JP2013179227A - 半導体発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】一つの実施形態によれば、半導体発光素子は、積層構造体、第1の電極、第2の電極が設けられる。積層構造体は、第1導電型の第1の半導体層、第1の半導体層よりも不純物濃度の低い第1導電型の第2の半導体層、発光層、及び第2導電型の第3の半導体層が直接或いは間接的に積層形成され、第1の半導体層は、複数に分割配置され、発光層側から第3の半導体層側方向へ光が取り出される。第1の電極は、第1の半導体層に接続されるオーミック領域と第2の半導体層に直接接続される非オーミック領域とを有する。第2の電極は、第3の半導体層に接続され、上側方向から見てオーミック領域の真下の領域に配置され、細線形状或いはドット形状を有する。
【選択図】 図2
Description
まず、本発明の第1の実施形態に係る半導体発光素子について、図面を参照して説明する。
D1>W11>W1>D11・・・・・・・・・・・・・・・・・式(1)
に設定される。
Y=B/(A+B+C)・・・・・・・・・・・・・・・・・式(2)
と表わされる。発光効率としての割合Yは、キャリア濃度が増加するにつれて増加する。キャリア濃度が、例えば4E18/cm3に達すると割合Yの値は飽和し、4E18/cm3よりも増加すると割合Yは徐々に低下する。
2 P型クラッド層
3 P型オーバーフロー防止層
4 MQW発光層
5 超格子層
6 N型クラッド層
7 N型電極
7a〜7g 細線電極
8 P型電極
11 支持基板
12 基板上部電極
13 基板下部電極
21、21a、21b 端子電極
41 障壁層
42 井戸層
50 再結合発生領域
51 誘電体層
61 積層構造体
71 基板
72 レジスト膜
90〜92、100 半導体発光素子
A、C 非発光
B 発光
D1、D11 間隔
e エレクトロン
h ホール
W1、W11 幅
Claims (8)
- 第1導電型の第1の半導体層、前記第1の半導体層よりも不純物濃度の低い第1導電型の第2の半導体層、発光層、及び第2導電型の第3の半導体層が直接或いは間接的に積層形成され、前記第1の半導体層は、複数に分割配置され、前記発光層側から前記第3の半導体層側方向へ光が取り出される積層構造体と、
前記第1の半導体層に接続されるオーミック領域と前記第2の半導体層に直接接続される非オーミック領域とを有する第1の電極と、
前記第3の半導体層に接続され、上側方向から見て前記非オーミック領域の真上の領域に配置され、細線形状或いはドット形状を有する第2の電極と、
を具備することを特徴とする半導体発光素子。 - 前記非オーミック領域は、上側方向から見て前記第2の電極に対して、所定距離だけ外側に延在されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記第2の半導体層と前記発光層の間に積層形成される第1導電型のオーバーフロー防止層を更に具備し、
前記発光層と前記第3の半導体層の間に超格子層を更に具備することを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体発光素子。 - 前記第1及び第2の半導体層はP型GaN層であり、第3の半導体層はN型GaN層であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体発光素子。
- 前記発光層は、アンドープInGaN層からなる井戸層と、アンドープGaN層からなる障壁層が交互に複数設けられるMQW発光層であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体発光素子。
- 前記第3の半導体層は、表面の少なくとも一部に凹凸形状が設けられることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体発光素子。
- 前記第1の電極は、前記発光層から発生する光を反射する反射層を兼ねることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の半導体発光素子。
- 前記第1の電極、前記積層構造体、及び前記第2の電極は、支持基板上に載置されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の半導体発光素子。
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