素には同一の符号を付する。
図6に示すように、本実施の形態のシート切断装置10は、支持部2、レーザ光出力部3、制御部4に加え、撮像部11を備えている。
本実施の形態のウエハ12の表面には、図7に示すように、予めアライメントマーク13が1個又は複数個形成されている。アライメントマーク13は、撮像部11によって撮像可能な形状とされており、図8の例示では十字状に形成されている。但し、この限りでない。
アライメントマーク13は、製品化されないチップ部分(例えば、試験に用いられるチップ部分)等に形成されていることが好ましい。また、アライメントマーク13として、例えばダイシングのための目印を用いることができる。
ちなみに、アライメントマーク13はシート5を介して撮像することになるので、シート5としては、透明又は半透明のシートを用いることが好ましい。
撮像部11は、支持部2の上方に配置されている。この撮像部11は、ウエハ12のアライメントマーク13を少なくとも1つ撮像することができるように配置されている。撮像部11は、一般的な撮像装置と同様に、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)やCCD(Charge Coupled Device Image Sensor)等の撮像素子を備えており、取得した画像を制御部4に出力する。
制御部4は、入力された画像に基づいて、支持部2の位置を制御する。つまり、制御部4は、入力された画像からアライメントマーク13の位置を特定し、当該アライメントマーク13の位置が予め定めた位置に配置されるように、支持部2の位置を制御する。
このようなシート切断装置10は、図9に示すように動作する。つまり、第1の実施の形態のシート切断装置1の動作における、S1の工程とS2の工程との間に以下の工程が行われる。
先ず、第1の実施の形態のシート切断装置1と同様にS1の工程を行い、その後、制御部4は、撮像部11を制御し、撮像部11によってシート5を介してウエハ6のアライメントマーク13を撮像させる(S11)。撮像部11は、取得した画像を制御部4に出力する(S12)。
次に、制御部4は、入力された画像に例えば二値化処理等を施した後に、特徴点を抽出し、アライメントマーク13の位置情報を取得する(S13)。
次に、制御部4は、予め当該アライメントマーク13の正規の位置情報を備えており、アライメントマーク13の正規の位置情報と、撮像したアライメントマーク13の位置情報と、を比較し、撮像したアライメントマーク13の位置が正規の位置に配置されるように、支持部2を図2に示す通り、X軸方向、Y軸方向、回転角度θを制御する(S14)。
その後の工程は、第1の実施の形態のシート切断装置1と同様にS2〜S5の工程を行う。ちなみに、アライメントマーク13を撮像して支持部2の位置を制御する工程と、シート5を切断する工程と、を同一の場所で行っても良く、図6に示すように、アライメントマーク13を撮像して支持部2の位置を制御した後に、図示を省略した搬送機構によって支持部2を移動させてシート5を切断しても良い。
このように、ウエハ6に形成したアライメントマーク13の位置情報に基づいて、切断されるシート5の位置を制御するので、図5で示す通り、レーザ光Lは、ウエハ6とシート5の貼付端の周縁近傍に沿って正確に当該シート5を切断することができる。
<第3の実施の形態>
第2の実施の形態のシート切断装置10は、ウエハ6の表面に貼り付けたシート5を切断しているが、本実施の形態のシート切断装置20は、ウエハ6の裏面に貼り付けたシート21を切断している。なお、以下の説明において重複する説明は省略し、同一の構成要素には同一の符号を付する。
図10に示すように、本実施の形態のシート切断装置20は、第2の実施の形態のシート切断装置10と略同様に、支持部22、レーザ光出力部3、制御部4、撮像部23を備えている。
ここで、支持部22は、シート21が貼り付けられたウエハ6の裏面側が上側に配置されるように支持する。このとき、ウエハ6の表面に形成されたアライメントマークが支持部22側に配置されることになる。そこで、本実施の形態の支持部22は、当該支持部22の下方に配置された撮像部23によって支持部22を介してアライメントマークを撮像可能な構成とされている。例えば支持部22は、ガラス等の光を通す部材で構成される。又は、支持部22は、中空部が形成され、当該中空部からアライメントマークを撮像可能な構成とされる。
これにより、本実施の形態のシート切断装置20は、第2の実施の形態のシート切断装置10と同じ工程で、ウエハ6の裏面に貼り付けられたシート21を切断することができる。
なお、本実施の形態のシート切断装置20は、ウエハ6の裏面に貼り付けられたシート21を切断しているが、ウエハ6の表面に貼り付けられたシートが不透明で、ウエハ6の裏面にアライメントマークが形成されている場合も同様に実施することができる。
<第4の実施の形態>
第2及び第3の実施の形態では、アライメントマークの位置情報に基づいて支持部2(22)の位置を制御しているが、レーザ光出力部3におけるレーザ光Lのシート5(21)への照射位置を制御しても良い。
この場合、制御部4は、予めアライメントマークに対応付けられたレーザ光出力部3の位置情報を備えており、当該位置情報が撮像したアライメントマークの位置情報と一致するように、レーザ光出力部3の位置を制御する。
本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。
上記実施の形態のシート5は、合成樹脂性のシートであったが、ウエハ6の表面又は裏面に貼り付けられる部材であれば特に限定されない。例えば、ウエハ6の表面をモールドするための樹脂層がシートに一体に形成された部材であっても、同様に切断することができる。
上記実施の形態のレーザ光Lは、COレーザ光やグリーンレーザ光を用いたが、他のレーザ光を用いても良い。
上記実施の形態では、ウエハに貼り付けられたシートを切断したが、シートが貼り付けられる部材は特に限定されない。
1 シート切断装置
2 支持部
3 レーザ光出力部
4 制御部
5 シート
6 ウエハ
7 フレーム
10 シート切断装置
11 撮像部
12 ウエハ
13 アライメントマーク
20 シート切断装置
21 シート
22 支持部
23 撮像部
L レーザ光
R 湾曲領域

Claims (11)

  1. 被貼付部材に貼り付けられたシートを、レーザ光によって前記被貼付部材の周縁に沿って切断するシート切断装置。
  2. 前記シートと前記被貼付部材との貼付部の縁部近傍で前記シートを切断する請求項1に記載のシート切断装置。
  3. 前記被貼付部材は半導体ウエハであって、前記半導体ウエハに熱影響を与えない性質のレーザ光によって前記シートを切断する請求項1又は2に記載のシート切断装置。
  4. レーザ光出力手段と、
    前記被貼付部材を支持する支持手段と、
    前記被貼付部材を撮像する撮像手段と、
    前記レーザ光出力手段又は前記支持手段の位置を制御する制御手段と、を備え、
    前記被貼付部材にアライメントマークが形成されており、前記撮像手段が撮像した前記アライメントマークの位置情報に基づいて、前記制御手段は前記レーザ光出力手段又は前記支持手段を制御する請求項1乃至3のいずれか1項に記載のシート切断装置。
  5. 請求項1乃至4のいずれか1項に記載のシート切断装置を備えるチップ製造装置。
  6. 被貼付部材に貼り付けられたシートを、レーザ光によって前記被貼付部材の周縁に沿って切断するシート切断方法。
  7. 前記シートと前記被貼付部材との貼付部の縁部近傍で前記シートを切断する請求項6に記載のシート切断方法。
  8. 前記被貼付部材は半導体ウエハであって、前記半導体ウエハに熱影響を与えない性質のレーザ光によって前記シートを切断する請求項6又は7に記載のシート切断方法。
  9. 前記被貼付部材に形成されたアライメントマークの位置情報を取得する工程と、
    取得した前記アライメントマークの位置情報に基づいて、レーザ光出力手段又は前記被貼付部材を支持する支持手段を制御する工程と、
    を備える請求項6乃至8のいずれか1項に記載のシート切断方法。
  10. 請求項6乃至9のいずれか1項に記載のシート切断方法を備えるチップ製造方法。
  11. コンピュータに、
    被貼付部材に形成されたアライメントマークの位置情報を取得する処理と、
    取得した前記アライメントマークの位置情報に基づいて、レーザ光出力手段又は前記被貼付部材を支持する支持手段を制御する処理と、
    前記レーザ光出力手段が出射するレーザ光によって前記被貼付部材に貼り付けられたシートを前記被貼付部材の周縁に沿って切断する処理と、
    を実行させるシート切断プログラム。
JP2012096494A 2012-04-20 2012-04-20 シート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法及びシート切断プログラム Active JP5557352B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012096494A JP5557352B2 (ja) 2012-04-20 2012-04-20 シート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法及びシート切断プログラム
TW102111682A TWI501306B (zh) 2012-04-20 2013-04-01 片材切割設備、晶片製造設備、片材切割方法、晶片製造方法及片材切割程式
CN201310121336.9A CN103372722B (zh) 2012-04-20 2013-04-09 薄片切割装置和方法以及芯片制造装置和方法
KR20130040968A KR101484726B1 (ko) 2012-04-20 2013-04-15 시트 절단 장치, 칩 제조 장치, 시트 절단 방법, 칩 제조 방법, 및 시트 절단 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독가능한 매체

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012096494A JP5557352B2 (ja) 2012-04-20 2012-04-20 シート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法及びシート切断プログラム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013225562A true JP2013225562A (ja) 2013-10-31
JP5557352B2 JP5557352B2 (ja) 2014-07-23

Family

ID=49458892

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012096494A Active JP5557352B2 (ja) 2012-04-20 2012-04-20 シート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法及びシート切断プログラム

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5557352B2 (ja)
KR (1) KR101484726B1 (ja)
CN (1) CN103372722B (ja)
TW (1) TWI501306B (ja)

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1027836A (ja) * 1996-07-11 1998-01-27 Sony Corp 半導体装置の製造方法および半導体製造装置
JPH1032179A (ja) * 1996-07-15 1998-02-03 Teikoku T-Pingu Syst Kk シリコンウエハー加工用マスキングシートの切断方法
JPH10112494A (ja) * 1996-08-09 1998-04-28 Lintec Corp 接着シート貼付装置
JP2000353682A (ja) * 1999-06-11 2000-12-19 Tokyo Seimitsu Co Ltd 半導体保護テープの切断方法
JP2002057208A (ja) * 2000-08-08 2002-02-22 Nitto Denko Corp 保護テープ貼付け方法および保護テープ貼付け装置
JP2002076098A (ja) * 2000-08-25 2002-03-15 Toray Eng Co Ltd アライメント装置
JP2002118052A (ja) * 2000-10-10 2002-04-19 Toray Eng Co Ltd 積層ウエハーのアライメント方法
JP2006351599A (ja) * 2005-06-13 2006-12-28 Tokyo Seimitsu Co Ltd ダイシング方法
JP2010123806A (ja) * 2008-11-20 2010-06-03 Lintec Corp 支持装置、支持方法、ダイシング装置、およびダイシング方法
JP2010165881A (ja) * 2009-01-16 2010-07-29 Lintec Corp 半導体ウエハの保持装置及び保持方法
JP2012059928A (ja) * 2010-09-09 2012-03-22 Lintec Corp シート貼付装置及び貼付方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2666788B2 (ja) * 1995-10-19 1997-10-22 日本電気株式会社 チップサイズ半導体装置の製造方法
KR19990039352U (ko) * 1998-04-09 1999-11-05 김영환 반도체장비의 컷팅장치
US8680430B2 (en) * 2008-12-08 2014-03-25 Electro Scientific Industries, Inc. Controlling dynamic and thermal loads on laser beam positioning system to achieve high-throughput laser processing of workpiece features

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1027836A (ja) * 1996-07-11 1998-01-27 Sony Corp 半導体装置の製造方法および半導体製造装置
JPH1032179A (ja) * 1996-07-15 1998-02-03 Teikoku T-Pingu Syst Kk シリコンウエハー加工用マスキングシートの切断方法
JPH10112494A (ja) * 1996-08-09 1998-04-28 Lintec Corp 接着シート貼付装置
JP2000353682A (ja) * 1999-06-11 2000-12-19 Tokyo Seimitsu Co Ltd 半導体保護テープの切断方法
JP2002057208A (ja) * 2000-08-08 2002-02-22 Nitto Denko Corp 保護テープ貼付け方法および保護テープ貼付け装置
JP2002076098A (ja) * 2000-08-25 2002-03-15 Toray Eng Co Ltd アライメント装置
JP2002118052A (ja) * 2000-10-10 2002-04-19 Toray Eng Co Ltd 積層ウエハーのアライメント方法
JP2006351599A (ja) * 2005-06-13 2006-12-28 Tokyo Seimitsu Co Ltd ダイシング方法
JP2010123806A (ja) * 2008-11-20 2010-06-03 Lintec Corp 支持装置、支持方法、ダイシング装置、およびダイシング方法
JP2010165881A (ja) * 2009-01-16 2010-07-29 Lintec Corp 半導体ウエハの保持装置及び保持方法
JP2012059928A (ja) * 2010-09-09 2012-03-22 Lintec Corp シート貼付装置及び貼付方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI501306B (zh) 2015-09-21
TW201401354A (zh) 2014-01-01
CN103372722A (zh) 2013-10-30
CN103372722B (zh) 2016-01-20
KR101484726B1 (ko) 2015-01-20
KR20130118777A (ko) 2013-10-30
JP5557352B2 (ja) 2014-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102518005B1 (ko) 레이저 가공 장치 및 레이저 가공 방법
JP6672053B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP5456510B2 (ja) レーザ加工装置
JP6214192B2 (ja) 加工方法
TWI637460B (zh) 保持台
KR101418613B1 (ko) 웨이퍼 분할 방법
JP2013152986A (ja) ウエーハの加工方法
JP5893952B2 (ja) チャックテーブルを用いたウエーハのレーザー加工方法
JP6034219B2 (ja) ウエーハの加工方法
JP2007258236A (ja) 半導体基板の分断方法およびその分断方法で作製された半導体チップ
JP2004079746A (ja) チップ製造方法
JP2012049164A (ja) 発光デバイスの製造方法
JP5636266B2 (ja) ワークの加工方法及びダイシングテープ
JP6347714B2 (ja) ウエーハの加工方法
TW201440936A (zh) 雷射光照射裝置及光學組件貼合體之製造裝置
JP6152013B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP5557352B2 (ja) シート切断装置、チップ製造装置、シート切断方法、チップ製造方法及びシート切断プログラム
JP2011161553A (ja) ワーク保持機構
JP2015115573A (ja) レーザダイシング方法
JP2015092525A (ja) ウエーハの加工方法
JP2013229450A (ja) ウエーハのレーザー加工方法
KR102354971B1 (ko) 디스플레이 제조방법 및 이에 사용될 수 있는 디스플레이 제조장치
JP7471152B2 (ja) リフトオフ方法及びレーザー加工装置
TWI402128B (zh) Laser processing method
JP2020072220A (ja) 被加工物の加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131203

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140129

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140507

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140530

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5557352

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350