JP2013178917A - 導電性膜の形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 プラズマ処理装置100では、マイクロ波発生装置21から矩形導波管22に導入されたマイクロ波によって、矩形導波管22内で電磁界が形成され、矩形導波管22の内部に供給された水素ガスを含む処理ガスをアンテナ部40のスロット孔41でプラズマ化する。相対的に圧力が高い矩形導波管22のアンテナ部40内部からスロット孔41を介して外部の基材Sへ向けて水素ラジカル密度の高いプラズマが放射され、基材S上に形成された前駆体含有膜の有機物を分解除去するとともに、金属微粒子を凝集させ、又は金属化合物由来の金属イオンを還元して導電性膜を形成する。
【選択図】図1
Description
前記マイクロ波発生装置に接続され、マイクロ波の伝送方向に長尺をなすとともに、該伝送方向に直交する方向の断面が矩形をした中空状の導波管と、
前記導波管に接続されてその内部へ処理ガスを供給するガス供給装置と、
前記導波管の一部分であって、マイクロ波により生成したプラズマを外部に放出するアンテナ部と、
前記アンテナ部の断面において短辺をなす壁において、前記マイクロ波の伝送方向と長手方向が一致するように設けられた1つ又は複数の矩形状のスロット孔と、
を備えた装置である。
処理容器10は、プラズマ処理空間を区画するための容器であって、例えばアルミニウム、ステンレス等の金属により形成することができる。処理容器10の内部は、例えばアルマイト処理のような耐プラズマエロージョン性を高める表面処理を施しておくことが好ましい。処理容器10には、基材Sの搬入出を行うための開口が設けられている(図示せず)。なお、大気圧プラズマ処理装置である処理装置100において、処理容器10は必須ではなく、任意の構成である。
プラズマ生成装置20は、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生装置21と、マイクロ波発生装置21に接続された矩形導波管22と、矩形導波管22に接続されてその内部へ処理ガスを供給するガス供給装置23と、アンテナ部40内のガス及び必要に応じて処理容器10内を排気するための排気装置25と、を備えている。また、矩形導波管22の内部には、処理ガスの通過を遮るために石英などの誘電体からなる隔壁24が配備されている。さらに、矩形導波管22の一つの壁面にスロット孔41を設け、スロット孔41で生成したプラズマを外部の基材Sへ向けて放出するアンテナ部40を有している。
マイクロ波発生装置21は、例えば2.45GHz〜100GHz、好ましくは2.45GHz〜10GHzの周波数のマイクロ波を発生させる。マイクロ波発生装置21は、パルス発振機能を備えており、パルス状のマイクロ波を発生させることができる。マイクロ波発生装置21の構成例を図2に示す。マイクロ波発生装置21においては、電源部31から発振部32のマグネトロン(またはクライストロン)33までを結ぶ高電圧ライン34上に、コンデンサ35とパルススイッチ部36が設けられている。また、パルススイッチ部36には、パルス制御部37が接続されており、周波数やデューティー比などを制御する制御信号の入力が行なわれる。このパルス制御部37は、制御部60のコントローラ61(後述)からの指示を受けて制御信号をパルススイッチ部36へ向けて出力する。そして、電源部31から高電圧を供給しつつパルススイッチ部36に制御信号を入力することにより、所定電圧の矩形波が発振部32のマグネトロン(またはクライストロン)33に供給され、パルス状のマイクロ波が出力される。なお、パルス発振機能は、連続に放電させた場合に、アンテナ部40に熱が蓄積しやすく、低温非平衡放電からアーク放電に移行することを防止する目的で設けている。アンテナ部40の冷却機構を別途手当てすれば、パルス発振機能は必須ではなく、任意の構成である。
矩形導波管22は、マイクロ波の伝送方向に長尺をなすとともに、マイクロ波の伝送方向に直交する方向の断面が矩形をした中空状をなしている。矩形導波管22は、例えば銅、アルミニウム、鉄、ステンレス等の金属やこれらの合金によって形成されている。
ガス供給装置(GAS)23は、矩形導波管22から分岐した分岐管22aに設けられたガス導入部22bに接続している。ガス供給装置23は、図示しないガス供給源、バルブ、流量制御装置等を備えている。ガス供給源は、処理ガスの種類別に備えられている。処理ガスとしては、例えば水素、窒素、酸素、水蒸気、フロン(CF4)ガス等を挙げることができる。フロン(CF4)ガスの場合は、排気装置25も併用する必要がある。また、例えばアルゴン、ヘリウム、窒素ガス等の不活性ガスの供給源も設けることができる。ガス供給装置23から矩形導波管22内に供給された処理ガスは、マイクロ波によってスロット孔41で放電が生じ、プラズマ化する。なお、導電性膜の形成には、処理ガスとして水素ガス及び不活性ガスを好ましく用いることができる。
排気装置25は、図示しないバルブやターボ分子ポンプやドライポンプなどを備えている。排気装置25は、矩形導波管22内および処理容器10の排気を行うため、矩形導波管22の分岐管22a及び処理容器10の排気口10aに接続されている。例えば、プロセス停止時に矩形導波管22内に残された処理ガスは排気装置25を作動させることによって、処理ガスを速やかに除去することができる。また、放電開始時には、矩形導波管22内及び処理容器内10内に存在する大気中のガスを処理ガスに効率よく置換する為に排気装置25を用いる。なお、大気圧プラズマ処理装置であるプラズマ処理装置100において、排気装置25は必須ではなく、任意の構成である。しかし、処理ガスが特にCF4ガスのように常温では安定であるが、プラズマ化することにより反応性の高いフッ素ラジカル(F)やフロロカーボンラジカル(CxFy)などを生成する可能性がある場合は、排気装置25を設けることが好ましい。
ステージ50は、処理容器10内で基材Sを水平に支持する。ステージ50は、処理容器10の底部に設置された支持部51により支持された状態で設けられている。ステージ50および支持部51を構成する材料としては、例えば、石英やAlN、Al2O3、BN等のセラミックス材料やAl、ステンレスなどの金属材料を挙げることができる。また、必要に応じて280℃程度まで基材Sを加熱できるようにヒーターを埋め込んであってもよい。なお、プラズマ処理装置100において、ステージ50は基材Sの種類に応じて設ければよく、任意の構成である。
プラズマ処理装置100は、基材Sとして、例えば、LCD(液晶表示ディスプレイ)用ガラス基板に代表されるFPD(フラットパネルディスプレイ)基板や、多結晶シリコンフィルム、ポリイミドフィルムなどのフィルム部材を対象にすることができる。特に、プラズマ処理装置100では、簡易な構成であるためにアンテナ部40を長さ1m程度の長尺に形成して、ライン状のプラズマを生成することができるため、例えばFPD(フラットパネルディスプレイ)用、太陽電池用、有機EL用の基板/フィルムなどのように、幅が広く、比較的大面積の基材Sに対しても、効率よく均一なプラズマ処理が可能である。
プラズマ処理装置100を構成する各構成部は、制御部60に接続されて制御される構成となっている。コンピュータ機能を有する制御部60は、図3に例示したように、CPUを備えたコントローラ61と、このコントローラ61に接続されたユーザーインターフェース62と、記憶部63を備えている。記憶部63には、プラズマ処理装置100で実行される各種処理をコントローラ61の制御にて実現するための制御プログラム(ソフトウェア)や処理条件データ等が記録されたレシピが保存されている。そして、必要に応じて、ユーザーインターフェース62からの指示等にて任意の制御プログラムやレシピを記憶部63から呼び出してコントローラ61に実行させることで、制御部60の制御下で、プラズマ処理装置100において所望の処理が行われる。なお、前記制御プログラムや処理条件データ等のレシピは、コンピュータ読み取り可能な記録媒体64に格納された状態のものを記憶部63にインストールすることによっても利用できる。コンピュータ読み取り可能な記録媒体64としては、特に制限はないが、例えばCD−ROM、ハードディスク、フレキシブルディスク、フラッシュメモリ、DVDなどを使用できる。また、前記レシピは、他の装置から、例えば専用回線を介して随時伝送させてオンラインで利用したりすることも可能である。
次に、図4A〜図6を参照しながら、アンテナ部40におけるスロット孔41の配置と形状について具体例を挙げて説明する。スロット孔41の配置と形状は、スロット孔41の開口の大部分(好ましくは、開口の全面)でプラズマが生成するように設計することが好ましい。スロット孔41の開口の大部分でプラズマが生成するようにするためには、スロット孔41の配置と形状との組み合わせが重要になる。このような観点から、以下ではスロット孔41の配置と形状の好ましい態様について説明する。
次に、本発明の実施の形態に係る導電性膜の形成方法について説明する。本発明の実施の形態に係る導電性膜の形成方法は、基材S上に、金属微粒子又は金属化合物と有機物とを含有する前駆体含有膜を形成する工程(前駆体含有膜形成工程)と、
前駆体含有膜に、大気圧プラズマ処理装置によって水素ガスを含む処理ガスのプラズマを照射し、有機物を除去するとともに、金属微粒子又は金属化合物から導電性膜を形成する工程(導電性膜形成工程)と、を備えている。
そして、導電性膜形成工程では、大気圧状態の矩形導波管22内に供給された処理ガスをマイクロ波によってスロット孔41でプラズマ化し、生成したプラズマをスロット孔41から基材S上の前駆体含有膜へ照射する。このとき、スロット孔41から7mm離れた位置におけるプラズマの水素ラジカル密度が2×1014/cm3以上になるようにする。
前駆体含有膜は、導電性膜の前駆体である金属微粒子又は金属化合物と、有機物とを含有する。ここで、金属微粒子又は金属化合物を構成する金属の種類は、導電性を有する限り特に制限はなく、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、錫(Sn)、ロジウム(Rh)、イリジウム(Ir)等の金属種を用いることができる。また、これらの金属種の合金(例えば銅−ニッケル合金、白金−コバルト合金など)を用いることもできる。
導電性膜形成工程では、上記のプラズマ処理装置100を用いて前駆体含有膜に対し、水素ガスを含む処理ガスによる大気圧プラズマ処理を行う。プラズマ処理装置100を用いる大気圧プラズマ処理では、活性種である水素ラジカル密度の高いプラズマを、直接、前駆体含有膜に照射できるため、前駆体含有膜中の有機物が除去されるとともに、金属微粒子又は金属化合物から、金属の導電性膜が形成される。前駆体含有膜が金属微粒子を含有する場合は、大気圧プラズマ処理によって金属微粒子が凝集、融合して、連続した導電性膜が形成される。前駆体含有膜が金属化合物を含有する場合は、大気圧プラズマ処理によって金属化合物由来の金属イオンが還元されて金属が析出し、連続した導電性膜が形成される。水素ガスを含む処理ガスを用いることにより、生成した導電性膜を酸化させることがなく、比抵抗の小さな良質な導電性膜を形成できる。なお、上記のとおり、前駆体含有膜を所定のパターン状に形成しておくことによって、パターン状の導電性膜を形成できる。
次に、導電性膜形成工程におけるプラズマ処理の条件について説明する。
プラズマ処理に用いる処理ガスは、還元性ガスとしてH2ガスを含有する。処理ガスには、プラズマ生成用ガスとして、例えばAr、Xe、Krなどの希ガスを含有することが好ましく、これらの中でも安定したプラズマを生成できるArガスが好ましい。また、処理ガスには、希ガスに替えて、あるいは希ガスとともにN2ガスを使用してもよい。
マイクロ波の周波数は、例えば2.45GHz〜100GHzの範囲内が好ましく、2.45GHz〜10GHzの範囲内がより好ましい。マイクロ波パワーは、水素ラジカルを効率的に生成させる観点から、例えば500〜4000Wの範囲内とすることが好ましく、1000W〜2000Wの範囲内がより好ましい。プラズマ処理においては、マイクロ波をパルス状に発振させてもよい。この場合、例えば、パルスオン(ON)時間を10〜50μs、パルスオフ(OFF)時間を200〜500μs、デューティー比を好ましくは5〜70%、より好ましくは10〜50%に制御することができる。
プラズマ処理における基材の温度は、常温(例えば20℃)でもよいが、導電性膜の形成速度を速める観点から、例えば室温〜300℃の範囲内で加熱することが好ましく、100〜250℃の範囲内で加熱することがより好ましい。
プラズマ処理の圧力は、常圧であり、本実施の形態の導電性膜の形成方法では、大掛かりな真空設備を必要としないメリットがある。
処理時間は、金属微粒子又は金属化合物から導電性膜を形成できる時間であればよく、前駆体含有膜の膜厚や、金属微粒子又は金属化合物及び有機物の量に応じて適宜設定できるが、例えば30秒〜60分の範囲内とすることが好ましく、1分〜30分の範囲内がより好ましい。
プラズマ処理は、スロット孔41から7mm離れた位置における水素ラジカル密度が2×1014/cm3以上のプラズマにより行うことができる。スロット孔41から7mm離れた位置における水素ラジカル密度が2×1014/cm3以上のプラズマを用いることで、常温でも、前駆体含有膜中の有機物の除去と、金属微粒子又は金属化合物からの導電性膜の形成が、十分に可能になる。水素ラジカル密度は、マイクロホロカソードランプを用いる真空紫外原子吸光(VUVABS)法によって計測することができる。
本実施の形態の導電性膜の形成方法では、プラズマ処理装置100を用い、前駆体含有膜を大気圧プラズマ処理することによって、比抵抗が小さく、導電性に優れた導電性膜を形成することができる。しかし、大気圧プラズマ処理に先立ち、前駆体含有膜に対し、例えば室温〜300℃の範囲内、好ましくは100〜250℃の温度で1〜30分間熱処理を行ってもよい。導電性膜形成工程の一部として、大気圧プラズマ処理と組み合わせて熱処理を行うことによって、導電性膜の形成速度を速め、スループットを向上させることができる。また、大気圧プラズマ処理と組み合わせることによって、熱処理だけで金属微粒子又は金属化合物から導電性膜を形成する場合に比較して、熱処理の温度を大幅に低減できる。熱処理に引き続き、大気圧プラズマ処理を行う場合は、熱処理における前駆体含有膜の加熱温度を維持したまま、大気圧プラズマ処理を実施することができる。
銀ナノ粒子からの導電性膜の形成:
導電性インクとして、銀ナノ粒子(最大直径20nm)とキャッピング剤とを溶剤(水、エタノール)に分散させたインク(JAGT−05、DIC社製)を用いた。このインクは、基板上に塗布し、大気中で180℃、30分間の加熱処理(メーカー推奨条件)を行うことで、比抵抗値が30μΩ・cm以下の導電性の銀薄膜が得られる。
銅錯体からの導電性膜の形成:
導電性インクとして、銅錯体と安定剤とを溶剤(エタノール)に溶かしたインク(アデカオルセラCM−11、ADEKA社製)を用いた。このインクは、基板上に塗布し、アルゴン雰囲気中で250℃、40分間の加熱処理(メーカー推奨条件)を行うことで、比抵抗値が60μΩ・cm以下の導電性の銀薄膜が得られる。
Claims (5)
- 基材上に導電性膜を形成する導電性膜の形成方法であって、
基材上に、金属微粒子又は金属化合物と、有機物とを含有する前駆体含有膜を形成する工程と、
前記前駆体含有膜に、大気圧プラズマ処理装置によって水素ガスを含む処理ガスのプラズマを照射し、前記有機物を除去するとともに、前記金属微粒子又は金属化合物から導電性膜を形成する工程と、
を備えており、
前記大気圧プラズマ処理装置は、
マイクロ波を発生させるマイクロ波発生装置と、
前記マイクロ波発生装置に接続され、マイクロ波の伝送方向に長尺をなすとともに、該伝送方向に直交する方向の断面が矩形をした中空状の導波管と、
前記導波管に接続されてその内部へ処理ガスを供給するガス供給装置と、
前記導波管の一部分であって、マイクロ波により生成したプラズマを外部に放出するアンテナ部と、
前記アンテナ部の断面において短辺をなす壁において、前記マイクロ波の伝送方向と長手方向が一致するように設けられた1つ又は複数の矩形状のスロット孔と、
を備えた装置であり、
前記導電性膜を形成する工程では、大気圧状態の前記導波管内に供給された前記処理ガスをマイクロ波によって前記スロット孔でプラズマ化し、生成した前記プラズマを前記スロット孔から基材上の前記前駆体含有膜へ照射するとともに、前記スロット孔から7mm離れた位置における前記プラズマの水素ラジカル密度を2×1014/cm3以上とすることを特徴とする導電性膜の形成方法。 - 前記スロット孔と前記前駆体含有膜との間隔を1〜12mmの範囲内に設定して前記プラズマの照射を行う請求項1に記載の導電性膜の形成方法。
- 前記導電性膜を形成する工程は、前記処理ガスとして、水素ガスとアルゴンガスの混合ガスを用い、水素ガスを0.5〜4体積%の範囲内の比率で含む処理ガスの全流量を10〜50slm(標準状態L/min)の範囲内に設定して前記プラズマを生成させる請求項1又は2に記載の導電性膜の形成方法。
- 前記プラズマ処理装置は、パルス発生器を備え、前記マイクロ波をデューティー比5%以上でパルス状に発振させて前記プラズマを生成させる請求項1から3のいずれか1項に記載の導電性膜の形成方法。
- 前記導電性膜を形成する工程では、前記プラズマの照射に先立ち、前記前駆体含有膜を、室温〜300℃の範囲内の温度で加熱するとともに、該温度を保持して前記プラズマの照射を行う請求項1から4のいずれか1項に記載の導電性膜の形成方法。
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